TWI818309B - 透明觸控顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種透明觸控顯示裝置，包括：一裝置基板；一觸控電極；以及一路由線。該裝置基板可以包括一發光區域和一透射區域。該觸控電極可以設置在該裝置基板的該透射區域上。該路由線可以設置在該裝置基板的該發光區域和該透射區域外部。該觸控電極的透光率可以高於該路由線的透光率。因此，在透明觸控顯示裝置中，可以改善觸控偵測的可靠性。

Description

透明觸控顯示裝置
本發明涉及一種透明觸控顯示裝置，其中觸控電極和路由線設置在包含發光區域和透射區域的裝置基板上。
一般來說，諸如顯示器、電視、筆記型電腦和數位相機的電子裝置包括有用於實現影像的顯示裝置。例如，顯示裝置可以包括發光裝置。發光裝置可以發射顯示特定顏色的光。例如，發光裝置可以包括兩個電極之間的發光層。
在顯示裝置中，裝置基板可以包括：發光區域，其中設置發光裝置；以及透射區域，設置在發光區域外部。例如，顯示裝置可以是透明顯示裝置，當影像沒有實現時，該顯示裝置視為透明玻璃。透明顯示裝置可以偵測使用者及/或工具的觸控。例如，透明顯示裝置可以包括設置在裝置基板上的觸控電極和路由線。一般來說，觸控電極和路由線可以設置在發光區域和透射區域外部。
當為了精確偵測觸控而增加設置在發光區域和透射區域外部的觸控電極和路由線的數量時，透明顯示裝置的透光率可能會降低。此外，在透明顯示裝置中，可能會出現由於路由線的密度而導致的觸控信號失真。
因此，本發明涉及一種透明觸控顯示裝置，其基本上避免了由於先前技術的限制和缺點而產生的一個或多個問題。
本發明的一個目的是提供一種透明觸控顯示裝置，其中使透光率的降低最小化，並且精確偵測使用者及/或工具的觸控。
本發明的另一個目的是提供一種能夠提高觸控偵測的可靠性的透明觸控顯示裝置。
本發明的其他優點、目的和特徵將部分地在下文的描述中闡述，並且部分地對於所屬領域的通常知識者來說，在測試以下內容時將變得明顯，或者可以從本發明的實踐中得知。本發明的目的和其他優點，將透過本文的說明書和請求項，以及附圖中特別指出的結構來實現和達成。
為了實現這些目標和其他優點，並根據本發明的目的，如本文所體現和廣泛描述，本發明提供一種透明觸控顯示裝置，包括裝置基板。裝置基板可以包括發光區域和透射區域。發光裝置和封裝元件設置在裝置基板上。發光裝置設置在裝置基板的發光區域上。封裝元件覆蓋發光裝置。路由線和觸控電極設置在封裝元件上。路由線設置在發光區域和透射區域外部。觸控電極連接至路由線。觸控電極在透射區域上延伸。觸控電極具有比路由線高的透光率。
觸控電極可以設置在封裝元件上。
觸控絕緣層可以位於觸控電極與路由線之間。觸控電極可以通過觸控絕緣層中的觸控接觸孔電性連接至路由線。
濾色片和黑色矩陣可以設置在封裝元件上。濾色片可以與發光區域重疊。黑色矩陣可以與濾色片並排設置。黑色矩陣可以覆蓋路由線。黑色矩陣可以設置在發光區域和透射區域外部。
觸控電極可以包括氧化銦錫（ITO）和氧化銦鋅（IZO）的其中一。
觸控板可以設置在裝置基板上。觸控板可以與封裝元件間隔開。觸控板可以包括與路由線相同的材料。
路由線可以包括封裝元件上的第一導電層、以及位於第一導電層上的第二導電層。第一導電層的透光率可以高於第二導電層的透光率。
觸控線可以在發光區域與透射區域之間延伸。觸控線可以連接至路由線、與路由線重疊並與路由線平行延伸。
第二導電層可以具有高於第一導電層的導電性。
觸控電極可以包括與第一導電層相同的材料。
觸控電極可以設置在與路由線相同的層上。
在另一實施例中，透明觸控顯示裝置包括裝置基板。裝置基板可以包括發光區域和透射區域。發光裝置設置在裝置基板的發光區域上。複數個觸控電極並排設置在裝置基板的透射區域上。分別連接至觸控電極的複數條路由線設置在發光區域和透射區域外部。觸控電極中的每一個都由透明導電材料組成。此外，路由線具有比觸控電極低的電阻。
路由線可以包括金屬。
觸控電極中的每一個都包括網狀形狀的觸控圖案，其在第一方向和與第一方向不同的第二方向延伸。例如，第二方向可以垂直於第一方向。
觸控電極中的每一個都可以連接至在發光區域和透射區域外部的路由線的其中一條。
路由線可以由觸控絕緣層覆蓋。觸控電極可以設置在觸控絕緣層上。
覆蓋基板可以設置在發光裝置、觸控電極和路由線上。濾色片、黑色矩陣和覆蓋平坦層可以設置在朝向裝置基板的覆蓋基板的下表面上。濾色片可以與發光區域重疊。黑色矩陣可以與濾色片並排設置。黑色矩陣可以與路由線重疊。覆蓋平坦層可覆蓋濾色片和黑色矩陣。
發光裝置可以由上鈍化層覆蓋。覆蓋鈍化層可以設置在上鈍化層上。黏著層可以設置在上鈍化層與覆蓋鈍化層之間。路由線和觸控電極可以設置在覆蓋鈍化層與覆蓋平坦層之間。 【圖示簡單說明】
包含在發明說明書中的附圖是為了提供對本發明的進一步理解，這些附圖被併入並構成本說明書的一部分，附圖顯示本發明的實施例，並與描述一併用於解釋本發明的原理。在附圖之中： 圖1是示意性地示出根據本發明一實施例的透明觸控顯示裝置的視圖； 圖2是圖1中之K區域的放大圖； 圖3是沿圖2的I-I'線所截取的剖面圖； 圖4是沿圖2的II-II'線所截取的剖面圖；以及 圖5至圖8是示出根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置的剖面圖。
以下，與本發明的實施例的上述目的、技術設置和操作效果有關的細節將透過以下參照附圖的詳細描述而能清楚地理解，該附圖顯示本發明的一些實施例。在此，提供本發明的實施例是為了使本發明的技術精神能夠令人滿意地傳遞給所屬領域的通常知識者，因此，本發明可以其他形式體現，並且不限於以下描述的實施例。
此外，相同或極其相似的元件在整個說明書中可以用相同的參照編數來指定，並且在附圖中，為了方便起見，層和區域的長度和厚度可以被誇大。可以理解的是，當第一元件稱為「位於」第二元件「上」時，儘管第一元件可以設置在第二元件上，以便與第二元件相接，但第三元件可以插在第一元件與第二元件之間。
在此，諸如「第一」和「第二」等術語可以用於區分任何一個元件與另一個元件。然而，第一元件和第二元件可以根據所屬領域具有通常知識者的方便而任意命名，而不偏離本發明的技術精神。
本發明的說明書中使用的術語只是為了描述特定的實施例，而不是為了限制本發明的範圍。例如，以單數形式描述的元件旨在包括複數個元件，除非上下文明確指出。此外，在本發明的說明中，將進一步理解術語「包含」和「包括」具體說明存在所述特徵、整體、步驟、操作、元件、組件及/或其組合，但不排除存在或增加一個或複數個其他特徵、整體、步驟、操作、元件、組件及/或組合。
除非另有界定，本文使用的所有術語（包括技術和科學術語）具有與實施例所屬領域具有通常知識者通常理解的相同含義。將進一步理解，術語例如那些在常用字典中界定的術語，應解釋為具有與其在相關技術背景中的含義相一致的含義，並且不應解釋為理想化或過於正式的含義，除非在本文中明確如此界定。 （實施例）
圖1是示意性地示出根據本發明一實施例的透明觸控顯示裝置的視圖。圖2是圖1中之K區域的放大圖。圖3是沿圖2的I-I'線所截取的剖面圖。圖4是沿圖2的II-II'線所截取的剖面圖。
參照圖1至圖4，根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置可以包括：顯示面板DP；驅動部件DD、SD、TD及TC。驅動部件DD、SD、TD及TC可以向顯示面板DP提供各種信號以顯示影像。例如，驅動部件DD、SD、及TC可以包括：施加資料信號的資料驅動器DD；施加掃描信號的掃描驅動器SD；以及時序控制器TC。時序控制器TC可以將視訊數位資料和源時序控制信號（source timing control signal）施加到資料驅動器DD，並將時脈信號、重設時脈信號和啟動信號施加到掃描驅動器SD。
顯示面板DP可以產生提供給使用者的影像。例如，顯示面板DP可以包括至少一個發光裝置300，其設置在裝置基板100上。裝置基板100可以包括絕緣材料。例如，裝置基板100可以包括玻璃或塑膠。以下，發光裝置300可以描述為有機發光裝置作為本發明實施例的一示例，但本發明不限於此。例如，發光裝置300可以實現為無機發光裝置，例如微型發光二極體（micro-LED）或量子發光二極體（QLED）。
至少一個驅動電路可以設置在裝置基板100上。驅動電路可以電性連接至發光裝置300。驅動電路可以由施加到驅動部件DD、SD、TD及TC的信號控制。例如，驅動電路可以根據掃描信號向發光裝置300施加與資料信號相應的驅動電流。驅動電路可以包括至少一個薄膜電晶體200。例如，薄膜電晶體200可以包括：半導體圖案210；閘極絕緣層220；閘極電極230；層間絕緣層240；源極電極250；以及汲極電極260。
半導體圖案210可以包括半導體材料。例如，半導體圖案210可以包括非晶矽（a-Si）或多晶矽（poly-Si）。半導體圖案210可以是氧化物半導體。例如，半導體圖案210可以包括金屬氧化物，如氧化銦鎵鋅（IGZO）。半導體圖案210可以包括：源極區域；汲極區域；以及通道區域。通道區域可以設置在源極區域與汲極區域之間。源極區域和汲極區域可以具有比通道區域低的電阻。
閘極絕緣層220可以設置在半導體圖案210上。閘極絕緣層220可以延伸超過半導體圖案210。例如，半導體圖案210的側表面可以由閘極絕緣層220覆蓋。閘極絕緣層220可以包括絕緣材料。例如，閘極絕緣層220可以包括氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。閘極絕緣層220可以包括具有高介電係數的材料。例如，閘極絕緣層220可以包括高介電係數的材料，如氧化鉿（HfO）。閘極絕緣層220可以具有多層結構。
閘極電極230可以設置在閘極絕緣層220上。閘極電極230可以包括導電材料。例如，閘極電極230可以包括金屬，例如鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鉬（Mo）和鎢（W）。閘極電極230可以透過閘極絕緣層220與半導體圖案210絕緣。閘極電極230可以與半導體圖案210的通道區域重疊。例如，半導體圖案210的通道區域可以具有與施加到閘極電極230的電壓相對應的導電率。
層間絕緣層240可以設置在閘極電極230上。層間絕緣層240可以延伸超過閘極電極230。例如，閘極電極230的側表面可以由層間絕緣層240覆蓋。層間絕緣層240可以在閘極電極230外部與閘極絕緣層220直接相接。層間絕緣層240可以包括絕緣材料。例如，層間絕緣層240可以包括氧化矽（SiO）。
源極電極250可以設置在層間絕緣層240上。源極電極250可以包括導電材料。例如，源極電極250可以包括金屬，例如：鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鉬（Mo）和鎢（W）。源極電極250可以透過層間絕緣層240與閘極電極230絕緣。例如，源極電極250可以包括與閘極電極230不同的材料。源極電極250可以電性連接至半導體圖案210的源極區域。例如，閘極絕緣層220和層間絕緣層240可以包括部分地曝露半導體圖案210的源極區域的源極接觸孔。源極電極250可以包括與半導體圖案210的源極區域重疊的部分。例如，源極電極250可以在源極接觸孔中與半導體圖案210的源極區域直接相接。
汲極電極260可以設置在層間絕緣層240上。汲極電極260可以包括導電材料。例如，汲極電極260可以包括金屬，例如：鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鉬（Mo）和鎢（W）。汲極電極260可以透過層間絕緣層240與閘極電極230絕緣。例如，汲極電極260可以包括與閘極電極230不同的材料。汲極電極260可以包括與源極電極250相同的材料。汲極電極260可以電性連接至半導體圖案210的汲極區域。汲極電極260可以與源極電極250間隔開。例如，閘極絕緣層220和層間絕緣層240可以包括部分地曝露半導體圖案210的汲極區域的汲極接觸孔。汲極電極260可以包括與半導體圖案210的汲極區域重疊的部分。例如，汲極電極260可以在汲極接觸孔中與半導體圖案210的汲極區域直接相接。
第一緩衝層110可以設置在裝置基板100與驅動電路之間。第一緩衝層110可以防止在薄膜電晶體200的形成製程中由於裝置基板100導致的污染。例如，第一緩衝層110可以完全覆蓋朝向發光裝置300的裝置基板100的上表面。第一緩衝層110可以包括絕緣材料。例如，第一緩衝層110可以包括氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。第一緩衝層110可以具有多層結構。
阻光圖案115可以設置在裝置基板100與薄膜電晶體200之間。阻光圖案115可以防止薄膜電晶體200的特性由於外部光線而發生變化。例如，阻光圖案115可以包括與半導體圖案210重疊的部分。阻光圖案115可以包括能夠阻止光線或吸收光線的材料。例如，阻光圖案115可以包括金屬，如：鋁（Al）、銀（Ag）和銅（Cu）。阻光圖案115可以與半導體圖案210絕緣。例如，阻光圖案115可以設置在裝置基板100與第一緩衝層110之間。阻光圖案115可以與裝置基板100直接相接。
下鈍化層120可以設置在驅動電路上。下鈍化層120可以防止驅動電路由於外部衝擊和潮濕而損壞。例如，與裝置基板100相對的薄膜電晶體200的上表面可以由下鈍化層120覆蓋。下鈍化層120可以包括絕緣材料。例如，下鈍化層120可以包括無機絕緣材料，例如：氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。
下平坦層130可以設置在下鈍化層120上。下平坦層130可以消除由於驅動電路而產生的厚度差異。例如，朝向發光裝置300的下平坦層130的上表面可以是平坦的表面。下平坦層130可以包括絕緣材料。下平坦層130可以包括與下鈍化層120不同的材料。例如，下平坦層130可以包括有機絕緣材料。
發光裝置300可以設置在下平坦層130上。發光裝置300可以發射顯示特定顏色的光。例如，發光裝置300可以包括依序堆疊的第一電極310、發光層320和第二電極330。
第一電極310可以包括導電材料。第一電極310可以具有高反射率。例如，第一電極310可以包括金屬，例如：鋁（Al）和銀（Ag）。第一電極310可以具有多層結構。例如，第一電極310可以具有一種其中由金屬組成的反射電極設置在由諸如ITO和IZO的透明導電材料組成的透明電極之間的結構。
第一電極310可以電性連接至薄膜電晶體200。例如，下鈍化層120和下平坦層130可以包括部分地曝露薄膜電晶體200的汲極電極260的電極接觸孔。第一電極310可以包括與薄膜電晶體200的汲極電極260重疊的部分。例如，第一電極310可以通過電極接觸孔與薄膜電晶體200的汲極電極260直接相接。
發光層320可以產生具有對應於第一電極310與第二電極330之間的電壓差的亮度的光。例如，發光層320可以包括含有發光材料的發光材料層（EML）。發光材料可以包括：有機材料、無機材料或混合材料。例如，根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置可以是有機發光顯示裝置，包括由有機材料形成的發光材料層。發光層320可以具有多層結構。例如，發光層320可以進一步包括：電洞注入層（HIL）、電洞傳輸層（HTL）、電子傳輸層（ETL）、以及電子注入層（EIL）的至少其中之一。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以改善發光裝置300的發光效率。
第二電極330可以包括導電材料。第二電極330可以包括與第一電極310不同的材料。第二電極330可以具有高於第一電極310的透光率。例如，第二電極330可以是由透明導電材料組成的透明電極，例如：ITO和IZO。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，從發光層320產生的光可以發射通過第二電極330。
堤部絕緣層140可以設置在下平坦層130上。堤部絕緣層140可以包括絕緣材料。例如，堤部絕緣層140可以包括有機絕緣材料。堤部絕緣層140可以包括不同於下平坦層130的材料。堤部絕緣層140可以在裝置基板100上界定發光區域EA。例如，堤部絕緣層140可以覆蓋第一電極310的邊緣。發光裝置300的發光層320和第二電極330可以堆疊在由堤部絕緣層140曝露的第一電極310的一部分上。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以獨立地控制發光裝置300。
發光裝置300的第二電極330可以在堤部絕緣層140上延伸。例如，發光裝置300的第二電極330可以電性連接至相鄰的發光裝置300的第二電極330。例如，發光裝置300的第二電極330可以與相鄰的發光裝置300的第二電極330同時形成。堤部絕緣層140可以被第二電極330覆蓋。
封裝元件400可以設置在發光裝置300上。封裝元件400可以防止發光裝置300由於外部衝擊和潮濕而損壞。封裝元件400可以具有多層結構。例如，封裝元件400可以包括依序堆疊的第一封裝層410、第二封裝層420和第三封裝層430。第一封裝層410、第二封裝層420和第三封裝層430可以包括絕緣材料。第二封裝層420可以包括不同於第一封裝層410和第三封裝層430的材料。例如，第一封裝層410和第三封裝層430可以包括無機絕緣材料，而第二封裝層420可以包括有機絕緣材料。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以有效地防止由於外部衝擊和潮濕而導致的發光裝置300的損壞。
裝置基板100可以包括發光區域EA和透射區域TA。透射區域TA可以設置在發光區域EA的外部。外部光線可以通過透射區域TA。例如，當發光裝置300的影像沒有實現時，根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置可以視為透明玻璃。發光裝置300和驅動電路可以與裝置基板100的透射區域TA間隔開。例如，發光裝置300可以設置在裝置基板100的發光區域EA上。驅動電路的薄膜電晶體200可以設置在裝置基板100與發光裝置300之間。因此，在透明觸控顯示裝置中，可以防止由於發光裝置300和驅動電路而導致的透光率下降。
至少一個封裝堤壩106可以設置在裝置基板100上。封裝堤壩106可以阻擋具有相對高流動性的第二封裝層420的流動。例如，第二封裝層420可以設置在由封裝堤壩106界定的裝置基板100的一部分上。第一封裝層410和第三封裝層430可以沿封裝堤壩106的表面延伸。例如，第三封裝層430可以在封裝堤壩106外部與第一封裝層410直接相接。裝置基板100的發光區域EA和透射區域TA可以與封裝元件400重疊。例如，裝置基板100的發光區域EA和透射區域TA可以設置在由封裝堤壩106界定的裝置基板100的一部分中。封裝堤壩106可以包括絕緣材料。例如，封裝堤壩106可以包括有機絕緣材料。封裝堤壩106可以設置在下平坦層130上。例如，封裝堤壩106可以包括與堤部絕緣層140相同的材料。在另一例子中，封裝堤壩106可以設置在下鈍化層120上，並可以包括與下平坦層130相同的材料。然而，本發明內容不限於此，並且封裝堤壩106可以具有多層結構，從而包括與下平坦層130相同的材料及與堤部絕緣層140相同的另一種材料。
觸控電極TE和路由線700可以設置在封裝元件400上。觸控電極TE中的每一個都可以偵測使用者及/或工具的觸控。例如，觸控電極TE可以並排設置在封裝元件400上。觸控緩衝層500可以設置在封裝元件400與觸控電極TE之間以及封裝元件400與路由線700之間。觸控緩衝層500可以防止由於觸控電極TE和路由線700的形成製程而導致發光裝置300的損壞。觸控緩衝層500可以包括絕緣材料。例如，觸控緩衝層500可以包括無機絕緣材料，例如：氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。
觸控電極TE中的每一個都可以包括設置在裝置基板100的透射區域TA上的部分。觸控電極TE可以包括具有高透光率的材料。例如，觸控電極TE中的每一個都可以是由透明導電材料組成的透明電極，例如：ITO和IZO，但本發明不限於此。觸控電極TE中的每一個都包括網狀形狀的觸控圖案600，其在第一方向和與第一方向不同的第二方向延伸。然而，本發明不限於此，觸控電極TE的形狀可以具有除網狀形狀以外的各種形狀。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以最大限度地減少由於觸控電極TE造成的透光率下降。此外，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以最小化第二電極330與觸控電極TE之間的寄生電容。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以充分確保用於偵測觸控的區域，並可以改進觸控偵測的可靠性。
路由線700可以將每個觸控電極TE電性連接到驅動部件DD、SD、TD和TC的觸控偵測部件TD。例如，路由線700中的每一條都可以電性連接至觸控電極TE的其中之一。路由線700可以包括導電材料。路由線700可以具有高於觸控電極TE的導電性。例如，路由線700可以包括金屬，例如：鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鉬（Mo）和鎢（W）。每條路由線700的電阻可以低於每個觸控電極TE的電阻。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以改善根據觸控偵測的反應速度。
路由線700可以設置在發光區域EA和透射區域TA外部。例如，觸控電極TE中的每一個都可以在發光區域EA和透射區域TA外部電性連接至相應的路由線700。路由線700可以在一個方向上並排延伸。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以防止由於路由線700而導致的發光區域的減少和透光率的降低。
路由線700可以設置在與觸控電極TE不同的層上。例如，覆蓋每個觸控電極TE的觸控圖案600的觸控絕緣層510可以設置在觸控緩衝層500上，並且路由線700可以設置在觸控絕緣層510上。觸控絕緣層510可以包括絕緣材料。例如，觸控絕緣層510可以包括無機絕緣材料，例如：氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。觸控絕緣層510可以包括部分地曝露每個觸控電極TE的觸控接觸孔。觸控電極TE中的每一個都可以通過觸控接觸孔的其中之一連接至相應的路由線700。觸控電極TE中的每一個都可以在發光區域EA和透射區域TA外部連接至相應的路由線700。例如，每個觸控電極TE的觸控圖案600可以具有從相應的路由線700延伸到透射區域TA的形狀。
濾色片820可以設置在發光裝置300上。黑色矩陣810可以設置在路由線700上。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以由黑色矩陣810防止由於路由線700而產生的摩爾紋（moiré）現象。黑色矩陣810可以設置在發光區域EA與透射區域TA之間。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以防止由於黑色矩陣810導致的發光區域的減少和透光率的降低。
濾色片820可以與黑色矩陣810並排設置。例如，濾色片820的一端可以與黑色矩陣810重疊。濾色片820可以與發光區域EA重疊。由發光裝置300產生的光可以通過濾色片820向外發射。濾色片820可以利用從發光裝置300發射的光實現特定的顏色。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以實現由各種顏色組成的影像。
觸控鈍化層520可以設置在路由線700與黑色矩陣810之間。觸控鈍化層520可以防止由於黑色矩陣810和濾色片820的形成製程而導致路由線700的損壞。例如，觸控鈍化層520可以在發光區域EA和透射區域TA上延伸。觸控鈍化層520可以包括絕緣材料。例如，觸控鈍化層520可以包括無機絕緣材料，例如：氧化矽（SiO）及/或氮化矽（SiN）。
黑色矩陣810和濾色片820可以由覆蓋平坦層550覆蓋。覆蓋平坦層550可以去除由於黑色矩陣810和濾色片820造成的厚度差異。覆蓋平坦層550可以包括絕緣材料。覆蓋平坦層550可以包括透明材料。例如，覆蓋平坦層550可以包括有機絕緣材料。
覆蓋基板900可以設置在覆蓋平坦層550上。覆蓋基板900可以透過覆蓋黏著層901附著在覆蓋平坦層550上。覆蓋基板900可以減少外部衝擊。覆蓋基板900可以包括絕緣材料。覆蓋基板900可以包括透明材料。例如，覆蓋基板900可以包括玻璃或塑膠。偏光鏡910可以設置在覆蓋基板900上。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以防止由於外部光線的反射而導致的影像品質惡化。
顯示面板DP可以透過顯示板104和觸控板704電性連接至驅動部件DD、SD、TD和TC。例如，電性連接至驅動電路的至少一個顯示板104和通過路由線700分別連接至觸控電極TE的觸控板704可以設置在裝置基板100的一部分上。顯示板104和觸控板704可以設置在封裝堤壩106外部。例如，顯示板104和觸控板704可以與封裝元件400間隔開。
路由線700可以沿相對於裝置基板100的封裝元件400的表面延伸，以使路由線700中的每一條都可以連接至相應的觸控板704。例如，觸控緩衝層500、觸控絕緣層510、路由線700和觸控鈍化層520可以延伸到封裝堤壩106外部，並且觸控鈍化層520可以曝露每條路由線700的一部分。也就是說，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，觸控板704可以包括與路由線700相同的材料。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以提高製程效率。
因此，根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置可以包括：發光裝置300，設置在裝置基板100的發光區域EA上；觸控電極TE，並排設置在裝置基板100的透射區域TA上；以及路由線700，設置在裝置基板100的發光區域EA和透射區域TA外部，其中路由線700中的每一條都可以連接到位於發光區域EA和透射區域TA外部的觸控電極TE中的每一個，以及其中觸控電極TE可以具有高於路由線700的透光率。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以將透光率的降低降至最低，並可以充分確保路由線700之間的空間。此外，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，具有相對高的透光率的觸控電極TE可以位於裝置基板100的透射區域TA上，從而可以充分地確保用於偵測使用者及/或工具的觸控的區域。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以改善觸控偵測的可靠性。
根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置允許位於裝置基板100的透射區域TA上的觸控電極TE偵測使用者及/或工具的觸控。然而，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以偵測使用者及/或工具在裝置基板100的發光區域EA與透射區域TA之間的觸控。例如，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以設置與路由線700中的每一條重疊的觸控線750，如圖5中所示。觸控線750可以在發光區域EA與透射區域TA之間延伸。例如，觸控線750可以與路由線700平行延伸。觸控線750可以包括導電材料。觸控線750可以包括與每個觸控電極的觸控圖案600不同的材料。觸控線750可以具有比每個觸控電極的觸控圖案600低的電阻。例如，觸控線750可以包括金屬，例如：鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鉬（Mo）和鎢（W）。觸控線750可以連接到路由線700的其中一條。因此，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以進一步提高偵測使用者及/或工具的觸控的準確性。
在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，路由線700設置在覆蓋觸控線750的觸控絕緣層510上。然而，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，每個觸控電極的觸控圖案600可以設置在與路由線700相同的層上，如圖5中所示。例如，每個觸控電極的觸控圖案600和路由線700可以設置在觸控絕緣層510上。路由線700中的每一條都可以具有第一導電層710和第二導電層720的堆疊結構。第二導電層720可以具有比第一導電層710低的電阻。第一導電層710可以具有比第二導電層720高的透光率。例如，第一導電層710可以包括與每個觸控電極的觸控圖案600相同的材料。因此，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以降低路由線700的電阻。每個觸控電極的觸控圖案600可以連接到相應的路由線700的第一導電層710。因此，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以簡化將每個觸控電極的觸控圖案600連接到路由線700的其中一條的過程。
在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，觸控電極TE設置在觸控緩衝層500與觸控絕緣層510之間。然而，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，路由線700可以設置在觸控緩衝層500與觸控絕緣層510之間，並且每個觸控電極的觸控圖案600可以設置在觸控絕緣層510上，如圖6所示。因此，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以改進每個觸控電極的觸控圖案600與路由線700之間的相對位置的自由度。
在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，路由線700、觸控電極TE、黑色矩陣810和濾色片820設置在封裝元件400上。然而，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，黑色矩陣810、濾色片820、路由線700和每個觸控電極的觸控圖案600可以設置在朝向裝置基板100的覆蓋基板900的下表面上，如圖7和圖8所示。黑色矩陣810和濾色片820可以直接與覆蓋基板900相接。路由線700和每個觸控電極的觸控圖案600可以設置在覆蓋黑色矩陣810和濾色片820的覆蓋平坦層550上。例如，每個觸控電極的觸控圖案600可以與覆蓋平坦層550相接。位於裝置基板100的發光區域EA上的發光裝置300可以由上鈍化層150覆蓋。路由線700透過觸控絕緣層560與每個觸控電極的觸控圖案600絕緣，並且路由線700可以由覆蓋鈍化層570覆蓋。黏著層450可以設置在上鈍化層150與覆蓋鈍化層570之間。例如，黏著堤壩107可以設置在封裝堤壩106與覆蓋平坦層550之間。黏著層450可以設置在由黏著堤壩107界定的區域中。覆蓋鈍化層570、路由線700和觸控絕緣層560可以延伸超過黏著堤壩107。覆蓋鈍化層570可以曝露每條路由線700的一部分以形成觸控板704。例如，觸控板704可以設置在黏著堤壩107外部。也就是說，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，觸控板704可以設置在覆蓋基板900的下表面上。因此，在根據本發明的另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以防止由於黑色矩陣810、濾色片820、路由線700和每個觸控電極的觸控圖案600的形成製程而導致發光裝置300的損壞。因此，在根據本發明另一實施例的透明觸控顯示裝置中，可以提高製程效率。
因此，根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置可以包括：發光裝置，設置在裝置基板的發光區域上；觸控電極，位於裝置基板的透射區域上；以及路由線，設置在發光區域和透射區域外部，其中路由線可以分別連接至觸控電極，以及其中觸控電極可以具有高於路由線的透光率。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以將透光率的降低降至最低，並且路由線可以具有足夠的間隔。因此，可以減少或防止由於路由線的密度而造成的觸控信號失真。因此，在根據本發明實施例的透明觸控顯示裝置中，可以改善觸控偵測的可靠性。
本申請主張於2020年12月31日提交的韓國專利申請案第10-2020-0189743號的優先權，該申請案的內容完全併入本文中以作為參考文件。
100:裝置基板 104:顯示板 106:封裝堤壩 107:黏著堤壩 110:第一緩衝層 115:阻光圖案 120:下鈍化層 130:下平坦層 140:堤部絕緣層 150:上鈍化層 200:薄膜電晶體 210:半導體圖案 220:閘極絕緣層 230:閘極電極 240:層間絕緣層 250:源極電極 260:汲極電極 300:發光裝置 310:第一電極 320:發光層 330:第二電極 400:封裝元件 410:第一封裝層 420:第二封裝層 430:第三封裝層 450:黏著層 500:觸控緩衝層 510:觸控絕緣層 520:觸控鈍化層 550:覆蓋平坦層 560:觸控絕緣層 570:覆蓋鈍化層 600:觸控圖案 700:路由線 704:觸控板 710:第一導電層 720:第二導電層 750:觸控線 810:黑色矩陣 820:濾色片 900:覆蓋基板 901:覆蓋黏著層 910:偏光鏡 DD:驅動部件、資料驅動器 DP:顯示面板 EA:發光區域 K:區域 SD:驅動部件、掃描驅動器 TA:透射區域 TC:驅動部件、時序控制器 TD:驅動部件、觸控偵測部件 TE:觸控電極
104:顯示板
106:封裝堤壩
600:觸控圖案
700:路由線
704:觸控板
TE:觸控電極
K:區域

Claims (17)

  1. 一種透明觸控顯示裝置，包括：一裝置基板，包括複數個發光區域和複數個透射區域，該些透射區域設置以相鄰於該些發光區域，外部光線通過該些透射區域；複數個發光裝置，位於該裝置基板的該些發光區域上；一封裝元件，位於該裝置基板上，該封裝元件覆蓋該些發光裝置；複數條路由線，位於該封裝元件上，該些路由線中的每一條設置在該些發光區域之間或者設置在該些發光區域與該些透射區域之間；以及複數個觸控電極，設置在該些透射區域上，該些觸控電極中的每一個包括一區域，該區域連接到設置在該些發光區域與該些透射區域之間的該些路由線中的其中一條，其中，該些觸控電極中的每一個的透光率高於該些路由線中的每一條的透光率，以及其中，該些觸控電極設置在該封裝元件上。
  2. 如請求項1所述之透明觸控顯示裝置，進一步包括：一觸控絕緣層，位於該些觸控電極與該些路由線之間，其中，該些觸控電極通過該觸控絕緣層中的一觸控接觸孔電性連接至該對應的路由線。
  3. 如請求項1所述之透明觸控顯示裝置，進一步包括：複數個濾色片，位於該封裝元件上，該些濾色片與該些發光區域重疊；以及一黑色矩陣，與該些濾色片並排設置，該黑色矩陣覆蓋該些路由線，其中，該黑色矩陣設置在該些發光區域之間和該些發光區域與該些透射區域之間。
  4. 如請求項1所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些觸控電極包括氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)的其中之一。
  5. 如請求項1所述之透明觸控顯示裝置，還包括複數個觸控板，位在該裝置基板上，該些觸控板與該封裝元件間隔開，其中，該些觸控板包括與該些路由線相同的材料。
  6. 如請求項1所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些路由線中的每一條包括依序堆疊在該封裝元件上的一第一導電層和一第二導電層，以及其中，該第一導電層的透光率高於該第二導電層的透光率。
  7. 如請求項6所述之透明觸控顯示裝置，進一步包括一觸控線，設置在該些發光區域與該些透射區域之間，其中，該觸控線連接至該些路由線中的其中一條，與該對應的路由線重疊，並與該對應的路由線平行延伸。
  8. 如請求項6所述之透明觸控顯示裝置，其中，該第二導電層的導電性高於該第一導電層。
  9. 如請求項6所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些觸控電極包括與該第一導電層相同的材料。
  10. 如請求項9所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些觸控電極設置在與該些路由線相同的層上。
  11. 一種透明觸控顯示裝置，包括：一裝置基板，包括複數個發光區域和複數個透射區域，該些透射區域設置以相鄰於該些發光區域，外部光線通過該些透射區域；複數個發光裝置，位於該裝置基板的該些發光區域上；複數個觸控電極，設置在該裝置基板的該些透射區域上；以及複數條路由線，分別連接至該些觸控電極，該些路由線設置在該些發光區域之間或者設置在該些發光區域與該些透射區域之間， 其中，該些觸控電極中的每一個包括一區域，該區域電性連接到設置在該些發光區域與該些透射區域之間的該些路由線中的其中一條，其中，該些觸控電極中的每一個包括一透明導電材料，其中，該些路由線的電阻低於該些觸控電極，以及其中，該些觸控電極中的每一個包括網狀形狀的一觸控圖案，其在第一方向和與第一方向不同的第二方向延伸。
  12. 如請求項11所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些路由線包括一金屬。
  13. 如請求項11所述之透明觸控顯示裝置，其中，該第二方向垂直於該第一方向。
  14. 如請求項11所述之透明觸控顯示裝置，其中，該些觸控電極中的每一個在與該些發光區域或該些透射區域相鄰的一區域處連接至該些路由線中對應的一條。
  15. 如請求項11所述之透明觸控顯示裝置，進一步包括覆蓋該些路由線的一觸控絕緣層，其中，該些觸控電極設置在該觸控絕緣層上。
  16. 如請求項15所述所述之透明觸控顯示裝置，還包括：一覆蓋基板，位於該些發光裝置、該些觸控電極和該些路由線上；複數個濾色片，位於朝向該裝置基板的該覆蓋基板的一下表面上，該些濾色片與該些發光裝置重疊；一黑色矩陣，與該些濾色片並排設置，該黑色矩陣與該些路由線重疊；以及一覆蓋平坦層，位於該覆蓋基板的該下表面上，該覆蓋平坦層覆蓋該些濾色片和該黑色矩陣。
  17. 如請求項16所述之透明觸控顯示裝置，進一步包括： 一上鈍化層，覆蓋該些發光裝置；一覆蓋鈍化層，位於該上鈍化層上；以及一黏著層，位於該上鈍化層與該覆蓋鈍化層之間，其中，該些路由線和該些觸控電極設置在該覆蓋鈍化層與該覆蓋平坦層之間。
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