TWI819550B - 複合叉狀裝置及包括其之系統 - Google Patents

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Abstract

本案揭示一種複合叉狀裝置,包括第一叉指及與第一叉指分隔開的第二叉指,第一叉指及第二叉指之每一者具有上部表面及相對於上部表面呈凹陷的下部表面。第一叉指及第二叉指的上部表面被構型為協作地支持第一類型容器。第一叉指及第二叉指的下部表面被構型為協作地支持第二類型容器,其具有與該第一類型容器的構型不同的構型。本案也揭示一種使用該複合叉狀裝置的方法及系統。

Description

複合叉狀裝置及包括其之系統
本發明實施例有關於一種複合叉狀裝置以及使用該複合叉狀裝置的方法及系統。
半導體積體電路(IC)工業數十年來已經歷了極大的進展且仍正在蓬勃發展中。隨著技術上的劇烈改進,IC的製造通常是機器驅動的,其提高了工作安全性、生產力及效率。然而,隨著IC製程的複雜性增加,從而經常涉及到多種材料及裝置,製程效率可能會下降且生產成本可能會激增。因此,業界付出更多的注意力在開發更擅長處理多功能任務的機器。
依據本揭示內容的一些實施例,提供一種複合叉狀裝置,包含一第一叉指及一與該第一叉指分隔開的第二叉指,該第一叉指及第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,該第一叉指及該第二叉指的該上部表面被構型為協作地支持一第一類型容器,該第一叉指及該第二叉指之該下部表面被構型為協作地支持一第二類型容器,該第二類型容器具有一與該第一類型容器的一構型不同的構型。
依據本揭示內容的一些實施例,提供一種系統,包含:一複合載入口工作台,其被構型為允許負載一第一類型容器或一第二類型容器,該第二類型容器具有一與該第一類型容器的一構型不同的構型;一處理工具;一機器人,其定位在該複合載入口工作台及該處理工具之間;及一複合叉狀裝置,其經耦合而可被該機器人驅動,且被構型為選擇性地支持該第一類型容器或該第二類型容器,從而允許該機器人選擇性地將該第一類型容器或第二類型容器自該複合載入口工作台運輸至該處理工具的一入口載入口,該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一與該第一叉指分隔開的第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,該第一叉指及該第二叉指之該上部表面被構型為協作地支持該第一類型容器,該第一叉指及該第二叉指之該下部表面被構型為協作地支持該第二類型容器。
依據本揭示內容的一些實施例,提供一種方法,包含:將一容器置於一複合載入口工作台上;使用一複合叉狀裝置支持該容器,該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,以使得該容器被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面或該下部表面支持;使用該複合叉狀裝置將該容器運輸至一處理工具,使得該容器的一底部部分被置於該處理工具的一入口載入口;及使該容器脫離該複合叉狀裝置。
以下揭示內容提供許多不同實施例或範例,用於實現本揭示內容的不同特徵。為了精簡本揭示內容,以下將描述各個組件及配置的具體範例。當然,此等僅為範例而非意欲要做限制用途。舉例來說,在以下描述中,一第一特徵件形成於一第二特徵件上方或之上,即表示其可能包括該第一特徵件與該第二特徵件是直接接觸的實施例,亦可能包括有額外特徵件形成於該第一特徵件與該第二特徵件之間而使得該第一特徵件與第二特徵件可未直接接觸的實施例。此外,本揭示內容可能會在各種範例中重複參考編號及/或字母。此重複是為求簡單明確,並非是其本身代表所討論的各種實施例及/或配置之間的關係。
此外,在此可使用空間相對用語,諸如「在...之上」、「在....的上方」、「在....上方」、「在...之下」、「上部」、「下部」、「頂部」、「底部」、「前」、「後」、「向外地」、「向前地」、「向後地」、「內部」、「外部」等,以便於描述圖式中繪示的一個元件或特徵件與另一個(些)元件或特徵件之間的關係。除在圖式中所描繪之方位外,空間相對用語意欲囊括裝置在使用或操作中之不同方位。該設備可能以其他方式被定向(旋轉90度或其他方位),而在本文中所使用的空間相對用語可同樣地被相應地來解讀。
在半導體製程中,傳載至少一個半導體裝置(諸如晶片或晶粒)的容器係藉由手動或更通常是藉由各種自動承載裝置或自動物料搬運系統(AMHS)被運輸至各種處理部分及自各種處理部分被運輸,以確保效率及安全性。自動物料搬運系統可為(但不限於)包括軌道導引車(RGV)、架空搬運梭(OHS)、架空起重搬運(OHT)、自動導引車(AGV)、人員導引車(PGV)或軌道及載具或是其他適合的裝置之至少一者的系統。承載裝置可為(但不限於)被程式化而用於運輸程序的可移動機器人,或機器手臂。
圖1A是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的容器61。容器61主要用於(但不限於)傳載至少一個完成的半導體製品,諸如動態存取記憶體(DRAM)或其他適合的製品,且通常被稱為托盤。圖1B繪示依據一些實施例的容器(其係圖1A所示的容器61之堆疊,且亦也由參考編號61表示)。為了支持或運輸圖1A或1B所示的容器61,機器人(未圖示)的二個支撐手臂可被利用以提起及支持容器61,從而允許機器人將容器61運輸至預定位置。
圖2是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的另一個容器62。容器62主要用於(但不限於)傳載圖1A或1B所示的容器61,且通常被稱為托盤匣型容器。容器62可包括容器主體621及頂部凸緣601,容器主體621被構型為允許圖1A或1B所示的容器61被容納於其中,且頂部凸緣601被安裝在容器主體621的頂部表面上。頂部凸緣601被構型為允許容器62被夾持且運輸至例如(但不限於)AMHS的架空起重搬運(OHT)。為了支持或運輸容器62,與夾持手(未圖示)一起組配的機器人可被利用以抓住或夾持容器62的頂部凸緣,從而允許機器人將容器62運輸至預定位置。
圖3A是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的又另一個容器63。圖3B是一依據一些實施例的容槽64的例示性透視圖。容器63與圖2所示的容器62不同在於容器63主要用於(但不限於)傳載通常被稱為舟皿的容槽64。容槽64經構型以用於在其上支持多個等待被進一步處理的半導體裝置(未圖示)。容器63可包括容器主體631及頂部凸緣601,頂部凸緣601係形成於容器主體631的頂部表面上且其具有相似於容器62的頂部凸緣601的構型,但可具有與容器62的頂部凸緣601厚度不同的厚度。容器主體631可在其兩個相對內部壁具有多個導引槽632,從而導引容槽64插入至容器主體631及從容器主體631移除,且因此避免容器主體631內側的容槽64互相接觸。容器63通常被稱為倉匣(magazine)型容器。為了支持或運輸容器63,與兩個導引軌道(未圖示)一起組配的機器人可被利用以允許容器63的頂部凸緣601的兩相對側滑動至並被支持在導引軌道之間,從而允許機器人將容器63運輸至預定位置。
因此,為了支持或運輸不同類型的容器(諸如容器61、容器62、容器63),利用具有對應界面的承載裝置,其不僅複雜化半導體製程,更會帶來額外成本(諸如維護成本),且可能會不利地影響半導體製程的效率。
為了改善積體電路(IC)製程的效率,本揭示內容提供一種複合叉狀裝置,當其在支持或運輸不同類型的前述容器時,不需要改變其界面。
圖4繪示依據一些實施例的複合叉狀裝置10的例示性透視圖。圖5是一依據一些實施例的複合叉狀裝置10的片段透視前視圖。圖6是一依據一些實施例的複合叉狀裝置10的上視圖。
複合叉狀裝置10包括第一叉指11及與第一叉指11分隔開的第二叉指12。複合叉狀裝置10可被應用於(但不限於)機器人50(顯示於圖15及圖17),諸如6軸機器人、可移動機器人等。其他適合用於在其上應用複合叉狀裝置10的機械或機器人係在本揭示內容的預期範疇內。第一叉指11及第二叉指12之每一者可朝遠離複合叉狀裝置10所連接的機械或機器人的方向延伸。在一些其他實施例中,第一叉指11及第二叉指12可彼此分隔開一固定的距離,且可互相平行地延伸。在某些實施例中,第一叉指11及第二叉指12可彼此隔開一範圍落在約90 mm至約140 mm之距離。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12可由金屬(諸如鋁等)製成。在某些實施例中,該金屬可進行陽極處理以增加第一叉指11及第二叉指12的耐久性。其他適合用於第一叉指11及第二叉指12的材料係在本揭示內容的預期範疇內。第一叉指11及第二叉指12之每一者具有上部表面13及相對於上部表面13呈凹陷的下部表面14。
圖7是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置10支持的圖1B所示的容器61。圖8A是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置10支持的容器62。圖8B是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置10支持的容器63。第一叉指11及第二叉指12的上部表面13被構型為協作地支持第一類型容器(例如,圖1A、圖1B及圖7所示的容器61,或不具頂部凸緣的其他適合的容器)。第一叉指11及第二叉指12的下部表面14被構型為協作地支持第二類型容器(例如,圖2及圖8A所示的容器62、圖3A及圖8B所示的容器63或具有頂部凸緣601的其他適合的容器)。第二類型容器62、63具有與第一類型容器61的構型不同的構型。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12可相對於第一叉指11及第二叉指12之間的中心線(CL,顯示於圖5)互相對稱。
圖9 一片段透視上視圖,其繪示藉由依據一些實施例的第一叉指11支持頂部凸緣601。圖10是一例示性透視側視圖,其繪示依據一些實施例的第二叉指12。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的上部表面13及下部表面14之間的高度差(H)可落在約1 mm至約5 cm的範圍,使得第二類型容器62、63的頂部凸緣601可被支持在下部表面14上且位在上部表面13(所示如圖8A、圖8B及圖9)之下。在某些實施例中,高度差(H)係大於頂部凸緣601的厚度。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的長度(L)可實質上與第一類型容器61的長度相同。在替代性實施例中,只要第一類型容器61可藉由第一叉指11及第二叉指12的上部表面13來支持,長度(L)可小於或大於第一類型容器61的長度。在一些實施例中,考慮到作用於例如圖15及圖17所示的機器人50上的轉矩(其會影響複合叉狀裝置10於支持及運輸容器的穩定性),第一叉指11及第二叉指12之每一者的長度(L)係不大於第一類型容器61的長度的約110%。下部表面14與在上部表面13及下部表面14之間連接的側壁15形成凹陷區域16。在一些實施例中,凹陷區域16的長度(L1)係大於頂部凸緣601的長度(參見圖9及圖10)。在一些實施例中,凹陷區域16的長度(L1)係第一叉指11及第二叉指12之每一者的長度(L)的約40%至約60%,使得第二類型容器62、63的頂部凸緣601可被支持在凹陷區域16中。在一些實施例中,下部表面14可被凹入以減少複合叉狀裝置10的重量。
圖11是一例示性上視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置10支持的第一類型容器61。如圖5、圖6、圖10及圖11所示,在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的上部表面13包括前支撐區域131及位在前支撐區域131後方的後支撐區域132。在一些實施例中,前支撐區域131位在下部表面14(亦即,凹陷區域16)前方,且後支撐區域132位在下部表面14(亦即,凹陷區域16)後方,從而允許第一類型容器61的四個部分分別被第一叉指11及第二叉指12的上部表面13的前支撐區域131及後支撐區域132支持。第一類型容器61的四個部分可為(但不限於)第一類型容器61的四個邊緣部分。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的上部表面13具有位在前支撐區域131之外的前安裝區域133,及位在後支撐區域132之外的後安裝區域134。在某些實施例中,加強件29(顯示於圖9及圖10)可被安裝成部分地覆蓋第一叉指11及第二叉指12的上部表面13之前安裝區域133及後安裝區域134之至少一者,從而機械性強化第一叉指11及/或第二叉指12。
在一些實施例中,如圖5及圖10所示,兩個上部導引單元21分別形成在第一叉指11及第二叉指12的上部表面13上,以導引第一類型容器61的兩側,從而允許第一類型容器61的四個部分被分別地移動至第一叉指11及第二叉指12的上部表面13的前支撐區域131及後支撐區域132上。在一些實施例中,如圖5所示,分別設置於第一叉指11及第二叉指12上的上部導引單元21可相對於中心線(CL)互相對稱。在一些實施例中,上部導引單元21之每一者包括至少兩個上部導引塊體211,其被分別設置在第一叉指11及第二叉指12的各別者的前安裝區域133及後安裝區域134上。在替代性實施例中,上部導引單元21之每一者可包括多於兩個上部導引塊體211。
在一些實施例中,如圖5及圖11所示,本揭示內容的複合叉狀裝置10可進一步包括至少兩個感測器23。感測器23用於檢驗及確保將第一類型容器61置放於複合叉狀裝置10上。藉由設置在複合叉狀裝置10上的感測器23,當第一類型容器61被複合叉狀裝置10支持時,可避免被傾斜或錯誤地定位。在一些實施例中,感測器23之一者被設置在上部導引單元21之一者的上部導引塊體211前方,且感測器23之另一者被設置在上部導引單元21之另一者的上部導引塊體211後方。在一些實施例中,感測器23可被置於(但不限於)形成在第一叉指11及第二叉指12中的凹部130(參見圖10及圖11),從而避免感測器23與第一類型容器61接觸。在替代性實施例中,兩個感測器23被設置在第一叉指11及第二叉指12之每一者上,而被分別位在上部導引單元21之各別者的上部導引塊體211前方及後方。感測器23之每一者可獨立地為壓力感測器、近接感測器、紅外線感測器、光感測器、超音波感測器、纖維感測器等或其組合。其他適合的感測器係在本揭示內容的預期範疇內。
在一些實施例中,感測器23係光感測器或紅外線感測器,且會發射波以感測物體(亦即容器)是否在預定位置/距離內。感測器23可包括塑膠材料。在一些實施例中,感測器23被設定成當容器61在距離感測器23之每一者約1 mm時,觸發一用於複合叉狀裝置10的響應以進行操作。
圖12 一例示性上視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置10支持的頂部凸緣601。
如圖5及圖12所示,在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的下部表面14具有內部支撐區域141及位在內部支撐區域141之外的外部安裝區域142。第一叉指11及第二叉指12之內部支撐區域141被定位以協作地支持第二類型容器62、63之頂部凸緣601。在一些實施例中,兩個下部導引單元22係分別形成在第一叉指11及第二叉指12的外部安裝區域142上,從而導引第二類型容器62、63之頂部凸緣601之兩側(亦參見圖8A及圖8B)以分別移動至第一叉指11及第二叉指12之內部支撐區域141上。在一些實施例中,如圖5所示,被分別設置在第一叉指11及第二叉指12上的下部導引單元22可相對於中心線(CL)互相對稱。在一些實施例中,下部導引單元22之每一者包括至少兩個下部導引塊體221,下部導引塊體221係彼此分隔開且被設置在第一叉指11及第二叉指12的各別者的外部安裝區域142上。在替代性實施例中,下部導引單元22之每一者可包括多於兩個下部導引塊體221。在一些實施例中,下部導引塊體221及第一叉指11及第二叉指12的各別者係整體形成的。在替代性實施例中,下部導引塊體221可被部分地且分別地插入至第一叉指11及第二叉指12的各別者的下部表面14的凹部(未圖示)中。在一些實施例中,如圖9及圖10所示,下部導引塊體221之每一者被設置成與第一叉指11及第二叉指12的各別者上的凹陷區域16的長度(L1)的中點偏移,或被設置避免與頂部凸緣601的對應側的中點契合。
圖13繪示一依據一些實施例的上部導引塊體211的一者的例示性透視圖。圖14繪示一依據一些實施例的下部導引塊體221的一者的例示性透視圖。
如圖5、圖6及圖13所示,在一些實施例中,兩個上部導引塊體211之每一者具有第一頂部表面212、底部表面215及上部導引表面213。上部導引單元21之一者的上部導引塊體211的上部導引表面213被設置成面對上部導引單元21之另一者的上部導引塊體211的上部導引表面213。上部導引表面213可自第一頂部表面212傾斜地且向下地延伸。在一些實施例中,上部導引塊體211之每一者的底部表面215的至少約三分之二與第一叉指11及第二叉指12的各別者的上部表面13接觸。在一些實施例中,第一頂部表面212與上部導引表面213之間的夾角(θ1)可落在約90˚至約135˚的範圍。在一些實施例中,上部導引表面213與第一叉指11及第二叉指12之對應一者的上部表面13之間的夾角(θ2)可不小於約45˚且小於約90˚。藉由將夾角(θ2)配置在前述範圍中(及選擇性地將夾角(θ1)配置在前述範圍中),第一類型容器61可被上部導引塊體211平滑地導引。當夾角(θ2)小於約45˚時,第一類型容器61可能無法被上部導引塊體211導引而移動至前支撐區域131及後支撐區域132上。當夾角(θ2)不小於約90˚時,第一類型容器61可能無法被上部導引塊體211導引,且可能會直接掉落至前支撐區域131及後支撐區域132,其會使容納於第一類型容器61之中的製品(例如,半導體裝置)損壞。在一些實施例中,上部導引塊體211之每一者進一步具有上部平坦表面214,其自上部導引表面213向下地延伸至第一叉指11及第二叉指12之對應一者的上部表面13,使得上部平坦表面214被配置成實質上垂直於第一叉指11及第二叉指12之對應一者的上部表面13。上部平坦表面214被構型成使得,當第一類型容器61被支持時,第一類型容器61不會傾斜且被均衡地安置在第一叉指11及第二叉指12的上部表面13的前支撐區域131及後支撐區域132上。在一些實施例中,上部導引塊體211之每一者在垂直於相應的上部表面13的方向上具有塊體高度(H Gu)及平坦表面尺寸(D fu)(亦即,上部平坦表面214在垂直於相應的上部表面13的方向上的尺寸)。平坦表面尺寸(D fu)係不小於約1 mm且不大於塊體高度(H Gu)的大約一半。在一些實施例中,上部導引塊體211可由金屬(諸如鋁等)製成。金屬可進行陽極處理以增加耐久性。其他適合用於上部導引塊體211的材料係在本揭示內容的預期範疇內。
如圖5及圖14所示,下部導引塊體221之每一者具有第二頂部表面222及下部導引表面223。下部導引單元22之一者的下部導引塊體221的下部導引表面223被設置成面對下部導引單元22之另一者的下部導引塊體221的下部導引表面223。下部導引表面223可自第二頂部表面222傾斜地且向下地延伸。在一些實施例中,第二頂部表面222與下部導引表面223之間的夾角(θ3)可落在約90˚至約135˚的範圍內,且可相同於或不同於圖13所示的上部導引塊體211之每一者的夾角(θ1)。在一些實施例中,下部導引表面223與第一叉指11及第二叉指12之對應一者的下部表面14之間的夾角(θ4)可不小於約45˚且小於約90˚,且可相同於或不同於圖13所示的上部導引塊體211之每一者的夾角(θ2)。藉由將夾角(θ4)配置在前述範圍中(及選擇性地將夾角(θ3)配置在前述範圍中),第二類型容器62、63可被下部導引塊體221平滑地導引。當夾角(θ4)小於約45˚時,第二類型容器62、63可能不會被下部導引塊體221導引以移動至第一叉指11及第二叉指12的內部支撐區域141上。當夾角(θ4)係不小於約90˚時,第一類型容器62、63可能不會被下部導引塊體221導引,且可能會直接掉落至內部支撐區域141,其會使容納於第二類型容器62、63之中的製品(例如,半導體裝置)損壞。在一些實施例中,下部導引塊體221之每一者進一步具有下部平坦表面224,其自下部導引表面223向下地延伸至第一叉指11及第二叉指12之對應一者的下部表面14,使得下部平坦表面224被配置成實質上垂直於第一叉指11及第二叉指12之對應一者的下部表面14。下部平坦表面224被構型成使得,當第二類型容器62、63被支持時,第二類型容器62、63的頂部凸緣601不會被傾斜且會被均衡地安置在下部表面14的內部支撐區域141上。在一些實施例中,下部導引塊體221之每一者在垂直於相應的下部表面14的方向上具有塊體高度(H Gl)以及平坦表面尺寸(D fl)(亦即,下部平坦表面224在垂直於相應的下部表面14的方向上的尺寸)。塊體高度(H Gl)係不大於第一叉指11及第二叉指12之每一者的上部表面13及下部表面14之間的高度差(H),以避免下部導引塊體221與第一類型容器61(亦參見圖7及10)接觸。平坦表面尺寸(D fl)係不小於約1 mm且不大於塊體高度(H Gl)的大約一半。在一些實施例中,下部導引塊體221可由金屬(諸如鋁等)製成。金屬可進行陽極處理以增加耐久性。其他適合用於下部導引塊體221的材料係在本揭示內容的預期範疇內。
在一些實施例中,感測器(未圖示)可被提供以偵測頂部凸緣601是否被均衡地安置在下部表面14的內部支撐區域141。感測器之每一者可獨立地為壓力感測器、近接感測器、紅外線感測器、光感測器、超音波感測器、纖維感測器等,或其組合。其他適合的感測器係在本揭示內容的預期範疇內。
如圖13及圖14所示,在一些實施例中,上部導引塊體211及下部導引塊體221之每一者的厚度(T G)可落在約5 mm至約15 mm的範圍內,且上部導引塊體211之每一者的厚度(T G)可相同於或不同於下部導引塊體221之每一者的厚度(T G)。在一些實施例中,上部導引塊體211之每一者的寬度(W Gu)可落在約15 mm至約30 mm的範圍內。在一些實施例中,下部導引塊體221之每一者的寬度(W Gl)並不大於上部導引塊體211之每一者的寬度(W Gu)。在一些其他實施例中,下部導引塊體221之每一者的寬度(W Gl)可為上部導引塊體211之每一者的寬度(W Gu)之約30%至約70%。
如圖5、圖10及圖12所示,在一些實施例中,兩個定位單元24被分別安裝在第一叉指11及第二叉指12的下部表面14上。兩個定位單元24被構型為當頂部凸緣601被第一叉指11及第二叉指12的下部表面14支持時定位頂部凸緣601。在一些實施例中,定位單元24之每一者包括兩個主要定位銷241,其一者位在下部導引單元22的兩側的各別者的下部導引塊體221前方,且其另一者位在下部導引單元22的各別者的下部導引塊體221後方,使得在頂部凸緣601的兩側分別地移動至第一叉指11及第二叉指12之內部支撐區域141時,頂部凸緣601的兩側之每一者可分別位在定位單元24的各別者的兩個主要定位銷241之間。定位單元24的主要定位銷241可分別位在頂部凸緣601的四個邊緣之外,從而定位頂部凸緣601。在一些實施例中,頂部凸緣601的四個邊緣係傾斜邊緣。當頂部凸緣601被支持在第一叉指11及第二叉指12之間時,主要定位銷241可分別被帶入與傾斜邊緣抵接契合。主要定位銷241可為圓柱形,但不限於此。主要定位銷241可由金屬(諸如鋁等)製成。金屬可進行陽極處理以增加主要定位銷241的耐久性。其他適合用於主要定位銷241的材料及/或構型係在本揭示內容的預期範疇內。
在一些實施例中,定位單元24之每一者可進一步包括輔助定位銷242,其係位在兩個主要定位銷241之間以及在下部導引單元22的各別者的下部導引塊體221之間,且其被構型為在頂部凸緣601的兩側分別地移動至第一叉指11及第二叉指12的內部支撐區域141上時,與頂部凸緣601的兩側的各別者契合。輔助定位銷242可為圓柱形,但不限於此。輔助定位銷242可由金屬(諸如鋁等)製成。金屬可進行陽極處理以增加輔助定位銷242的耐久性。其他適合用於輔助定位銷242的材料及/或構型係在本揭示內容的預期範疇內。在一些實施例中,輔助定位銷242具有小於主要定位銷241的尺寸之尺寸。在一些實施例中,主要定位銷241及輔助定位銷242之每一者具有相較於下部表面14的高度,其不大於頂部凸緣601的厚度,使得主要定位銷241及輔助定位銷242之每一者可避免與圖7所示的第一類型容器61接觸。
在一些實施例中,如圖5所示,上部表面13及下部表面14係協作地組配以使得頂部凸緣601的重心(G2,參見圖12)在Z方向上沿著一軸線與第一類型容器61的重心(G1,參見圖11)重合。Z方向係垂直於第一叉指11及第二叉指12之每一者的上部表面13及下部表面14兩者而延伸。
在一些實施例中,如圖4及圖5所示,複合叉狀裝置10可進一步包括後框架25。第一叉指11及第二叉指12之每一者的後端被安裝至後框架25。在一些實施例中,第一叉指11及第二叉指12之每一者的後端可經由螺釘(未圖示)被安裝至後框架25的下部部分。其他適合的工具及/或方法可被使用於將第一叉指11及第二叉指12安裝至後框架25。在某些實施例中,後框架25可被穿孔及/或凹入以減少複合叉狀裝置10的重量。在一些實施例中,兩個連結件26可被進一步包括在複合叉狀裝置10之中。兩個連結件26經構型以穩定複合叉狀裝置10的結構。兩個連結件26之每一者將後框架25的上部部分與第一叉指11及第二叉指12的各別者互相連接,從而與後框架25與第一叉指11及第二叉指12的各別者形成三角形結構。將連結件26緊固至第一叉指11及第二叉指12以及後框架25可使用例如螺釘(未圖示)來執行。其他適合的工具及/或方法可被使用於緊固。在一些實施例中,複合叉狀裝置10可進一步包括被安裝在後框架25後側的安裝件27。安裝件27可被構型為允許機器人50(顯示於圖15及圖17)被耦合至複合叉狀裝置10。安裝件27可包括設置於其上的凸緣271,其經構型以附接機器人50。在一些實施例中,安裝件27可被穿孔及/或凹入以減少其重量。
如圖4、圖5及圖7所示,在一些實施例中,複合叉狀裝置10可進一步包括輔助支持單元28,其係被構型為確保第一類型容器61被正確且穩定地支持在第一叉指11及第二叉指12上。輔助支持單元28可包括流體致動缸281、兩個致動板282、設置在流體致動缸281以及致動板282之每一者之間的多個致動桿283,及被分別連接至致動板282的兩個側框架284。在一些實施例中,流體致動缸281可經由例如(但不限於)螺釘(未圖示)被緊固至後框架25的上部部分。其他適合的方法及/或工具可被用於緊固流體致動缸281。在一些實施例中,側框架284之每一者可位在第一叉指11及第二叉指12的各別者的凹陷區域16後方(亦參見圖10)。在某些實施例中,側框架284之每一者位在上部導引單元21之各別者的上方。流體致動缸281可為雙動氣壓缸(double-acting pneumatic cylinder)、雙衝程氣壓缸(double stroke pneumatic cylinder)等。其他適合用於作為流體致動缸281的裝置係在本揭示內容的預期範疇內。在一些實施例中,當第一類型容器61被良好地支持以允許感測器23傳輸訊號至輔助支持單元28時,會觸發流體致動缸281以減少流體致動缸281與致動板282之每一者之間的距離。因此,側框架284會朝向彼此移動,以將第一類型容器61的後部分支持在其間。在一些實施例中,側框架284之每一者可被穿孔及/或凹入以減少複合叉狀裝置10的重量。
在替代性實施例中,額外特徵件可被加入至複合叉狀裝置10。在另外的替代性實施例中,在不違背本揭示內容的精神及範疇的情況下,複合叉狀裝置10中的一些特徵件可被修改、替換或剔除。
圖15是一依據一些實施例的用於積體電路製程的系統的透視視圖。該系統包括複合載入口工作台30、處理工具41、機器人50及複合叉狀裝置10。複合載入口工作台30被構型為允許負載第一類型容器61或第二類型容器62、63。機器人50位在複合載入口工作台30及處理工具41之間。複合叉狀裝置10被耦合以被機器人50驅動,且被構型為選擇性地支持第一類型容器61或第二類型容器62、63,從而允許機器人50從複合載入口工作台30選擇性地將第一類型容器61或第二類型容器62、63運輸至處理工具41的入口載入口411。在一些實施例中,複合載入口工作台30可包括外部載入口位置311、312、313、314、315、316之至少一者及內部載入口位置301、302、303、304、305、306之至少一者,且複合載入口工作台30可被構型為從自動物料搬運系統(AMHS)接收第二類型容器62、63或允許第二類型容器62、63移動回AMHS。由於上文已敘述AMHS之範例,故為簡潔起見省略其細節。
在一些實施例中,處理工具41係加熱工具,且接收自AMHS第二類型容器係托盤匣型容器62(參見圖2),其中係容納第一類型容器61。圖16是一流程圖,其繪示依據一些實施例的運輸方法。當圖1A或1B所示的第一類型容器61內部的半導體裝置被運輸以被處理工具41處理時,可使用圖16所示的運輸方法100。
參照圖15及圖16,運輸方法100可包括步驟101至108。在步驟101中,將從AMHS卸載的第二類型容器(例如但不限於圖2所示的托盤匣型容器62)負載於外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者上。在步驟102中,使用致動裝置(未圖示)使自外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者上的第二類型容器62分離的第一類型容器61(例如但不限於圖1A或1B所示的容器)移動至內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者。在步驟103中,致動機器人50以使用複合叉狀裝置10來支持第一類型容器61,直到第一類型容器61被複合叉狀裝置10良好地支持為止。在步驟104中,致動機器人50以將第一類型容器61運輸至處理工具41,直到第一類型容器61底部部分被置於處理工具41的入口載入口411上為止。在步驟105中,使第一類型容器61脫離複合叉狀裝置。在步驟106中,在第一類型容器61中的半導體裝置被處理預定的時間週期後,進一步致動機器人50以使用複合叉狀裝置10來使第一類型容器61移動回內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者。在步驟107中,使用致動裝置使第一類型容器61進一步移動回外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者上的第二類型容器62。在步驟108中,將第二類型容器62負載回AMHS。
在替代性實施例中,在不違背本揭示內容的精神及範疇的情況下,運輸方法100中的一些步驟可被修改、替換或剔除。在另外的替代性實施例中,額外步驟可被加入至運輸方法100。
在一些實施例中,機器人50的致動可使用電腦裝置(未圖示)來控制。具體而言,當感測器(未圖示)偵測到第一類型容器61被移動至內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者時,致動機器人50而允許第一類型容器61被複合叉狀裝置10支持。當感測器23(參見圖5)偵測到第一類型容器61被良好地支持時,致動機器人50以將第一類型容器61運輸至處理工具41。在預定的時間週期之後,進一步致動機器人50以使用複合叉狀裝置10來使第一類型容器61移動回內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者。電腦裝置可為可程式化邏輯控制器(PLC),或其他適合的裝置。
在一些實施例中,內部載入口位置301、302、303、304、305、306及外部載入口位置311、312、313、314、315、316皆在機器人50的工作包封中。在其他實施例中,外部載入口位置311、312、313、314、315、316可不在機器人50的工作包封(work envelope)中。在替代性實施例中,可從第二類型容器62手動移除第一類型容器61,且將第一類型容器61手動移動回第二類型容器62。機器人50可為關節型機器人。在一些實施例中,加熱工具41可將第一類型容器61加熱至範圍落在約攝氏100°C至300°C的範圍內的溫度,或可落在約120°C至約180°C的範圍內的溫度,使得可處理容納於第一類型容器61中的半導體裝置。在一些實施例中,入口載入口411可為可移動啟動平台(mobile launch platform)。
圖17是一依據一些實施例的用於積體電路製程的系統的透視視圖。除了在圖17中,處理工具42是一非加熱工具,且系統係用於運輸第二類型容器62(參見圖2)之外,該圖17所示的系統係相似於圖15所示的系統。在一些實施例中,圖17所示的系統也可用於運輸圖3A所示的第二類型容器63。在一些實施例中,處理工具42可為例如(但不限於)檢驗工具,且可為其他適合的處理工具。在一些實施例中,處理工具42的入口載入口421可為可移動啟動平台。
圖18是一流程圖,其繪示依據一些實施例的運輸方法。當第二類型容器62、63(亦參見圖2及圖3A)中的半導體裝置被運輸以被處理工具42處理時,可使用圖18所示的運輸方法200。
參照圖17及圖18,運輸方法200可包括步驟201至208。在步驟201中,將卸載自AMHS的第二類型容器(例如但不限於圖2所示的托盤匣型容器62、圖3A所示的倉匣型容器63或具有頂部凸緣的任何其他容器)負載於外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者上。在步驟202中,使用致動裝置(未圖示)使外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者上的第二類型容器62、63移動至內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者上。在步驟203中,致動機器人50以使用複合叉狀裝置10來支持第二類型容器62、63,直到第二類型容器62、63被複合叉狀裝置10良好地支持為止。在步驟204中,致動機器人50來將第二類型容器62、63運輸至處理工具42,直到第二類型容器62、63的底部部分被置於處理工具42的入口載入口421上為止。請注意的是,縱使圖17所示的容器為容器62,但圖3A所示的容器63或任何具有頂部凸緣的其他容器可被使用於方法200中。在步驟205中,使第二類型容器62、63脫離複合叉狀裝置。在步驟206中,在使用處理工具42處理及/或檢測第二類型容器62、63中的半導體裝置之後,進一步致動機器人50以使用複合叉狀裝置10來使第二類型容器62、63移動回內部載入口位置301、302、303、304、305、306之對應一者。在步驟207中,使用致動裝置使第二類型容器62、63進一步移動回外部載入口位置311、312、313、314、315、316之選定一者。在步驟208中,將第二類型容器62、63負載回AMHS。
在替代性實施例中,在不違背本揭示內容的精神及範疇的情況下,運輸方法200中的一些步驟可被修改、替換或剔除。在另外的替代性實施例中,額外步驟可被加入至運輸方法200。
本揭示內容之複合叉狀裝置10可用於製造以下各種製品的製程,諸如但不限於InFO(整合式扇出)、CoWoS(基板上晶圓上晶片)、SOIC(系統整合晶片)、未來凸塊/封裝製品,或其他適合的製品。
本揭示內容的實施例具有以下有利的特徵。藉由在複合叉狀裝置的第一叉指及第二叉指之每一者上形成上部表面及下部表面,複合叉狀裝置可傳載且遞送多個不同容器,其可在半導體製程期間增加運輸程序的效率,而不須利用對應至不同容器的各種承載裝置。此外,藉由將上部導引單元及下部導引單元、感測器及定位單元加入至複合叉狀裝置,可確保被支持在第一叉指及第二叉指之上的容器的定位是均衡及穩定的,從而避免容器傾斜,其可能會損壞被容納於容器內部的製品或半導體裝置。再者,藉由在複合叉狀裝置中包括輔助支持單元,可進一步提升運輸程序的穩定性。
依據本揭示內容之一些實施例,提供一種複合叉狀裝置,其包括一第一叉指及一與第一叉指分隔開的第二叉指。該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相較於上部表面呈凹陷的下部表面。該第一叉指及該第二叉指的上部表面被構型為協作地支持一第一類型容器。該第一叉指及該第二叉指的下部表面被構型為協作地支持一第二類型容器,該第二類型容器具有與該第一類型容器的構型不同的構型。
依據本揭示內容之一些實施例,該第一叉指及該第二叉指之每一者的該上部表面及該下部表面之間的一高度差落於1 mm至5 cm的範圍內。
依據本揭示內容之一些實施例,該第一叉指及該第二叉指之每一者的該上部表面包括一位在該下部表面前方的前支撐區域及一位在該下部表面後方的後支撐區域,從而允許該第一類型容器的四個部分分別被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面的該前支撐區域及該後支撐區域支持。
依據本揭示內容之一些實施例,該第一叉指及該第二叉指之每一者的該上部表面具有一位在該前支撐區域之外的前安裝區域及一位在該後支撐區域之外的後安裝區域。該第一叉指及該第二叉指之每一者的該下部表面具有一內部支撐區域及一位在該內部支撐區域之外的外部安裝區域。該第一叉指及該第二叉指之該內部支撐區域被定位以協作地支持該第二類型容器之一頂部凸緣。
依據本揭示內容之一些實施例,該複合叉狀裝置進一步包括兩個上部導引單元及兩個下部導引單元。該兩個上部導引單元分別形成在該第一叉指及該第二叉指的該上部表面上以導引該第一類型容器的兩側,從而允許該第一類型容器的該四個部分分別被移動至該第一叉指及該第二叉指的該上部表面的該前支撐區域及該後支撐區域上。該兩個下部導引單元分別形成在該第一叉指及該第二叉指的該外部安裝區域上,從而導引該第二類型容器的該頂部凸緣的兩側以分別移動至該第一叉指及該第二叉指的該內部支撐區域上。
依據本揭示內容之一些實施例,該第一叉指及該第二叉指係互相對稱。分別設置在該第一叉指及該第二叉指的該上部導引單元係互相對稱。分別設置在該第一叉指及該第二叉指上的該下部導引單元係互相對稱。
依據本揭示內容之一些實施例,該上部導引單元之每一者包括兩個上部導引塊體,其被分別設置在該第一叉指及該第二叉指的各別者的該前安裝區域及該後安裝區域上。該上部導引塊體之每一者具有一上部導引表面。該上部導引單元之一者的該上部導引塊體的該上部導引表面被設置成面對該上部導引單元之另一者的該上部導引塊體的該上部導引表面。該下部導引單元之每一者包括兩個下部導引塊體,其係彼此分隔開且被設置在該第一叉指及該第二叉指的各別者的該外部安裝區域上。該下部導引塊體之每一者具有一下部導引表面。該下部導引單元之一者的該下部導引塊體的該下部導引表面被設置成面對該下部導引單元之另一者的該下部導引塊體的該下部導引表面。
依據本揭示內容之一些實施例,在該上部導引表面與該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該上部表面之間的夾角係不小於45˚且小於90˚,且在該下部導引表面與該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該下部表面之間的夾角係不小於45˚且小於90˚。
依據本揭示內容之一些實施例,該上部導引塊體之每一者進一步具有一上部平坦表面,其自該上部導引表面向下地延伸至該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該上部表面,使得該上部平坦表面被配置成垂直於該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該上部表面。該下部導引塊體之每一者進一步具有一下部平坦表面,其自該下部導引表面向下地延伸至該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該下部表面,使得該下部平坦表面被配置成垂直於該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該下部表面。
依據本揭示內容之一些實施例,複合叉狀裝置進一步包括兩個感測器。該兩個感測器之一者被設置在該上部導引單元之一者的該上部導引塊體前方,且該兩個感測器之另一者被設置在該上部導引單元之另一者的該上部導引塊體後方。
依據本揭示內容之一些實施例,該複合叉狀裝置進一步包括兩個定位單元,其係分別被安裝在該第一叉指及該第二叉指的該下部表面,且其被構型為當該頂部凸緣在被該第一叉指及該第二叉指的該下部表面支持時定位該頂部凸緣。
依據本揭示內容之一些實施例,該定位單元之每一者包括兩個主要定位銷。該兩個主要定位銷之一者位在該下部導引單元的各別者的該下部導引塊體前方,且該兩個主要定位銷之另一者位在該下部導引單元的各別者的該下部導引塊體後方,使得在該頂部凸緣的兩側分別移動至該第一叉指及該第二叉指的該內部支撐區域時,該定位單元的該主要定位銷分別位在該頂部凸緣的該四個邊緣外,從而定位該頂部凸緣。
依據本揭示內容之一些實施例,該定位單元之每一者進一步包括一輔助定位銷,其係位在該下部導引單元的各別者的該下部導引塊體之間,且其被構型為在該頂部凸緣的兩側分別地移動至該第一叉指及該第二叉指的該內部支撐區域上時,與該頂部凸緣的兩側的各別者契合。
依據本揭示內容之一些實施例,提供一種系統,其包括一複合載入口工作台、一處理工具、一機器人及一複合叉狀裝置。該複合載入口工作台被構型為允許負載一第一類型容器或一具有與該第一類型容器的構型不同的構型的第二類型容器。該機器人係定位在該複合載入口工作台及該處理工具之間。該複合叉狀裝置經耦合而可被該機器人驅動,且被構型為選擇性地支持該第一類型容器或該第二類型容器,從而允許該機器人選擇性地將該第一類型容器或該第二類型容器自該複合載入口工作台運輸至該處理工具的一入口載入口。該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一與第一叉指分隔開的第二叉指。該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面。該第一叉指及該第二叉指的該上部表面被構型為協作地支持該第一類型容器。該第一叉指及該第二叉指的該下部表面被構型為協作地支持該第二類型容器。
依據本揭示內容之一些實施例,該複合叉狀裝置進一步包括一後框架。該第一叉指及該第二叉指之每一者的後端係被安裝至該後框架的一下部部分。
依據本揭示內容之一些實施例,該複合叉狀裝置進一步包括兩個連結件,其每一者將該後框架的一上部部分與該第一叉指及該第二叉指的各別者互相連接。
依據本揭示內容之一些實施例,該複合叉狀裝置進一步包括一被安裝在該後框架的後側的安裝件,且其被構型為允許該機器人經由安裝而被耦合至該複合叉狀裝置。
依據本揭示內容之一些實施例,提供一種方法,其包括:將一容器置於一複合載入口工作台;使用一複合叉狀裝置支持該容器,該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,以使得該容器被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面或該下部表面支持;使用該複合叉狀裝置將該容器運輸至一處理工具,使得該容器的一底部部分被置於該處理工具的一入口載入口;及使該容器脫離該複合叉狀裝置。
依據本揭示內容之一些實施例,該容器的兩側係被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面支持。
依據本揭示內容之一些實施例,該容器的一頂部凸緣的兩側係被該第一叉指及該第二叉指的該下部表面支持。
上文概述若干實施例之特徵,使得熟習此技藝者可更佳地理解本揭示內容的各個面向。熟習此技藝者應可理解到,他們可輕易地以本揭示內容作為基礎來設計或修改以用於執行與本文介紹的實施例具有相同目的及/或實現相同優點的其他製程或結構。熟習此技藝者也應可理解到,此類等效的構造並無悖離本揭示內容的精神和範疇,且他們能在不違背本揭示內容的精神和範疇的情況下,做各式各樣的修改、取代和替換。
10:複合叉狀裝置 11:第一叉指 12:第二叉指 13:上部表面 14:下部表面 15:側壁 16:凹陷區域 21:上部導引單元 22:下部導引單元 23:感測器 24:定位單元 25:後框架 26:連結件 27:安裝件 28:輔助支持單元 29:加強件 30:複合載入口工作台 41:處理工具,加熱工具 42:處理工具 50:機器人 61,62, 63:容器 64:容槽 100,200:運輸方法 101,102,103,104,105,106,107,108,201,202,203,204,205,206,207,208:步驟 130:凹部 131:前支撐區域 132:後支撐區域 133:前安裝區域 134:後安裝區域 141:內部支撐區域 142:外部安裝區域 211:上部導引塊體 212:第一頂部表面 213:上部導引表面 221:下部導引塊體 222:第二頂部表面 223:下部導引表面 224:下部平坦表面 241:主要定位銷 242:輔助定位銷 271:凸緣 281:流體致動缸 282:致動板 283:致動桿 284:側框架 301,302,303,304,305,306:內部載入口位置 311,312,313,314,315,316:外部載入口位置 411,421:入口載入口 601:頂部凸緣 621,631:容器主體 632:導引槽 AMHS:自動物料搬運系統 CL:中心線 D fu,D fl:平坦表面尺寸 G1,G2:重心 H:高度差 H Gu,H Gl:塊體高度 L,L1:長度 T G:厚度 W Gu,W Gl:寬度 Z:方向 θ1,θ2,θ3,θ4:夾角
當結合附圖閱讀時可從以下詳細描述來最佳地理解本揭示內容之各方面。值得注意的是,遵循業界標準作法,各種特徵件並未按照比例繪製。事實上,為了能清楚論述,各特徵件的尺寸可能任意放大或縮小。
圖1A是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的容器。
圖1B是一包括依據一些實施例的圖1A所示的容器的堆疊的容器的例示性透視圖。
圖2是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的另一個容器。
圖3A是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的又另一個容器。
圖3B是一依據一些實施例的容槽的例示性透視圖。
圖4是一例示性透視圖,其繪示依據一些實施例的複合叉狀裝置。
圖5是一依據一些實施例的複合叉狀裝置的片段透視前視圖。
圖6是一依據一些實施例的複合叉狀裝置的上視圖。
圖7是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置支持的圖1B所示的容器。
圖8A是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置支持的圖2所示的容器。
圖8B是一例示性透視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置支持的圖3A所示的容器。
圖9是一片段透視上視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置的第一叉指來支持的頂部凸緣。
圖10是一例示性透視側視圖,其繪示依據一些實施例的複合叉狀裝置的第二叉指。
圖11是一圖7的例示性上視圖。
圖12是一例示性上視圖,其繪示藉由依據一些實施例的複合叉狀裝置支持的頂部凸緣。
圖13繪示一依據一些實施例的複合叉狀裝置的上部導引塊體之一者的例示性透視圖。
圖14繪示一依據一些實施例的複合叉狀裝置的下部導引塊體之一者的例示性透視圖。
圖15是一透視視圖,其繪示被用於運輸依據一些實施例的圖1B所示的容器的系統中的複合叉狀裝置。
圖16是一流程圖,其繪示用於依據一些實施例的圖15所示的系統的運輸方法。
圖17是一透視視圖,其繪示被用於運輸依據一些實施例的圖2所示的容器的系統中的複合叉狀裝置。
圖18是一流程圖,其繪示用於依據一些實施例的圖17所示的系統的運輸方法。
10:複合叉狀裝置
11:第一叉指
12:第二叉指
13:上部表面
14:下部表面
25:後框架
26:連結件
27:安裝件
28:輔助支持單元
271:凸緣
281:流體致動缸
282:致動板
283:致動桿
284:側框架

Claims (10)

  1. 一種複合叉狀裝置,包含:一第一叉指及一與該第一叉指分隔開的第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,該第一叉指及該第二叉指的該上部表面被構型為協作地支持一第一類型容器,該第一叉指及該第二叉指之該下部表面被構型為協作地支持一第二類型容器,該第二類型容器具有一與該第一類型容器的一構型不同的構型。
  2. 如請求項1之複合叉狀裝置,其中該第一叉指及該第二叉指之每一者之該上部表面及該下部表面的一高度差落在1mm至5cm的範圍內。
  3. 如請求項1之複合叉狀裝置,其中該第一叉指及該第二叉指之每一者的該上部表面包括一位在該下部表面前方的前支撐區域及一位在該下部表面後方的後支撐區域,從而允許該第一類型容器的四個部分分別被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面的該前支撐區域及該後支撐區域支持。
  4. 如請求項3之複合叉狀裝置,其中:該第一叉指及該第二叉指之每一者之該上部表面具有一位在該前支撐區域之外的前安裝區域及一位在該後支撐區域之外的後安裝區域,且該第一叉指及該第二叉指之每一者之該下部表面具有一內部支撐區域及一位在該內部支撐區域之外的外部安裝區域,且該第一叉指及該第二叉指之該內部支撐區域被定位以協作地支持該第二類型容器之一頂部凸緣。
  5. 如請求項4之複合叉狀裝置,其進一步包含:兩個上部導引單元,其係分別形成在該第一叉指及該第二叉指的該上部表面上以導引該第一類型容器的兩側,從而允許該第一類型容器的該四個部分分別被移動至該第一叉指及該第二叉指的該上部表面的該前支撐區域及該後支撐區域上;及 兩個下部導引單元,其係分別形成在該第一叉指及該第二叉指的該外部安裝區域上,從而導引該第二類型容器的該頂部凸緣的兩側以分別移動至該第一叉指及該第二叉指的該內部支撐區域上。
  6. 如請求項5之複合叉狀裝置,其中該第一叉指及該第二叉指係互相對稱,分別設置在該第一叉指及該第二叉指上的該上部導引單元係互相對稱,且分別設置在該第一叉指及該第二叉指上的該下部導引單元係互相對稱。
  7. 如請求項5之複合叉狀裝置,其中:該上部導引單元之每一者包括兩個上部導引塊體,該上部導引塊體被分別設置在該第一叉指及該第二叉指的各別者的該前安裝區域及該後安裝區域上,該上部導引塊體之每一者具有一上部導引表面,該上部導引單元之一者的該上部導引塊體的該上部導引表面被設置成面對該上部導引單元之另一者的該上部導引塊體的該上部導引表面,且該下部導引單元之每一者包括兩個下部導引塊體,該下部導引塊體係彼此分隔開且被設置在該第一叉指及該第二叉指的各別者的該外部安裝區域上,該下部導引塊體之每一者具有一下部導引表面,該下部導引單元之一者的該下部導引塊體的該下部導引表面被設置成面對該下部導引單元之另一者的該下部導引塊體的該下部導引表面。
  8. 如請求項7之複合叉狀裝置,其中在該上部導引表面與該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該上部表面之間的一夾角係不小於45°且小於90°,且在該下部導引表面與該第一叉指及該第二叉指之對應一者的該下部表面之間的一夾角係不小於45°且小於90°。
  9. 一種包括複合叉狀裝置之系統,包含:一複合載入口工作台,其被構型為允許負載一第一類型容器或一第二類型容器,該第二類型容器具有一與該第一類型容器的一構型不同的構型; 一處理工具;一機器人,其定位在該複合載入口工作台及該處理工具之間;及一複合叉狀裝置,其經耦合而可被該機器人驅動,且被構型為選擇性地支持該第一類型容器或該第二類型容器,從而允許該機器人選擇性地將該第一類型容器或第二類型容器自該複合載入口工作台運輸至該處理工具的一入口載入口,該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一與該第一叉指分隔開的第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,該第一叉指及該第二叉指之該上部表面被構型為協作地支持該第一類型容器,該第一叉指及該第二叉指之該下部表面被構型為協作地支持該第二類型容器。
  10. 一種使用複合叉狀裝置之方法,包含:將一容器置於一複合載入口工作台上;使用一複合叉狀裝置支持該容器,該複合叉狀裝置包括一第一叉指及一第二叉指,該第一叉指及該第二叉指之每一者具有一上部表面及一相對於該上部表面呈凹陷的下部表面,以使得該容器被該第一叉指及該第二叉指的該上部表面或該下部表面支持;使用該複合叉狀裝置將該容器運輸至一處理工具,使得該容器的一底部部分被置於該處理工具的一入口載入口;及使該容器脫離該複合叉狀裝置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102653237B1 (ko) * 2023-08-30 2024-04-01 아신유니텍 (주) 칩 대차 이송용 agv 및 그에 의한 칩 대차 이송 시스템

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130051966A1 (en) * 2011-08-24 2013-02-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Loader for substrate storage container
US20180305125A1 (en) * 2017-04-24 2018-10-25 Ching Qing Guo Public Accessible Automated Robotic Warehouse for Mails, Parcels and Packages
US20190176339A1 (en) * 2017-12-11 2019-06-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Magazine transfer unit gripper
US20200126833A1 (en) * 2011-09-05 2020-04-23 Brooks Ccs Gmbh Container storage add-on for bare workpiece stocker
US20200161161A1 (en) * 2018-10-30 2020-05-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and methods for handling semiconductor part carriers

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6171984B2 (ja) * 2014-03-07 2017-08-02 株式会社ダイフク 物品支持装置
JP6052209B2 (ja) * 2014-03-11 2016-12-27 株式会社ダイフク 容器搬送設備

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130051966A1 (en) * 2011-08-24 2013-02-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Loader for substrate storage container
US20200126833A1 (en) * 2011-09-05 2020-04-23 Brooks Ccs Gmbh Container storage add-on for bare workpiece stocker
US20180305125A1 (en) * 2017-04-24 2018-10-25 Ching Qing Guo Public Accessible Automated Robotic Warehouse for Mails, Parcels and Packages
US20190176339A1 (en) * 2017-12-11 2019-06-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Magazine transfer unit gripper
US20200161161A1 (en) * 2018-10-30 2020-05-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and methods for handling semiconductor part carriers

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