TWI835982B - 藥液注入控制方法 - Google Patents

Abstract

本發明的課題在於設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在控制開始之初，在藥液注入量最多的位準開始藥液注入，每當所述取樣期間S經過時，對RO裝置5的差壓上升速度與臨限值A進行比較，當所述上升速度為所述臨限值A以下時，使藥液注入量下降為少一級的位準，當所述上升速度大於所述臨限值A時，使藥液注入量增加為多一級的位準。

Description

藥液注入控制方法

本發明是有關於一種控制對水系的黏泥控制劑(slime control agent)的注入量的藥液注入控制方法，較佳的是有關於一種抑制逆浸透(reverse osmosis，RO)膜系統的黏泥而防止逆浸透膜的積垢(fouling)的藥液注入控制方法。

在海水淡水化工廠或排水回收工廠中，可有效率地去除電解質或中低分子的有機成分的RO膜裝置得到廣泛使用。在包含RO膜裝置的水處理裝置中，通常，在RO膜裝置的前段設置有壓力過濾裝置、重力過濾裝置、凝聚沈澱處理裝置、加壓懸浮過濾裝置、浸漬膜裝置、膜式前處理裝置等前處理裝置，被處理水藉由該些前處理裝置加以前處理之後，供給至RO膜裝置而受到RO膜分離處理。

在如上所述的水處理裝置中，存在如下的情況：被處理水中所含的微生物在裝置配管內或膜面上繁殖而形成黏泥，從而引起由系統內的微生物繁殖導致的臭氣產生、RO膜的透過水量下降等故障。為了防止由微生物引起的污染，通常採用在被處理水中時常或間歇地添加殺菌劑，一面對被處理水或裝置內進行殺 菌，一面進行處理的方法。

特別是為了解決RO膜中的問題，採用如下的方法：除了氯胺(chloramine)或氯代胺基磺酸鈉等結合氯系氧化劑以外，亦添加黏泥控制劑來抑制微生物繁殖，所述黏泥控制劑含有結合溴系氧化劑、異噻唑酮系化合物等抑制微生物繁殖的化合物。

作為黏泥控制劑的添加量控制方法，在專利文獻1中，記載有測定RO膜單元的非透過側的差壓，在所述差壓低於基準值時及高於基準值時使藥液注入量不同。

在專利文獻2中，記載有測定經藥液注入的水系的黏泥及微生物的呼吸活性，根據所述測定值來控制藥液注入量。

在專利文獻3中，記載有如下的方法：藉由進行設置添加黏泥控制劑的時間(添加期間)及不添加黏泥控制劑的時間(無添加期間)的所謂間歇添加，來減少藥劑使用量(藥液注入量)。

[現有技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2011-224543號公報

專利文獻2：日本專利特開2012-210612號公報

專利文獻3：國際公開WO2013/005787號公報

本發明的目的在於提供一種藥液注入控制方法，可迅速確定 對水系的黏泥控制劑的最佳添加量，並且實現對應於黏泥負載的變動或被處理水的流量的變動而穩定的黏泥抑制。

本發明的主旨如下。

[1]一種藥液注入控制方法，控制添加至對逆浸透膜裝置供給的被處理水中的黏泥控制劑的藥液注入量，所述藥液注入控制方法中，基於所述逆浸透膜裝置的與積垢相關的指標值的變化速度，控制所述藥液注入量。

[2]如[1]所述的藥液注入控制方法，其中進行所述藥液注入量的控制，以變更對所述逆浸透膜裝置供給的被處理水中所存在的黏泥控制劑的濃度。

[3]如[1]所述的藥液注入控制方法，其中所述黏泥控制劑的對被處理水的添加是包括添加步驟及停歇步驟的間歇添加，藉由變更所述添加步驟與停歇步驟中的至少一者的時間，來進行所述藥液注入量的控制。

[4]如[1]至[3]中任一項所述的藥液注入控制方法，其中所述指標值的變化速度與積垢的行進速度具有正相關，且當所設定的取樣期間內的所述指標值的平均變化速度為臨限值A以下時，使藥液注入量下降規定量。

[5]如[4]所述的藥液注入控制方法，其中 具有如下的最佳藥液注入位準探索模式：設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在控制開始之初，在預先設定的規定的藥液注入位準開始藥液注入，每當所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的指標值的平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施使藥液注入量下降為少一級以上的位準的步驟，當所述平均變化速度超過所述臨限值A時，仍然維持所述藥液注入位準，或將藥液注入量設為多一級以上的位準，將所述藥液注入位準設為最佳藥液注入位準。

[6]如[5]的藥液注入控制方法，其中在所述最佳藥液注入位準探索模式下確定最佳藥液注入位準之後，具有繼續在所述最佳藥液注入位準運轉的穩定運轉模式。

[7]如[6]的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，每當所設定的所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的所述平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施繼續在相同的藥液注入位準的運轉的步驟，在相同的藥液注入位準的運轉中，當已連續實施n次所述平均變化速度與所述臨限值A的比較時，使藥液注入量下降為少一級以上的位準。

[8]如[1]至[4]所述的藥液注入控制方法，其中具有如下 的穩定運轉模式：設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在規定的藥液注入位準實施藥液注入，每當所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的所述平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施繼續在相同的藥液注入位準的運轉的步驟，在相同的藥液注入位準的運轉中，當已連續實施n次所述平均變化速度與所述臨限值A的比較時，使藥液注入量下降為少一級以上的位準。

[9]如[6]至[8]所述的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值A進行比較，當所述平均變化速度大於臨限值A時，使藥液注入量增加為多j級的位準(j為1以上的整數)。

[10]如[9]所述的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，將臨限值設定為大於所述臨限值A的臨限值B，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值B進行對比，當所述平均變化速度大於所述臨限值B時，使藥液注入量增加為多m級的位準(m為2以上的整數)。

[11]如[1]至[10]中任一項所述的藥液注入控制方法，其中所述指標值是所述逆浸透膜裝置的非透過側的差壓或供水壓。

[12]如[1]至[3]中任一項所述的藥液注入控制方法，其中所述指標值的平均變化速度與積垢的行進速度具有負相關，且當 所述指標值的所設定的取樣期間的平均變化速度為臨限值A以上時，使藥液注入量下降規定量。

根據本發明，在開始添加黏泥控制劑時將藥液注入量自動調整至最佳量。

根據本發明的一形態，在藥液注入量穩定之後觀察到差壓上升時，自動將藥液注入量切換至適當值。

又，根據本發明的一形態，在藥液注入量穩定之後，藉由使藥液注入量降低一級以上，可削減藥品使用量。

1:流量計

2:儲存槽

3:藥液注入泵

4、6、7:配管

5:RO裝置

8、9:壓力計

10:控制單元

30~34、41~44、51~56:步驟

60:畫面

61:差壓上升速度的顯示部

62:臨限值A的顯示部

63:臨限值B的顯示部

64:取樣期間S的顯示部

65:藥液注入比的顯示部

66:藥液注入泵的導通時間的顯示部

67:斷開時間的顯示部

68:點燈部

A、B:臨限值

S:取樣期間

圖1是RO系統的構成圖。

圖2是控制單元的顯示畫面的說明圖。

圖3是說明本發明的一例的流程圖。

圖4是說明本發明的一例的流程圖。

圖5是說明本發明的一例的流程圖。

在本發明方法中，針對添加至對逆浸透膜裝置供給的被處理水中的黏泥控制劑的藥液注入量，基於所述逆浸透膜裝置的與積垢相關的指標值的變化速度，控制所述藥液注入量。

所述指標值的變化速度既可與積垢的行進速度具有正相關(例如差壓)，亦可與積垢的行進速度具有負相關。

以下，說明指標值與積垢的行進速度具有正相關的情況。在所述情況的一形態中，當所設定的取樣期間內的所述指標值的平均變化速度為臨限值A以下時，使藥液注入量下降規定量。

在所述形態的一例中，設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在控制開始之初，以預先設定的規定的藥液注入位準開始藥液注入，每當所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的指標值的平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施使藥液注入量下降為少一級以上的位準的步驟，當所述平均變化速度超過所述臨限值A時，仍然維持所述藥液注入位準，或將藥液注入量設為多一級以上的位準，進行將所述藥液注入位準設為最佳藥液注入位準的最佳藥液注入位準探索模式。

在本發明的一例中，在所述最佳藥液注入位準探索模式下確定最佳藥液注入位準之後，進行繼續在所述最佳藥液注入位準運轉的穩定運轉模式。

在所述穩定運轉模式的一例中，每當所設定的所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的所述平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施繼續在相同的藥液注入位準的運轉的步驟，在相同的藥液注入位準的運轉中，當已連續實施n次所述平均變化速度與所述 臨限值A的比較時，使藥液注入量下降為少一級以上的位準。

在所述穩定運轉模式的另一例中，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值A進行比較，當所述平均變化速度大於臨限值A時，使藥液注入量增加為多j級的位準(j為1以上的整數)。又，設定大於所述臨限值A的臨限值B，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值B進行對比，當所述平均變化速度大於所述臨限值B時，使藥液注入量增加為多m級的位準(m為2以上的整數)。

以下，參照圖式對實施形態進行詳細說明。

圖1是RO系統的構成圖，將被處理水經由配管4供給至RO裝置5，自配管6取出透過水，自配管7取出濃縮水。

在配管4設置有流量計1，將其測定值輸入至控制單元10。將儲存槽2內的黏泥控制劑溶液經由藥液注入泵3添加至配管4。藥液注入泵3藉由控制單元10來控制。在配管4、配管7分別設置有壓力計8、壓力計9。將所述壓力計8、壓力計9的檢測值輸入至控制單元10，自兩者的差運算出RO裝置5的非透過側的差壓ΔP。

在本發明中，基於差壓的平均上升速度(每單位時間的差壓的上升值)，對步驟的藥液注入量(添加量)進行控制。

在本發明的一實施形態中，自藥液注入量少之側起向藥液注入量多之側設定有多級(位準)，雖無特別限定，但設定有2級~100級，較佳為設定有3級~80級，特佳為設定有4級~50 級，尤佳為設定有5級~10級，當差壓的上升速度為規定的範圍以下時，使藥液注入位準依次降低。而且，在差壓的上升速度為規定的範圍以下時在最少的位準繼續進行藥液注入。再者，有時將所述所設定的級(位準)數表示為x。

再者，差壓的平均上升速度可藉由最小平方法而求出在取樣期間S的差壓-時間曲線圖中的傾斜度。

所述取樣期間S較佳為0.5h~720h，特佳為24h~336h，尤佳為72h~168h。差壓的測定間隔為72min~1008min，特佳為216min~504min左右。

圖3表示本發明的藥液注入控制的一例。

首先，在添加量最多的位準開始藥液注入(步驟30)。在所設定的取樣期間S經過後算出所述期間內的差壓的平均上升速度(dΔP/dt)。當差壓的平均上升速度超過臨限值A時，以最多的藥液注入量繼續進行藥液注入(步驟31)。若平均上升速度為A以下，則變更至下一級的藥液注入位準(步驟31→步驟32)。其次，同樣地，每當經過所設定的取樣期間S時，判定差壓平均上升速度是否超過臨限值A(步驟33)，若未超過A，則進一步變更至下一級的藥液注入位準(步驟33→步驟32)。重覆所述操作，當差壓的平均上升速度超過臨限值A時，將藥液注入位準設為上一級的位準(步驟33→步驟34)。再者，當差壓的平均上升速度超過臨限值A時，亦可仍然維持所述藥液注入位準。

其後，如以圖3的虛線所示，返回至步驟31進行同樣 的控制，或在以步驟34中所設定的藥液注入量為基準的圖4或圖5所示的穩定運轉模式下，進行藥液注入。

步驟34中所設定的藥液注入量是設定有多個位準的藥液注入位準之中，差壓的平均上升速度為臨限值A以下的最少的藥液注入位準(最佳藥液注入位準)。因此，自開始至步驟34為止的步驟成為用以探索最佳藥液注入位準的最佳藥液注入位準探索模式的一例。

在所述最佳藥液注入位準探索模式下，是在步驟31、步驟34中，使位準變化一級，但並非特別限定於此，可在小於所設定的級數x的範圍內適當設定。例如，當將預先設定的級數設為x，將變化的級數設為y時，y/x較佳為0.05以上，特佳為0.3以上且0.5以下，尤佳為0.4以下。若用公式表示y/x，則y/x可設定為如下所述的範圍。再者，x如上所述，較佳為2~100，更佳為3~80，進而更佳為4~50，再進而更佳為5~10。

(0.05~0.3)≦y/x≦(0.4~0.5)

其次說明圖4的穩定運轉模式(1)。

在所述步驟34中所設定的藥液注入位準，在所設定的取樣期間S經過後，對差壓平均上升速度與臨限值A進行比較(步驟41)，若平均上升速度為臨限值A以下，則再次繼續在相同的藥液注入位準運轉，再次經過取樣期間S後，對差壓平均上升速度與臨限值A進行比較(步驟41→步驟42→步驟41)。重覆執行所述操作，在相同的藥液注入位準，連續進行n次，當差壓平均 上升速度為臨限值A以下時，使藥液注入位準下降為少一級的位準(步驟41→步驟42→步驟43)，繼續在所述藥液注入位準運轉(步驟43→步驟41)。再者，所述n是預先設定的2以上(例如2~20，特別是2~10)的數。

當中途，在取樣期間S內的差壓的平均上升速度超過臨限值A時，將藥液注入位準升高為j級(j為1以上的整數)，例如升高為多一級的位準(步驟41→步驟44)，繼續在所述藥液注入位準運轉(步驟44→步驟41)。

圖5表示穩定運轉模式的另一例。所設定的取樣期間S經過後，對差壓平均上升速度與臨限值A進行比較(步驟51)，若平均上升速度為A以下，則與圖4的穩定運轉模式(1)同樣地，再次繼續在相同的藥液注入位準運轉，再次經過取樣期間S後，對差壓平均上升速度與臨限值A進行比較(步驟51→步驟52→步驟51)。重覆執行所述操作，在相同的藥液注入位準，連續進行n次，當差壓平均上升速度為臨限值A以下時，使藥液注入位準下降為少一級的位準(步驟51→步驟52→步驟53)，繼續在所述藥液注入位準運轉(步驟53→步驟51)。

在所述安全運轉模式(2)下，設定大於A的臨限值B。當中途，在取樣期間S內的差壓平均上升速度超過臨限值A時，其次，對差壓平均上升速度與臨限值B進行比較，若為臨限值B以下，則使藥液注入位準升高為多一級的位準(步驟54→步驟55)，繼續在所述藥液注入位準運轉(步驟55→步驟51)。繼而， 在差壓平均上升速度與臨限值B的比較中，當差壓平均上升速度超過臨限值B時，將藥液注入位準升高為m級(m為2以上的整數)，例如升高為多兩級的位準(步驟54→步驟56)，繼續在所述藥液注入位準運轉(步驟56→步驟51)。m例如是自2~20，特別是自2~10之間選擇。

所述臨限值B與臨限值A的比B/A較佳為10以下，特佳為2~5左右。又，所述n較佳為20以下，特佳為2~10左右。n亦可不為整數。

當在藥液注入量最少的位準進行運轉時，在圖3的步驟32、圖4的步驟43或圖5的步驟53等之中，無法降低藥液注入位準。在此種情況下，不降低藥液注入位準，而仍然在藥液注入量最少的位準，轉移至下一個步驟，圖3中為轉移至步驟33或穩定運轉模式，圖4中為轉移至步驟41，圖5中為轉移至步驟51。

當在藥液注入量最多的位準進行運轉時，在圖4的步驟44、圖5的步驟55、步驟56等之中，無法提升藥液注入位準。在此種情況下，不提升藥液注入位準，而仍然在藥液注入量最多的位準，轉移至下一個步驟，圖4中為轉移至步驟41，圖5中為轉移至步驟51。

在所述穩定運轉模式下，是在步驟43、步驟44、步驟53及步驟55中使位準變化一級，但並非特別限定於此，可在小於所設定的級數x的範圍內適當設定。例如當將預先設定的級數設為x，將變化的級數設為z時，z/x較佳為0.05以上，特佳為0.3 以上且0.5以下，尤佳為0.4以下。

又，在所述形態中，是繼最佳藥液注入位準探索模式之後，轉移至穩定運轉模式，但既可在最佳藥液注入位準探索模式與穩定運轉模式之間存在其他步驟(模式)，亦可省略最佳藥液注入位準探索模式而自穩定運轉模式實施運轉。

所述控制是藉由控制單元10而進行。圖2表示間歇地添加黏泥控制劑的情況下的控制單元10的顯示畫面的一例。再者，雖省略圖示，但為了輸入各種值，在控制單元10設置有觸控面板、鍵盤等輸入元件。

在所述畫面60中，設置有顯示在當前時點的差壓上升速度的顯示部61、臨限值A的顯示部62、臨限值B的顯示部63、取樣期間S的顯示部64等。在所述例中，藥液注入位準設定有編號(number，No.)1~No.6的六級，且設置有在各位準的藥液注入比的顯示部65、藥液注入泵的導通(ON)時間的顯示部66及斷開(OFF)時間的顯示部67。此外，設置有藉由點燈來顯示正在執行的藥液注入位準的點燈部68。

再者，藥液注入比表示將藥液注入泵的吐出量最多的位準的藥液注入量設為100%時的各位準的藥液注入量。

又，在所述實施形態(間歇添加)中，藥液注入泵3經脈寬調製(Pulse Width Modulation，PWM)控制，導通時間表示泵導通的時間(占空)，在斷開時間表示泵斷開的時間，藥液注入比全部設為同一值(例如100%)，藉由將泵導通的時間及/或泵斷 開的時間設為各不相同的時間，來設定不同的藥液注入位準。但是，藥液注入泵控制並不限定於PWM控制，既可為脈波控制，亦可為類比控制。

在畫面60，亦可設置顯示部，所述顯示部顯示使測量一次的取樣時間S的計時器(timer)開始之後的經過時間。

在所述實施形態中，是將RO裝置5的非透過側的差壓ΔP的上升速度設為指標值，但亦可將RO膜供水壓(壓力計8的檢測值)的上升速度設為指標值。RO膜供水壓亦與積垢的行進速度具有正相關關係。

如上所述，指標值亦可與積垢的行進速度具有負相關關係。例如，亦可將RO裝置5的透過通量(flux)或透過流量等的變化速度(下降速度)設為指標值。

透過通量或透過流量不僅因膜的積垢，而且因溫度或膜間差壓而不同。因此，當使用透過通量或透過流量時，較佳為使用在標準膜間差壓及標準溫度條件下經換算的修正透過通量、修正透過流量。

當指標值與積垢的行進速度具有負相關關係時，只要將與所述積垢的行進速度具有正相關關係時的「A以下」等反過來設為「A以上」等即可。例如，當所設定的取樣期間內的所述指標值的平均變化速度(例如，RO裝置5的修正透過通量的變化速度)為臨限值A以上時，使藥液注入量下降規定量。

在所述實施形態中，是藉由變更泵導通(添加步驟)的 時間與泵斷開(停歇步驟)的時間中的至少一者來進行藥液注入量的控制，但亦可藉由變更設置於將藥液注入泵3的吐出側與配管4連接的配管的開關閥(未圖示)的開度，或變更藥液注入泵3自身的吐出量，來控制注入至被處理水中的黏泥控制劑的藥液注入量。

又，在所述實施形態中，黏泥控制劑的添加是藉由包括添加步驟及停歇步驟的間歇添加而進行，但亦可為不設置停歇步驟的連續添加。在連續添加的情況下，可藉由變更所述開關閥的開度或藥液注入泵3自身的吐出量來控制藥液注入量。

作為黏泥控制劑，亦可為結合氯系、結合溴系黏泥控制劑、異噻唑酮化合物等之中任一者。作為結合氯系黏泥控制劑，可例示含有胺基磺酸化合物的藥劑。

在本發明中，亦可在控制單元10搭載進行以上所述以外的控制模式下的控制的程式。作為此種程式，例如可例示如下的程式：設定在系統內的黏泥控制劑濃度作為黏泥控制劑添加條件，基於與黏泥控制劑濃度具有相關的指標的測定值，進行黏泥控制劑注入量控制，以維持如添加條件的黏泥控制劑濃度。當使用結合氯系或結合溴系黏泥控制劑作為黏泥控制劑時，可藉由N,N-二乙基對苯二胺(N,N-diethyl-p-phenylenediamine，DPD)法的測定而獲得所述指標。

當設定系統內的黏泥控制劑濃度時，可改變為圖2的藥液注入比，使用系統內的黏泥控制劑濃度或與黏泥控制劑濃度相 關的指標。

已使用特定的形態詳細說明本發明，但對所屬技術領域中具有通常知識者而言顯而易見的是，能夠在不背離本發明的精神與範圍的情況下作出各種變更。

本申請案基於2019年1月28日提出申請的日本專利申請案2019-012435，藉由引用而援用其全部內容。

1:流量計

2:儲存槽

3:藥液注入泵

4、6、7:配管

5:RO裝置

8、9:壓力計

10:控制單元

Claims (9)

1. 一種藥液注入控制方法，控制添加至對逆浸透膜裝置供給的被處理水中的黏泥控制劑的藥液注入量，所述藥液注入控制方法的特徵在於，基於所述逆浸透膜裝置的與積垢相關的指標值的變化速度，控制所述藥液注入量，所述指標值是所述逆浸透膜裝置的非透過側的差壓，當所設定的取樣期間內的所述指標值的平均變化速度為臨限值A以下時，使藥液注入量下降規定量。
2. 如請求項1所述的藥液注入控制方法，其中進行所述藥液注入量的控制，以變更對所述逆浸透膜裝置供給的被處理水中所存在的黏泥控制劑的濃度。
3. 如請求項1所述的藥液注入控制方法，其中所述黏泥控制劑的對被處理水中的添加是包括添加步驟及停歇步驟的間歇添加，藉由變更所述添加步驟與停歇步驟中的至少一者的時間，來進行所述藥液注入量的控制。
4. 如請求項1所述的藥液注入控制方法，其中具有如下的最佳藥液注入位準探索模式：設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在控制開始之初，在預先設定的規定的藥液注入位準開始藥液注入，每當所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的指標值的平均變化速度與 所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施使藥液注入量下降為少一級以上的位準的步驟，當所述平均變化速度超過所述臨限值A時，仍然維持所述藥液注入位準，或將藥液注入量設為多一級以上的位準，將所述藥液注入位準設為最佳藥液注入位準。
5. 如請求項4所述的藥液注入控制方法，其中在所述最佳藥液注入位準探索模式下確定最佳藥液注入位準之後，具有繼續在所述最佳藥液注入位準運轉的穩定運轉模式。
6. 如請求項5所述的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，每當所設定的所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的所述平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施繼續在相同的藥液注入位準的運轉的步驟，在相同的藥液注入位準的運轉中，當已連續實施n次所述平均變化速度與所述臨限值A的比較時，使藥液注入量下降為少一級以上的位準。
7. 如請求項1所述的藥液注入控制方法，其中具有如下的穩定運轉模式：設定有藥液注入量不同的多個藥液注入位準，在規定的藥液注入位準實施藥液注入，每當所述取樣期間經過時，對所述取樣期間內的所述平均變化速度與所述臨限值A進行比較，當所述平均變化速度為所述臨限值A以下時，重覆實施 繼續在相同的藥液注入位準的運轉的步驟，在相同的藥液注入位準的運轉中，當已連續實施n次所述平均變化速度與所述臨限值A的比較時，使藥液注入量下降為少一級以上的位準。
8. 如請求項5至請求項7中任一項所述的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值A進行比較，當所述平均變化速度大於臨限值A時，使藥液注入量增加為多j級的位準，其中j為1以上的整數。
9. 如請求項8所述的藥液注入控制方法，其中在所述穩定運轉模式下，將臨限值設定為大於所述臨限值A的臨限值B，每當所述取樣期間經過時，對所述平均變化速度與臨限值B進行對比，當所述平均變化速度大於所述臨限值B時，使藥液注入量增加為多m級的位準，其中m為2以上的整數。