TWI836510B - 光學玻璃和光學元件 - Google Patents
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- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 42
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 46
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 44
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 69
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 18
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 37
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 19
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 18
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 238000003303 reheating Methods 0.000 abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 139
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- -1 WO 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 4
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N ytterbium(III) oxide Inorganic materials O=[Yb]O[Yb]=O FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/068—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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Abstract
本發明實施例關於光學玻璃和光學元件。一種光學玻璃，SiO
2的含量為10～50質量%，Nb
2O
5的含量為10～50質量%，TiO
2和BaO的合計含量[TiO
2+BaO]為10質量%以下，B
2O
3的含量與SiO
2的含量的質量比[B
2O
3/SiO
2]為0.15以下。根據本發明實施例，能夠提供具有期望的光學常數、比重和部分色散比Pg,F小、進而再加熱時的穩定性優異的光學玻璃以及包含上述光學玻璃的光學元件。
Description
本發明實施例關於一種具有期望的光學常數的光學玻璃和光學元件。
專利文獻1中公開了具有規定的折射率nd和阿貝數νd的光學玻璃。專利文獻1所記載的光學玻璃的特徵在於在再加熱試驗中，玻璃內部不會失透。然而，近年來，在再加熱時要求更高的穩定性。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2017-105703號公報。
[發明所欲解決的問題]
除上述那樣的再加熱時的更高的穩定性以外，對於自動聚焦方式的光學系統中搭載的光學元件，為了降低在驅動自動聚焦時的消耗電力，要求輕量化。如果能夠降低玻璃的比重，則能夠減少透鏡等光學元件的重量。進而，為了校正色像差，要求部分色散比Pg,F小。
因此，本發明實施例的目的在於提供具有期望的光學常數、比重和部分色散比Pg,F小、進而在再加熱時的穩定性優異的光學玻璃、以及包含上述光學玻璃的光學元件。
[用以解決問題之手段]
本發明實施例的要旨如下所述。
(1)一種光學玻璃，其中，SiO
2的含量為10～50質量%；
Nb
2O
5的含量為10～50質量%；
TiO
2和BaO的合計含量[TiO
2+BaO]為10質量%以下；
B
2O
3的含量與SiO
2的含量的質量比[B
2O
3/SiO
2]為0.15以下。
(2)根據(1)所述的光學玻璃，滿足(a)～(g)中任意的1個以上：
(a)La
2O
3的含量為15質量%以下；
(b)ZrO
2的含量與Nb
2O
5的含量的質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]大於0.1；
(c)Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量與B
2O
3和SiO
2的合計含量的質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]小於1.7；
(d)MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R'O與Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O的質量比[R’O/R
2O]為5以下；
(e)Ta
2O
5的含量與Nb
2O
5和TiO
2的合計含量的質量比[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]為0.15以下；
(f)TiO
2的含量與Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量的質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]大於0且小於0.3；
(g)Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O大於0質量%。
(3)根據(1)或(2)所述的光學玻璃，其中，
折射率nd為1.69～1.77；
阿貝數νd為34～37。
(4)一種光學玻璃，其中，
比重為3.45以下；
部分色散比Pg,F的偏差ΔPg,F為-0.0015以下；
液相線溫度LT為1250℃以下；
在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180～200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數為20個以下；
折射率nd為1.69～1.77；
阿貝數νd為34～37。
(5)一種光學元件，是由上述(1)～(4)的任一項所述的光學玻璃所形成。
[發明功效]
根據本發明實施例，能夠提供具有期望的光學常數、比重和部分色散比Pg,F小，進而在再加熱時的穩定性優異的光學玻璃，以及包含上述光學玻璃的光學元件。
以下對本發明實施例的實施方式進行說明。另外，在本發明實施例和本說明書中，光學玻璃的玻璃組成只要沒有特別說明則以氧化物基準表示。在此“氧化物基準的玻璃組成”是指玻璃原料在熔融時全部分解作為在玻璃中以氧化物的形式存在的物質進行換算而得到的玻璃組成，各玻璃成分的表示依據慣例，記載為SiO
2、TiO
2等。玻璃成分的含量和合計含量只要沒有特別說明則為質量基準，“%”表示“質量%”。
玻璃成分的含量能夠藉由公知的方法例如感應耦合電漿原子發射光譜分析法(ICP-AES)、感應耦合電漿質譜分析法(ICP-MS)等方法定量。此外，在本說明書和本發明實施例中，構成成分的含量為0%表示實質上不含該構成成分，允許在不可避免的雜質水平包含該成分。
此外，在本說明書中，折射率只要沒有特別記載，是指氦的d線(波長587.56nm)處的折射率nd。
阿貝數νd用作表示色散相關的性質的值，用下述式表示。在此，nF是藍色氫的F線(波長486.13nm)處的折射率，nC是紅色氫的C線(波長656.27nm)處的折射率。
νd＝(nd-1)/(nF-nC)。
部分色散比Pg,F使用g線、F線、C線處的各折射率ng、nF、nC表示如下。
Pg,F＝(ng-nF)/(nF-nC)。
在將橫軸設為阿貝數νd、縱軸設為部分色散比Pg,F的平面中，法線藉由下式所示。
Pg,F(0)＝0.6483-(0.0018×νd)。
進而，距離法線的部分色散比Pg,F的偏差ΔPg,F如下所示。
ΔPg,F＝Pg,F-Pg,F(0)。
以下，作為第1實施方式，基於玻璃組成對本發明實施例的光學玻璃進行說明，作為第2實施方式，基於物性值對本發明實施例的光學玻璃進行說明。
[第1實施方式]。
第1實施方式的光學玻璃中，SiO
2的含量為10～50質量%，Nb
2O
5的含量為10～50質量%，TiO
2和BaO的合計含量[TiO
2+BaO]為10質量%以下，B
2O
3的含量與SiO
2的含量的質量比[B
2O
3/SiO
2]為0.15以下。
在第1實施方式的光學玻璃中，SiO
2的含有量為10～50%。SiO
2的含量的下限較佳為15%，進而依次更佳為20%、25%、30%。此外，SiO
2的含量的上限較佳為47%，進而依次更佳為45%、43%。當SiO
2的含量過少時，玻璃化變得困難。當SiO
2的含量過多時，難以得到期望的光學常數。
在第1實施方式的光學玻璃中，Nb
2O
5的含量為10～50%。Nb
2O
5的含量的下限較佳為14%，進而依次更佳為16%、18%、20%。此外，Nb
2O
5的含量的上限較佳為44%，進而依次更佳為41%、38%、35%。當Nb
2O
5的含量過少時，可能不能實現作為目標的高折射率化。當Nb
2O
5的含量過多時，熱穩定性可能下降，此外，玻璃的原料成本可能增加。
在第1實施方式的光學玻璃中，TiO
2和BaO的合計含量[TiO
2+BaO]為10%以下。合計含量[TiO
2+BaO]的上限較佳為9%，進而依次更佳為8%、7%、6%。合計含量[TiO
2+BaO]小較佳，其下限較佳為0%。合計含量[TiO
2+BaO]也可以為0%。TiO
2為使部分色散比Pg,F增加的成分，此外，BaO為使比重增加的成分。因此，藉由將合計含量[TiO
2+BaO]設為上述範圍，從而能夠抑制部分色散比Pg,F和比重的增加。
在第1實施方式的光學玻璃中，B
2O
3的含量與SiO
2的含量的質量比[B
2O
3/SiO
2]為0.15以下。質量比[B
2O
3/SiO
2]的上限較佳為0.14，進而依次更佳為0.13、0.12、0.11。質量比[B
2O
3/SiO
2]的下限較佳為0，進而依次更佳為0.01、0.02、0.03。當質量比[B
2O
3/SiO
2]過大時，在將玻璃原料熔融而熔液化、將玻璃熔液成型而玻璃化時、玻璃化後將玻璃加熱、軟化而再成型時，晶體可能析出。
在第1實施方式中，滿足以下的(a)～(g)中任意的1項以上較佳。
(a)La
2O
3的含量為15%以下。
(b)ZrO
2的含量與Nb
2O
5的含量的質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]大於0.1。
(c)Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量與B
2O
3和SiO
2的合計含量的質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]小於1.7。
(d)MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R’O與Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O的質量比[R’O/R
2O]為5以下。
(e)Ta
2O
5的含量與Nb
2O
5和TiO
2的合計含量的質量比[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]為0.15以下。
(f)TiO
2的含量與Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量的質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]大於0且小於0.3。
(g)Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O大於0%。
以下，對上述(a)～(g)進行詳述。
(a)在第1實施方式的光學玻璃中，La
2O
3的含量的上限較佳為15%，進而依次更佳為13%、11%、9%。此外，La
2O
3的含量的下限較佳為0%，進而依次更佳為0.5%、1.0%、1.5%。La
2O
3的含有量也可以是0%。藉由將La
2O
3的含量的上限設為上述範圍，從而能夠抑制比重的增大。
(b)在第1實施方式的光學玻璃中，ZrO
2的含量與Nb
2O
5的含量的質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]較佳大於0.1，更佳大於0.3。此外，質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]的上限較佳為0.8，進而依次更佳為0.7、0.6、0.5。藉由將質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]的下限設為上述範圍，從而能夠降低部分色散比Pg,F和ΔPg,F。藉由將質量比[ZrO
2/Nb
2O
5]的上限設為上述範圍，從而可穩定地得到玻璃。
(c)在第1實施方式的光學玻璃中，Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量與B
2O
3和SiO
2的合計含量的質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]較佳小於1.7，進而依次更佳1.5以下、1.4以下、1.3以下。此外，質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]的下限較佳為0.5，進而依次更佳為0.6、0.7、0.8。藉由將質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]設為上述範圍，從而可得到具有期望的光學常數的光學玻璃。
(d)在第1實施方式的光學玻璃中，MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R’O與Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O的質量比[R’O/R
2O]的上限較佳為5，進而依次更佳為4.0、3.5、3.0。此外，質量比[R’O/R
2O]的下限較佳為0，進而依次更佳為0.2、0.4、0.6。質量比[R’O/R
2O]可以為0。藉由將質量比[R’O/R
2O]設為上述範圍，從而可得到低比重且高色散的光學玻璃。
(e)在第1實施方式的光學玻璃中，Ta
2O
5的含量與Nb
2O
5和TiO
2的合計含量的質量比[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]的上限較佳為0.15，進而依次更佳為0.12、0.10、0.08、0.06。質量比[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]小較佳，其下限較佳為0。此外，質量比[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]也可以為0。藉由將[Ta
2O
5/(Nb
2O
5+TiO
2)]設為上述範圍，從而能夠抑制比重的增大，此外能夠降低玻璃的原料成本。
(f)在第1實施方式的光學玻璃中，TiO
2的含量與Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量的質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]較佳大於0，進而依次更佳為0.01以上、0.02以上、0.03以上。此外，質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]較佳小於0.3，進而依次更佳為0.25以下、0.20以下、0.15以下。藉由將質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]設為上述範圍，從而能夠抑制比重的增大，此外能夠降低部分色散比Pg,F。此外，能夠降低玻璃的原料成本。
(g)在第1實施方式的玻璃中，Li
2O、Na
2O和K
2O的合計含量R
2O[Li
2O+Na
2O+K
2O]較佳大於0%，進而依次更佳為3.0%以上、6.0%以上、8.0%以上。此外，合計含量R
2O較佳為30%以下，進而依次更佳為25%以下、23%以下、20%以下。藉由將合計含量R
2O設為上述範圍，從而能夠改善玻璃的熔融性和熱穩定性，降低液相線溫度LT。
以下對第1實施方式的光學玻璃中除上述以外的玻璃成分進行詳述。
在第1實施方式的光學玻璃中，B
2O
3的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為8.0%、6.0%、5.0%。此外，B
2O
3的含量的下限較佳為0%，進而依次更佳為1.0%、1.5%、2.0%。B
2O
3的含量也可以為0%。藉由將B
2O
3的含量設為上述範圍，從而能夠使玻璃的比重下降且改善玻璃的熱穩定性。
在第1實施方式的光學玻璃中，P
2O
5的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為8.0%、6.0%、5.0%。此外，P
2O
5的含量的下限較佳為0%。P
2O
5的含量也可以為0%。藉由將P
2O
5的含量設為上述範圍，從而能夠抑制部分色散比Pg,F的增加，保持玻璃的熱穩定性。
在第1實施方式的玻璃中，Al
2O
3的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為8.0%、6.0%、5.0%。Al
2O
3的含量也可以為0%。藉由將Al
2O
3的含量設為上述範圍，從而能夠保持玻璃的耐失透性和熱穩定性。
在第1實施方式的玻璃中，ZrO
2的含量的下限較佳為1.0%，進而依次更佳為2.0%、2.5%、3.0%。此外，ZrO
2的含量的上限較佳為15%，進而依次更佳為14%、13%、12%。藉由將ZrO
2的含量設為上述範圍，從而能夠實現期望的光學常數且降低部分色散比Pg,F。
在第1實施方式的光學玻璃中，TiO
2的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為9.0%、8.0%、7.0%。此外，TiO
2的含量的下限較佳為0.5%，進而依次更佳為1.0%、1.5%、2.0%。TiO
2的含量也可以為0%。藉由將TiO
2的含量設為上述範圍，從而能夠實現期望的光學常數，抑制比重的增大且降低玻璃的原料成本。
在第1實施方式的玻璃中，WO
3的含量的上限較佳為5%，進而依次更佳為4%、3%、2%。WO
3的含量也可以為0%。藉由將WO
3的含量設為上述範圍，從而能夠提高透射率且降低部分色散比Pg,F和比重。
在第1實施方式的玻璃中，Bi
2O
3的含量的上限較佳為5%，進而依次更佳為4%、3%、2%。此外，Bi
2O
3的含量的下限較佳為0%。藉由將Bi
2O
3的含量設為上述範圍，從而能夠改善玻璃的熱穩定性且降低部分色散比Pg,F和比重。
在第1實施方式的玻璃中，Li
2O的含量的上限較佳為12%，進而依次更佳為10%、9.0%、8.0%。此外，Li
2O的含量的下限較佳為1.0%，進而依次更佳為2.0%、3.0%、4.0%。
在第1實施方式的玻璃中，Na
2O的含量的上限較佳為20%，進而依次更佳為18%、16%、14%。Na
2O的含量的下限較佳為0%，進而依次更佳為1.0%、1.5%、2.0%。
在第1實施方式的玻璃中，K
2O的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為5.0%、3.0%、2.0%。K
2O的含量的下限較佳為0%，進而依次更佳為0.2%、0.4%、0.6%。
Li
2O、Na
2O和K
2O為降低部分色散比Pg,F的成分，具有降低液相線溫度、改善玻璃的熱穩定性的作用，但當這些的含量過多時，化學耐久性、耐候性、再加熱時的穩定性下降。因此，Li
2O、Na
2O和K
2O的各含量較佳分別為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Cs
2O的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為5%、3%、1%。Cs
2O的含量的下限較佳為0%。
Cs
2O具有改善玻璃的熱穩定性的功能，但當含量變多時，化學耐久性、耐候性下降。因此，Cs
2O的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，MgO的含量的上限較佳為20%，進而依次更佳為10%、5%、3%。此外，MgO的含量的下限較佳為0%。
在第1實施方式的玻璃中，CaO的含量的上限較佳為20%，進而依次更佳為18%、16%、14%。此外，CaO的含量的下限較佳為0%，進而依次更佳為1.0%、1.5%、2.0%。
在第1實施方式的玻璃中，SrO的含量的上限較佳為20%，進而依次更佳為10%、5%、3%。此外，SrO的含量的下限較佳為0%。
在第1實施方式的光學玻璃中，BaO的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為5.0%、3.0%、2.0%。BaO的含量的下限較佳為0%。藉由將BaO的含量設為上述範圍，從而能夠抑制比重的增大。
MgO、CaO、SrO、BaO均為具有改善玻璃的熱穩定性和耐失透性的功能的玻璃成分。但是，當這些玻璃成分的含量變多時，比重增加，高色散性受損且玻璃的熱穩定性和耐失透性下降。因此，這些玻璃成分的各含量較佳分別為上述範圍。
此外，在第1實施方式的玻璃中，MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R’O[MgO+CaO+SrO+BaO]的上限較佳為20%，進而依次更佳為18%、16%、14%。此外，合計含量R’O的下限較佳為0%，進而依次更佳為1.0%、1.5%、2.0%。從抑制比重的增加、且不妨礙高色散化而維持熱穩定性的觀點出發，合計含有量R’O較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，ZnO的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為5.0%、3.0%、2.0%。此外，ZnO的含量的下限較佳為0%。
ZnO為具有改善玻璃的熱穩定性的作用的玻璃成分。但是，當ZnO的含量過多時，比重上升。因此，從改善玻璃的熱穩定性並維持期望的光學常數的觀點出發，ZnO的含有量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Ta
2O
5的含量的上限較佳為10%，進而依次更佳為5.0%、3.0%、2.0%。此外，Ta
2O
5的含量的下限較佳為0%。
Ta
2O
5為具有改善玻璃的熱穩定性的作用的玻璃成分，為使部分色散比Pg,F降低的成分。另一方面，當Ta
2O
5的含量變多時，玻璃的熱穩定性下降，在將玻璃熔融時容易產生玻璃原料的熔融殘留。此外，比重上升。因此，Ta
2O
5的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Y
2O
3的含量的上限較佳為20%，進而依次更佳為10%、5%、3%。此外，Y
2O
3的含量的下限較佳為0%。
當Y
2O
3的含量變得過多時，玻璃的熱穩定性下降，玻璃容易在製造中失透。因此，從抑制玻璃的熱穩定性下降的觀點出發，Y
2O
3的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的光學玻璃中，Sc
2O
3的含量較佳為2%以下。此外，Sc
2O
3的含量的下限較佳為0%。
在第1實施方式的玻璃中，HfO
2的含量較佳為2%以下。此外，HfO
2的含量的下限較佳為0%。
Sc
2O
3、HfO
2具有提高玻璃的高色散性的作用，但為昂貴的成分。因此，Sc
2O
3、HfO
2的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Lu
2O
3的含量較佳為2%以下。此外，Lu
2O
3的含量的下限較佳為0%。
Lu
2O
3具有提高玻璃的高色散性的作用，但由於分子量大，也是使玻璃的比重增加的玻璃成分。因此，Lu
2O
3的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，GeO
2的含量較佳為2%以下。此外，GeO
2的含量的下限較佳為0%。
GeO
2具有提高玻璃的高色散性的作用，但在通常使用的玻璃成分中，為特別昂貴的成分。因此，從降低玻璃的製造成本的觀點出發，GeO
2的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Gd
2O
3的含量較佳為2%以下。此外，Gd
2O
3的含量的下限較佳為0%。
當Gd
2O
3的含量變得過多時，玻璃的熱穩定性下降。此外，當Gd
2O
3的含量變得過多時，玻璃的比重增大而不較佳。因此，從良好地維持玻璃的熱穩定性且抑制比重的增大的觀點出發，Gd
2O
3的含量較佳為上述範圍。
在第1實施方式的玻璃中，Yb
2O
3的含量較佳為2%以下。此外，Yb
2O
3的含量的下限較佳為0%。
Yb
2O
3與La
2O
3、Gd
2O
3、Y
2O
3相比分子量大，因此使玻璃的比重增大。當玻璃的比重增大時，光學元件的質量增大。例如，當將質量大的透鏡組裝到自動對焦式的攝像鏡頭中時，自動對焦時鏡頭的驅動需要的電力增大，電池的消耗會變得劇烈。因此，期望降低Yb
2O
3的含量，抑制玻璃的比重的增大。
此外，當Yb
2O
3的含量變得過多時，玻璃的熱穩定性下降。從防止玻璃的熱穩定性下降且抑制比重的增大的觀點出發，Yb
2O
3的含量較佳為上述範圍。
第1實施方式的玻璃較佳主要由上述的玻璃成分，即，作為必要成分的B
2O
3和La
2O
5，作為任意成分的La
2O
3、B
2O
3、P
2O
5、Al
2O
3、ZrO
2、TiO
2、WO
3、Bi
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O、Cs
2O、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、Ta
2O
5、Y
2O
3、Sc
2O
3、HfO
2、Lu
2O
3、GeO
2、Gd
2O
3和Yb
2O
3所構成，上述的玻璃成分的合計含量較佳設為多於95%，更佳設為多於98%，進一步較佳設為多於99%，進而較佳設為多於99.5%。
另外，第1實施方式的玻璃較佳基本由上述玻璃成分構成，但在不妨礙本發明實施例的作用效果的範圍內，也能夠含有其他的成分。此外，在本發明實施例中，不排除含有不可避免的雜質。
(其他成分)
除上述成分以外，上述光學玻璃能夠少量含有Sb
2O
3、CeO
2等作為澄清劑。較佳澄清劑的總量(外部添加量)設為0%以上且小於1%，更佳設為0%以上且0.5%以下。
外部添加量是指將除澄清劑以外的全部玻璃成分的合計含量設為100%時，將澄清劑的添加量用重量百分比表示的添加量。
Pb、Cd、As、Th等為產生環境負擔的成分。因此，PbO、CdO、ThO
2各自的含量均較佳為0～0.1%，更佳為0～0.05%，進一步較佳為0～0.01%，特別較佳為實質上不含PbO、CdO、ThO
2。
As
2O
3的含量較佳為0～0.1%，更佳為0～0.05%，進一步較佳為0～0.01%，特別較佳為實質上不含As
2O
3。
進而，上述光學玻璃可在可見區域的廣範圍得到高的透射率。為了活用這樣的長處，不含著色性的元素較佳。作為著色性的元素能夠例示Cu、Co、Ni、Fe、Cr、Eu、Nd、Er、V等。任一元素均較佳小於100質量ppm，更佳為0～80質量ppm，進一步較佳為0～50質量ppm，特別較佳為實質上不包含。
此外，Ga、Te、Tb等為不需要導入的成分，也是昂貴的成分。因此，藉由質量%表示的Ga
2O
3、TeO
2、TbO
2的含量範圍各自均較佳為0～0.1%，更佳為0～0.05%，進一步較佳為0～0.01%，更進一步較佳為0～0.005%，更進一步較佳0～0.001%，特別較佳為實質上不包含。
(玻璃特性)
＜折射率nd＞
在第1實施方式的光學玻璃中，折射率nd較佳為1.69～1.77。折射率nd也能夠設為1.695～1.765或1.70～1.76。折射率nd能夠藉由適當調節各玻璃成分的含量而成為期望的值。具有相對地提高折射率nd的作用的成分(高折射率化成分)為Nb
2O
5、TiO
2、ZrO
2、Ta
2O
5、La
2O
3等。另一方面，具有相對地降低折射率nd的作用的成分(低折射率化成分)為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O等。此外，能夠藉由例如使高折射率化成分Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)與低折射率成分B
2O
3和SiO
2的合計含量的質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]增加從而提高折射率nd，能夠藉由降低質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)])從而使折射率nd下降。
＜阿貝數νd＞
在第1實施方式的光學玻璃中，阿貝數νd較佳為34～37。阿貝數νd也能夠設為34.3～36.7或34.5～36.5。阿貝數νd能夠藉由適當調節各玻璃成分的含量而成為期望的值。相對地降低阿貝數νd的成分即高色散化成分為Nb
2O
5、TiO
2、ZrO
2、Ta
2O
5等。另一方面，相對地提高阿貝數νd的成分即低色散化成分為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O、La
2O
3、BaO、CaO、SrO等。在高色散化成分Nb
2O
5、TiO
2、ZrO
2中，TiO
2降低阿貝數νd的作用(高色散化作用)尤其大，因此藉由使TiO
2的含量與Nb
2O
5、TiO
2和ZrO
2的合計含量的質量比([TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)])增加從而能夠降低阿貝數νd(高色散化)，藉由使質量比([TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)])減少從而能夠增加阿貝數νd(低色散化)。
＜玻璃的比重＞
第1實施方式的光學玻璃的比重較佳為3.45以下，進而依次更佳為3.40以下、3.35以下。
相對地提高比重的成分為BaO、La
2O
3、ZrO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5等。另一方面，相對地降低比重的成分為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O等。能夠藉由適當調節這些成分的含量而控制比重。
＜部分色散比Pg,F＞
在第1實施方式的光學玻璃中，部分色散比Pg,F的上限較佳為0.5870，進而依次更佳為0.5856、0.5851、0.5846。藉由將部分色散比Pg,F設為上述範圍，從而可得到適合高次的色像差校正的光學玻璃。另一方面，部分色散比Pg,F的下限沒有特別限定，將0.5717設為目標。
此外，在第1實施方式的光學玻璃中，偏差ΔPg,F的上限較佳為-0.0015，進而依次更佳為-0.0020、-0.0025。藉由將偏差ΔPg,F設為上述範圍，從而可得到適合高次的色像差校正的光學玻璃。另一方面，偏差ΔPg,F的下限沒有特別限定，將-0.0080設為目標。
＜液相線溫度LT＞
第1實施方式的光學玻璃的液相線溫度LT較佳為1250℃以下，進而依次更佳為1220℃以下、1200℃以下。藉由將液相線溫度LT設為上述範圍，從而能夠使玻璃的熔融、成型溫度下降且能夠降低熔融工序中的玻璃熔融器具(例如坩堝、熔融玻璃的攪拌器具等)的侵蝕。液相線溫度LT由全部的玻璃成分的含量的平衡所決定。其中，SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O等的含量對液相線溫度LT的影響大。
另外，液相線溫度如下確定。將10cc(10ml)的玻璃投入鉑坩堝中，在1250℃～1350℃熔融20～30分鐘後，冷卻到玻璃轉換溫度Tg以下，將玻璃連同坩堝放入規定溫度的融解爐，保持2小時。保持溫度在1000℃以上每次改變5℃或10℃，保持2小時後進行冷卻，用100倍的光學顯微鏡觀察玻璃內部的晶體的有無。將晶體沒有析出的最低溫度設為液相線溫度。
＜再加熱時的穩定性＞
在第1實施方式的光學玻璃中，在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180～200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數較佳為20個以下、更佳為10個以下。
另外，再加熱時的穩定性如下測定。將1cm×1cm×1cm大小的玻璃試樣在設定為該玻璃試樣的玻璃轉換溫度Tg的第1試驗爐中加熱10分鐘，進而在設定為比該玻璃轉換溫度Tg高180～200℃的溫度的第2試驗爐加熱10分鐘後，用光學顯微鏡(觀察倍率：10～100倍)確認晶體的有無。然後，測定每1g的晶體數。此外，目視確認玻璃的白濁的有無。
＜玻璃轉換溫度Tg＞
第1實施方式的光學玻璃的玻璃轉換溫度Tg的上限較佳為650℃，進而依次更佳為620℃、600℃、580℃。此外，玻璃轉換溫度Tg的下限較佳為450℃，進而依次更佳為480℃、500℃、520℃。玻璃轉換溫度Tg能夠藉由對各個成分進行調節而控制。
相對地降低玻璃轉換溫度Tg的成分為Li
2O、Na
2O、K
2O等。相對地提高玻璃轉換溫度Tg的成分為La
2O
3、ZrO
2、Nb
2O
5等。能夠藉由適當調節這些成分的含量而控制玻璃轉換溫度Tg。
＜玻璃的透光性＞
第1實施方式的光學玻璃的透光性能夠藉由著色度λ80、λ70進行評價。
對厚度10.0mm±0.1mm的玻璃試樣在波長200～700nm的範圍測定光譜透射率，將外部透射率為80%的波長設為λ80，將外部透射率為70%的波長設為λ70，將外部透射率為5%的波長設為λ5。
第1實施方式的光學玻璃的λ80較佳為500nm以下，更佳為470nm以下，進一步較佳為450nm以下。λ70較佳為450nm以下，更佳為420nm以下，進一步較佳為400nm以下。此外，λ5較佳為370nm以下，更佳為360nm以下，進一步較佳為350nm以下。
(光學玻璃的製造)
就第1實施方式的光學玻璃而言，以成為上述規定的組成的方式調配玻璃原料，使用調配的玻璃原料按照公知的玻璃製造方法製作即可。例如，調配多種化合物，充分混合而製成批料，將批料加入石英坩堝、鉑坩堝中進行粗融解(rough melt)。對藉由粗融解得到的熔融物進行急劇冷卻、粉碎，製作碎玻璃。進而將碎玻璃加入鉑坩堝中，進行加熱、再熔融(remelt)而形成熔融玻璃，再進一步進行澄清、均質化後對熔融玻璃進行成型，緩慢冷卻而得到光學玻璃。熔融玻璃的成型、緩慢冷卻能夠適用公知的方法。
另外，如果能夠以期望的含量將期望的玻璃成分導入玻璃中，則在調配批料時使用的化合物沒有特別限定，作為這樣的化合物，可舉出：氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氫氧化物、氟化物等。
(光學元件等的製造)。
對於使用第1實施方式的光學玻璃製作光學元件，適用公知的方法即可。例如，在上述光學玻璃的製造中，將熔融玻璃流入鑄模中成型為板狀，製作由本發明實施例的光學玻璃形成的玻璃材料。對得到的玻璃材料適當進行切斷、研磨、拋光，製作適於壓製成型的大小、形狀的切片。將切片加熱、軟化，用公知的方法進行壓製成型(二次熱壓)，製作與光學元件的形狀近似的光學元件坯件。對光學元件坯件進行退火，用公知的方法進行研磨、拋光而製作光學元件。
在製作的光學元件的光學功能面，可以根據使用目的塗覆防反射膜、全反射膜等。
根據本發明實施例的一種方式，能夠提供由上述光學玻璃形成的光學元件。作為光學元件的種類，能夠例示球面透鏡、非球面透鏡等透鏡、稜鏡、衍射光柵等。作為透鏡的形狀，能夠例示雙凸透鏡、平凸透鏡、雙凹透鏡、平凹透鏡、凸鏡型凹凸透鏡、凹鏡型凹凸透鏡等各種形狀。光學元件能夠藉由包含對由上述光學玻璃形成的玻璃成型體進行加工的工序的方法而製造。作為加工，能夠示例切斷、切削、粗研磨、精研磨、拋光等。在進行這樣的加工時，藉由使用上述玻璃從而能夠減少破損、穩定地供給高質量的光學元件。
[第2實施方式]
第2實施方式的光學玻璃中，比重為3.45以下，部分色散比Pg,F的偏差ΔPg,F為-0.0015以下，液相線溫度LT為1250℃以下，在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180～200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數為20個以下，折射率nd為1.69～1.77，阿貝數νd為34～37。
在第2實施方式的光學玻璃中，折射率nd為1.69～1.77。折射率nd也能夠設為1.695～1.765或1.70～1.76。折射率nd能夠藉由調節質量比[(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)/(B
2O
3+SiO
2)]而進行控制。
此外，相對地提高折射率nd的成分為Nb
2O
5、TiO
2、ZrO
2、Ta
2O
5、La
2O
3。相對地降低折射率的成分為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O。能夠藉由適當調節這些成分的含量而控制折射率nd。
在第2實施方式的光學玻璃中，阿貝數νd較佳為34～37。阿貝數νd也能夠設為34.3～36.7或34.5～36.5。阿貝數νd能夠藉由調節質量比[TiO
2/(Nb
2O
5+TiO
2+ZrO
2)]而進行控制。
此外，相對地降低阿貝數νd的成分為Nb
2O
5、TiO
2、ZrO
2、Ta
2O
5。相對地提高阿貝數νd的成分為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O、La
2O
3、BaO、CaO、SrO。能夠藉由適當調節這些成分的含量而控制阿貝數νd。
在第2實施方式的光學玻璃中，比重為3.45以下，較佳為3.40以下，更佳為3.35以下。
相對地提高比重的成分為BaO、La
2O
3、ZrO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5等。相對地降低比重的成分為SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O等。能夠藉由適當調節這些成分的含量而控制比重。
在第2實施方式的光學玻璃中，偏差ΔPg,F為-0.0015以下，較佳為-0.0020以下，更佳為-0.0025以下。此外，偏差ΔPg,F的下限較佳為-0.0100，進而依次更佳為-0.0080、-0.0060、-0.0050。藉由將偏差ΔPg,F設為上述範圍，從而可得到適合高次的色像差校正的光學玻璃。另外，偏差ΔPg,F能夠用與第1實施方式同樣的方法算出。
在第2實施方式的光學玻璃中，液相線溫度LT為1250℃以下，較佳為1220℃以下，更佳為1200℃以下。藉由將液相線溫度LT設為上述範圍，從而能夠使成型溫度下降、且能夠降低熔融工序中的玻璃熔融器具(例如坩堝、熔融玻璃的攪拌器具等)的侵蝕。液相線溫度LT由全部的玻璃成分的含量的平衡所決定。其中，SiO
2、B
2O
3、Li
2O、Na
2O、K
2O等的含量對液相線溫度LT的影響大。另外，液相線溫度LT能夠用與第1實施方式同樣的方法測定。
在第2實施方式的光學玻璃中，在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180～200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數為20個以下、較佳為10個以下。
另外，上述晶體數能夠用與第1實施方式中的再加熱時的穩定性同樣的方法進行測定。
在第2實施方式中，部分色散比Pg,F、玻璃轉換溫度Tg和玻璃的透光性能夠設為與第1實施方式相同。
(玻璃成分)
在第2實施方式的光學玻璃中，、SiO
2的含量的下限較佳為10%，進而依次更佳為15%、20%、25%、30%。此外，SiO
2的含量的上限較佳為50%，進而依次更佳為48%、46%、44%、43%。當SiO
2的含量過少時，玻璃化變得困難。當SiO
2的含量過多時，難以得到期望的光學常數。
在第2實施方式的光學玻璃中，Nb
2O
5的含量的下限較佳為10%，進而依次更佳為14%、16%、18%、20%。此外，Nb
2O
5的含量的上限較佳為50%，進而依次更佳為44%、41%、38%、35%。當Nb
2O
5的含量過少時，玻璃的高折射率化受到抑制。當Nb
2O
5的含量過多時，熱穩定性可能下降，此外，玻璃的原料成本可能增加。
在第2實施方式的光學玻璃中，TiO
2和BaO的合計含量[TiO
2+BaO]的上限較佳為10%，進而依次更佳為9%、8%、7%、6%。合計含量[TiO
2+BaO]少較佳，其下限較佳為0%。合計含量[TiO
2+BaO]也可以為0%。TiO
2為使部分色散比Pg,F增加的成分，此外，BaO為使比重增加的成分。因此，藉由將合計含量[TiO
2+BaO]設為上述範圍，從而能夠抑制部分色散比Pg,F和比重的增加。
在第2實施方式的光學玻璃中，B
2O
3的含量與SiO
2的含量的質量比[B
2O
3/SiO
2]的上限較佳為0.15，進而依次更佳為0.14、0.13、0.12、0.11。質量比[B
2O
3/SiO
2]的下限較佳為0，進而依次更佳為0.01、0.02、0.03。當質量比[B
2O
3/SiO
2]過大時，在將玻璃原料熔融而熔液化、將玻璃熔液成型而玻璃化時、玻璃化後將玻璃加熱、軟化而再成型時，晶體可能析出。
在第2實施方式的光學玻璃中，除上述以外的玻璃成分和組成比能夠設為與第1實施方式相同。
此外，第2實施方式的光學玻璃的製造和光學元件等的製造能夠設為與第1實施方式相同。
[實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行更加詳細的說明。但是，本發明並不受實施例中所示的方式的限制。
(實施例1)
以如下步驟製作具有表1-1～1-2以及表2-1～2-2所示的玻璃組成的玻璃樣品，進行各種評價。
[光學玻璃的製造]
首先，準備對應於玻璃的構成成分的氧化物、氫氧化物、碳酸鹽以及硝酸鹽作為原材料，以得到的光學玻璃的玻璃組成成為表1-1～1-2所示的各組成的方式將上述原材料進行稱量、調配，充分地混合原材料。將像這樣進行所得到的調配原料(批料)投入鉑坩堝，在1350℃～1400℃加熱2～4小時，形成熔融玻璃，攪拌以使其均質化，澄清後，將熔融玻璃流入預熱到適當的溫度的模具中。將流入的玻璃在玻璃轉換溫度Tg～比Tg低100℃之間的任意的溫度處理30分鐘，在爐內放置冷卻到室溫，由此得到玻璃樣品。
[玻璃成分組成的確認]
用感應耦合電漿原子發射光譜分析法(ICP-AES)對得到的玻璃樣品測定各玻璃成分的含量，確認為如表1-1～1-2所示的各組成。
[再加熱時的穩定性]
將得到的玻璃樣品切斷為1cm×1cm×1cm的大小，在設定為該玻璃樣品的玻璃轉換溫度Tg的第1試驗爐中加熱10分鐘，進而在設定為比該玻璃轉換溫度Tg高180～200℃的溫度的第2試驗爐中加熱10分鐘。然後，用光學顯微鏡(觀察倍率：10～100倍)確認晶體的有無。然後，測定每1g的晶體數。目視確認玻璃的白濁的有無。每1g的晶體數為20個以下且沒有確認到白濁的情況判定為○(良)，確認到每1g的晶體數多於20個或者白濁中的一者的情況判定為×(不良)。
[光學特性的測定]
將得到的玻璃樣品進一步在玻璃轉換溫度Tg附近退火處理約30分鐘到約2小時後，在爐內以降溫速度-30℃/小時進行冷卻，得到退火樣品。對得到的退火樣品測定折射率nd、ng、nF和nC、阿貝數νd、部分色散比Pg,F、比重、液相線溫度LT、玻璃轉換溫度Tg、λ80、λ70和λ5。結果示於表3-1～3-2。
(ⅰ)折射率nd、ng、nF、nC和阿貝數νd
藉由JIS標準JIS B7071-1的折射率測定法，對上述退火樣品測定折射率nd、ng、nF、nC，基於下述式算出阿貝數νd。νd＝(nd-1)/(nF-nC)。
。
(ii)部分色散比Pg,F
使用g線、F線、c線處的各折射率ng、nF、nC，基於下述式算出部分色散比Pg,F。Pg,F＝(ng-nF)/(nF-nC)。
(iii)部分色散比Pg,F的偏差ΔPg,F
使用部分色散比Pg,F和阿貝數νd基於下述式算出。ΔPg,F＝Pg,F+(0.0018×νd)-0.6483。
(iv)比重
比重藉由阿基米德法測定。
(v)液相線溫度LT
將玻璃放入加熱到規定溫度的爐內保持約2小時，冷卻後，用40～100倍的光學顯微鏡觀察玻璃內部，根據晶體的有無確定液相線溫度。
(vi)玻璃轉換溫度Tg
玻璃轉換溫度Tg使用NETZSCHJAPAN公司製造的差示掃描量熱分析裝置(DSC3300SA)，以升溫速度10℃/分鐘進行測定。
(vii)λ80、λ70、λ5
將上述退火樣品加工成厚度10mm、具有相互平行且經光學拋光的平面，測定從波長280nm至700nm的波長區域中的光譜透過率。將垂直入射到經光學拋光的一個平面的光線的強度設為強度A，將從另一個平面出射的光線的強度設為強度B，算出光譜透過率B/A。將光譜透過率為80%的波長作為λ80，將光譜透過率為70%的波長作為λ70、將光譜透過率為5%的波長作為λ5。另外，光譜透過率中也包含試樣表面處光線的反射損耗。
[表1-1]
[表1-2]
[表2-1]
[表2-2]
[表3-1]
[表3-2]
(實施例2)
使用在實施例1中製作的各光學玻璃，藉由公知的方法從而製作透鏡坯件，藉由將透鏡坯件拋光等公知的方法進行加工，製作各種透鏡。
製作的光學透鏡為雙凸透鏡、雙凹透鏡、平凸透鏡、平凹透鏡、凹鏡型凹凸透鏡、凸鏡型凹凸透鏡等各種透鏡。
各種透鏡藉由與由其他種類的光學玻璃形成的透鏡組合，從而能夠良好地校正二次的色像差。
此外，由於玻璃為低比重，因此比與各透鏡具有同等的光學特性、大小的透鏡的重量小，適合用於各種攝像器材，特別是由於能夠節能的理由等而適合用於自動對焦式的攝像器材。同樣地，使用在實施例1製作的各種光學玻璃製作稜鏡。
應當認為本次公開的實施方式在所有方面均為示例而並非限制。本發明實施例的範圍不是藉由上述的說明而是藉由專利請求的範圍來示出的，意在包含與專利請求的範圍等同的含義和範圍內的全部變更。
例如，對於上述示例的玻璃組成，藉由進行說明書中記載的組成調節，從而能夠製作本發明實施例的一個方式的光學玻璃。
此外，當然能夠將作為說明書中示例或較佳的範圍而記載的事項的2個以上進行任意組合。
無
無。
無。
Claims (4)
- 一種光學玻璃，其比重為3.45以下；部分色散比Pg,F的偏差△Pg,F為-0.0015以下；液相線溫度LT為1250℃以下；在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180~200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數為20個以下；折射率nd為1.69~1.77；阿貝數νd為34~37；Nb2O5的含量為10~35質量%；B2O3的含量為1.0~10質量%；ZnO的含量為2.0質量%以下；La2O3的含量為4.70質量%以下；MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R’O與Li2O、Na2O和K2O的合計含量R2O的質量比[R’O/R2O]為0.6以上；滿足下述(1)：(1)BaO的含量為5.0質量%以下；Ta2O5的含量為2.0質量%以下；Nb2O5、TiO2和ZrO2的合計含量與B2O3和SiO2的合計含量的質量比[(Nb2O5+TiO2+ZrO2)/(B2O3+SiO2)]為0.92以上、小於1.7。
- 一種光學玻璃，其比重為3.45以下；部分色散比Pg,F的偏差△Pg,F為-0.0015以下；液相線溫度LT為1250℃以下； 在玻璃轉換溫度Tg加熱10分鐘，進而在比該Tg高180~200℃的溫度加熱10分鐘時的每1g所觀察到的晶體數為20個以下；折射率nd為1.69~1.77；阿貝數νd為34~37；Nb2O5的含量為10~35質量%；B2O3的含量為1.0~10質量%；ZnO的含量為2.0質量%以下；La2O3的含量為4.70質量%以下；MgO、CaO、SrO和BaO的合計含量R’O與Li2O、Na2O和K2O的合計含量R2O的質量比[R’O/R2O]為0.6以上；滿足下述(2)：(2)BaO的含量為5.0質量%以下；Ta2O5的含量為2.0質量%以下；Nb2O5、TiO2和ZrO2的合計含量與B2O3和SiO2的合計含量的質量比[(Nb2O5+TiO2+ZrO2)/(B2O3+SiO2)]為0.8以上、小於1.7；TiO2的含量與Nb2O5、TiO2和ZrO2的合計含量的質量比[TiO2/(Nb2O5+TiO2+ZrO2)]大於0且小於0.3。
- 如請求項1或2所記載之光學玻璃，其中，TiO2與BaO的合計含量[TiO2+BaO]為6質量%以下。
- 一種光學元件，是由請求項1至3中任一項所記載之光學玻璃所形成。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017-245120 | 2017-12-21 | ||
| JP2017245120A JP6840660B2 (ja) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202244020A TW202244020A (zh) | 2022-11-16 |
| TWI836510B true TWI836510B (zh) | 2024-03-21 |
Family
ID=67221193
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107146062A TWI773862B (zh) | 2017-12-21 | 2018-12-20 | 光學玻璃和光學元件 |
| TW111126066A TWI836510B (zh) | 2017-12-21 | 2018-12-20 | 光學玻璃和光學元件 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107146062A TWI773862B (zh) | 2017-12-21 | 2018-12-20 | 光學玻璃和光學元件 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6840660B2 (zh) |
| CN (1) | CN110028238A (zh) |
| TW (2) | TWI773862B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2020255886A1 (zh) | 2019-06-17 | 2020-12-24 | ||
| JP7378985B2 (ja) * | 2019-07-02 | 2023-11-14 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 |
| WO2021236343A1 (en) | 2020-05-18 | 2021-11-25 | Corning Incorporated | Glass compositions with high refractive indexes and low densities |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200401756A (en) * | 2002-06-06 | 2004-02-01 | Schott Glas | Lead-free and arsenic-free special short flint glass |
| TW201711974A (zh) * | 2015-08-14 | 2017-04-01 | Cdgm Glass Co Ltd | 光學玻璃 |
| US20170129802A1 (en) * | 2015-11-11 | 2017-05-11 | Ohara Inc. | Optical glass, preform, and optical element |
| TW201733941A (zh) * | 2015-12-07 | 2017-10-01 | Ohara Kk | 光學玻璃、預成形體及光學元件 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4729750B2 (ja) * | 2000-03-29 | 2011-07-20 | 株式会社オハラ | 光学ガラス及び光学素子 |
| DE102006052787B4 (de) * | 2005-12-23 | 2017-06-22 | Schott Ag | Optisches Glas |
| JP6086941B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2017-03-01 | 株式会社オハラ | 光学ガラス及び分光透過率の劣化抑制方法 |
| JP6014301B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2016-10-25 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 |
| JP2014111521A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-06-19 | Ohara Inc | 光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子 |
| CN104926110B (zh) * | 2015-06-23 | 2019-04-16 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃和光学元件 |
| CN106927674A (zh) * | 2015-11-11 | 2017-07-07 | 株式会社小原 | 一种光学玻璃、预制件以及光学元件 |
| JP7089844B2 (ja) * | 2015-12-07 | 2022-06-23 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 |
| CN106915901A (zh) * | 2015-12-25 | 2017-07-04 | 株式会社小原 | 一种光学玻璃、预制件以及光学元件 |
| TWI743073B (zh) * | 2015-12-25 | 2021-10-21 | 日商小原股份有限公司 | 光學玻璃、預成形體及光學元件 |
| CN106630594B (zh) * | 2016-09-05 | 2019-12-03 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃和光学元件 |
| CN106810066A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-06-09 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃、玻璃预制件、光学元件和光学仪器 |
-
2017
- 2017-12-21 JP JP2017245120A patent/JP6840660B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-20 TW TW107146062A patent/TWI773862B/zh active
- 2018-12-20 TW TW111126066A patent/TWI836510B/zh active
- 2018-12-20 CN CN201811567353.4A patent/CN110028238A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200401756A (en) * | 2002-06-06 | 2004-02-01 | Schott Glas | Lead-free and arsenic-free special short flint glass |
| TW201711974A (zh) * | 2015-08-14 | 2017-04-01 | Cdgm Glass Co Ltd | 光學玻璃 |
| US20170129802A1 (en) * | 2015-11-11 | 2017-05-11 | Ohara Inc. | Optical glass, preform, and optical element |
| TW201733941A (zh) * | 2015-12-07 | 2017-10-01 | Ohara Kk | 光學玻璃、預成形體及光學元件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202244020A (zh) | 2022-11-16 |
| JP2019112242A (ja) | 2019-07-11 |
| JP6840660B2 (ja) | 2021-03-10 |
| TW201927712A (zh) | 2019-07-16 |
| CN110028238A (zh) | 2019-07-19 |
| TWI773862B (zh) | 2022-08-11 |
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