TWM425512U - Electromagnetic interference shielding structure and soft printed circuit board having the structure thereof - Google Patents

Description

M425512 * — · - 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係有關於一種遮蔽電磁干擾結構，更詳而言 之，係有關於一種用於軟性印刷電路板之遮蔽電磁干擾結 構。 【先前技術】 由於電子產品朝向輕薄短小型、高功能化以及高速度 化發展，因此，小型電子產品的配線材料大多採用設計自 •由度高、彎曲性良好的軟性印刷電路板(Flexible Printed Circuit’ FPC)，並且在不斷向高功能化及高速度化發展的 同時制定了各種電磁波干擾(EMI)的對策。目前，市場上已 推出適用於薄膜型FPC的遮罩膜，並廣泛應用在手機、數 位照相機、數位攝影機等小型電子產品中。 習知技術中，係採用塑膠材料作為電磁干擾之遮罩 膜，其製造方法可為於塑膠材料中摻雜導電性之纖維或顆 φ粒，以形成導電型塑膠材料，或藉由落片黏貼法、離子束 法、真空’法、電錄法等於塑膠材料表⑽上導電金屬， 藉由導電金屬對電磁波之遮罩效率以降低電磁干擾。 雖利用於塑膠材料中加入導電金屬、或於其表面鍍上 導電金屬以形成電子產品之遮罩層，其具有加工簡翠、重 量輕、美觀等等’然而，由於塑膠材料及導電金屬之縣 係數、玻璃轉移温度(Tg)等特性不同，易造成結合性不佳、 導電性降低柔敕性不佳等問題。 聚醯亞胺樹月旨已廣泛地應用於電子材料中，其中，用 3 M425512 於撓性印刷電路板之聚酸亞胺鋼荡基板，一般復區分為單 面板或雙面板。習知製造聚醯亞胺銅箔基板的方式主要有 二種.（1)減鍵法（Sputtering)或電錢法（Eiectr〇plating):即 是以聚醯亞胺膜為基材，利用真空濺鍍在該聚醯亞胺膜鑛 上一層銅箔後，再以電鍍法使鋼厚度增加；（2)塗布法 (Casting).即以銅箔為基材，將合成好的聚酿胺酸以精度 的模頭擠壓塗布在成卷的銅箔上，經烘箱乾燥及亞醯胺化 後形成無膠軟板基材。惟，此塗布法僅適用於單面軟板， 若銅厚低於12微米以下，則不適於雙面軟板基材的製造； 以及（3)熱壓法（Laminati0n):即以聚醯亞胺膜為基材，先 塗上一層薄的熱可塑性聚醯亞胺樹脂，經高溫硬化後，再 利用高溫高壓將該熱可塑性琴醯亞胺重新熔融。惟，此熱 壓法同樣不適用於厚度為12微米以下的銅箔。 本創作利用薄化銅箔的技術，提供具有高柔軟、超薄 型、呵撓曲及電磁遮罩的遮蔽電磁干擾結構，可用來取代 一般電磁波遮罩膜中的電子屏蔽EMI材料。 【新型内容】 、/鑑於上述習知技術之種種缺點，本創作提供一種具有 遮蔽電磁干擾結構之軟性印刷電路板，包括軟性印刷電路 板本體，以及遮蔽電磁干擾結構，係包括聚醯亞胺層、金 屬層及藉以黏合於該軟性印刷電路板本體上之膠黏層，以 使該金屬層夾置於該膠黏層和聚醯亞胺層之間，且該金屬 層之厚度係介於丨至18微米間，該聚醯亞胺層之厚度係介 於5至13微米間。 M425512 本創作亦揭示一種遮蔽電磁干擾結構，包括：聚醯亞 胺層；形成於該聚醯亞胺層上之金屬層；以及形成於該金 屬層上之膠黏層，使該金屬層夾置於該膠黏層和聚醯亞胺 層之間，其中，該金屬層之厚度係介於1至18微米間，且 該聚醯亞胺層之厚度係介於5至13微米間。 於本創作之較佳態樣中，該聚醯亞胺層的厚度係介於 5至6微米間，且該金屬層之材質為銅，其厚度係介於1 至2微米間。此外，與該膠黏層接觸的該金屬層表面係具 • 粗糙結構。 本創作發現此超薄之遮蔽電磁干擾結構具有優異的 遮蔽電磁干擾效果以及良好之柔軟性與可撓性，特別適合 用於翻蓋、滑蓋手機及扁平化電子產品中。 【實施方式】 以下係藉由特定的具體實例說明本創作之實施方 式，熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之内容輕易地 $ 瞭解本創作之優點及功效。本創作亦可以其它不同的方式 予以實施，即，在不悖離本創作所揭示之範疇下，能予不 同之修飾與改變。 第1圖係顯示本創作之遮蔽電磁干擾結構100，包括 聚醯亞胺層116;形成於該聚醯亞胺層116上之金屬層 114 ;以及形成於該金屬層114上之膠黏層112，其中，與 該膠黏層112接觸的該金屬層114表面係具粗糙結構 114a。於該具體實例中，係使用銅作為金屬層114，該銅 金屬的實例包括電解銅、壓延銅等。 5 M425512 第2圖係顯示本創作具有遮蔽電磁干擾結構210之軟 性印刷電路板’包括軟性印刷電路板本體220 ;以及設置 於該軟性印刷電路板本體220之遮蔽電磁干擾結構210。 該遮蔽電磁干擾結構210包括聚醯亞胺層216、金屬層214 及藉以黏合於該軟性印刷電路板本體220上之膠黏層 212’以使該金屬層214失置於該膠黏層212和聚醯亞胺層 之間其中，與5亥膠黏層212接觸的該金屬層214表 面係具粗糙結構214a。 本創作之遮蔽電磁干擾結構中’該金屬層之厚度通常 係介於1至18微米間之範圍，較佳係介於1至9微米間之 範圍，且更佳係介於丨至2微米間之範圍；該聚醯亞胺層 之厚度通常係介於5至13微米間，較佳係介於5至8微米 間之範圍，且更佳係介於5至6微米間之範圍。 本創作之遮蔽電磁干擾結構可以利用塗布法形成。例 如、銅名為基材，將聚酿胺酸(ployamic acid)塗布於該銅 /白上乂'火、相乾燥以及亞酿胺化（imidization) ’以形成單面 無膠的雙層覆銅箔膜。 在聚驅胺酸或聚亞醯胺塗料的結構設計上，係使聚醯 亞胺與鋼_湘捲繞式傳輸技術(Roll Tg Roll)薄銅化設備 I。&以製得5微米厚度以下之銅箔基板，且更佳係介於 1至2微米間之範圍。 卜可使用聚酸胺-酿亞胺（polyamide-imide，PAI) 來提同該遮蔽電磁干擾結構之機械性能，例如加工性及韌 性。在本創作之另一具體實施例中，該遮蔽電磁干擾結構 M425512 • 包括：聚醯胺-醯亞胺層；形成於該聚醯胺-醯亞胺層上之 ' 金屬層；以及形成於該金屬層上之膠黏層，於此並未以圖 式表示。 於上述態樣中，該遮蔽電磁干擾結構亦可利用塗布法 形成。例如，使聚醯胺-醯亞胺完全溶解於高分子溶劑中， 再將該聚醯胺-醯亞胺溶液利用塗布機塗布於銅箔上，接著 在170至200°C的溫度下經烘箱乾燥及去除溶劑後，形成 無膠的雙層覆銅箔膜。該高分子溶劑包括高極性非質子溶 _ 劑，例如N-曱基-2-π比11各咬酮(NMP)。 於另一實施態樣中，該聚醯亞胺層或聚醯胺-醯亞胺 層中均可摻雜包含選自碳黑、二氧化鈦、黑色顏料或其混 合物之消光粉，以使其具有良好的消光效果。於製作上， 可利用含浸滾輪沾附包含膠黏劑及消光粉之液體，使得該 液體得以被塗佈於該聚醯亞胺層或聚醯胺-醯亞胺層表面 上，能在保持該聚醯亞胺層或聚醯胺-醯亞胺層的性能下， | 同時達到消光的效果。 綜上所述，本創作之遮蔽電磁干擾結構具有優異的遮 蔽電磁干擾效果、良好的柔軟性與可撓性、及優異強度與 電氣特性，適用於翻蓋、滑蓋手機及扁平化電子產品中。 實施例 實施例1至6 本創作之遮蔽電磁干擾結構可藉由使用塗布法，將聚 亞醯胺前驅體（Precursor)—聚醯胺酸(ΡΑΑ)、或聚亞醯胺塗 7 M425512 料(Polyimide Varnish)均勻塗布於銅落上以形成半成品遮 蔽電磁干擾結構層。將該半成品遮蔽電磁干擾結構層置入 密閉式氮氣烘箱，氮氣烘箱之氧含量需控制在低於5 〇/〇， 最佳地，係可保持在0.2%以下或是更低，而其加熱溫度為 5〇°C〜350度(°〇、烘烤時間為15至240分鐘。接著，進 行脫水乾燥及環化(imidization)或可直接乾燥，以製作成雙 層覆銅箔膜。 藉由上述製程以完成不同厚度之覆鋼箱膜，俾藉異方 向性導電膠膜(ACF)直接使用於已完成線路部佈局=軟性籲 印刷電路板上’以形成不同厚度且具有遮蔽電磁干擾結構 之載板，其結果如表1所示。 比較例1 : 以工種塑膠作為遮罩 氣作軟性印刷電路板 使用TATSUTA商品化產品， 層’形成如第1圖所示之遮蔽結構， 測試樣品試片。 表1

實施 例1 實施 例2 聚酿亞胺層〇m) 13 13 塑膠層（“m) 金屬層（um) 18 12 释 勸層（^m) 17 17 緯厚度（Μm) 48 42 8 M425512 測試例： 分別將上述實施例1至6及比較例丨所製成不同厚度 之電路板樣品裁取成合適大小之測試樣片，進行牟軟性、 滑台測試與彎折測試，並於滑台測試與彎折測試後計算阻 值變化率與電磁波屏蔽率（。/。）、表面阻抗及熱耐久性(Heat Durability)。 藉由反應力柔軟性測試儀測試樣片之柔軟性(gf)，其 籲測試條件為電壓為AC220V、測量範圍為41〇克、可讀性 為〇.001克以及測試R角2.35毫米（mm);藉由滑台測試儀 測試樣片以計算其阻值變化率，其測試條件為電壓為 AC22〇V、間距3.0mm、R角處1.5mm以及速度=400 (轉 速Jrpm ’藉由彎折實驗機測試樣片以計算其阻值變化率， 其測5式條件為電壓為AC220V、彎曲角度為0至160度、 聋曲速度為40次/分以及彎曲R角：1.5毫米（半徑），其結 φ 果如表2所示。 M425512 表2 實施 例1 實施 例2 實施 例3 實施 例4 實施 例5 實施 例6 比較 例1 柔軟性(gf) 25.0 23.1 20.9 11.8 9.4 8.2 9.2 滑台 測試 次數 (萬次） 20 25 30 32 33 35 35 阻值變化 率(％) 2.0 2.0 2.1 2.3 2.7 3.1 4.2 彎折 測試 次數 (萬次） 9 10 11 13 14 16 16 阻值變化 率(％) 1.9 1.8 2.0 2.6 2.1 2.9 3.0 電磁波 屏蔽率 (%) EMI屏蔽 _ (1GHz) 81 82 83 82 80 80 55 表面阻抗(Ω/cm) 0.30 0.30 0.33 0.35 0.37 0.45 0.34 熱耐久性(°C) 300 300 300 300 300 300 300 根據表2之測試結果可知，本創作使用超薄型雙層聚 醯亞胺基材取代工程塑膠作為軟性印刷電路板之EMI遮 罩材料，可以在提高遮罩效果同時，使軟性印刷電路板具 有較佳的柔軟性與撓曲性，且該軟性印刷電路板測試樣品 試片經四十萬次之滑台測試後，阻值變化率均未超過3.1 %，其電磁波屏敵率（％)可達80(dB)，遠高於TATSUTA 商品化產品之電磁波屏蔽率55 (dB)。此外，在經十六萬次 之彎折測試後’阻值變化率均未超過2.9% ，遠低於標準

Claims (1)

1. M425512 - 第100219953號專利申請案 101年（月X?日修正替換頁 六、申請專利範圍： 1. 一種具有遮蔽電磁干擾結構之軟性印刷電路板，包括： 軟性印刷電路板本體；以及 遮蔽電磁干擾結構，係包括聚醯亞胺層、金屬層及 藉以黏合於該軟性印刷電路板本體上之膠黏層，以使該 金屬層夾置於該膠黏層和聚醯亞胺層之間，且該金屬層 之厚度係介於1至18微米間，該聚醯亞胺層之厚度係 介於5至13微米間。 2. 如申請專利範圍第1項之軟性印刷電路板，其中，該金 屬層之厚度係介於1至9微米間。 3. 如申請專利範圍第1項之軟性印刷電路板，其中，該聚 醯亞胺層之厚度係介於5至8微米間。 4. 如申請專利範圍第1項之軟性印刷電路板，其中，該金 屬層為銅。 5. 如申請專利範圍第1項之軟性印刷電路板，其中，與該 膠黏層接觸的該金屬層表面係具粗糙結構。 6. 如申請專利範圍第1項之軟性印刷電路板，其中，該聚 醯亞胺層之厚度係介於5至6微米間，且該金屬層之厚 度係介於1至2微米間。 7. —種遮蔽電磁干擾結構，包括： 聚醯亞胺層； 形成於該聚醯亞胺層上之金屬層；以及 膠黏層，係形成於該金屬層上，使該金屬層夾置於 該膠黏層和聚醯亞胺層之間，其中，該金屬層之厚度係 12 M425512、 Ρ-~7Γ7一-：~i . 第100219953號專利申請案 : i-^-T»r{，S：. * -. f " I ιοί 年 M 修正替換頁 ·. ^介喊1 微米間’且該聚醯亞胺層之厚度係介於5 至13微米間。 8.如申請專利範圍第7項之遮蔽電磁干擾結構，其中，該 金屬層之厚度係介於1至9微米間。 9·如申請專利範圍第7項之遮蔽電磁干擾結構，其中，該 . 聚醯亞胺層之厚度係介於5至8微米間。 1〇.如申請專利範圍第7項之遮蔽電磁干擾結構，其中，該 • 金屬層為銅。 11. 如申請專利範圍第7項之遮蔽電磁干擾結構，其中，與 °亥膠黏層接觸的該金屬層表面係具粗糖結構。 12. 如申請專利範圍第7項之遮蔽電磁干擾結構，其中，該 聚醯亞胺層之厚度係介於5至6微米間，且該^屬層二 厚度係介於1至2微米間。 13 M425512 七、圖式

   第1圖 第2圖

   ^210 220