JP7282833B2 - 透明タッチディスプレイ装置 - Google Patents

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Description

本発明は発光領域及び透過領域を含む素子基板上に透明電極及びルーティングラインが位置する透明タッチディスプレイ装置に関するものである。
一般に、モニター、ＴＶ、ノートブック型ＰＣ、デジタルカメラのような電子機器は、イメージの具現のために、ディスプレイ装置を含み得る。例えば、ディスプレイ装置は発光素子を含み得る。発光素子は特定の色を帯びる光を放出することができる。例えば、発光素子は二つの電極の間に位置する発光層を含む。
ディスプレイ装置において、素子基板は発光素子が位置する発光領域、及び発光領域の外側に位置する透過領域を含むことができる。例えば、ディスプレイ装置は、イメージが具現されないとき、透明なガラスと認識される透明ディスプレイ装置であり得る。透明ディスプレイ装置は、使用者及び／又は道具のタッチを感知することができる。例えば、透明ディスプレイ装置は、素子基板上に位置するタッチ電極及びルーティングラインを含み得る。タッチ電極及びルーティングラインは発光領域及び透過領域の外側に位置することができる。これにより、透明ディスプレイ装置において、タッチの精密な感知のためにタッチ電極及びルーティングラインの数が増加すれば、透過率が低下し得る。また、透明ディスプレイ装置は、ルーティングラインの密集によってタッチ信号の歪みが発生することがある。
特開２０２０－１０７３３４号公報
本発明が解決しようとする課題は、透過率の低下を最小化し、使用者及び／又は道具のタッチを精密に感知することができる透明タッチディスプレイ装置を提供することである。
本発明が解決しようとする他の課題は、タッチ感知の信頼性を向上させることができる透明タッチディスプレイ装置を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は前述した課題に限定されない。ここで言及しない課題は下記の記載から通常の技術者に明らかに理解可能であろう。
前記解決しようとする課題を達成するための本発明の技術的思想による透明タッチディスプレイ装置は素子基板を含む。素子基板は発光領域及び透過領域を含む。素子基板上には発光素子及び封止部材が位置する。発光素子は素子基板の発光領域上に位置する。封止部材は発光素子を覆う。封止部材上にはルーティングライン及びタッチ電極が位置する。ルーティングラインは発光領域及び透過領域の外側に位置する。タッチ電極はルーティングラインと連結される。タッチ電極は透過領域上に延びる。タッチ電極はルーティングラインより高い透過率を有する。
封止部材上にはカラーフィルター及びブラックマトリックスが位置することができる。カラーフィルターは発光領域と重畳することができる。ブラックマトリックスはカラーフィルターと並んで位置することができる。ブラックマトリックスはルーティングラインを覆うことができる。ブラックマトリックスは発光領域及び透過領域の外側に位置することができる。
タッチ電極はＩＴＯ及びＩＺＯの一つを含むことができる。
素子基板上にはタッチパッドが位置することができる。タッチパッドは封止部材から離隔することができる。タッチパッドはルーティングラインと同じ物質を含むことができる。
ルーティングラインは封止部材上に位置する第１導電層及び第１導電層上に位置する第２導電層を含むことができる。第１導電層の透過率は第２導電層の透過率より高いことができる。
第２導電層は第１導電層より高い電気伝導度を有することができる。
タッチ電極は第１導電層と同じ物質を含むことができる。
タッチ電極はルーティングラインと同じ層上に位置することができる。
前記解決しようとする他の課題を達成するための本発明の技術的思想による透明タッチディスプレイ装置は素子基板を含む。素子基板は発光領域及び透過領域を含む。素子基板の発光領域上には発光素子が位置する。素子基板の透過領域上にはタッチ電極が並んで位置する。タッチ電極と個別的に連結されるルーティングラインは発光領域及び透過領域の外側に位置する。ルーティングラインはタッチ電極より低い抵抗を有する。
ルーティングラインは金属を含むことができる。
各タッチ電極は第１方向及び第１方向に垂直な第２方向に延びるメッシュ（ｍｅｓｈ）状のタッチパターンを含むことができる。
各タッチ電極は発光領域及び透過領域の外側でルーティングラインの一つと連結されることができる。
ルーティングラインはタッチ絶縁膜によって覆われることができる。タッチ電極はタッチ絶縁膜上に位置することができる。
発光素子、タッチ電極及びルーティングライン上にはカバー基板が位置することができる。素子基板に向かうカバー基板の下面上にはカラーフィルター、ブラックマトリックス及びカバー平坦化膜が位置することができる。カラーフィルターは発光領域と重畳することができる。ブラックマトリックスはカラーフィルターと並んで位置することができる。ブラックマトリックスはルーティングラインと重畳することができる。カバー平坦化膜はカラーフィルター及びブラックマトリックスを覆うことができる。
発光素子は上部保護膜によって覆われることができる。上部保護膜上にはカバー保護膜が位置することができる。上部保護膜とカバー保護膜との間には接着層が位置することができる。ルーティングライン及びタッチ電極はカバー保護膜とカバー平坦化膜との間に位置することができる。
本発明の技術的思想による透明タッチディスプレイ装置は、素子基板の発光領域上に位置する発光素子、前記素子基板の透過領域上に位置するタッチ電極、及び前記発光領域及び前記透過領域の外側に位置するルーティングラインを含み、前記ルーティングラインが前記タッチ電極と個別的に連結され、前記タッチ電極が前記ルーティングラインより高い透過率を有することができる。これにより、本発明の技術的思想による透明タッチディスプレイ装置は、透過率の低下が最小化し、前記ルーティングラインが充分に離隔することができる。よって、本発明の技術的思想による透明タッチディスプレイ装置はタッチ感知の信頼性を向上させることができる。
本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置を概略的に示す図である。 図１のＫ領域を拡大した図である。 図２のＩ－Ｉ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。 図２のＩＩ－ＩＩ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。 本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置を示す図である。 図２のＩ－Ｉ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。 図２のＩＩ－ＩＩ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。 本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置を示す図である。
本発明の前記目的と技術的構成及びこれによる作用効果についての詳細な事項は本発明の実施例を示している図面を参照する以下の詳細な説明によってより明らかに理解可能であろう。ここで、本発明の実施例は当業者に本発明の技術的思想を充分に伝達するために提供するものなので、本発明は以下で説明する実施例に限定されずに他の形態に具体化することができる。
また、明細書全般にわたって同じ参照符号で表示した部分は同じ構成要素を意味し、図面において層又は領域の長さと厚さは便宜のために誇張して表現することができる。さらに、第１構成要素が第２構成要素“上”にあると記載する場合、第１構成要素が第２構成要素と直接接触する上側に位置する場合だけではなく、第１構成要素と第２構成要素との間に第３構成要素が位置する場合も含む。
ここで、第１、第２などの用語は多様な構成要素を説明するためのものであり、一構成要素を他の構成要素と区別する目的で使う。ただ、本発明の技術的思想を逸脱しない範疇内で第１構成要素と第２構成要素は当業者の便宜によって任意に名付けることができる。
本発明の明細書で使う用語はただ特定の実施例を説明するために使うものであり、本発明を限定しようとする意図ではない。例えば、単数で表現した構成要素は文脈上明白に単数のみ意味しない限り、複数の構成要素を含む。また、本発明の明細書で、“含む”又は“有する”などの用語は明細書上に記載した特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品又はこれらの組合せが存在することを指定しようとするものであり、一つ又はそれ以上の他の特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品又はこれらの組合せなどの存在又は付加の可能性を予め排除しないものに理解しなければならない。
さらに、他に定義しない限り、技術的又は科学的な用語を含めてここで使う全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって一般的に理解されるものと同じ意味がある。一般的に使われる辞書に定義されているもののような用語は関連技術の文脈上で有する意味と一致する意味があるものに解釈されなければならなく、本発明の明細書で明白に定義しない限り、理想的又は過度に形式的な意味に解釈されない。
（実施例）
図１は本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置を概略的に示す図である。図２は図１のＫ領域を拡大した図である。図３は図２のＩ－Ｉ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。図４は図２のＩＩ－ＩＩ’線に沿って切断した断面を示す断面図である。
図１～図４を参照すると、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は表示パネルＤＰ及び駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣを含むことができる。駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣはイメージの具現のための多様な信号を前記表示パネルＤＰに提供することができる。例えば、駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣは、データ信号を印加するデータ駆動部ＤＤ、スキャン信号を印加するスキャン駆動部ＳＤ及びタイミングコントローラーＴＣを含むことができる。タイミングコントローラーＴＣは、データ駆動部ＤＤにデジタルビデオデータ及びソースタイミング制御信号を印加し、スキャン駆動部ＳＤにクロック信号、リセットクロック信号及びスタート信号を印加することができる。
表示パネルＤＰは使用者に提供されるイメージを生成することができる。
例えば、表示パネルＤＰは素子基板１００上に位置する少なくとも一つの発光素子３００を含むことができる。素子基板１００は絶縁性物質を含むことができる。例えば、素子基板１００はガラス又はプラスチックを含むことができる。
素子基板１００上には少なくとも一つの駆動回路が位置することができる。駆動回路は前記発光素子３００と電気的に連結されることができる。駆動回路は駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣから伝達された信号に応じて制御されることができる。例えば、駆動回路はゲート信号に応じてデータ信号に対応する駆動電流を発光素子３００に供給することができる。駆動回路は少なくとも一つの薄膜トランジスタ２００を含むことができる。例えば、薄膜トランジスタ２００は、半導体パターン２１０、ゲート絶縁膜２２０、ゲート電極２３０、層間絶縁膜２４０、ソース電極２５０及びドレイン電極２６０を含むことができる。
半導体パターン２１０は半導体物質を含むことができる。例えば、半導体パターン２１０は非晶質シリコン（ａ－Ｓｉ）又は多結晶シリコン（ｐｏｌｙ－Ｓｉ）を含むことができる。半導体パターン２１０は酸化物半導体であることができる。例えば、半導体パターン２１０はＩＧＺＯのような金属酸化物を含むことができる。半導体パターン２１０は、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル領域を含むことができる。チャネル領域はソース領域とドレイン領域との間に位置することができる。ソース領域及びドレイン領域はチャネル領域より低い抵抗を有することができる。
ゲート絶縁膜２２０は半導体パターン２１０上に位置することができる。ゲート絶縁膜２２０は半導体パターン２１０の外側に延びることができる。例えば、半導体パターン２１０の側面はゲート絶縁膜２２０によって覆われることができる。ゲート絶縁膜２２０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、ゲート絶縁膜２２０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及び／又はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。ゲート絶縁膜２２０は高い誘電率を有する物質を含むことができる。例えば、ゲート絶縁膜２２０はハフニウム酸化物（ＨｆＯ）のようなＨｉｇｈ－Ｋ物質を含むことができる。ゲート絶縁膜２２０は多重層構造を有することができる。
ゲート電極２３０はゲート絶縁膜２２０上に位置することができる。ゲート電極２３０は導電性物質を含むことができる。例えば、ゲート電極２３０は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）及びタングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。ゲート電極２３０はゲート絶縁膜２２０によって半導体パターン２１０と絶縁されることができる。ゲート電極２３０は半導体パターン２１０のチャネル領域と重畳することができる。例えば、半導体パターン２１０のチャネル領域はゲート電極２３０に印加された電圧に対応する電気伝導度を有することができる。
層間絶縁膜２４０はゲート電極２３０上に位置することができる。層間絶縁膜２４０はゲート電極２３０の外側に延びることができる。例えば、ゲート電極２３０の側面は層間絶縁膜２４０によって覆われることができる。層間絶縁膜２４０はゲート電極２３０の外側でゲート絶縁膜２２０と直接接触することができる。層間絶縁膜２４０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、層間絶縁膜２４０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）を含むことができる。
ソース電極２５０は層間絶縁膜２４０上に位置することができる。ソース電極２５０は導電性物質を含むことができる。例えば、ソース電極２５０は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）及びタングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。ソース電極２５０は層間絶縁膜２４０によってゲート電極２３０と絶縁されることができる。例えば、ソース電極２５０はゲート電極２３０と違う物質を含むことができる。ソース電極２５０は半導体パターン２１０のソース領域と電気的に連結されることができる。例えば、ゲート絶縁膜２２０及び層間絶縁膜２４０は半導体パターン２１０のソース領域を部分的に露出させるソースコンタクトホールを含むことができる。ソース電極２５０は半導体パターン２１０のソース領域と重畳する領域を含むことができる。例えば、ソース電極２５０はソースコンタクトホール内で半導体パターン２１０のソース領域と直接接触することができる。
ドレイン電極２６０は層間絶縁膜２４０上に位置することができる。ドレイン電極２６０は導電性物質を含むことができる。例えば、ドレイン電極２６０は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）及びタングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。ドレイン電極２６０は層間絶縁膜２４０によってゲート電極２３０と絶縁されることができる。例えば、ドレイン電極２６０はゲート電極２３０と違う物質を含むことができる。ドレイン電極２６０はソース電極２５０と同じ物質を含むことができる。ドレイン電極２６０は半導体パターン２１０のドレイン領域と電気的に連結されることができる。ドレイン電極２６０はソース電極２５０から離隔することができる。例えば、ゲート絶縁膜２２０及び層間絶縁膜２４０は半導体パターン２１０のドレイン領域を部分的に露出させるドレインコンタクトホールを含むことができる。ドレイン電極２６０は半導体パターン２１０のドレイン領域と重畳する領域を含むことができる。例えば、ドレイン電極２６０はドレインコンタクトホール内で半導体パターン２１０のドレイン領域と直接接触することができる。
素子基板１００と駆動回路との間には第１バッファー層１１０が位置することができる。第１バッファー層１１０は薄膜トランジスタ２００の形成工程で素子基板１００による汚染を防止することができる。例えば、第１バッファー層１１０は発光素子３００に向かう素子基板１００の上面を完全に覆うことができる。第１バッファー層１１０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、第１バッファー層１１０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及び／又はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。第１バッファー層１１０は多重層構造を有することができる。
素子基板１００と薄膜トランジスタ２００との間には遮光パターン１１５が位置することができる。遮光パターン１１５は外光による薄膜トランジスタ２００の特性変化を防止することができる。例えば、遮光パターン１１５は半導体パターン２１０と重畳する領域を含むことができる。遮光パターン１１５は光を遮断することができる物質又は光を吸収することができる物質を含むことができる。例えば、遮光パターン１１５は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）及び銅（Ｃｕ）のような金属を含むことができる。遮光パターン１１５は半導体パターン２１０と絶縁されることができる。例えば、遮光パターン１１５は素子基板１００と第１バッファー層１１０との間に位置することができる。遮光パターン１１５は素子基板１００と直接接触することができる。
駆動回路上には下部保護膜１２０が位置することができる。下部保護膜１２０は外部衝撃及び水分による駆動回路の損傷を防止することができる。例えば、素子基板１００と対向する薄膜トランジスタ２００の上面は下部保護膜１２０によって覆われることができる。下部保護膜１２０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、下部保護膜１２０は、シリコン酸化物（ＳｉＯ）及びシリコン窒化物（ＳｉＮ）のような無機絶縁物質を含むことができる。
下部保護膜１２０上には下部平坦化膜１３０が位置することができる。下部平坦化膜１３０は駆動回路による段差を除去することができる。例えば、発光素子３００に向かう下部平坦化膜１３０の上面は平らな平面（ｆｌａｔ ｓｕｒｆａｃｅ）であることができる。下部平坦化膜１３０は絶縁性物質を含むことができる。下部平坦化膜１３０は下部保護膜１２０と違う物質を含むことができる。例えば、下部平坦化膜１３０は有機絶縁物質を含むことができる。
発光素子３００は下部平坦化膜１３０上に位置することができる。発光素子３００は特定の色を帯びる光を放出することができる。例えば、発光素子３００は、下部平坦化膜１３０上に順に積層された第１発光電極３１０、発光層３２０及び第２発光電極３３０を含むことができる。
第１発光電極３１０は導電性物質を含むことができる。第１発光電極３１０は高い反射率を有することができる。例えば、第１発光電極３１０は、アルミニウム（Ａｌ）及び銀（Ａｇ）のような金属を含むことができる。第１発光電極３１０は多重層構造を有することができる。例えば、第１発光電極３１０はＩＴＯ及びＩＺＯのような透明な導電性物質からなる透明電極の間に金属からなる反射電極が位置する構造を有することができる。
第１発光電極３１０は薄膜トランジスタ２００と電気的に連結されることができる。例えば、下部保護膜１２０及び下部平坦化膜１３０は薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０を部分的に露出させる電極コンタクトホールを含むことができる。第１発光電極３１０は薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０と重畳する領域を含むことができる。例えば、第１発光電極３１０は電極コンタクトホールを介して薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０と直接接触することができる。
発光層３２０は第１発光電極３１０と第２発光電極３３０との間の電圧差に対応する輝度の光を生成することができる。例えば、発光層３２０は発光物質を含む発光物質層（Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｌａｙｅｒ；ＥＭＬ）を含むことができる。発光物質は、有機物質、無機物質又はハイブリッド物質を含むことができる。例えば、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置の表示パネルＤＰは有機物質からなる発光物質層を含む有機電界発光表示装置であることができる。発光層３２０は多重層構造を有することができる。例えば、発光層３２０は、正孔注入層（Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ；ＨＩＬ）、正孔輸送層（Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ；ＨＴＬ）、電子輸送層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ；ＥＴＬ）及び電子注入層（Ｅｌｅｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ；ＥＩＬ）の少なくとも一つをさらに含むことができる。よって、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は発光素子３００の発光効率が向上することができる。
第２発光電極３３０は導電性物質を含むことができる。第２発光電極３３０は第１発光電極３１０と違う物質を含むことができる。第２発光電極３３０は第１発光電極３１０より高い透過率を有することができる。例えば、第２発光電極３３０はＩＴＯ及びＩＺＯのような透明な導電性物質からなる透明電極であることができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、発光層３２０によって生成された光が第２発光電極３３０を通して放出されることができる。
下部平坦化膜１３０上にはバンク絶縁膜１４０が位置することができる。バンク絶縁膜１４０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、バンク絶縁膜１４０は有機絶縁物質を含むことができる。バンク絶縁膜１４０は下部平坦化膜１３０と違う物質を含むことができる。バンク絶縁膜１４０は素子基板１００上に発光領域ＥＡを定義することができる。例えば、バンク絶縁膜１４０は第１発光電極３１０の縁部を覆うことができる。発光素子３００の発光層３２０及び第２発光電極３３０はバンク絶縁膜１４０によって露出された第１発光電極３１０の一部領域上に積層されることができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は発光素子３００を独立的に制御することができる。
発光素子３００の第２発光電極３３０はバンク絶縁膜１４０上に延びることができる。例えば、発光素子３００の第２発光電極３３０は隣接した発光素子３００の第２発光電極３３０と電気的に連結されることができる。例えば、発光素子３００の第２発光電極３３０は隣接した発光素子３００の第２発光電極３３０と同時に形成されることができる。バンク絶縁膜１４０は第２発光電極３３０によって覆われることができる。
発光素子３００上には封止部材４００が位置することができる。封止部材４００は外部の衝撃及び水分による発光素子３００の損傷を防止することができる。封止部材４００は多重層構造を有することができる。例えば、封止部材４００は、順に積層された第１封止層４１０、第２封止層４２０及び第３封止層４３０を含むことができる。第１封止層４１０、第２封止層４２０及び第３封止層４３０は絶縁性物質を含むことができる。第２封止層４２０は第１封止層４１０及び第３封止層４３０と違う物質を含むことができる。例えば、第１封止層４１０及び第３封止層４３０は無機絶縁物質を含み、第２封止層４２０は有機絶縁物質を含むことができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は外部の衝撃及び水分による発光素子３００の損傷を効果的に防止することができる。
素子基板１００は発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡを含むことができる。透過領域ＴＡは発光領域ＥＡの外側に位置することができる。透過領域ＴＡは外部の光が通過することができる。例えば、発光素子３００によるイメージが具現されないとき、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は透明なガラスと認識されることができる。発光素子３００及び駆動回路は素子基板１００の透過領域ＴＡから離隔することができる。例えば、発光素子３００は素子基板１００の発光領域ＥＡ上に位置することができる。駆動回路の薄膜トランジスタ２００は素子基板１００と発光素子３００との間に位置することができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は発光素子３００及び駆動回路による透過率の低下を防止することができる。
素子基板１００上には少なくとも一つの封止ダム１０６が位置することができる。封止ダム１０６は相対的に高い流動性を有する第２封止層４２０の流れを遮断することができる。例えば、第２封止層４２０は封止ダム１０６によって定義された素子基板１００の一部領域上に位置することができる。第１封止層４１０及び第３封止層４３０は封止ダム１０６の表面に沿って延びることができる。例えば、第３封止層４３０は封止ダム１０６の外側で第１封止層４１０と直接接触することができる。素子基板１００の発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡは封止部材４００と重畳することができる。例えば、素子基板１００の発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡは封止ダム１０６によって定義された素子基板１００の一部領域内に位置することができる。封止ダム１０６は絶縁性物質を含むことができる。例えば、封止ダム１０６は有機絶縁物質を含むことができる。封止ダム１０６は下部保護膜１３０上に位置することができる。例えば、封止ダム１０６は下部平坦化膜１３０と同じ物質を含むことができる。
封止部材４００上にはタッチ電極ＴＥ及びルーティングライン７００が位置することができる。各タッチ電極ＴＥは使用者及び／又は道具のタッチを感知することができる。例えば、タッチ電極ＴＥは封止部材４００上に並んで位置することができる。封止部材４００とタッチ電極ＴＥとの間、かつ封止部材４００とルーティングライン７００との間にはタッチバッファー膜５００が位置することができる。タッチバッファー膜５００はタッチ電極ＴＥ及びルーティングライン７００の形成工程による発光素子３００の損傷を防止することができる。タッチバッファー膜５００は絶縁性物質を含むことができる。例えば、タッチバッファー膜５００はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及びシリコン窒化物（ＳｉＮ）のような無機絶縁物質を含むことができる。
各タッチ電極ＴＥは素子基板１００の透過領域ＴＡ上に位置する領域を含むことができる。タッチ電極ＴＥは高い透過率を有することができる。例えば、各タッチ電極ＴＥはＩＴＯ及びＩＺＯのような透明な導電性物質からなる透明電極であることができる。各タッチ電極ＴＥはメッシュ（ｍｅｓｈ）状のタッチパターン６００を含むことができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ電極ＴＥによる透過率低下を最小化することができる。また、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は第２発光電極３３０とタッチ電極ＴＥとの間の寄生キャパシタンス（ｐａｒａｓｉｔｉｃ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）を最小化することができる。よって、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ感知のための面積を充分に確保し、タッチ感知の信頼性を向上させることができる。
ルーティングライン７００は各タッチ電極ＴＥを駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣのタッチ感知部ＴＤと電気的に連結することができる。例えば、各ルーティングライン７００はタッチ電極ＴＥの一つと電気的に連結されることができる。ルーティングライン７００は導電性物質を含むことができる。ルーティングライン７００はタッチ電極ＴＥより高い電気伝導度を有することができる。例えば、ルーティングライン７００は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）及びタングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。各ルーティングライン７００の抵抗は各タッチ電極ＴＥの抵抗より低いことができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ感知による応答速度を向上させることができる。
ルーティングライン７００は発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡの外側に位置することができる。例えば、各タッチ電極ＴＥは発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡの外側で当該ルーティングライン７００と電気的に連結されることができる。ルーティングライン７００は一側方向に並んで延びることができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はルーティングライン７００によって発光面積の減少及び透過率の低下を防止することができる。
ルーティングライン７００はタッチ電極ＴＥと違う層上に位置することができる。例えば、タッチバッファー膜５００上にはタッチ電極ＴＥのタッチパターン６００を覆うタッチ絶縁膜５１０が位置し、ルーティングライン７００はタッチ絶縁膜５１０上に位置することができる。タッチ絶縁膜５１０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、タッチ絶縁膜５１０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及びシリコン窒化物（ＳｉＮ）のような無機絶縁物質を含むことができる。タッチ絶縁膜５１０は各ルーティングライン７００を部分的に露出させるタッチコンタクトホールを含むことができる。各タッチ電極ＴＥはタッチコンタクトホールドルの一つを介して当該ルーティングライン７００と連結されることができる。各タッチ電極ＴＥは発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡの外側で当該ルーティングライン７００と連結されることができる。例えば、各タッチ電極ＴＥのタッチパターン６００は当該ルーティングライン７００から透過領域ＴＡ上に延びる形状を有することができる。
ルーティングライン７００上にはブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０が位置することができる。ブラックマトリックス８１０はルーティングライン７００上に位置することができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、ルーティングライン７００によるモアレ（Ｍｏｉｒｅ）をブラックマトリックス８１０によって防止することができる。ブラックマトリックス８１０は発光領域ＥＡと透過領域ＴＡとの間に位置することができる。よって、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はブラックマトリックス８１０による発光面積の減少及び透過率の低下を防止することができる。
カラーフィルター８２０はブラックマトリックス８１０と並んで位置することができる。例えば、カラーフィルター８２０の端部はブラックマトリックス８１０と重畳することができる。カラーフィルター８２０は発光領域ＥＡと重畳することができる。発光素子３００によって生成された光はカラーフィルター８２０を通して外部に放出されることができる。カラーフィルター８２０は発光素子３００から放出された光を用いて特定の色を具現することができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は多様な色からなるイメージを具現することができる。
ルーティングライン７００とブラックマトリックス８１０との間にはタッチ保護膜５２０が位置することができる。タッチ保護膜５２０はブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０の形成工程でルーティングライン７００の損傷を防止することができる。例えば、タッチ保護膜５２０は発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡ上に延びることができる。タッチ保護膜５２０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、タッチ保護膜５２０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及びシリコン窒化物（ＳｉＮ）のような無機絶縁物質を含むことができる。
ブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０はカバー平坦化膜５５０によって覆われることができる。カバー平坦化膜５５０はブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０による段差を除去することができる。カバー平坦化膜５５０は絶縁性物質を含むことができる。カバー平坦化膜５５０は透明物質を含むことができる。例えば、カバー平坦化膜５５０は有機絶縁物質を含むことができる。
カバー平坦化膜５５０上にはカバー基板９００が位置することができる。カバー基板９００はカバー接着層９０１によってカバー平坦化膜５５０に付着することができる。カバー基板９００は外部の衝撃を緩和することができる。カバー基板９００は絶縁性物質を含むことができる。カバー基板９００は透明物質を含むことができる。例えば、カバー基板９００はガラス又はプラスチックを含むことができる。カバー基板９００上には偏光板９１０が位置することができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は外光反射によるイメージ品質の低下を防止することができる。
表示パネルＤＰはパッド１０４、７０４を介して駆動部ＤＤ、ＳＤ、ＴＤ、ＴＣと電気的に連結されることができる。例えば、素子基板１００の一部領域上には駆動回路と電気的に連結される少なくとも一つの表示パッド１０４及びルーティングライン７００の一つを介して各タッチ電極ＴＥと連結されるタッチパッド７０４が位置することができる。表示パッド１０４及びタッチパッド７０４は封止ダム１０６の外側に位置することができる。例えば、表示パッド１０４及びタッチパッド７０４は封止部材４００から離隔することができる。
各ルーティングライン７００は素子基板１００と対向する封止部材４００の表面に沿って延びて当該タッチパッド７０４と連結されることができる。例えば、タッチバッファー膜５００、タッチ絶縁膜５１０、ルーティングライン７００及びタッチ保護膜５２０は封止ダム１０６の外側に延び、タッチ保護膜５２０は各ルーティングライン７００の一部領域を露出させることができる。すなわち、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、タッチパッド７０４がルーティングライン７００と同じ物質を含むことができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は工程効率を向上させることができる。
結果的に、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、素子基板１００の発光領域ＥＡ上に位置する発光素子３００、素子基板１００の透過領域ＴＡ上に並んで位置するタッチ電極ＴＥ及び素子基板１００の発光領域ＥＡと透過領域ＴＡの外側に位置するルーティングライン７００を含み、各ルーティングライン７００が発光領域ＥＡ及び透過領域ＴＡの外側でタッチ電極ＴＥの一つと連結され、タッチ電極ＴＥがルーティングライン７００より高い透過率を有することができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、透過率の低下を最小化し、ルーティングライン７００間の間隔を充分に確保することができる。また、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、相対的に高い透過率を有する透明電極ＴＥが素子基板１００の透過領域ＴＡ上に配置されることにより、使用者及び／又は道具のタッチを感知する領域を充分に確保することができる。よって、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ感知の信頼性を向上させることができる。
本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は使用者及び／又は道具のタッチを素子基板１００の透過領域ＴＡ上に位置するタッチ電極ＴＥによって感知するものとして説明される。しかし、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は素子基板１００の発光領域ＥＡと透過領域ＴＡとの間で使用者及び／又は道具のタッチを感知することができる。例えば、図５に示したように、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置はルーティングライン７００の一つと重畳するタッチ配線７５０が位置することができる。タッチ配線７５０は発光領域ＥＡと透過領域ＴＡとの間で延びることができる。例えば、タッチ配線７５０はルーティングライン７００に平行に延びることができる。タッチ配線７５０は導電性物質を含むことができる。タッチ配線７５０は各タッチ電極のタッチパターン６００と違う物質を含むことができる。タッチ配線７５０は各タッチ電極のタッチパターン６００より低い抵抗を有することができる。例えば、タッチ配線７５０は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）及びタングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。タッチ配線７５０はルーティングライン７００の一つと連結されることができる。これにより、本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は使用者及び／又は道具のタッチ感知に対する正確性を一層向上させることができる。
本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ電極ＴＥを覆うタッチ絶縁膜５１０上にルーティングライン７００が位置するものとして説明される。しかし、図５に示したように、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は各タッチ電極のタッチパターン６００がルーティングライン７００と同じ層上に位置することができる。例えば、各タッチ電極のタッチパターン６００及びルーティングライン７００はタッチ絶縁膜５１０上に位置することができる。各ルーティングライン７００は第１導電層７１０及び第２導電層７２０の積層構造を有することができる。第２導電層７２０は第１導電層７１０より低い抵抗を有することができる。第１導電層７１０は第２導電層７２０より高い透過率を有することができる。例えば、第１導電層７１０は各タッチ電極のタッチパターン６００と同じ物質を含むことができる。これにより、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置はルーティングライン７００の抵抗を低めることができる。各タッチ電極のタッチパターン６００は当該ルーティングライン７００の第１導電層７１０と連結されることができる。よって、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は各タッチ電極のタッチパターン６００をルーティングライン７００の一つと連結する工程を単純化することができる。
本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチ電極ＴＥがタッチバッファー膜５００とタッチ絶縁膜５１０との間に位置するものとして説明される。しかし、図６に示したように、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、ルーティングライン７００がタッチバッファー膜５００とタッチ絶縁膜５１０との間に位置し、各タッチ電極のタッチパターン６００がタッチ絶縁膜５１０上に位置することができる。これにより、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は各タッチ電極のタッチパターン６００とルーティングライン７００の相対位置に対する自由度を向上させることができる。
本発明の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、ルーティングライン７００、タッチ電極ＴＥ、ブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０が封止部材４００上に位置するものとして説明される。しかし、図７及び８に示したように、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、ブラックマトリックス８１０、カラーフィルター８２０、ルーティングライン７００及び各タッチ電極のタッチパターン６００が素子基板１００に向かうカバー基板９００の下面上に位置することができる。ブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０はカバー基板９００と直接接触することができる。ルーティングライン７００及び各タッチ電極のタッチパターン６００はブラックマトリックス８１０及びカラーフィルター８２０を覆うカバー平坦化膜５５０上に位置することができる。例えば、各タッチ電極のタッチパターン６００はカバー平坦化膜５５０と接触することができる。素子基板１００の発光領域ＥＡ上に位置する発光素子３００は上部保護膜１５０によって覆われることができる。タッチ絶縁膜５６０によって各タッチ電極のタッチパターン６００と絶縁されるルーティングライン７００はカバー保護膜５７０によって覆われることができる。上部保護膜１５０とカバー保護膜５７０との間には接着層４５０が位置することができる。例えば、封止ダム１０６とカバー平坦化膜５５０との間には接着ダム１０７が位置することができる。接着層４５０は接着ダム１０７によって定義された一定領域内に位置することができる。カバー保護膜５７０、ルーティングライン７００及びタッチ絶縁膜５６０は接着ダム１０７の外側に延びることができる。カバー保護膜５７０は接着ダム１０７の外側で各ルーティングライン７００の一部領域を露出させてタッチパッド７０４を形成することができる。例えば、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置はタッチパッド７０４がカバー基板９００の下面上に位置することができる。これにより、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は、ブラックマトリックス８１０、カラーフィルター８２０、ルーティングライン７００及び各タッチ電極のタッチパターン６００を形成する工程による発光素子３００の損傷を防止することができる。よって、本発明の他の実施例による透明タッチディスプレイ装置は工程効率を向上させることができる。
１００ 素子基板
３００ 発光素子
４００ 封止部材
６００ タッチ電極
７００ ルーティングライン

Claims (12)

  1. 発光領域及び透過領域を含む素子基板であって、外部の光が前記透過領域を通過する、素子基板と、
    前記素子基板の前記発光領域上に位置する発光素子であって、前記透過領域が前記発光領域の外側に配置される発光素子と、
    前記素子基板上に位置し、前記発光素子を覆う封止部材と、
    前記封止部材上に位置し、前記発光領域及び前記透過領域の外側に位置するルーティングラインと、
    前記ルーティングラインと連結され、前記透過領域の前記封止部材上に延びるタッチ電極とを含み、
    前記ルーティングラインは前記封止部材上に順に積層された第１導電層及び第２導電層を含み、
    前記タッチ電極の透過率は前記ルーティングラインの透過率より高く、
    前記第１導電層の透過率は前記第２導電層の透過率より高い、透明タッチディスプレイ装置。
  2. 前記封止部材上に位置し、前記発光領域と重畳するカラーフィルターと、
    前記カラーフィルターと並んで位置し、前記ルーティングラインを覆うブラックマトリックスとをさらに含み、
    前記ブラックマトリックスは前記発光領域及び前記透過領域の外側に位置する、請求項１に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  3. 前記タッチ電極はＩＴＯ及びＩＺＯの一つを含む、請求項１に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  4. 前記素子基板上に位置し、前記封止部材から離隔するタッチパッドをさらに含み、
    前記タッチパッドは前記ルーティングラインと同じ物質を含む、請求項１に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  5. 前記第２導電層は前記第１導電層より高い電気伝導度を有する、請求項１に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  6. 前記タッチ電極は前記第１導電層と同じ物質を含む、請求項１に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  7. 前記タッチ電極は前記ルーティングラインと同じ層上に位置する、請求項６に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  8. 発光領域及び透過領域を含む素子基板であって、外部の光が前記透過領域を通過する、素子基板と、
    前記素子基板の前記発光領域上に位置する発光素子であって、前記透過領域が前記発光領域の外側に配置される発光素子と、
    前記素子基板の前記透過領域上に並んで位置するタッチ電極と、
    前記タッチ電極と個別的に連結され、前記発光領域及び前記透過領域の外側に位置するルーティングラインと、
    前記発光素子、前記タッチ電極及び前記ルーティングライン上に位置するカバー基板と、
    前記素子基板に向かう前記カバー基板の下面上に位置し、前記発光領域と重畳するカラーフィルターと、
    前記カラーフィルターと並んで位置し、前記ルーティングラインと重畳するブラックマトリックスと、
    前記カバー基板の下面上に位置し、前記カラーフィルター及び前記ブラックマトリックスを覆うカバー平坦化膜と、
    前記発光素子を覆う上部保護膜と、
    前記上部保護膜上に位置するカバー保護膜と、
    前記上部保護膜と前記カバー保護膜との間に位置する接着層とを含み、
    前記ルーティングラインは前記タッチ電極より低い抵抗を有し、
    前記ルーティングライン及び前記タッチ電極は前記カバー保護膜と前記カバー平坦化膜との間に位置する透明タッチディスプレイ装置。
  9. 前記ルーティングラインは金属を含む、請求項８に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  10. 各タッチ電極は第１方向及び前記第１方向に垂直な第２方向に延びるメッシュ（ｍｅｓｈ）状のタッチパターンを含む、請求項８に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  11. 各タッチ電極は前記発光領域及び前記透過領域の外側で前記ルーティングラインの一つと連結される、請求項８に記載の透明タッチディスプレイ装置。
  12. 前記ルーティングラインを覆うタッチ絶縁膜をさらに含み、
    前記タッチ電極は前記タッチ絶縁膜上に位置する、請求項８に記載の透明タッチディスプレイ装置。
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