CN114690935A - 透明触摸显示设备 - Google Patents

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金炯洙
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Abstract

本申请涉及透明触摸显示设备。一种透明触摸显示设备，其包括器件基板、触摸电极和布线。器件基板可以包括发光区域和透射区域。触摸电极可以设置在器件基板的透射区域上。布线可以设置在器件基板的发光区域和透射区域的外部。触摸电极的透射率可以高于布线的透射率。因此，在透明触摸显示设备中，可以提高触摸检测的可靠性。

Description

透明触摸显示设备
技术领域
本公开涉及其中触摸电极和布线(routing line)设置在包括发光区域和透射区域的器件基板上的透明触摸显示设备。
背景技术
通常，诸如监视器、TV、膝上型计算机和数码相机之类的电子器具包括显示设备以实现图像。例如，显示设备可以包括发光器件。发光器件可以发出显示特定颜色的光。例如，发光器件可以包括在两个电极之间的发光层。
在显示设备中，器件基板可以包括设置有发光器件的发光区域和设置在发光区域外部的透射区域。例如，当没有实现图像时，显示设备可以是被识别为透明玻璃的透明显示设备。透明显示设备可以检测用户和/或工具的触摸。例如，透明显示设备可以包括设置在器件基板上的触摸电极和布线。通常，触摸电极和布线可以设置在发光区域和透射区域的外部。
发明内容
本申请的发明人新认识到：当增加设置在发光区域和透射区域的外部的触摸电极和布线的数量以进行触摸的精确检测时，透明显示设备的透射率可能会降低。此外，在透明显示设备中，可能会发生由于布线的密度导致的触摸信号的失真。
因此，本公开涉及一种透明触摸显示设备，其基本消除了由于相关技术的限制和缺点而导致的一个或更多个问题。
本公开的一目的是提供一种其中透射率的降低被最小化并且精确地检测用户和/或工具的触摸的透明触摸显示设备。
本公开的另一目的是提供一种能够提高触摸检测的可靠性的透明触摸显示设备。
本发明的附加的优点、目的和特征将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将对于本领域普通技术人员在查阅下面的描述后变得显而易见或者可以从本发明的实践中获知。本发明的目的和其它优点可以通过在书面描述及其权利要求以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
为了实现这些目的和其它优点，并且根据本发明的目的，如本文所实施和广泛描述的，提供了一种包括器件基板的透明触摸显示设备。器件基板包括发光区域和透射区域。发光器件和封装元件设置在器件基板上。发光器件设置在器件基板的发光区域上。封装元件覆盖发光器件。布线和接触电极设置在封装元件上。布线设置在发光区域和透射区域的外部。触摸电极连接到布线。触摸电极在透射区域上延伸。触摸电极具有比布线高的透射率。
触摸电极可以设置在封装元件上。
触摸绝缘层可以在触摸电极和布线之间。触摸电极可以通过触摸绝缘层中的触摸接触孔电连接到布线。
滤色器和黑矩阵可以设置在封装元件上。滤色器可以与发光区域交叠。黑矩阵可以与滤色器并排设置。黑矩阵可以覆盖布线。黑矩阵可以设置在发光区域和透射区域的外部。
触摸电极可以包括ITO和IZO中的一者。
触摸焊盘可以设置在器件基板上。触摸焊盘可以与封装元件间隔开。触摸焊盘可以包括与布线相同的材料。
布线可以包括在封装元件上的第一导电层和在第一导电层上的第二导电层。第一导电层的透射率可以高于第二导电层的透射率。
触摸线可以在发光区域和透射区域之间延伸。触摸线可以连接到布线，与布线交叠并且与布线平行地延伸。
第二导电层可以具有比第一导电层更高的电导率。
触摸电极可以包括与第一导电层相同的材料。
触摸电极可以设置在与布线相同的层上。
在另一实施方式中，透明触摸显示设备包括器件基板。器件基板包括发光区域和透射区域。发光器件设置在器件基板的发光区域上。触摸电极并排设置在器件基板的透射区域上。分别连接到触摸电极的布线设置在发光区域和透射区域的外部。触摸电极中的每一个由透明导电材料构成。此外，布线具有比触摸电极低的电阻。
布线可以包括金属。
每个触摸电极可以包括在第一方向和不同于第一方向的第二方向上延伸的网格形状的触摸图案。例如，第二方向可以与第一方向垂直。
每个触摸电极可以在发光区域和透射区域的外部连接到布线中的一条布线。
布线可以被接触绝缘层覆盖。触摸电极可以设置在触摸绝缘层上。
覆盖基板可以设置在发光器件、接触电极和布线上。滤色器、黑矩阵和覆盖平坦化层可以设置在覆盖基板的朝向器件基板的下表面上。滤色器可以与发光区域交叠。黑矩阵可以与滤色器并排设置。黑矩阵可以与布线交叠。覆盖平坦化层可以覆盖滤色器和黑矩阵。
发光器件可以被上钝化层覆盖。覆盖钝化层可以设置在上钝化层上。粘合层可以设置在上钝化层和覆盖钝化层之间。布线和接触电极可以设置在覆盖钝化层和覆盖平坦化层之间。
附图说明
附图被包括以提供对本发明的进一步理解并且被并入且构成本申请的一部分，附图例示了本发明的实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：
图1是示意性地示出根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备的图；
图2是图1中的K区域的放大图；
图3是沿着图2的I-I'截取的图；
图4是沿着图2的II-II'截取的图；
图5至图8是示出根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备的图。
具体实施方式
在下文中，通过参考例示本公开的一些实施方式的附图的以下详细描述，将清楚地理解与本公开的实施方式的上述目的、技术配置和操作效果相关的细节。这里，提供本公开的实施方式是为了允许本公开的技术精神被令人满意地传送给本领域技术人员，并且因此本公开可以以其它形式实施并且不限于下面描述的实施方式。
此外，在整个说明书中，相同或极其相似的元件可以用相同的附图标记表示，并且在附图中，为了方便起见，可能夸大层和区域的长度和厚度。将理解的是，当第一元件被称为在第二元件“上”时，尽管第一元件可以设置在第二元件上以与第二元件接触，但是第三元件可以插置在第一元件和第二元件之间。
这里，诸如例如“第一”和“第二”之类的术语可用于区分任何一个元件与另一元件。然而，在不脱离本公开的技术精神的情况下，第一元件和第二元件可以根据本领域技术人员的方便而任意命名。
在本公开的说明书中使用的术语仅用于描述特定实施方式，而不旨在限制本公开的范围。例如，以单数形式描述的元件旨在包括多个元件，除非上下文另外明确指出。此外，在本公开的说明书中，还将理解的是，术语“包括”和“包含”指定所述特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在，但不排除一个或更多个特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或组合的存在或添加。
除非另有定义，否则本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与示例实施方式所属领域的普通技术人员通常理解的相同含义。还将理解的是，诸如在常用词典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义一致的含义，并且不应当被解释为理想化或过于正式的意义，除非在本文中明确地如此定义。
(实施方式)
图1是示意性地示出根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备的图。图2是图1中的K区域的放大图。图3是沿着图2的I-I'截取的图。图4是沿着图2的II-II'截取的图。
参照图1至图4，根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备可以包括显示面板DP和驱动部件DD、SD、TD和TC。驱动部件DD、SD、TD和TC可以向显示面板DP提供各种信号以实现图像。例如，驱动部件DD、SD、TD和TC可以包括施加数据信号的数据驱动器DD、施加扫描信号的扫描驱动器SD和定时控制器TC。定时控制器TC可以向数据驱动器DD施加视频数字数据和源定时控制信号，并且向扫描驱动器SD施加时钟信号、复位时钟信号和开始信号。
显示面板DP可以生成提供给用户的图像。例如，显示面板DP可以包括设置在器件基板100上的至少一个发光器件300。器件基板100可以包括绝缘材料。例如，器件基板100可以包括玻璃或塑料。在下文中，发光器件300可以被描述成有机发光器件作为本公开的实施方式中的示例，但本公开不限于此。例如，发光器件300可以被实现为诸如微型LED或QLED之类的无机发光器件。
至少一个驱动电路可以设置在器件基板100上。驱动电路可以电连接到发光器件300。驱动电路可以由施加到驱动部件DD、SD、TD和TC的信号控制。例如，驱动电路可以根据扫描信号向发光器件提供对应于数据信号的驱动电流。驱动电路可以包括至少一个薄膜晶体管200。例如，薄膜晶体管200可以包括半导体图案210、栅极绝缘层220、栅电极230、层间绝缘层240、源电极250和漏电极260。
半导体图案210可以包括半导体材料。例如，半导体图案210可以包括非晶硅(a-Si)或多晶硅(poly-Si)。半导体图案210可以是氧化物半导体。例如，半导体图案210可以包括诸如IGZO之类的金属氧化物。半导体图案210可以包括源极区域、漏极区域和沟道区域。沟道区域可以设置在源极区域和漏极区域之间。源极区域和漏极区域可以具有比沟道区域低的电阻。
栅极绝缘层220可以设置在半导体图案210上。栅极绝缘层220可以延伸超过半导体图案210。例如，半导体图案210的侧表面可以被栅极绝缘层220覆盖。栅极绝缘层220可以包括绝缘材料。例如，栅极绝缘层220可以包括硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)。栅极绝缘层220可以包括具有高介电常数的材料。例如，栅极绝缘层220可以包括诸如铪氧化物(HfO)之类的高K材料。栅极绝缘层220可以具有多层结构。
栅电极230可以设置在栅极绝缘层220上。栅电极230可以包括导电材料。例如，栅电极230可以包括诸如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)、铬(Cr)、钼(Mo)和钨(W)之类的金属。栅电极230可以通过栅极绝缘层220与半导体图案210绝缘。栅电极230可以与半导体图案210的沟道区域交叠。例如，半导体图案210的沟道区域可以具有与施加到栅电极230的电压相对应的电导率。
层间绝缘层240可以设置在栅电极230上。层间绝缘层240可以延伸超过栅电极230。例如，栅电极230的侧表面可以被层间绝缘层240覆盖。层间绝缘层240可以在栅电极230的外部与栅极绝缘层220直接接触。层间绝缘层240可以包括绝缘材料。例如，层间绝缘层240可以包括硅氧化物(SiO)。
源电极250可以设置在层间绝缘层240上。源电极250可以包括导电材料。例如，源电极250可以包括诸如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)、铬(Cr)、钼(Mo)和钨(W)之类的金属。源电极250可以通过层间绝缘层240与栅电极230绝缘。例如，源电极250可以包括不同于栅电极230的材料。源电极250可以电连接到半导体图案210的源极区域。例如，栅极绝缘层220和层间绝缘层240可以包括部分暴露半导体图案210的源极区域的源极接触孔。源电极250可以包括与半导体图案210的源极区域交叠的部分。例如，源电极250可以在源极接触孔中与半导体图案210的源极区域直接接触。
漏电极260可以设置在层间绝缘层240上。漏电极260可以包括导电材料。例如，漏电极260可以包括诸如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)、铬(Cr)、钼(Mo)和钨(W)之类的金属。漏极260可以通过层间绝缘层240与栅电极230绝缘。例如，漏电极260可以包括不同于栅电极230的材料。漏电极260可以包括与源电极250相同的材料。漏电极260可以电连接到半导体图案210的漏极区域。漏电极260可以与源电极250间隔开。例如，栅极绝缘层220和层间绝缘层240可以包括部分暴露半导体图案210的漏极区域的漏极接触孔。漏电极260可以包括与半导体图案210的漏极区域交叠的部分。例如，漏电极260可以在漏极接触孔中与半导体图案210的漏极区域直接接触。
第一缓冲层110可以设置在器件基板100和驱动电路之间。第一缓冲层110可以在薄膜晶体管200的形成工艺中防止由于器件基板100导致的污染。例如，第一缓冲层110可以完全覆盖器件基板100的朝向发光器件300的上表面。第一缓冲层110可以包括绝缘材料。例如，第一缓冲层110可以包括硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)。第一缓冲层110可以具有多层结构。
光阻挡图案115可以设置在器件基板100和薄膜晶体管200之间。光阻挡图案115可以防止由于外部光导致的薄膜晶体管200的特性的改变。例如，光阻挡图案115可以包括与半导体图案210交叠的部分。光阻挡图案115可以包括能够阻挡光或吸收光的材料。例如，光阻挡图案115可以包括诸如铝(Al)、银(Ag)和铜(Cu)之类的金属。光阻挡图案115可以与半导体图案210绝缘。例如，光阻挡图案115可以设置在器件基板100和第一缓冲层110之间。光阻挡图案115可以与器件基板100直接接触。
下钝化层120可以设置在驱动电路上。下钝化层120可以防止由于外部冲击和湿气导致的驱动电路的损坏。例如，薄膜晶体管200的与器件基板100相对的上表面可以被下钝化层120覆盖。下钝化层120可以包括绝缘材料。例如，下钝化层120可以包括诸如硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)之类的无机绝缘材料。
下平坦化层130可以设置在下钝化层120上。下平坦化层130可以去除由于驱动电路导致的厚度差。例如，下平坦化层130的朝向发光器件300的上表面可以是平坦表面。下平坦化层130可以包括绝缘材料。下平坦化层130可以包括不同于下钝化层120的材料。例如，下平坦化层130可以包括有机绝缘材料。
发光器件300可以设置在下平坦化层130上。发光器件300可以发出显示特定颜色的光。例如，发光器件300可以包括依次层叠的第一电极310、发光层320和第二电极330。
第一电极310可以包括导电材料。第一电极310可以具有高反射率。例如，第一电极310可以包括诸如铝(Al)和银(Ag)之类的金属。第一电极310可以具有多层结构。例如，第一电极310可以具有其中由金属构成的反射电极设置在由诸如ITO和IZO之类的透明导电材料构成的透明电极之间的结构。
第一电极310可以电连接到薄膜晶体管200。例如，下钝化层120和下平坦化层130可以包括部分暴露薄膜晶体管200的漏电极260的电极接触孔。第一电极310可以包括与薄膜晶体管200的漏电极260交叠的部分。例如，第一电极310可以通过电极接触孔与薄膜晶体管200的漏电极260直接接触。
发光层320可以生成具有与第一电极310和第二电极330之间的电压差相对应的亮度的光。例如，发光层320可以包括包含发光材料的发光材料层(EML)。发光材料可以包括有机材料、无机材料或混合材料。例如，根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备可以是包括由有机材料形成的发光材料层的有机发光显示设备。发光层320可以具有多层结构。例如，发光层320还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一个。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高发光器件300的发光效率。
第二电极330可以包括导电材料。第二电极330可以包括不同于第一电极310的材料。第二电极330可以具有高于第一电极310的透射率。例如，第二电极330可以是由诸如ITO和IZO之类的透明导电材料构成的透明电极。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，从发光层320生成的光可以穿过第二电极330发出。
堤绝缘层140可以设置在下平坦化层130上。堤绝缘层140可以包括绝缘材料。例如，堤绝缘层140可以包括有机绝缘材料。堤绝缘层140可以包括不同于下平坦化层130的材料。堤绝缘层140可以限定器件基板100上的发光区域EA。例如，堤绝缘层140可以覆盖第一电极310的边缘。发光器件300的发光层320和第二电极330可以层叠在第一电极310的由堤绝缘层140暴露的部分上。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以独立地控制发光器件300。
发光器件300的第二电极330可以在堤绝缘层140上延伸。例如，发光器件300的第二电极330可以电连接到相邻发光器件300的第二电极330。例如，发光器件300的第二电极330可以与相邻发光器件300的第二电极330同时形成。堤绝缘层140可以被第二电极330覆盖。
封装元件400可以设置在发光器件300上。封装元件400可以防止由于外部冲击和湿气导致的发光器件300的损坏。封装元件400可以具有多层结构。例如，封装元件400可以包括依次层叠的第一封装层410、第二封装层420和第三封装层430。第一封装层410、第二封装层420和第三封装层430可以包括绝缘材料。第二封装层420可以包括不同于第一封装层410和第三封装层430的材料。例如，第一封装层410和第三封装层430可以包括无机绝缘材料，而第二封装层420可以包括有机绝缘材料。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以有效地防止由于外部冲击和湿气导致的发光器件300的损坏。
器件基板100可以包括发光区域EA和透射区域TA。透射区域TA可以设置在发光区域EA的外部。外部光可以穿过透射区域TA。例如，当未通过发光器件300实现图像时，根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备可以被识别为透明玻璃。发光器件300和驱动电路可以与器件基板100的透射区域TA间隔开。例如，发光器件300可以设置在器件基板100的发光区域EA上。驱动电路的薄膜晶体管200可以设置在器件基板100和发光器件300之间。因此，在透明触摸显示设备中，可以防止由于发光器件300和驱动电路导致的透射率的降低。
至少一个封装坝106可以设置在器件基板100上。封装坝106可以阻挡具有较高流动性的第二封装层420的流动。例如，第二封装层420可以设置在器件基板100的由封装坝106限定的部分上。第一封装层410和第三封装层430可以沿着封装坝106的表面延伸。例如，第三封装层430可以在封装坝106的外部与第一封装层410直接接触。器件基板100的发光区域EA和透射区域TA可以与封装元件400交叠。例如，器件基板100的发光区域EA和透射区域TA可以设置在器件基板100的由封装坝106限定的部分中。封装坝106可以包括绝缘材料。例如，封装坝106可以包括有机绝缘材料。封装坝106可以设置在下平坦化层130上。例如，封装坝106可以包括与堤绝缘层140相同的材料。在另一示例中，封装坝106可以设置在下钝化层120上并且可以包括与下平坦化层130相同的材料。然而，本公开不限于此，并且封装坝106可以具有多层结构，并因此包括与下平坦化层130相同的材料和与堤绝缘层140相同的材料二者。
接触电极TE和布线700可以设置在封装元件400上。每个触摸电极TE可以检测用户和/或工具的触摸。例如，触摸电极TE可以并排设置在封装元件400上。触摸缓冲层500可以设置在封装元件400和触摸电极TE之间，以及封装元件400和布线700之间。触摸缓冲层500可以防止发光器件300由于触摸电极TE和布线700的形成工艺而损坏。触摸缓冲层500可以包括绝缘材料。例如，触摸缓冲层500可以包括诸如硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)之类的无机绝缘材料。
每个触摸电极TE可以包括设置在器件基板100的透射区域TA上的部分。触摸电极TE可以包括具有高透射率的材料。例如，每个触摸电极TE可以是由诸如ITO和IZO之类的透明导电材料构成的透明电极，但本公开不限于此。每个触摸电极TE可以包括在第一方向和不同于第一方向的第二方向上延伸的网格形状的触摸图案600。然而，本公开不限于此，并且触摸电极TE的形成可以具有除了网格形状之外的各种形状。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以最小化由于触摸电极TE引起的透射率的降低。此外，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以最小化第二电极330和触摸电极TE之间的寄生电容。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以充分地确保用于检测触摸的区域，并且可以提高触摸检测的可靠性。
布线700可以将每个触摸电极TE电连接到驱动部件DD、SD、TD和TC中的触摸检测部件TD。例如，每条布线700可以电连接到一个触摸电极TE。布线700可以包括导电材料。布线700可以具有高于触摸电极TE的电导率。例如，布线700可以包括诸如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)、铬(Cr)、钼(Mo)和钨(W)之类的金属。每条布线700的电阻可以低于每个接触电极TE的电阻。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高根据触摸检测的响应速度。
布线700可以设置在发光区域EA和透射区域TA的外部。例如，每个触摸电极TE可以在发光区域EA和透射区域TA的外部电连接到对应的布线700。布线700可以在一方向上并排延伸。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以防止由于布线700导致的发光面积的减小和透射率的降低。
布线700可以与触摸电极TE设置在不同的层上。例如，覆盖每个触摸电极TE的触摸图案600的触摸绝缘层510可以设置在触摸缓冲层500上，并且布线700可以设置在触摸绝缘层510上。触摸绝缘层510可以包括绝缘材料。例如，接触绝缘层510可以包括诸如硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)之类的无机绝缘材料。触摸绝缘层510可以包括部分地暴露每个触摸电极TE的触摸接触孔。每个触摸电极TE可以通过触摸接触孔中的一个连接到对应的布线700。每个触摸电极TE可以在发光区域EA和透射区域TA的外部连接到对应的布线700。例如，每个触摸电极TE的触摸图案600可以具有从对应的布线700延伸到透射区域TA的形状。
黑矩阵810和滤色器820可以设置在布线700上。黑矩阵810可以设置在布线700上。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以通过黑矩阵810防止由于布线700引起的莫尔(moire)现象。黑矩阵810可以设置在发光区域EA和透射区域TA之间。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以防止由于黑矩阵810引起的发光面积的减小和透射率的降低。
滤色器820可以与黑矩阵810并排设置。例如，滤色器820的一端可以与黑矩阵810交叠。滤色器820可以与发光区域EA交叠。由发光器件300生成的光可以穿过滤色器820发出到外部。滤色器820可以使用从发光器件300发出的光来实现特定颜色。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以实现由各种颜色组成的图像。
触摸钝化层520可以设置在布线700和黑矩阵810之间。触摸钝化层520可以防止由于黑矩阵810和滤色器820的形成工艺导致的布线700的损坏。例如，触摸钝化层520可以在发光区域EA和透射区域TA上延伸。触摸钝化层520可以包括绝缘材料。例如，触摸钝化层520可以包括诸如硅氧化物(SiO)和/或硅氮化物(SiN)之类的无机绝缘材料。
黑矩阵810和滤色器820可以由覆盖平坦化层550覆盖。覆盖平坦化层550可以去除由于黑矩阵810和滤色器820引起的厚度差。覆盖平坦化层550可以包括绝缘材料。覆盖平坦化层550可以包括透明材料。例如，覆盖平坦化层550可以包括有机绝缘材料。
覆盖基板900可以设置在覆盖平坦化层550上。覆盖基板900可以通过覆盖粘合层901附接在覆盖平坦化层550上。覆盖基板900可以减轻外部冲击。覆盖基板900可以包括绝缘材料。覆盖基板900可以包括透明材料。例如，覆盖基板900可以包括玻璃或塑料。偏振片910可以设置在覆盖基板900上。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以防止由于外部光的反射导致的图像的质量劣化。
显示面板DP可以通过焊盘104和704电连接到驱动部件DD、SD、TD和TC。例如，电连接到驱动电路的至少一个显示焊盘104和通过布线700分别连接到触摸电极TE的触摸焊盘704可以设置在器件基板100的一部分上。显示焊盘104和触摸焊盘704可以设置在封装坝106的外部。例如，显示焊盘104和触摸焊盘704可以与封装元件400间隔开。
布线700可以沿着与器件基板100相对的封装元件400的表面延伸，使得每条布线700可以连接到对应的触摸焊盘704。例如，触摸缓冲层500、触摸绝缘层510、布线700和触摸钝化层520可以延伸到封装坝106的外部，并且触摸钝化层520可以暴露每条布线700的一部分。也就是说，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，触摸焊盘704可以包括与布线700相同的材料。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高工艺效率。
因此，根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备可以包括设置在器件基板100的发光区域EA上的发光器件300，并排设置在器件基板100的透射区域TA上的触摸电极TE，以及设置在器件基板100的发光区域EA和透射区域TA的外部的布线700，其中每条布线700可以在发光区域EA和透射区域TA的外部连接到触摸电极TE中的一个，并且其中触摸电极TE可以具有高于布线700的透射率。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以最小化透射率的降低，并且可以充分确保布线700之间的空间。此外，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，具有相对高透射率的触摸电极TE可以位于器件基板100的透射区域TA上，从而可以充分地确保用于检测用户和/或工具的触摸的区域。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高触摸检测的可靠性。
根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备被描述为使得用户和/或工具的触摸由在器件基板100的透射区域TA上的触摸电极TE检测。然而，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以检测用户和/或工具在器件基板100的发光区域EA和透射区域TA之间的触摸。例如，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以设置与布线700中的一条布线交叠的触摸线750，如图5所示。触摸线750可以在发光区域EA和透射区域TA之间延伸。例如，触摸线750可以平行于布线700延伸。接触线750可以包括导电材料。触摸线750可以包括与每个触摸电极的触摸图案600不同的材料。触摸线750可以具有比每个触摸电极的触摸图案600低的电阻。例如，接触线750可以包括诸如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)、铬(Cr)、钼(Mo)和钨(W)之类的金属。触摸线750可以连接到布线700中的一条布线。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以进一步提高检测用户和/或工具的触摸的准确性。
根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备被描述为使得布线700设置在覆盖触摸电极TE的触摸绝缘层510上。然而，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，每个触摸电极的触摸图案600可以与布线700设置在相同的层上，如图5所示。例如，每个触摸电极的触摸图案600和布线700可以设置在触摸绝缘层510上。每条布线700可以具有第一导电层710和第二导电层720的层叠结构。第二导电层720可以具有比第一导电层710低的电阻。第一导电层710可以具有高于第二导电层720的透射率。例如，第一导电层710可以包括与每个触摸电极的触摸图案600相同的材料。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，布线700的电阻可以降低。每个触摸电极的触摸图案600可以连接到对应的布线700的第一导电层710。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以简化将每个触摸电极的触摸图案600连接到布线700中的一条布线的工艺。
根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备被描述为使得触摸电极TE设置在触摸缓冲层500和触摸绝缘层510之间。然而，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，布线700可以设置在触摸缓冲层500和触摸绝缘层510之间，并且每个触摸电极的触摸图案600可以设置在触摸绝缘层510上，如图6所示。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高每个触摸电极的触摸图案600与布线700之间的相对位置的自由度。
根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备被描述为使得布线700、触摸电极TE、黑矩阵810和滤色器820设置在封装元件400上。然而，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，黑矩阵810、滤色器820、布线700和每个触摸电极的触摸图案600可以设置在覆盖基板900的朝向器件基板100的下表面上，如图7和图8所示。黑矩阵810和滤色器820可以与覆盖基板900直接接触。布线700和每个触摸电极的触摸图案600可以设置在覆盖黑矩阵810和滤色器820的覆盖平坦化层550上。例如，每个触摸电极的触摸图案600可以与覆盖平坦化层550接触。器件基板100的发光区域EA上的发光器件300可以被上钝化层150覆盖。通过触摸绝缘层560与每个触摸电极的触摸图案600绝缘的布线700可以由覆盖钝化层570覆盖。粘合层450可以设置在上钝化层150和覆盖钝化层570之间。例如，可以在封装坝106和覆盖平坦化层550之间设置粘合坝107。粘合层450可以设置在由粘合坝107限定的区域中。覆盖钝化层570、布线700和接触绝缘层560可以延伸超过粘合坝107。覆盖钝化层570可以暴露每条布线700的一部分以形成触摸焊盘704。例如，触摸焊盘704可以设置在粘合坝107的外部。也就是说，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，触摸焊盘704可以设置在覆盖基板900的下表面上。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以防止由于黑矩阵810、滤色器820、布线700和每个触摸电极的触摸图案600的形成工艺导致的发光器件300的损坏。因此，在根据本公开的另一实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高工艺效率。
结果，根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备可以包括在器件基板的发光区域上的发光器件，在器件基板的透射区域上的触摸电极，以及设置在发光区域和透射区域的外部的布线，其中布线可以分别连接到触摸电极，并且其中触摸电极可以具有比布线高的透射率。因此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以最小化透射率的降低，并且布线可以被充分地隔开。因此，由于布线的密度导致的触摸信号的失真可能被降低或防止。由此，在根据本公开的实施方式的透明触摸显示设备中，可以提高触摸检测的可靠性。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年12月31日提交的韩国专利申请No.10-2020-0189743的优先权，其通过引用合并于此，如同在本文中完全阐述一样。

Claims (20)

1.一种透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备包括：
器件基板，所述器件基板包括发光区域和透射区域；
发光器件，所述发光器件在所述器件基板的所述发光区域上；
封装元件，所述封装元件在所述器件基板上，所述封装元件覆盖所述发光器件；
布线，所述布线在所述封装元件上，所述布线设置在所述发光区域和所述透射区域的外部；以及
触摸电极，所述触摸电极连接到所述布线，所述触摸电极在所述透射区域上延伸，其中，所述触摸电极的透射率高于所述布线的透射率。
2.根据权利要求1所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极被设置在所述封装元件上。
3.根据权利要求2所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括：触摸绝缘层，所述触摸绝缘层在所述触摸电极和所述布线之间，
其中，所述触摸电极通过所述触摸绝缘层中的触摸接触孔电连接到所述布线。
4.根据权利要求1所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括：
滤色器，所述滤色器在所述封装元件上，所述滤色器与所述发光区域交叠；以及
黑矩阵，所述黑矩阵与所述滤色器并排设置，所述黑矩阵覆盖所述布线，
其中，所述黑矩阵被设置在所述发光区域和所述透射区域的外部。
5.根据权利要求1所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极包括ITO和IZO中的一者。
6.根据权利要求1所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括在所述器件基板上的触摸焊盘，所述触摸焊盘与所述封装元件间隔开，
其中，所述触摸焊盘包括与所述布线相同的材料。
7.根据权利要求1所述的透明触摸显示设备，其中，所述布线包括依次层叠在所述封装元件上的第一导电层和第二导电层，并且
其中，所述第一导电层的透射率高于所述第二导电层的透射率。
8.根据权利要求7所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括：触摸线，所述触摸线在所述发光区域和所述透射区域之间延伸，
其中，所述触摸线连接到所述布线，与所述布线交叠并且与所述布线平行地延伸。
9.根据权利要求7所述的透明触摸显示设备，其中，所述第二导电层具有比所述第一导电层更高的电导率。
10.根据权利要求7所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极包括与所述第一导电层相同的材料。
11.根据权利要求10所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极与所述布线设置在同一层上。
12.一种透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备包括：
器件基板，所述器件基板包括发光区域和透射区域；
发光器件，所述发光器件在所述器件基板的所述发光区域上；
触摸电极，所述触摸电极在所述器件基板的所述透射区域上并排设置；以及
布线，所述布线分别与所述触摸电极连接，所述布线设置在所述发光区域和所述透射区域的外部，
其中，所述触摸电极中的每一个由透明导电材料构成。
13.根据权利要求12所述的透明触摸显示设备，其中，所述布线具有比所述触摸电极低的电阻。
14.根据权利要求12所述的透明触摸显示设备，其中，所述布线包括金属。
15.根据权利要求12所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极中的每一个包括在第一方向和不同于所述第一方向的第二方向上延伸的网格形状的触摸图案。
16.根据权利要求15所述的透明触摸显示设备，其中，所述第二方向与所述第一方向垂直。
17.根据权利要求12所述的透明触摸显示设备，其中，所述触摸电极中的每一个在所述发光区域和所述透射区域的外部连接到所述布线中的一条布线。
18.根据权利要求12所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括覆盖所述布线的触摸绝缘层，
其中，所述触摸电极被设置在所述触摸绝缘层上。
19.根据权利要求18所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括：
覆盖基板，所述覆盖基板在所述发光器件、所述触摸电极和所述布线上；
滤色器，所述滤色器在所述覆盖基板的朝向所述器件基板的下表面上，所述滤色器与所述发光器件交叠；
黑矩阵，所述黑矩阵与所述滤色器并排设置，所述黑矩阵与所述布线交叠；以及
覆盖平坦化层，所述覆盖平坦化层在所述覆盖基板的所述下表面上，所述覆盖平坦化层覆盖所述滤色器和所述黑矩阵。
20.根据权利要求19所述的透明触摸显示设备，该透明触摸显示设备还包括：
覆盖所述发光器件的上钝化层；
在所述上钝化层上的覆盖钝化层；以及
在所述上钝化层和所述覆盖钝化层之间的粘合层，
其中，所述布线和所述触摸电极被设置在所述覆盖钝化层和所述覆盖平坦化层之间。
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