TWI829262B - 用於減少晶圓容器微環境中之汙染之吸附劑及方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種吸附劑，其可經結構化用於一晶圓容器微環境中。此等吸附劑之裝載可針對待自該晶圓容器微環境移除之特定汙染物而定製。該裝載可包含用於一或多種汙染物之吸附劑，該等汙染物包含酸、鹼、可冷凝有機化合物、及/或揮發性有機化合物。該吸附劑可進一步包含一除濕材料，例如一分子篩。待移除之汙染物可藉由該晶圓容器之清潔或分級條件、程序中使用之先前吸附劑之測試來判定。
Description
本發明涉及經結構設計用於晶圓容器中之吸附劑，及使用此等吸附劑自晶圓容器目標性地移除汙染物之方法。
半導體晶圓之處理需要極清潔之條件。然而，晶圓容器之清潔及/或分級(staging)、一些程序化學品及自晶圓容器本身之排氣可將汙染物引入至晶圓容器內之微環境。
本發明涉及經結構設計用於晶圓容器中之吸附劑，及使用此等吸附劑自晶圓容器目標性地移除汙染物之方法。
藉由將一吸附劑引入至一晶圓容器中，例如藉由提供可裝配於一晶圓槽中或該晶圓容器內之一專門容納處之一吸附劑，可自晶圓容器微環境移除汙染物。此可改良該晶圓容器微環境之清潔度與純度，及從而改良在該晶圓容器微環境內進行之程序之精度與良率。
基於所使用之程序化學品、清潔及/或分級條件及特定程序對不同汙染物之敏感性之差異，晶圓容器內之潛在汙染物可因應用而明顯不同。藉由基於特定應用定製吸附劑之裝載，吸附劑裝載可增加移除關注汙染物之效率。
在一實施例中，一種減少一晶圓容器微環境內之汙染之方法包含判定自該晶圓容器微環境移除之一或多種汙染物。該方法進一步包含基於該一或多種汙染物為一吸附劑介質選擇一或多種成分。該方法亦包含基於該一或多種汙染物判定該一或多種成分之各者之裝載。該方法進一步包含製備一吸附劑材料，其包含該一或多種成分之各者之判定裝載。該吸附劑材料經結構設計以當晶圓存在於晶圓容器微環境中時放置在該晶圓容器微環境中。
在一實施例中，用於該吸附劑介質之該一或多種成分係自由碳材料、分子篩、離子交換樹脂及沸石組成之群組選擇。
在一實施例中，判定該一或多種汙染物包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
在一實施例中，判定該一或多種成分之各者之該裝載包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
在一實施例中，判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
在一實施例中，判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
在一實施例中，判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
在一實施例中，判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
在一實施例中，判定該一或多種成分係基於在該晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
在一實施例中，判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於在該晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
在一實施例中，界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器係一前開式晶圓傳送盒(FOUP)。
在一實施例中，該一或多種汙染物係自由無機酸、鹼、揮發性有機化合物及可冷凝有機化合物之群組選擇。
在一實施例中，該吸附劑材料經塑形使得其可裝配在該晶圓容器微環境之一晶圓槽中。在一實施例中，該吸附劑材料具有與經結構設計以放置在該晶圓容器微環境內之晶片相同之形狀及尺寸。
在一實施例中，該方法進一步包含將該吸附劑材料放置在該晶圓容器微環境內，且其中當該一或多種汙染物存在於該微環境中時，該吸附劑材料吸附該等汙染物。
在一實施例中，該吸附劑材料在一晶圓處理操作期間吸附該一或多種汙染物。在一實施例中，該吸附劑材料在一晶圓儲存操作期間吸附該一或多種汙染物。
在一實施例中，該吸附劑材料放置在位於該晶圓容器微環境內之一吸附劑固持器中。
本發明涉及經結構設計用於晶圓容器中之吸附劑，及使用此等吸附劑自晶圓容器目標性地移除汙染物之方法。
圖1展示根據一實施例之用於一晶圓容器中之吸附劑之一分解圖。吸附劑100包含一吸附劑體102，其含有吸附劑介質104及包住吸附劑介質之覆蓋物106。覆蓋物106可在周邊108處密封。
吸附劑100經結構設計為放置在一晶圓容器微環境中。在一實施例中，吸附劑100經設定大小及塑形，使得其可裝配在用於容納晶圓之容器的槽之一者中。在一實施例中，吸附劑100經塑形及設定大小為與要容納在晶圓容器內之晶圓類似或相同，諸如一350 mm晶圓或放置在一晶圓容器微環境中之晶圓之任何其他大小及形狀。在一實施例中，吸附劑100經塑形及設定大小為與要容納在晶圓容器內之晶圓不同，同時保持能夠插入至及保持在晶圓容器之晶圓槽之一者中。例如，經結構設計以容納圓形晶圓之一晶圓容器可具有一吸附劑100，其形狀為正方形，但其經設定大小以裝配在晶圓容器之晶圓槽內。雖然圖1中所示之吸附劑100經設定大小及塑形以放置在一晶圓槽內，但應瞭解，類似組合物及/或構造之吸附劑可製成具有適合於放置在晶圓容器內設置之一吸附劑固持器中之大小及形狀，例如如下所述並如圖2所示。
吸附劑體102係吸附劑100之主體。吸附劑體含有吸附劑介質104。在一實施例中，吸附劑體係含有吸附劑介質104之一裝載之一層壓物。吸附劑體102可經塑形及設定大小，使得所得吸附劑100可裝配在晶圓容器內之一吸附劑固持器中，例如藉由將包含吸附劑介質104之經形成層壓物切割成一預定形狀。
吸附劑介質104可包含用於自一晶圓容器微環境移除一或多種選定汙染物之任何一或多種合適的吸附劑。汙染物之非限制性實例包含揮發性有機化合物(VOC)、半冷凝有機化合物、可冷凝有機化合物、酸、鹼、離子汙染物及類似物。作為非限制性實例，吸附劑可包含碳材料、分子篩、離子交換樹脂、沸石或用於自一環境移除汙染物之任何其他合適的吸附劑或其組合。吸附劑介質104之裝載可為依據經選擇用於包含之介質及此經選擇介質之量而選擇的用於吸附一或多種特定目標汙染物之一裝載。目標汙染物之判定可根據任何合適的方法，諸如本文所述及圖3所示之方法。定製吸附劑介質104之裝載可改良吸附劑介質104之效率，因為不必要或不太有效之成分可自吸附劑介質省略。吸附劑體102可進一步含有用於自晶圓容器微環境移除水分之任何合適的材料，例如，一或多種分子篩、乾燥劑或類似物。
吸附劑主體102可由一覆蓋物106包住。覆蓋物106可為用於包裝吸附劑主體102同時允許氣體通過使得汙染物可被吸附劑介質104捕獲以自晶圓容器微環境移除之任何合適的多孔材料。在一實施例中，覆蓋物106可包含一織造材料及/或一非織造材料。在一實施例中，覆蓋物106包含一聚合物材料。在一實施例中，覆蓋物106可包含一聚酯非織造材料。覆蓋物106可包含兩個或更多個彼此連接之部分，使得其包住吸附劑主體。例如，覆蓋物106可包含經塑形成類似於吸附劑主體102且大小稍大之兩部分材料。兩部分材料可放置在吸附劑主體之任一側上且在材料部分之周邊108處彼此連接。兩個或更多個材料部分可藉由任何合適的連接材料部分之方法來連接，例如藉由一焊接。在一實施例中，焊接係一超音波焊接。
圖2展示根據一實施例之經結構設計以容納一吸附劑之一晶圓容器。晶圓容器200包含容器體202，其包含一開口端204及門206。由容器體202界定之內部空間包含晶圓槽208。視情況，晶圓容器200可包含一吸附劑固持器210。
晶圓容器200係用於處理、運輸及/或儲存晶圓(例如半導體晶圓)之一容器。晶圓容器200可為例如一前開式晶圓傳送盒(FOUP)。容器體202界定晶圓容器200內之一內部空間，其中在容器體202之一側上設置開口端204。開口端204可允許晶圓放置在由容器體202界定之內部空間內及/或自該內部空間移除。門206可用於關閉開口端204。當開口端204由門206關閉時，可形成一密封，使得晶圓容器200內之內部空間提供一微環境。
容器體202之內表面可包含界定晶圓槽208之特徵。各晶圓槽208可包含用於固持一晶圓之一或多個支撐結構，諸如凸緣、突片、樑或任何其他合適的支撐結構。各晶圓槽208經結構設計以容納一個晶圓並以適合於處理、運輸及/或儲存之一方式將其定位於晶圓容器200內。在一實施例中，可將一吸附劑，諸如上述及圖1所示之吸附劑100放置於晶圓槽208之至少一者中，以吸附晶圓容器200內之微環境內之目標汙染物。
視情況，晶圓容器200可包含吸附劑固持器210。吸附劑固持器210可為與晶圓槽208分離之經結構設計以容納一吸附劑之一或多個結構。例如，吸附劑固持器210可包含一或多個夾子、籠、袋子或類似物，其經結構設計以將吸附劑保持在晶圓容器200內提供之微環境內。吸附劑固持器210可經整合至或經附接至晶圓容器體202及門206之至少一者。在一實施例中，吸附劑固持器210可經整合至任何其他合適的組件，該組件經整合至或附接至晶圓容器體202或門206，諸如用於容器之一牌照固持器、凈化組件或類似物。各吸附劑固持器210可經結構設計使得氣體可通過吸附劑固持器以與其中含有之吸附劑相互作用，使得吸附劑可自界定在晶圓容器200內之微環境之內容物移除汙染物。
圖3展示根據一實施例之用於減少一晶圓容器內之特定汙染物之一方法之一流程圖。方法300包含判定自晶圓容器微環境移除之一或多種汙染物302。方法300進一步包含基於汙染物為一吸附劑介質選擇一或多種成分304且基於汙染物判定成分之各者之一裝載306。方法300進一步包含製備一吸附劑308，其包含成分之判定裝載。方法300可視情況包含將吸附劑放置於一晶圓容器中310及加入一晶圓儲存操作312或一晶圓處理操作314。在一實施例中，方法300進一步包含在310處將一吸附劑放置於一晶圓容器中之後對其進行測試316。
可在302處判定自一晶圓容器微環境移除之一或多種汙染物。移除之汙染物可為特定於一晶圓容器微環境或該微環境中之一特定程序或活動之汙染物。汙染物之選擇可基於晶圓容器之組合物、晶圓容器之分級條件、使用晶圓容器之程序、汙染物之影響或關於汙染物之存在及/或影響之任何其他合適的標準。用於移除之汙染物可為例如酸、鹼、離子汙染物及/或有機化合物，諸如揮發性有機化合物或可冷凝有機化合物。作為非限制性實例，用於移除之汙染物可包含來自一周圍環境之汙染物，諸如分級或處置條件、程序化學品、來自晶圓容器或其內容物之排氣產物、水分或可存在於晶圓容器微環境中之任何其他可能汙染物。
在一實施例中，在302處判定一或多種汙染物可包含測試一吸附劑，其已在一代表性晶圓容器微環境中使用。例如，可將一樣品吸附劑放置在一測試晶圓容器內且隨後進行測試以判定捕獲之汙染物。在一實施例中，方法300可藉由測試根據方法300製備之一吸附劑及將吸附劑放置在微環境中310，及隨後測試該吸附劑316而反覆。可基於此測試之結果判定移除之汙染物。測試可為能夠識別汙染物之存在或濃度之任何合適的測試，諸如，作為非限制性實例，熱重分析、逸出氣體分析、氣相層析質譜分析、質子轉移反應質譜分析及其組合及類似者。在一實施例中，可基於自清單之選擇而判定移除之汙染物，例如識別最關注之汙染物及判定要自微環境移除之汙染物。可基於汙染物對特定程序之影響、與特定汙染物相關聯之任何風險、其相對或絕對濃度或任何其他合適的標準來判定關注之汙染物。
在一實施例中，可在302處基於對晶圓容器微環境處或周圍的特定條件之瞭解來判定一或多種汙染物。在一實施例中，判定一或多種汙染物係基於界定晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。在一實施例中，判定一或多種汙染物係基於在晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。在一實施例中，一或多種汙染物可基於對晶圓容器微環境內之潛在排氣之瞭解來判定，例如藉由基於界定晶圓容器微環境之晶圓容器之一材料組合物。
方法300進一步包含基於汙染物為一吸附劑介質選擇一或多種成分304。可基於對關於一或多種判定汙染物之成分之性質之瞭解來選擇成分。用於吸附劑介質之成分之非限制性實例包含碳材料、分子篩、離子交換樹脂、沸石及其組合。方法300進一步包含判定各成分之一裝載306。裝載包含各成分之一量，諸如一吸附劑之單位面積或體積的各成分之一質量。可基於成分與一或多種判定汙染物之間之關係來判定裝載。在一實施例中，裝載可解釋成分之間之相互作用，例如影響其吸附效力之任何相互作用。在一實施例中，裝載係基於待吸收之各汙染物之相對量。在一實施例中，裝載係基於移除汙染物之相對重要性，例如由於汙染物對在晶圓容器微環境中進行之一程序之影響。成分及裝載之判定允許製備適合一晶圓容器微環境之特定需要或晶圓容器及其界定之微環境之特定用途之一吸附劑。
方法300亦包含製備一吸附劑308，其包含成分之判定裝載。吸附劑可藉由任何合適之製備一吸附劑之方法來製備。例如，吸附劑可為上述及圖1所示之吸附劑100。在一實施例中，在308處製備吸附劑可包含提供一層壓體，其含有在306處判定之用於在304處判定的成分之裝載。在308處之吸附劑之製備可進一步包含用一覆蓋物包住吸附劑體，諸如一多孔覆蓋物，諸如一織造或非織造材料。覆蓋物可為一聚合物材料，諸如一聚合物。在一實施例中，覆蓋物係一聚酯非織造材料。可藉由提供經連接之複數個覆蓋物區段(例如藉由一焊接，諸如一超音波焊接)而使覆蓋物包住吸附劑體。可視情況地移除焊接外之多餘材料以形成吸附劑。
方法300可視情況包含將吸附劑放置於一晶圓容器中310。吸附劑在晶圓容器中之放置可根據吸附劑之大小與形狀及晶圓容器之結構來執行。在一實施例中，吸附劑可放置在晶圓容器之一晶圓槽中。在一實施例中，吸附劑可放置在位於由晶圓容器界定之一內部空間中之一固持器中。一旦吸附劑放置在晶圓容器內，晶圓容器就可被關閉以界定一微環境。吸附劑可藉由透過包含在吸附劑中之成分之裝載吸附汙染物而自微環境移除汙染物。一旦晶圓容器關閉，就可使用晶圓容器，例如藉由加入一晶圓儲存操作312或一晶圓處理操作314。
在一實施例中，方法300進一步包含在310處將一吸附劑放置於一晶圓容器中之後對其進行測試316。例如，測試可為吸附劑介質之破壞性測試。例如，在316處之測試可用於判定吸附劑在晶圓容器內310時其所捕獲之汙染物的量。在316處之測試結果可用於方法300之反覆以精進在302處汙染物之判定、在304處成分之判定，及/或在306處吸附劑介質中成分之裝載。
表1展示自現存前開式晶圓傳送盒(FOUP)內獲取之一樣品之一色譜圖之結果。
表1：
| 濃度單位： | ppbV | µg/m 3 |
| 總有機物(既可冷凝又具揮發性) | 57 | 260 |
| 總可冷凝有機物(僅HMW) | 14 | 63 |
如表1所示，FOUP微環境包含大量存在之既可冷凝又具揮發性有機物。此等有機物之一些可能是非預期的，其取決於在FOUP內儲存或處理之物。在一非限制性實例中，此等色譜圖結果可用於識別自FOUP微環境移除之一或多種汙染物。例如，基於表1，可選擇特別用於移除有機物，特別是揮發性有機物之吸附劑材料，以包含在用於FOUP中之一吸附劑之一裝載中。
表2展示根據一實施例之藉由自含有一吸附劑之一FOUP內取得之一樣品之一色譜圖獲得的總有機物及總可冷凝有機物之濃度。在具有表2中所示結果之色譜圖之實施例中，將具有經選擇以移除甲苯之成分之一吸附劑放置在先前用於產生表1之FOUP微環境中。
表2：
| 濃度單位： | ppbV | µg/m 3 |
| 總有機物(既可冷凝又具揮發性) | 5.6 | 25 |
| 總可冷凝有機物(僅HMW) | 0.1 | 0.6 |
如在表2中可見，在包含吸附劑之FOUP微環境中之結果展示在FOUP微環境內具揮發性且可冷凝有機物之含量顯著降低。與表1相比，添加吸附劑表明FOUP微環境內有機化合物(包含可冷凝有機物)之存在減少約10倍。因此，目標吸附劑展示出顯著減少FOUP微環境內目標汙染物存在之一能力。類似目標標定可使用適於任何合適之汙染物或汙染物組合之吸附劑之裝載而用於該汙染物或汙染物組合。
態樣：
態樣1. 一種減少一晶圓容器微環境內之汙染之方法，其包括：
判定自該晶圓容器微環境移除之一或多種汙染物；
基於該一或多種汙染物為一吸附劑介質選擇一或多種成分；
基於該一或多種汙染物判定該一或多種成分之各者之一裝載；
製備一吸附劑材料，其包含該一或多種成分之各者之該判定裝載，其中該吸附劑材料經結構設計以當晶圓存在於晶圓容器微環境中時放置在該晶圓容器微環境中。
態樣2. 根據態樣1之方法，其中用於該吸附劑介質之該一或多種成分係自由碳材料、分子篩、離子交換樹脂及沸石組成之群組選擇。
態樣3. 根據態樣1至2中任一項之方法，其中判定該一或多種汙染物包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
態樣4. 根據態樣1至3中任一項之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
態樣5. 根據態樣1至4中任一項之方法，其中判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
態樣6. 根據態樣1至5中任一項之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
態樣7. 根據態樣1至6中任一項之方法，其中判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
態樣8. 根據態樣1至7中任一項之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
態樣9. 根據態樣1至8中任一項之方法，其中判定該一或多種成分係基於在晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
態樣10. 根據態樣1至9中任一項之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於在該晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
態樣11. 根據態樣1至10中任一項之方法，其中界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器係一前開式晶圓傳送盒(FOUP)。
態樣12. 根據態樣1至11中任一項之方法，其中該一或多種汙染物自由無機酸、鹼、揮發性有機化合物及可冷凝有機化合物組成之群組選擇。
態樣13. 根據態樣1至12中任一項之方法，其中該吸附劑材料經塑形使得其可裝配在該晶圓容器微環境之一晶圓槽中。
態樣14. 根據態樣13之方法，其中該吸附劑材料具有與經結構設計以放置在該晶圓容器微環境內之晶圓相同之形狀及尺寸。
態樣15. 根據態樣1至14中任一項之方法，其進一步包括將該吸附劑材料放置在該晶圓容器微環境內，且其中當該一或多種汙染物存在於該微環境中時，該吸附劑材料吸附該等汙染物。
態樣16. 根據態樣15之方法，其中該吸附劑材料在一晶圓處理操作期間吸附該一或多種汙染物。
態樣17. 根據態樣15至16中任一項之方法，其中該吸附劑材料在一晶圓儲存操作期間吸附該一或多種汙染物。
態樣18. 根據態樣1至17中任一項之方法，其中該吸附劑材料放置在位於該晶圓容器微環境內之一吸附劑固持器中。
在本申請案中揭示之實例在所有方面都被認為是闡釋性的而不是限制性的。本發明之範疇由隨附發明申請專利範圍而不是由前述描述指示；且在發明申請專利範圍之等效含義及範圍內之所有變化都意欲包含在其中。
100:吸附劑
102:吸附劑體/吸附劑主體
104:吸附劑介質
106:覆蓋物
108:周邊
200:晶圓容器
202:容器體
206:門
208:晶圓槽
210:吸附劑固持器
300:方法
302:步驟
304:步驟
306:步驟
308:步驟
310:步驟
312:步驟
314:步驟
316:步驟
圖1展示根據一實施例之用於一晶圓容器中之一吸附劑。
圖2展示根據一實施例之經結構設計成容納一吸附劑之一晶圓容器。
圖3展示根據一實施例之用於減少一晶圓容器內之特定汙染物之一方法之一流程圖。
100:吸附劑
102:吸附劑體/吸附劑主體
104:吸附劑介質
106:覆蓋物
108:周邊
Claims (18)
- 一種減少一晶圓容器微環境內之汙染之方法，其包括：判定自該晶圓容器微環境移除之一或多種汙染物；基於該一或多種汙染物，選擇用於一吸附劑介質的一或多種成分；基於該一或多種汙染物判定該一或多種成分之各者之一裝載；製備一吸附劑材料，其包含該一或多種成分之各者之該判定裝載，其中該吸附劑材料經結構設計以當晶圓存在於該晶圓容器微環境中時放置在該晶圓容器微環境內。
- 如請求項1之方法，其中用於該吸附劑介質之該一或多種成分係自由碳材料、分子篩、離子交換樹脂及沸石組成之群組選擇。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種汙染物包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載包含測試一樣品吸附劑，其已放置在一測試晶圓容器微環境中，使得其已吸收潛在汙染物。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器之分級期間之周圍條件。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種汙染物係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於界定該晶圓容器微環境之該晶圓容器之一材料組合物。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種成分係基於在該晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
- 如請求項1之方法，其中判定該一或多種成分之各者之該裝載係基於在該晶圓容器微環境內進行之一程序中使用之一或多種材料。
- 如請求項1之方法，其中界定該晶圓容器微環境之一晶圓容器係一前開式晶圓傳送盒(FOUP)。
- 如請求項1之方法，其中該一或多種汙染物自由無機酸、鹼、揮發性有機化合物及可冷凝有機化合物組成之群組選擇。
- 如請求項1之方法，其中該吸附劑材料經塑形使得其可裝配在該晶圓容器微環境之一晶圓槽中。
- 如請求項13之方法，其中該吸附劑材料具有與經結構設計以放置在該晶圓容器微環境內之晶圓相同之形狀及尺寸。
- 如請求項1之方法，其進一步包括將該吸附劑材料放置在該晶圓容器微環境內，且其中當該一或多種汙染物存在於該微環境中時，該吸附劑材料吸附該等汙染物。
- 如請求項15之方法，其中該吸附劑材料在一晶圓處理操作期間吸附該一或多種汙染物。
- 如請求項15之方法，其中該吸附劑材料在一晶圓儲存操作期間吸附該一或多種汙染物。
- 如請求項1之方法，其中將該吸附劑材料放置在位於該晶圓容器微環境內之一吸附劑固持器中。
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Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5346518A (en) * | 1993-03-23 | 1994-09-13 | International Business Machines Corporation | Vapor drain system |
| JP2000007084A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-11 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 汚染防止用保管運搬容器 |
| US20030168353A1 (en) * | 2000-01-28 | 2003-09-11 | Ebara Corporation | Substrate container and method of dehumidifying substrate container |
| JP2008141080A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Miraial Kk | ウエハ収納容器 |
| TW201629253A (zh) * | 2014-11-24 | 2016-08-16 | 蘭姆研究公司 | 含矽膜之原子層沉積中的選擇性抑制 |
| TW201809342A (zh) * | 2016-06-17 | 2018-03-16 | 美商蘭姆研究公司 | 用於膜輪廓調變之噴淋頭簾幕氣體方法及系統 |
| US20180138065A1 (en) * | 2015-05-12 | 2018-05-17 | Entegris, Inc. | Wafer container with external passive getter module |
| TW201938832A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-10-01 | 美商蘭姆研究公司 | 使用水解之選擇性沉積 |
| TW202041716A (zh) * | 2019-01-15 | 2020-11-16 | 美商蘭姆研究公司 | 利用無金屬配體的金屬原子層蝕刻及沉積設備和處理 |
| TW202124337A (zh) * | 2019-09-03 | 2021-07-01 | 美商富士軟片電子材料美國股份有限公司 | 用於純化溶劑之系統及方法 |
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Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5346518A (en) * | 1993-03-23 | 1994-09-13 | International Business Machines Corporation | Vapor drain system |
| JP2000007084A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-11 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 汚染防止用保管運搬容器 |
| US20030168353A1 (en) * | 2000-01-28 | 2003-09-11 | Ebara Corporation | Substrate container and method of dehumidifying substrate container |
| JP2008141080A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Miraial Kk | ウエハ収納容器 |
| TW201629253A (zh) * | 2014-11-24 | 2016-08-16 | 蘭姆研究公司 | 含矽膜之原子層沉積中的選擇性抑制 |
| US20180138065A1 (en) * | 2015-05-12 | 2018-05-17 | Entegris, Inc. | Wafer container with external passive getter module |
| TW201809342A (zh) * | 2016-06-17 | 2018-03-16 | 美商蘭姆研究公司 | 用於膜輪廓調變之噴淋頭簾幕氣體方法及系統 |
| TW201938832A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-10-01 | 美商蘭姆研究公司 | 使用水解之選擇性沉積 |
| TW202041716A (zh) * | 2019-01-15 | 2020-11-16 | 美商蘭姆研究公司 | 利用無金屬配體的金屬原子層蝕刻及沉積設備和處理 |
| TW202124337A (zh) * | 2019-09-03 | 2021-07-01 | 美商富士軟片電子材料美國股份有限公司 | 用於純化溶劑之系統及方法 |
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