TWI829393B - 一種拋光墊表面狀況在線檢測方法及檢測系統 - Google Patents

一種拋光墊表面狀況在線檢測方法及檢測系統 Download PDF

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Abstract

本發明公開了一種拋光墊表面狀況在線檢測方法,包括以下步驟:光學傳感器在拋光墊上方移動,以獲取光學傳感器與拋光墊表面的距離信息;根據測得的距離信息,區分拋光墊表面液體的分佈情況,對應使用不同的修正計算公式,計算得到拋光墊表面溝槽的深度值;將拋光墊表面溝槽修正後的深度值與預設閾值比較,判斷拋光墊上的溝槽深度狀況,以確定拋光墊是否需要更換。本發明還公開了一種拋光墊表面狀況在線檢測系統。本發明依靠光學傳感器非接觸在線測量拋光墊表面狀態,防止了接觸檢測對拋光墊表面可能造成的損害,在線的測量使得拋光墊表面狀態的監測及時,能夠準確而高效的實現對拋光墊表面狀態的檢測,檢測的時效性更強,測量精確。

Description

一種拋光墊表面狀況在線檢測方法及檢測系統
本發明屬於半導體集成電路芯片製造領域,尤其是涉及一種拋光墊表面狀況在線檢測方法及檢測系統。
在目前的半導體集成電路芯片製造流程中,化學機械平坦(CMP)是其中一項重要的工藝步驟。化學機械平坦工藝採用拋光墊和拋光液對晶圓研磨,通過機械與化學相結合的方式,實現晶圓表面形貌的平坦化。拋光墊依靠具有一定粗糙度的表面進行機械研磨,拋光墊上有溝槽圖案,拋光液沿溝槽圖案接觸晶圓,進行化學腐蝕。
隨著平坦化工藝的進行,拋光墊表面由於研磨不斷損耗,拋光墊厚度將逐漸變薄,拋光墊表面溝槽圖案將逐漸變淺。較淺的溝槽所能夠承載的拋光液減少,將導致研磨速率的降低,磨損耗盡的溝槽使得拋光墊表面粗糙度不足,降低工藝的良率,且更易導致晶圓滑片。因此對拋光墊表面狀況的檢測十分必要。
目前對拋光墊表面狀況的判斷主要有以下幾種方式:1、根據拋光墊的使用時間或者研磨晶圓數量判斷。這種方式在設定了相應的時間與數量後,到達設定值可自動提醒,但該方式完全依賴經驗狀況進行判斷,而不同的工藝流程、參數,晶圓類型,拋光墊本身的差異都會造成實際狀況與經驗狀況的不一致,使得判斷產生錯誤;2、採用人工在線或停機維護時目測或用工具檢測。人工目檢的方式需要消耗大量人力資源,且僅為定性而非定量的檢測,誤差較大,判斷準確率不足;停機維護則造成了時間資源上的浪費,且維護時間間隔較長易造成判斷的延誤;3、根據拋光墊厚度間接判斷。這種方式採用測量與拋光墊接觸的修整器等結構的位置,獲得拋光墊厚度信息,也有採用測量拋光墊透射率獲得拋光墊厚度信息等方式;但該方式獲得的拋光墊狀況信息較為單一,僅為拋光墊局部的厚度信息,無法獲得實際的溝槽深度信息;與拋光墊整體磨損無關的因素對溝槽的影響,以及拋光墊溝槽本身的深度誤差等均易使該方案的判斷產生錯誤。
為了克服現有技術的不足,本發明提供一種可以實時在線檢測拋光墊表面狀況,獲得溝槽深度、拋光墊厚度、表面液體狀態等信息,提升化學機械平坦化工藝的效率與良率的拋光墊表面狀況在線檢測方法及檢測系統。
本發明解決其技術間題所採用的技術方案是:一種拋光墊表面狀況在線檢測方法,包括以下步驟:光學傳感器在拋光墊上方移動,以獲取光學傳感器與拋光墊表面的距離信息;根據測得的距離信息,區分拋光墊表面液體的分佈情況,對應使用不同的修正計算公式,計算得到拋光墊表面溝槽的深度值;將拋光墊表面溝槽修正後的深度值與預設閾值比較,判斷拋光墊上的溝槽深度狀況,以確定拋光墊是否需要更換。
進一步的,判斷溝槽深度狀況為判斷深度值小於預設閾值的溝槽數量是否達到設定數量;或者,判斷指定範圍的溝槽深度均值是否小於預設閾值。
進一步的,所述光學傳感器移動過程中獲取其與拋光墊表面的距離,作為第一信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與拋光墊上液體表面的距離,作為第二信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽底面的距離,作為第三信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽內液體表面的距離,作為第四信息。
進一步的,所述拋光墊表面液體的分佈情況包括以下三種中的一種或兩種及以上的組合,第一種情況,溝槽內有液體,且液體溢出溝槽後覆蓋拋光墊 表面;第二種情況,溝槽內有液體,且液體未填滿溝槽;第三種情況,溝槽內沒有液體。
進一步的,所述光學傳感器以檢測得到的距離信息區分所述拋光墊表面液體的分佈情況;在第一種情況下,檢測得到第一信息、第二信息、第三信息和第四信息;在第二種情況下,檢測得到第一信息、第三信息和第四信息;在第三種情況下,檢測得到第一信息和第三信息。
進一步的,在第一種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度×液體折射率;在第二種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度+(光學傳感器距離拋光墊溝槽底面的距離-光學傳感器距離拋光墊上液體表面的距離)×(液體折射率-1);在第三種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度。
進一步的,重複上述步驟進行溝槽深度狀況檢測,當所述溝槽深度狀況達到設定狀況時,發出更換拋光墊的提醒。
進一步的,所述光學傳感器在拋光墊的平行上方、沿著拋光墊的徑向移動,且移動範圍遍歷拋光墊邊緣至拋光墊中心。
本發明還公開了一種拋光墊表面狀況在線檢測系統,包括:光學傳感器,至少包括光學單元,傳感器探頭,及控制單元; 所述光學單元用於向拋光墊表面發射光束;所述傳感器探頭用於將光學單元發射的光束聚焦並照射在拋光墊上,並用於接收反射光後傳遞至光學單元;所述控制單元用於獲取傳感器探頭與拋光墊表面各處之間的距離;處理單元,與光學傳感器連接,用於分析控制單元獲取的距離信息並對應不同的修正計算公式,計算得到拋光墊表面溝槽的深度值;可移動支撐結構,用於帶動光學傳感器在拋光墊上方移動。
進一步的,所述修正計算公式針對拋光墊表面液體的不同分佈情況,所述分佈情況包括,第一種情況,溝槽內有液體,且液體溢出溝槽後覆蓋拋光墊表面;第二種情況,溝槽內有液體,且液體未填滿溝槽;第三種情況,溝槽內沒有液體。
進一步的,所述光學傳感器採用光譜共焦技術。
進一步的,所述可移動支撐結構帶動光學傳感器沿平行拋光墊的方向移動,移動範圍遍歷拋光墊邊緣至拋光墊中心;所述可移動支撐結構的高度可調。
進一步的,所述可移動支撐結構為拋光頭,或為拋光臂,或為拋光液分配臂,或為修整頭,或為修整臂,或為獨立支撐結構。
進一步的,所述傳感器探頭外罩設有透明保護層;還包括 用於對傳感器探頭或透明保護層進行清洗的清洗單元。
進一步的,還包括警示單元,當指定範圍的溝槽深度均值小於設定值或深度值小於預設閾值的溝槽數量達到設定數量時,該警示單元發出提醒。
本發明的有益效果是:1)提出的一種拋光墊表面狀況的在線檢測系統和檢測方法,依靠光學傳感器非接觸在線測量拋光墊表面狀態,光學非接觸的方式防止了接觸檢測對拋光墊表面可能造成的損害,在線的測量使得拋光墊表面狀態的監測及時,相比於效率低的人工檢測和準確度低的經驗時間檢測,該檢測系統能夠準確而高效的實現對拋光墊表面狀態的檢測;2)依靠對拋光墊和溝槽底部距離的測量,得到溝槽深度的定量準確數值,且依靠可移動支撐結構,使得光學傳感器可以遍歷整個拋光墊,能夠準確測量拋光墊上所有溝槽的深度;相比於對局部拋光墊厚度的檢測,本發明能夠實現拋光墊表面狀態整體和局部的精確測量;3)本發明的距離檢測方式可以測量液體表面的距離,判斷拋光墊上液體表面是否存在,在檢測拋光墊上溝槽深度的同時,檢測拋光墊表面的液體狀態,判斷拋光墊表面液體量的多少,並能夠根據拋光墊表面液體狀態,修正檢測得到的拋光墊溝槽深度;4)根據拋光墊表面不同區域表面液體的分佈情況,結合距離信息,可以得到不同區域的溝槽深度值,獲取的深度值更加準確,判斷更加精準;5)可移動支撐結構可以帶著光學傳感器實時移動對拋光墊進行檢測,檢測的時效性更強,更換拋光墊更加及時。
1:光學傳感器
2:拋光墊
3:處理單元
4:可移動支撐結構
11:光學單元
12:傳感器探頭
13:控制單元
20:拋光台
21:溝槽
41:拋光頭
42:拋光臂
43:拋光液分配臂
44:修整頭
45:修整臂
h1:溝槽深度
h2:光學傳感器距離拋光墊溝槽底面的距離
h3:光學傳感器距離拋光墊上液體表面的距離
圖1為本發明的拋光系統簡示立體圖。
圖2為本發明的拋光墊表面狀況在線檢測系統與化學機械平坦設備的配合結構簡示圖。
圖3為本發明的拋光墊表面狀況在線檢測系統的結構簡示圖。
圖4為拋光墊表面特徵及其檢測示意圖,此時液面覆蓋拋光墊表面。
圖5為液面覆蓋拋光墊表面狀態的示意圖。
圖6為液面僅在溝槽中的狀態示意圖。
圖7為拋光墊表面沒有液體的狀態示意圖。
圖8為本發明的拋光墊表面狀況在線檢測方法的步驟框圖。
為了使本技術領域的人員更好的理解本發明方案,下面將結合本發明實施例中的附圖,對發明實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明的一部分實施例,而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應當屬於本發明保護的範圍。
一種拋光墊表面狀況在線檢測系統,包括:光學傳感器1,處理單元3,可移動支撐結構4,及警示單元,如圖3所示。
如圖1、圖2所示,拋光墊2安裝在拋光台20表面隨拋光台20旋轉,拋光台20上方安裝有拋光頭41、拋光臂42、拋光液分配臂43、修整頭44和修整臂45。拋光頭41固定晶圓並使其與拋光墊2充分接觸,相對拋光台20移動和旋轉;拋光臂42固定拋光頭41;拋光液分配臂43向拋光墊2表面供應拋光液;修整頭44與拋光墊2接觸,修整拋光墊2表面;拋光臂42固定拋光頭41。圖1所示僅為其中一種拋光形式,當然在其他實施例中,也可以是現有的別的拋光形式。
光學傳感器1,用於在線檢測其與拋光墊2表面特徵的目標距離,其至少包括光學單元11,傳感器探頭12,及控制單元13;在本實施例中,光學傳感器1採用光譜共焦技術。
所述光學單元11用於向拋光墊2表面發射光束。
所述傳感器探頭12用於將光學單元11發射的光束聚焦並照射在拋光墊2上,並且用於接收反射光後傳遞至光學單元11。傳感器探頭12不僅可以一體設置在光學傳感器1內,也可以獨立於光學傳感器1存在。
拋光台20的上方安裝有清洗單元,其用於對傳感器探頭12進行清洗,防止可能發生的液體結晶,為了對傳感器探頭12形成良好的保護作用,在傳感器探頭12的外側罩設有透明保護層,防止可能存在的液體污染與腐蝕,從而清洗單元對透明保護層進行清洗。
控制單元13用於獲取傳感器探頭12與拋光墊2表面各 處之間的距離。
處理單元3,與光學傳感器1連接,用於分析控制單元13獲取的距離信息,並對應不同的修正計算公式,計算得到拋光墊2表面溝槽21的深度值。
上述的修正計算公式針對拋光墊2表面液體的不同分佈情況各不相同,而分佈情況包括,三種情況,其中第一種情況為,溝槽21內有液體,且液體溢出溝槽21後覆蓋拋光墊2表面,即拋光墊2的研磨面和溝槽21上方液體表面均存在,如圖5所示;第二種情況為,溝槽21內有液體,且液體未填滿溝槽21,即溝槽21上方液體表面存在,拋光墊2的研磨面上方液體表面不存在,如圖6所示;第三種情況為,溝槽21內沒有液體,拋光墊2的研磨面上方和溝槽21上方液體表面均不存在,如圖7所示。
可移動支撐結構4,用於帶動光學傳感器1在拋光墊2上方移動;即光學傳感器1跟隨可移動支撐結構4移動,且沿著平行拋光墊2的方向移動,移動範圍遍歷拋光墊2邊緣至拋光墊2中心。
光學傳感器1測量傳感器探頭12距離拋光墊2表面的距離,根據該距離,可移動支撐結構4帶動固定於其上的傳感器探頭12垂直於拋光墊2移動,使傳感器探頭12距離拋光墊2表面的距離調節為光學傳感器1的最佳工作距離,在最佳工作距離,傳感器探頭12發射的光束聚焦點最小,能夠進入並測量更為狹窄的溝槽;因此將可移動支撐結構4設計為高度可調的結構,且調 整高度時沿垂直於拋光墊2表面的方向上下移動。
可移動支撐結構4可以為拋光頭41,或為拋光臂42,或為拋光液分配臂43,或為修整頭44,或為修整臂45,又或為獨立支撐結構,具體不作限制。
警示單元在指定範圍的溝槽21深度均值小於設定值,或者深度值小於預設閾值的溝槽21數量達到設定數量時,發出提醒,提醒用戶更換拋光墊2。
拋光墊表面狀況在線檢測系統使用時,傳感器探頭12安裝在距離拋光墊2一固定距離,該距離位於光學傳感器1的檢測範圍之內,光學傳感器1的光學單元11發射光束,通過傳感器探頭12,光束聚焦為一微小點並照射在拋光墊2上,經過拋光墊2表面特徵的反射,各特徵的反射光束被傳感器探頭12接收,再次傳遞至光學單元11,檢測反射光束的波長、強度、光斑位置等信息;控制單元13控制光學單元11發射、接收和檢測光束,並通過檢測得到的信息,得出傳感器探頭12距離拋光墊2上各種液面分佈區域的距離信息,完成光學傳感器1距離測量的功能;處理單元3接收來自光學傳感器1測量得到的距離信息,供後續拋光墊2表面狀況分析使用。
可移動支撐結構4帶動固定於其上的傳感器探頭12,按照設定的移動路徑平行於拋光墊2移動,測量移動路徑上對應的拋光墊2局部或整體的各區域表面特徵距離信息,包括傳感器探頭12距離拋光墊2上液體表面的距離,傳感器探頭12距離拋光 墊2的距離,傳感器探頭12距離拋光墊2溝槽21底面的距離;可移動支撐結構4的移動路徑包含拋光墊2邊緣到中心的整個範圍,使固定於其上的光學傳感器1可測量整個拋光墊2各處的特徵距離信息。
一種拋光墊表面狀況在線檢測方法,包括以下步驟:光學傳感器1在拋光墊2的上方移動,具體是在拋光墊2的平行上方,沿著拋光墊2的徑向移動,且移動範圍遍歷拋光墊2邊緣至拋光墊2的中心,從而獲取拋光墊2表面的狀況信息,及光學傳感器1與拋光墊2表面的距離信息;根據拋光墊2表面液體的分佈情況,結合測得的距離信息,對應使用不同的修正計算公式,計算得到拋光墊2表面溝槽21的深度值;將拋光墊2表面溝槽21修正後的深度值與預設閾值作比較,判斷拋光墊2上的溝槽21深度狀況,從而確定拋光墊2是否需要更換。
如果第一次判斷結果為不需要更換,則重複上述步驟進行溝槽21深度狀況檢測,當溝槽21深度狀況達到設定狀況時,警示單元發出更換拋光墊2的提醒。
上述判斷拋光墊2上的溝槽21深度狀況為判斷深度值小於預設閾值的溝槽21數量是否達到設定數量;或者,判斷指定範圍的溝槽21深度均值是否小於預設閾值,該指定範圍可以是拋光墊2上的任意大小的區域。
具體的,光學傳感器1在拋光墊2的上方移動,獲取拋光墊2表面的狀況信息,包括第一信息、第二信息、第三信息和第四信息。
其中第一信息為光學傳感器1與拋光墊2表面的距離;第二信息為光學傳感器1與拋光墊2上液體表面的距離;換句話說,傳感器探頭12位於拋光墊2上方時,光學傳感器1判斷拋光墊2上液體表面是否存在,並測量傳感器探頭12距離拋光墊2上液體表面的距離;同時,光學傳感器1判斷拋光墊2是否存在並測量傳感器探頭12距離拋光墊2的距離;第三信息為光學傳感器1與溝槽21內底面的距離;第四信息為光學傳感器1與溝槽21內液體表面的距離;換句話說,傳感器探頭12位於拋光墊2的溝槽21上方時,光學傳感器1判斷拋光墊2上液體表面是否存在,並測量傳感器探頭12距離拋光墊2上液體表面的距離;同時,光學傳感器1判斷拋光墊2溝槽21底面是否存在並測量傳感器探頭12距離溝槽21底面的距離。
溝槽21深度的計算公式為:溝槽深度=傳感器探頭距離拋光墊溝槽底面的距離-傳感器探頭距離拋光墊表面(此處指的是拋光墊研磨面)的距離。
由於拋光墊2表面會積聚拋光液,且不同區域的拋光液積聚量不同,上述拋光墊2表面的狀況信息一般包括以下三種中的一種或兩種及兩種以上的組合。光學傳感器1以檢測得到的距 離信息區分拋光墊2表面液體的分佈情況。
第一種情況為,溝槽21內有液體,且液體溢出溝槽21後覆蓋拋光墊2表面,如圖5所示;在第一種情況下,光學傳感器1檢測得到第一信息、第二信息、第三信息和第四信息,對應的修正公式為,修正後的溝槽深度=原溝槽深度×液體折射率;第二種情況為,溝槽21內有液體,且液體未填滿溝槽21,如圖6所示;在第二種情況下,光學傳感器1檢測得到第一信息、第三信息和第四信息,對應的修正公式為,修正後的溝槽深度=原溝槽深度h1+(光學傳感器距離拋光墊溝槽底面的距離h2-光學傳感器距離拋光墊上液體表面的距離h3)×(液體折射率-1);第三種情況為,溝槽21內沒有液體,如圖7所示;在第三種情況下,光學傳感器1檢測得到第一信息和第三信息,對應的修正公式為,修正後的溝槽深度=原溝槽深度。
上述具體實施方式用來解釋說明本發明,而不是對本發明進行限制,在本發明的精神和權利要求的保護範圍內,對本發明作出的任何修改和改變,都落入本發明的保護範圍。

Claims (11)

  1. 一種拋光墊表面狀況在線檢測方法,其特徵在於,包括以下步驟:光學傳感器在拋光墊上方移動,以獲取所述光學傳感器與所述拋光墊表面的距離信息;根據測得的所述距離信息,區分所述拋光墊表面液體的分佈情況,對應使用不同的修正計算公式,計算得到所述拋光墊表面溝槽的深度值;將所述拋光墊表面溝槽修正後的所述深度值與預設閾值比較,判斷所述拋光墊上的溝槽深度狀況,以確定所述拋光墊是否需要更換,所述光學傳感器移動過程中獲取其與所述拋光墊表面的距離,作為第一信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與拋光墊上液體表面的距離,作為第二信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽底面的距離,作為第三信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽內液體表面的距離,作為第四信息,所述拋光墊表面液體的所述分佈情況包括以下三種中的一種或兩種及以上的組合, 第一種情況,溝槽內有液體,且所述液體溢出所述溝槽後覆蓋所述拋光墊表面;第二種情況,溝槽內有液體,且所述液體未填滿所述溝槽;第三種情況,溝槽內沒有液體,所述光學傳感器以檢測得到的所述距離信息區分所述拋光墊表面液體的所述分佈情況;在所述第一種情況下,檢測得到所述第一信息、所述第二信息、所述第三信息和所述第四信息;在所述第二種情況下,檢測得到所述第一信息、所述第三信息和所述第四信息;在所述第三種情況下,檢測得到所述第一信息和所述第三信息。
  2. 如請求項1所述的拋光墊表面狀況在線檢測方法,其特徵在於:判斷所述溝槽深度狀況為判斷所述深度值小於所述預設閾值的溝槽數量是否達到設定數量;或者,判斷指定範圍的溝槽深度均值是否小於所述預設閾值。
  3. 如請求項1所述的拋光墊表面狀況在線檢測方法,其特徵在於:在所述第一種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度×液體折射率; 在所述第二種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度+(光學傳感器距離拋光墊溝槽底面的距離-光學傳感器距離拋光墊上液體表面的距離)×(液體折射率-1);在所述第三種情況下,修正後的溝槽深度=原溝槽深度。
  4. 如請求項1所述的拋光墊表面狀況在線檢測方法,其特徵在於:重複上述步驟進行所述溝槽深度狀況檢測,當所述溝槽深度狀況達到設定狀況時,發出更換所述拋光墊的提醒。
  5. 如請求項4所述的拋光墊表面狀況在線檢測方法,其特徵在於:所述光學傳感器在所述拋光墊的平行上方、沿著所述拋光墊的徑向移動,且移動範圍遍歷拋光墊邊緣至拋光墊中心。
  6. 一種拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於,包括:光學傳感器,至少包括光學單元,傳感器探頭,及控制單元;所述光學單元用於向拋光墊表面發射光束;所述傳感器探頭用於將所述光學單元發射的光束聚焦並照射在拋光墊上,並用於接收反射光後傳遞至所述光學單元;所述控制單元用於獲取所述傳感器探頭與所述拋光墊表面各處之間的距離;處理單元,與所述光學傳感器連接,用於分析所述控制單元獲取的距離信息並對應不同的修正計算公式,計算得到所述拋光墊表面溝槽的深度值; 可移動支撐結構,用於帶動所述光學傳感器在所述拋光墊上方移動,所述光學傳感器移動過程中獲取其與所述拋光墊表面的所述距離,作為第一信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與所述拋光墊上液體表面的距離,作為第二信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽底面的距離,作為第三信息;或/和,所述光學傳感器移動過程中獲取其與溝槽內液體表面的距離,作為第四信息,所述修正計算公式針對所述拋光墊表面液體的不同分佈情況,所述分佈情況包括,第一種情況,溝槽內有液體,且所述液體溢出所述溝槽後覆蓋所述拋光墊表面;第二種情況,溝槽內有液體,且所述液體未填滿所述溝槽;第三種情況,溝槽內沒有液體,所述光學傳感器以檢測得到的所述距離信息區分所述拋光墊表面液體的所述分佈情況;在所述第一種情況下,檢測得到所述第一信息、所述第二信息、所述第三信息和所述第四信息;在所述第二種情況下,檢測得到所述第一信息、所述第三信息和所述第四信息; 在所述第三種情況下,檢測得到所述第一信息和所述第三信息。
  7. 如請求項6所述的拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於:所述光學傳感器採用光譜共焦技術。
  8. 如請求項6所述的拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於:所述可移動支撐結構帶動所述光學傳感器沿平行所述拋光墊的方向移動,移動範圍遍歷拋光墊邊緣至拋光墊中心;所述可移動支撐結構的高度可調。
  9. 如請求項6所述的拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於:所述可移動支撐結構為拋光頭,或為拋光臂,或為拋光液分配臂,或為修整頭,或為修整臂,或為獨立支撐結構。
  10. 如請求項6所述的拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於:所述傳感器探頭外罩設有透明保護層;還包括用於對所述傳感器探頭或所述透明保護層進行清洗的清洗單元。
  11. 如請求項6所述的拋光墊表面狀況在線檢測系統,其特徵在於:還包括警示單元,當指定範圍的溝槽深度均值小於設定值或所述深度值小於預設閾值的溝槽數量達到設定數量時,所述警示單元發出提醒。
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