TWM312005U - Etching trench structure of TFT LCD glass substrate - Google Patents
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M312005 八、新型說明: 【新型所屬之技術領域】 ^ 本創作是有關於一種TFT LCD玻璃基板之蝕刻槽結構 ,尤指一種可使該钱刻槽同時具有姓刻及清洗之功能,藉 以縮短蝕刻時間及簡化蝕刻過程,且於蝕刻及清洗時可達 到均勻衝擊之功效者。 【先前技術】 按,一般習用TFT LCD玻璃基板之蝕刻槽結構如第三 圖所示’該蝕刻槽7係具有一上蓋7 1,且該蝕刻槽7底 部係設置有一多孔性起泡板7 2,於該起泡板7 2上設有 —擊板7 3,並於該蝕刻槽7内部上方及二侧分別設有一 噴灑裝置7 4、7 5,另於該蝕刻槽7之一侧設置有一水 囊7 6及一 Rid排氣裝置7 7 ;當使用時係將TFT LCD玻 壤基板(圖中未示)置放於蝕刻槽7中,將工作溶液由喷 • 灑裝置7 4、7 5注入蝕刻槽7中,並配合起泡板7 2與 擊板7 3產生氣泡,而對該TFT LCD玻璃基板進行蝕刻, 之後開啟上蓋7 1,將TFT玻璃基板移至下段製程進行一 -欠凊洗、二次清洗及乾燥之動作(圖中未示),而完成 LCD玻璃基板之製作;而當該蝕刻槽7之上蓋7丄封閉時, 係由水囊7 6内所沖進的超純水阻止有毒之工作溶液氣體 往韻刻槽7外發散,而當開啟上蓋7工時,有毒之工作溶 液氣體則往蝕刻槽7内發散,此時便以Rid排氣裝置7 7 M312005 雖然上述習用之蝕刻槽7可達到蝕刻TFT LCD玻璃基 板之功效,但是該蝕刻槽7僅能單純作TFT LCD玻璃基板 蝕刻之用,若要清洗TFT LCD玻璃基板時,則必須以下一 段工作製程進行,造成TFT LCD玻璃基板製作時間增加以 及製作過程繁複之情形發生,而無法符合實際使用時之所 需。 【新型内容】 因此,本創作之主要目的係在於,可使該蝕刻槽同時 具有蝕刻及清洗之功能,藉以縮短蝕刻時間及簡化蝕刻過 程’且於蝕刻及清洗時可達到均勻衝擊之功效。 為達上述之目的,本創作係一種TFT LCD玻璃基板之 蝕刻槽結構,包含有一具有容置槽之本體,該容置槽底部 分f係連通有一進水管、出水管及一排水管,且該容置槽 =口卩之二端係分別具有一上噴嘴組及下噴嘴組;以及分別 口又於谷置槽二侧之衝擊單元,各衝擊單元係分別具有一推 出口,且該容置槽底部兩側分別具有一吸入口。 【實施方式】 明參閱『第_圖』所示,係本創作之剖面狀態示意圖。 :所不:本創作係一種TFTLCD玻璃基板之蝕刻槽結構, 0士 2 本體1及衝擊單元2所構成,可使祕刻槽同 、=有_及清洗之魏,藉簡錄_間及簡化钱刻 且於_及清洗時可達到均句衝擊之功效。 M312005 上述所提之本體1係I右—〜 1上係可具有—蓋體i 2了 =111 1 ’該容置槽1 通有-進水管⑴、出水管=槽11底J分別係連 並於該容置槽i ]L内部之 2及—排水5 1 1 3, 及下噴嘴組1 4,且容# = W具有—上噴嘴組1 3 口21、^底部兩側分別具有一吸入 口2 1 2 la,亚與一泵浦2 3 各衝擊單元2、2a係連接。— 二侧,且各衝擊單元2、2 =置於上速容置槽1 1之 22a,而各衝擊單元2、2二:別具有-推出口 ”、 推出口2 2、22a處具有接有一果浦23,並於 擊板2 4、2 4 a,且节衝墼,置於容置槽1 5二側之衝 孔隙。如是,藉由上述之^構^4、2 4a上係具有多數 基板之㈣槽結構。、、、°構構成—全新之抓旧玻璃 請參閱『第二圖』所示 意圖。如圖所示:當本創作於=作之使用狀態剖面示 <進水管1 1 1 ϋ#;# —、 吩,係於該容置槽1 1 元3係具有暫存該藥劑供應單 係與該暫存槽31連接;且二1之$水官112 U及下喷嘴组“传分内部之上喷嘴組 組14亦同時與—氣體供應單元5連接;並可同
時搭配另-_槽、清洗槽及烘乾槽使用,而構成一 TFT LCD玻璃基板之蝕刻裝置(圖中未示);由於清洗槽及烘乾 槽非本創作所限定之技術特徵,故今僅就蝕刻槽結構之動 作說明如下:。 M312005 當使用時係於一承載匣 刪,响川移八容置二多Μ 供應罩元3配合進水管7 曰1中且由藥舞j 動泵浦2 3,使衝擊單元ρ為所需藥劑之供應,龙敎 〜及衝擊板2T24a s2:利用其推出口22、2 1-推並且產生2 合吸入口 2 1、2 h,以 動時,該衝擊單元2a之吸 推出”作推 之當衝擊單元2a之始山 2 la則作吸入之動作,·反 之歿入0 出口 2 23作推動時,該衝擊單元2 :Γ二,作吸入之動作)使藥劑產生循環及均句】 做C氣體供應單元5所連通之下噴嘴組1 4 1 泡之用,使該氣泡之產生可由容置槽1 以利用―玻璃基板6表面及盲孔中之殘渣,藉 合藥劑供及2二、上噴嘴組13及下噴嘴組1 4配 6進h 兀3乳體供應單元5對TFT LCD破璃基板 之筚並使該容置槽11之出水管112將银到後 完成2暫存槽31做為之暫存及回收;當前述餘刻讀 嘴級後,再由液體供應單元4配合上喷嘴組1 3與下喷 、、’且1 4做為清洗液之供應,並藉由氣體供應 ^ =;嗔嘴組! 4做為清洗時產生氣泡之用,使該=之 盲孔中由各置槽1 1下方衝擊TFT LCD玻璃基板6表面及 =复中之殘渣,並啟動泵浦2 3,使衝擊單元2、2a利 口=推出口 2 2、2 2a及衝擊板2 4、2 4a並配合吸入 洗1 2 1 a,以一吸一推並且利用孔隙產生擠壓,使清 句勻產生撞擊TFT LCD玻璃基板6,藉以利用容置槽 M312005 1 1對TFT LCD玻璃基板6進行作初步清洗,而該容置_ 1 1之排水管1 1 3則可做為清洗後廢水之排放。 綜上所述,本創作TFT LCD玻璃基板之蝕刻槽結構可 有效改善習用之種種缺點,可使該蝕刻槽同時具有蝕刻及 清洗之功能,藉以縮短蝕刻時間及簡化蝕刻過程,且於蝕 刻及清洗時可達到均勻衝擊之功效,進而使本創作之產生 能更進步、更實用、更符合使用者之所須,確已符合新型 專利申請之要件,爰依法提出專利申請。 ^惟以上所述者,僅為本創作之較佳實施例而已,當不 =以此限疋本創作實施之範圍;故,凡依本創作申請專利 範圍及新型㈣書内容所作之簡單的等效變化與修飾 應仍屬本創作專利涵蓋之範圍内。 【圖式簡單說明】 第一圖 第二圖 第三圖
係本創作之剖面狀態示意圖。 二本遣】作之使用狀悲剖面示意圖。 係驾用之剖面狀態示意圖。 【主要元件符號說明】 本體1 容置槽1 1 進水管1 1 1 出水管112 排水管113 M312005 蓋體1 2 上喷嘴組13 下喷嘴組14 承載匣1 5 衝擊單元2、2a 吸入口 2 1、2 1 a 推出口 22、22a 泵浦2 3 衝擊板2 4、2 4a 藥劑供應單元3 暫存槽3 1 液體供應單元4 氣體供應單元5 TFT LCD玻璃基板6 (習用部分) 蝕刻槽7 上蓋7 1 起泡板7 2 擊板7 3 喷灑裝置7 4、7 5 水囊7 6
Rid排氣裝置7 7
Claims (1)
- M312005 九、申請專利範圍: 1 · 一種TFT LCD玻璃基板之#刻槽結構’其包括有: • 一本體,該本體係具有一容置槽,該容置槽底部分 別係連通有一進水管、出水管及一排水管,且該容置槽 内部之二端係分別具有一上噴嘴組及下噴嘴組,並於其 底部兩侧分別具有一吸入口且與一泵浦做連接;以及 衝擊單元,各衝擊單元係分別設置於上述容置槽之 二侧,且各衝擊單元係分別具有一推出口並連接於該泵 •浦。 2 ·依申請專利範圍第1項所述之TFT LCD玻璃基板之餘刻 槽結構,其中,該本體之容置槽上係可具有一蓋體。 3 ·依申請專利範圍第1項所述之TFT LCD玻璃基板之蝕刻 槽結構,其中,該容置槽之進水管係連接有一藥劑供應 單元’該藥劑供應單元係具有暫存槽,而該容置槽之出 水管係與該暫存槽連接。 鲁 4 ·依申請專利範圍第i項所述之吓几⑶玻璃基板之蝕刻 槽結構,其中,該容置槽内部之上喷嘴組及下喷嘴組係 分別與一液體供應單元連接。 •依申請專利範圍第1項所述之TFT LCD玻璃基板之蝕刻 槽結構’其中,該容置槽内部之下喷嘴組係與一氣體供 應單元連接。 •依申請專利範圍第1項所述之TFT LCD玻璃基板之蝕刻 槽結構,其中,於推出口處具有一設置於容置槽二側之 衝擊板,且該衝擊板上係具有多數孔隙。 11 0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW95221877U TWM312005U (en) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | Etching trench structure of TFT LCD glass substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW95221877U TWM312005U (en) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | Etching trench structure of TFT LCD glass substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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TWM312005U true TWM312005U (en) | 2007-05-11 |
Family
ID=38741329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW95221877U TWM312005U (en) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | Etching trench structure of TFT LCD glass substrate |
Country Status (1)
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TW (1) | TWM312005U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI601678B (zh) * | 2010-03-26 | 2017-10-11 | 康寧公司 | 移動玻璃片的非接觸蝕刻 |
-
2006
- 2006-12-12 TW TW95221877U patent/TWM312005U/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI601678B (zh) * | 2010-03-26 | 2017-10-11 | 康寧公司 | 移動玻璃片的非接觸蝕刻 |
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