TWI816974B - 積層偏光膜之製造方法及積層偏光膜之製造裝置 - Google Patents

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TWI816974B
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Abstract

本發明之課題在於利用凹版塗佈法塗佈活性能量線硬化型接著劑，而製造光學上良好之積層偏光膜。 本發明具有：搬送包含偏光元件之第1膜11與第2膜12，於其搬送過程中於上述第1膜11及第2膜12之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑之步驟；及藉由將上述第1膜11與第2膜12貼合且使上述活性能量線硬化型接著劑硬化而製作積層偏光膜1之步驟；且使用槽之開口率為7%～55%之凹版輥61塗佈上述活性能量線硬化型接著劑。

Description

積層偏光膜之製造方法及積層偏光膜之製造裝置
本發明係關於一種藉由使用接著劑將包含偏光元件之膜與保護膜等其他膜貼合，從而製造積層偏光膜之方法及其製造裝置。
先前，作為液晶顯示裝置或偏光太陽眼鏡等構成材料，使用有包含偏光元件之積層偏光膜。作為上述積層偏光膜，例如使用包含利用碘等二色性物質進行染色之偏光元件及保護該偏光元件之保護膜之積層膜。 例如如專利文獻1及2中所記載般，此種積層偏光膜係藉由將如光硬化型接著劑般之活性能量線硬化型接著劑塗佈於保護膜形成接著劑層，經由該接著劑層將保護膜與偏光元件接著而獲得。 於上述專利文獻中，作為上述接著劑之塗佈方法，使用有利用了凹版輥之凹版塗佈法。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-007080號公報 [專利文獻2]日本專利特開2018-092186號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，已知曉當利用凹版塗佈法塗佈活性能量線硬化型接著劑而製作積層偏光膜時，存在於偏光元件與保護膜之層間產生微細之氣泡之情形。由於積層偏光膜要求較高之光學特性，故而要求以不產生上述微細之氣泡之方式接著偏光元件。
本發明之目的在於提供一種於利用凹版塗佈法塗佈活性能量線硬化型接著劑而製作積層偏光膜之情形時，能夠製造光學上良好之積層偏光膜之方法及其製造裝置。 [解決問題之技術手段]
凹版塗佈法係使用於表面形成有無數個槽(凹部)之凹版輥，將被放入至上述槽之活性能量線硬化型接著劑轉印於膜之塗佈方法。 根據本發明人等之研究，發現根據該槽之開口率會產生活性能量線硬化型接著劑之塗佈斑之情況。如此若產生接著劑之塗佈斑，則於偏光元件與保護膜之層間會產生微細之氣泡。又，通常，積層偏光膜之製造係於搬送偏光元件與保護膜等膜並於其搬送過程中塗佈接著劑而將兩者貼合之生產線上實施。根據本發明人等之研究，發現伴隨製造時間(生產線之運轉時間)之經過，接著劑之塗佈厚度根據凹版輥之槽之開口率而發生變化之情況。亦知曉雖於製造初期未因其塗佈厚度之變化而產生接著劑之塗佈斑，但伴隨製造之進行，接著劑層之厚度發生變化。 發現於如此製造積層偏光膜時，塗佈活性能量線硬化型接著劑之凹版輥之槽之開口率為氣泡產生或接著劑層之厚度變化之要因之一，從而完成了本發明。
本發明之積層偏光膜之製造方法具有：搬送包含偏光元件之第1膜與第2膜，於其搬送過程中於上述第1膜及第2膜之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑之步驟；及藉由將上述第1膜與第2膜貼合且使上述活性能量線硬化型接著劑硬化而製作積層偏光膜之步驟；且使用槽之開口率為7%～55%之凹版輥塗佈上述活性能量線硬化型接著劑。
關於本發明之較佳之製造方法，上述活性能量線硬化型接著劑之塗佈厚度為0.1 μm～5 μm。 關於本發明之較佳之製造方法，於塗佈上述接著劑之步驟中，上述第1膜與第2膜之搬送速度為15 m/分～40 m/分。 關於本發明之較佳之製造方法，於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑於25℃下之黏度為10 mPa・s～50 mPa・s。 關於本發明之較佳之製造方法，於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑之表面張力為50 mN/m以下。
根據本發明之另一態樣，提供一種積層偏光膜之製造裝置。 本發明之積層偏光膜之製造裝置具有：搬送裝置，其分別搬送包含偏光元件之第1膜與第2膜；凹版輥，其於上述第1膜及第2膜之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑；及硬化裝置，其使經由上述活性能量線硬化型接著劑而貼合之上述第1膜與第2膜之上述活性能量線硬化型接著劑硬化；於上述凹版輥之表面形成有複數個開口率為7%～55%之槽。 [發明之效果]
如本發明，使用形成有開口率為7%～55%之槽之凹版輥塗佈活性能量線硬化型接著劑，藉此可製造於包含偏光元件之第1膜與第2膜之層間難以產生微細之氣泡，於長時間內光學上良好之積層偏光膜。
於本說明書中，以「下限值X～上限值Y」所表示之數值範圍係指下限值X以上且上限值Y以下。於分別記載有複數個上述數值範圍之情形時，能夠選擇任意之下限值與任意之上限值來設定「任意之下限值～任意之上限值」。 需注意，各圖係參考性地表示者，各圖中所示之構件等之尺寸、縮小比例及形狀存在與實際之構件不同之情形。
[積層偏光膜] 圖1或圖4係表示藉由本發明之製造方法而獲得之積層偏光膜1之構成例。 於圖1中，本發明之一實施形態之積層偏光膜1依序積層有第2膜12、接著劑層31、第1膜11、接著劑層32、及第3膜13。 於圖2中，本發明之一實施形態之積層偏光膜1依序積層有第2膜12、接著劑層31、第1膜11、接著劑層32、第3膜13、接著劑層33、及第4膜14。 於圖3中，本發明之另一實施形態之積層偏光膜1依序積層有第1膜11、接著劑層31、第2膜12、接著劑層32、及第3膜13。 於圖4中，本發明之另一實施形態之積層偏光膜1依序積層有第1膜11、接著劑層31、及第2膜12。 但，本發明之積層偏光膜並不限定於圖1或圖4之構成例，可進行適當變更。 例如，亦可於上述各構成例之積層偏光膜進而積層1個或複數個第5膜等任意之其他膜。
＜第1膜＞ 第1膜為包含偏光元件之膜。 偏光元件係指具有使僅於特定之1個方向上振動之光(偏光)透過，而將於其以外之方向上振動之光遮斷之性質之光學元件。本發明之偏光元件為柔軟之膜狀。 第1膜只要包含偏光元件即可。 例如，第1膜可為偏光元件本身，亦可為偏光元件與任意之膜積層一體化而成之膜。 具體而言，作為第1膜，例如可列舉：利用二色性物質而染色之親水性聚合物膜(例如利用二色性物質而染色之聚乙烯醇系膜等)、或利用二色性物質而染色之親水性聚合物膜與任意之膜積層一體化而成之膜等。利用上述二色性物質而染色之親水性聚合物膜相當於偏光元件。
＜第2膜、第3膜、第4膜等＞ 第2膜、第3膜及第4膜等其他膜(第1膜以外之膜)均為不包含偏光元件之膜。 第2膜經由接著劑層而接著於第1膜之單面(參照圖1或圖4)。 第3膜視需要經由接著劑層而接著於第1膜之另一單面(參照圖1及圖2)。 第4膜等其他膜視需要經由接著劑層而接著於第3膜等(參照圖2)。
作為第2膜、第3膜及第4膜等其他膜，可使用任意之光學膜。 作為光學膜，可使用先前公知之膜，例如可列舉保護膜、相位差膜、防眩膜、增亮膜、視角擴大膜、透明導電膜等。 第2膜、第3膜及第4膜等其他膜可分別獨立地使用選自保護膜、相位差膜、防眩膜、增亮膜、視角擴大膜、透明導電膜等之膜。 其中，作為第2膜，較佳為使用TAC(Triacetyl Cellulose，三醋酸纖維素)膜等保護膜。於第3膜接著於第1膜之單面之情形時，較佳為使用保護膜作為第3膜。
＜接著劑層＞ 接著劑層為接著劑之固化層，為介置於2個膜之間而接著該2個膜之層。 第1膜與第2膜之層間之接著劑層包含活性能量線硬化型接著劑。 第1膜與第2膜以外之膜之層間之接著劑層可包含活性能量線硬化型接著劑，或者亦可包含除此以外之接著劑。較佳為，接著劑層中之至少第1膜與其他膜之層間之接著劑層包含活性能量線硬化型接著劑，更佳為全部之接著劑層包含活性能量線硬化型接著劑。 具體而言，於圖1及圖2之各積層偏光膜1之情形時，較佳為接著劑層31、32均包含活性能量線硬化型接著劑。於圖3及圖4之各積層偏光膜1之情形時，較佳為接著劑層31包含活性能量線硬化型接著劑。於圖2之積層偏光膜1之情形時，接著劑層33可包含活性能量線硬化型接著劑，或者亦可包含除此以外之接著劑，但較佳為包含活性能量線硬化型接著劑。又，於圖3之積層偏光膜1之情形時，接著劑層32可包含活性能量線硬化型接著劑，或者亦可包含除此以外之接著劑，但較佳為包含活性能量線硬化型接著劑。 活性能量線硬化型接著劑及接著劑層之詳細內容將於[積層偏光膜之製造方法]欄中進行詳述。
[積層偏光膜之製造裝置] 本發明之積層偏光膜之製造裝置具有：搬送裝置，其分別搬送包含偏光元件之第1膜與第2膜；凹版輥，其於上述第1膜及第2膜之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑；及硬化裝置，其使經由活性能量線硬化型接著劑而貼合之上述第1膜與第2膜之上述活性能量線硬化型接著劑硬化。於本發明中，其特徵在於使用形成有複數個具有7%～55%之開口率之槽之凹版輥。
本發明之積層偏光膜之製造裝置可為於製造包含偏光元件之第1膜後於該第1膜上連續地接著第2膜之形式，或者亦可為預先另外準備包含偏光元件之第1膜並於該第1膜上接著第2膜之形式。前一形式為從包含偏光元件之第1膜之製造到接著第2膜獲得積層偏光膜之一連串步驟係於1條生產線上進行之形式，後一形式為包含偏光元件之第1膜之製造係於1條生產線上進行、於該第1膜上接著第2膜而獲得積層偏光膜之步驟係於其他生產線上進行之形式。 本發明之製造裝置較佳為從包含偏光元件之第1膜之製造到至少接著第2膜獲得積層偏光膜之一連串步驟係於1條生產線上進行之卷對卷形式。
圖5係表示積層偏光膜之製造裝置之較佳之構成例。 參照圖5，製造裝置9至少具有：製作包含偏光元件之第1膜之偏光元件製作區域4、及於該第1膜上至少接著第2膜之膜積層區域5。 上述偏光元件製作區域4具有：捲繞有未處理之膜原料片1a之第1輥部41、搬送上述膜原料片1a之搬送裝置42、處理部、及乾燥裝置43。上述處理部係於未處理之膜原料片1a處理二色性物質，使膜原料片1a變化為包含偏光元件之第1膜之部分。處理部自上游側依序具有例如膨潤處理槽4A、染色處理槽4B、交聯處理槽4C、延伸處理槽4D、及清洗處理槽4E。 上述膜積層區域5具有：搬送第1膜11及第2膜12等之搬送裝置51、捲繞有第2膜12之第2輥部52、捲繞有第3膜13之第3輥部53、具有凹版輥61之接著劑塗佈部54、具有夾輥7之貼合部55、使接著劑硬化之硬化裝置56、及捲取所製造之積層偏光膜之捲取輥部57。
・偏光元件製作區域 ＜未處理之膜原料片及搬送裝置＞ 於上述第1輥部41捲繞有未處理之膜原料片1a。膜原料片1a藉由具備導輥等之搬送裝置42而被搬送至處理部。圖5之中空箭頭係表示被搬送之膜之行進方向(搬送方向)。
膜原料片1a為長條帶狀。於本說明書中，長條帶狀係指長邊方向之長度相較短邊方向(與長邊方向正交之方向)之長度充分大之長方形狀。長條帶狀之長邊方向之長度例如為10 m以上，較佳為50 m以上。 膜原料片1a並無特別限定，就二色性物質之染色性優異之方面而言，較佳為使用包含親水性聚合物膜(例如聚乙烯醇系膜等)之膜，更佳為使用親水性聚合物膜。作為包含上述親水性聚合物膜之膜，可列舉積層有親水性聚合物膜與非親水性聚合物膜之膜。於此情形時，較佳為於非親水性聚合物膜之表面及/或背面積層有上述親水性聚合物膜。於此情形時，於非親水性聚合物膜之表面及/或背面積層之親水性聚合物膜可為厚度數μm左右之較薄之膜狀。
作為上述親水性聚合物膜，並無特別限定，可使用先前公知之膜。具體而言，作為親水性聚合物膜，例如可列舉：聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系膜、該等之部分皂化膜等。又，除該等以外，亦可使用PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯配向膜、延伸配向之聚伸乙烯基系膜等。該等之中，尤其是就二色性物質之染色性優異之方面而言，較佳為PVA系聚合物膜。 作為上述PVA系聚合物膜之原料聚合物，例如可列舉：於聚合乙酸乙烯酯之後皂化之聚合物、使少量之不飽和羧酸或不飽和磺酸等可共聚之單體與乙酸乙烯酯共聚而成之聚合物等。上述PVA系聚合物之聚合度並無特別限定，就對水之溶解度之方面等而言，較佳為500～10000，更佳為1000～6000。又，上述PVA系聚合物之皂化度較佳為75莫耳%以上，更佳為98莫耳%～100莫耳%。 未處理之膜原料片1a之厚度並無特別限定，例如為15 μm～110 μm。
＜膨潤處理槽＞ 膨潤處理槽4A為收容有膨潤處理液之處理槽。膨潤處理液使膜原料片1a膨潤。作為上述膨潤處理液，例如可使用水。進而，亦可將於水中適量加入甘油或碘化鉀等碘化合物之水作為膨潤處理液。於添加甘油之情形時，其濃度較佳為5重量%以下，於添加碘化鉀等碘化合物之情形時，其濃度較佳為10重量%以下。
＜染色處理槽＞ 染色處理槽4B為收容有染色處理液之處理槽。染色處理液將膜原料片1a染色。作為上述染色處理液，可列舉包含二色性物質作為有效成分之溶液。作為二色性物質，可列舉碘、有機染料等。較佳為能夠使用使碘溶解於溶劑之溶液作為上述染色處理液。作為上述溶劑，通常使用水，但亦可進一步添加與水具有相容性之有機溶劑。作為染色處理液中之碘之濃度，並無特別限定，較佳為0.01重量%～10重量%，更佳為0.02重量%～7重量%之範圍，進而較佳為0.025重量%～5重量%。為了進一步提高染色效率，視需要，亦可於染色處理液中添加碘化合物。碘化合物係於分子內含有碘及碘以外之元素之化合物，例如可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。
＜交聯處理槽＞ 交聯處理槽4C為收容有交聯處理液之處理槽。交聯處理液交聯經染色之膜原料片1a。作為上述交聯處理液，可使用含有硼化合物之溶液作為有效成分。例如，作為交聯處理液，可使用使硼化合物溶解於溶劑之溶液。作為上述溶劑，通常使用水，但亦可進一步添加與水具有相容性之有機溶劑。作為硼化合物，可列舉硼酸、硼砂等。作為交聯處理液中之硼化合物之濃度，並無特別限定，較佳為1重量%～10重量%，更佳為2重量%～7重量%，進而較佳為2重量%～6重量%。進而，就可獲得具有均勻之光學特性之偏光元件之方面而言，視需要，亦可於上述交聯處理液中添加碘化合物。
＜延伸處理槽＞ 延伸處理槽4D為收容有延伸處理液之處理槽。 延伸處理液並無特別限定，例如可使用含有硼化合物之溶液作為有效成分。作為延伸處理液，例如，可使用硼化合物，及視需要可使用使各種金屬鹽、鋅化合物等溶解於溶劑而成之溶液。作為上述溶劑，通常使用水，但亦可進一步添加與水具有相容性之有機溶劑。作為延伸處理液中之硼化合物之濃度，並無特別限定，較佳為1重量%～10重量%，更佳為2重量%～7重量%。就抑制吸附於膜之碘之溶出之觀點而言，視需要亦可於上述延伸處理液中添加碘化合物。
＜清洗處理槽＞ 清洗處理槽4E為收容有清洗處理液之處理槽。清洗處理液清洗延伸後之膜原料片1a。清洗處理液為清洗附著於膜原料片1a之染色處理液或交聯處理液等處理液之處理液。作為上述清洗處理液，代表地可使用離子交換水、蒸餾水、純水等水。
＜乾燥裝置＞ 乾燥裝置43設置於上述清洗處理槽4E之下游側。乾燥裝置43係為了使處理後之膜乾燥而設置。 再者，於圖示例中，處理部具有膨潤處理槽4A、染色處理槽4B、交聯處理槽4C、延伸處理槽4D及清洗處理槽4E，但亦可省略該等之中之1個或2個處理槽。另一方面，上述處理部進而亦可具有調整處理槽(未圖示)。調整處理槽為收容有調整處理液之處理槽。該調整處理槽於圖5中未圖示，但設置於上述交聯處理槽4C與延伸處理槽4D之間、或設置於延伸處理槽4D與清洗處理槽4E之間。上述調整處理液係用於膜之色相調整等之溶液，可使用包含碘化合物之溶液作為有效成分。 利用乾燥裝置43將清洗後之膜原料片1a乾燥而獲得之膜為包含偏光元件之第1膜11。
・膜積層區域 ＜搬送裝置＞ 膜積層區域5中之搬送裝置51具備導輥等。搬送裝置51將包含上述長條帶狀偏光元件之第1膜11搬送至貼合部55等下游側。又，搬送裝置51將積層於上述第1膜11之長條帶狀第2膜12等向貼合部55等下游側搬送。 圖示例之製造裝置9係能夠於第1膜11之兩面分別積層第2膜12及第3膜13之製造裝置。根據該裝置，可獲得具有如圖1中所示之第2膜12/接著劑層31/包含偏光元件之第1膜11/接著劑層32/第3膜13、之層構成之積層偏光膜。
此種製造裝置9具有捲繞有長條帶狀第2膜12之第2輥部52、及捲繞有長條帶狀第3膜13之第3輥部53。第2輥部52之第2膜12及第3輥部53之第3膜13分別獨立地藉由搬送裝置51自各輥部52、53而搬送至貼合部55等下游側。
＜接著劑塗佈部＞ 接著劑塗佈部54藉由凹版輥61將接著劑塗佈於膜上。接著劑塗佈部54配置於貼合部55之上游側。 於圖示例之製造裝置9中，接著劑塗佈部54分別配置於包含偏光元件之第1膜11之單面側、該第1膜11之另一單面側、第2膜12之單面側及第3膜13之單面側。 利用接著劑塗佈部54將接著劑塗佈於第1膜11之單面且將接著劑塗佈於第2膜12之單面，使兩接著劑層相向而將上述第1膜11與第2膜12貼合，藉此可有效地防止於第1膜11與第2膜12之層間產生氣泡。 同樣地，利用接著劑塗佈部54將接著劑塗佈於第1膜11之單面且將接著劑塗佈於第3膜13之單面，藉由使兩接著劑層相向而貼合上述第1膜11與第3膜13，可有效地防止於第1膜11與第3膜13之層間產生氣泡。
但，若於第1膜11與第2膜12中之至少任一者之單面塗佈接著劑，則能夠將第1膜11與第2膜12接著，故而亦可省略配置於第1膜11之單面側之接著劑塗佈部54及配置於第2膜12之單面側之接著劑塗佈部54中之任一者。同樣地，若於第1膜11與第3膜13中之至少任一者之單面塗佈接著劑，則能夠將第1膜11與第3膜13接著，故而亦可省略配置於第1膜11之單面側之接著劑塗佈部54及配置於第3膜13之單面側之接著劑塗佈部54中之任一者。
接著劑塗佈部54具有：凹版輥61、與凹版輥61對向配置之支承輥62、貯存有接著劑之容器63、及刮刀64。再者，關於配置於第1膜11之單面側及另一單面側之接著劑塗佈部54、54，省略支承輥，使各凹版輥61、61夾住第1膜11而對向配置。 凹版輥61之表面上形成有複數個槽(供接著劑進入之凹部)。凹版輥61以其表面與貯存於容器63內之接著劑接觸之方式繞軸旋轉 (凹版輥61之旋轉方向以箭頭表示)。伴隨旋轉，接著劑附著於凹版輥61之包含槽之表面，多餘之接著劑藉由刮刀64而被刮落到容器63內。藉由使於槽內進入接著劑之凹版輥61與第1膜11等接觸，上述槽內之接著劑被轉印至第1膜11等單面。如此，接著劑分別立體狀地自凹版輥61塗佈於第1膜11等各膜之單面。
圖6表示凹版輥61，於該凹版輥61之表面(周面)形成有複數個槽(凹部)(槽於圖6中未圖示)。 參照圖6，凹版輥61具有支持軸611、固著於支持軸611之中間筒部612、及設置於中間筒部612之外周面並且形成有槽之外周表面部613。 圖7(a)係放大形成於凹版輥61之表面之1個槽614之俯視圖，同圖(b)係包含該槽614之凹版輥61之表面部分之剖視圖。 關於本發明之凹版輥61之槽614，將其開口率設為7%～55%，較佳為設為10%～50%，更佳為設為15%～40%。槽614之開口率(%)利用式：(槽614之深度/槽614之開口寬度)×100而求得。 上述槽614之深度614H係指如同圖(b)所示之自槽614之最深部至表面(凸部之表面)之長度。 上述槽614之開口寬度614W係指如同圖(a)所示之於平行於凹版輥之軸芯方向L之方向上之槽之最大橫寬。
圖7之槽614為俯視大致正六角形狀(大致蜂巢狀)，但槽之俯視形狀並不限定於此，亦可為俯視大致菱形(包括正方形)等。 圖8或圖10係表示本發明之凹版輥61之表面上形成之複數個槽614之形成圖案之放大俯視圖。 參照圖8，於凹版輥61之表面形成有複數個俯視大致正六角形狀(大致蜂巢狀)之槽614。於相鄰之槽614之邊界部分形成有凸部615。各槽614以凸部615為邊界，以一定之角度均勻地配置。再者，上述凸部615係指相對於凹陷之槽614相對突出之部分。凸部615亦稱為堤部。 圖8係俯視大致正六角形狀之槽614以角度60度均勻地配置之例，圖9係俯視大致正六角形狀之槽614以角度30度均勻地配置之例。圖10係俯視大致菱形狀之槽614以角度45度均勻地配置之例。上述角度係指相鄰之2個槽614之中心點連成之線與凹版輥61之軸芯方向L所成之角度(最小之角度)。 再者，本發明之凹版輥61之槽614以將開口率設為7%～55%作為條件，但槽614之俯視形狀及角度並不限定於該等例，可進行適當設計變更。
以開口率成為7%～55%作為條件，槽614之開口寬度及深度並無特別限定。槽614之開口寬度例如可例示10 μm～100 μm左右。槽614之深度能夠根據上述槽614之開口寬度與開口率之關係而適當求出。
槽614之線數(凹版線數)並無特別限定，例如為250線/英吋～2500線/英吋，較佳為300線/英吋～1500線/英吋，更佳為500線/英吋～1400線/英吋。 於本發明中，利用具有以相對較大線數形成之槽614之凹版輥61，能夠以均勻之厚度塗佈接著劑。 又，槽614之容積並無特別限定，可根據上述槽614之俯視形狀、深度及開口寬度等進行設定。例如，槽614之容積係每1平方米凹版輥61之表面為0.5 cm3 ～10 cm3 ，較佳為每1平方米為1 cm3 ～5 cm3 。
於上述凹版輥61之表面形成槽614之方法並無特別限定，可採用先前公知之機械雕刻法、軋邊法等。 再者，需注意，槽614通常並非如圖8或圖10所示之精確之正六角形或正方形等，並且於較多情況下，各形狀之角部分等形成為弧形。
＜接著劑＞ 作為利用上述凹版輥61塗佈之接著劑，可使用活性能量線硬化型接著劑。即，於接著劑塗佈部54之容器63內放入未硬化之活性能量線硬化型接著劑。 作為活性能量線硬化型接著劑，可使用先前公知之活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑通常含有活性能量線硬化性成分及聚合起始劑，視需要含有各種添加劑。 上述活性能量線硬化性成分可大致區分為電子束硬化性、紫外線硬化性、可見光線硬化性。又，就硬化機制之觀點而言，活性能量線硬化性成分可大致區分為自由基聚合性化合物與陽離子聚合性化合物。
作為自由基聚合性化合物，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基等含碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基之化合物。又，可使用單官能自由基聚合性化合物或雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種或可將2種以上併用。作為上述自由基聚合性化合物，較佳為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，例如可列舉具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物、具有(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯等。 於使用自由基聚合性化合物作為活性能量線硬化型接著劑之情形時之聚合起始劑可相應於活性能量線進行適當選擇。於藉由紫外線或可見光線使接著劑硬化之情形時，可使用紫外線分解或可見光線分解之聚合起始劑。作為此種聚合起始劑，例如可列舉二苯甲酮系化合物、芳香族酮化合物、苯乙酮系化合物、芳香族縮酮系化合物、芳香族磺醯氯系化合物、9-氧硫系化合物等。
作為陽離子聚合性化合物，可列舉於分子內具有1個陽離子聚合性官能基之單官能陽離子聚合性化合物、及於分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基之多官能陽離子聚合性化合物等。作為上述陽離子聚合性官能基，可列舉環氧基、氧雜環丁基、乙烯醚基等。作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，可列舉脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物等。作為具有氧雜環丁基之陽離子聚合性化合物，3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基甲基] 苯、3-乙基-3-(苯氧甲基)氧雜環丁烷等。作為具有乙烯醚基之陽離子聚合性化合物，可列舉2-羥乙基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚、4-羥丁基乙烯醚等。 於使用陽離子聚合性化合物作為活性能量線硬化型接著劑之情形時，調配陽離子聚合起始劑。該陽離子聚合起始劑藉由可見光線、紫外線、電子束等活性能量線之照射，會產生陽離子種或路易斯酸，引發與陽離子聚合性化合物之環氧基等之聚合反應。作為陽離子聚合起始劑，可使用光酸產生劑及光產鹼劑。
於本發明中，亦可使用利用包含380 nm～450 nm之可見光線之光硬化之活性能量線硬化型接著劑。於此情形時，較佳為使用包含自由基聚合性化合物與聚合起始劑之活性能量線硬化型接著劑。 例如於專利文獻2(特開2018-092186)中揭示有此種活性能量線硬化型接著劑，作為本發明之活性能量線硬化型接著劑，可使用上述專利文獻2中記載之活性能量線硬化型接著劑。於本說明書中，出於紙張之方便，省略對上述專利文獻2之記載之轉記，但將與上述專利文獻2之接著劑相關之記載直接納入本說明書中。
＜貼合部＞ 於貼合部55具備一對夾輥7、7。 包含經由接著劑層而貼合之第1膜11與第2膜12等之積層體被插入夾輥7、7受到按壓。
＜硬化裝置＞ 硬化裝置56係對上述積層體照射活性能量線之裝置。活性能量線可根據活性能量線硬化型接著劑之硬化性進行適當選擇。例如可使用如專利文獻2中記載之能夠照射380 nm～450 nm之可見光線之硬化裝置。 又，如圖5所示，照射活性能量線之硬化裝置56分別配置於積層體之兩面側，較佳為使其能自積層體之兩面側可分別照射活性能量線。 配置於上述兩面側之2個硬化裝置56可隔著積層體而相向地配置，或者亦可如圖5所示般一個硬化裝置56配置於上游側並且另一個硬化裝置56配置於其下游側。於圖示例中，第2膜側之硬化裝置56配置於第3膜側之硬化裝置56之上游側。藉由如此配置，於使將第2膜12接著於第1膜11之接著劑硬化之後，能夠使將第3膜13接著於第1膜11之接著劑硬化。
[積層偏光膜之製造方法] ＜包含偏光元件之第1膜之製造步驟＞ 參照圖5，將未處理之膜原料片1a自第1輥部41拉出，利用搬送裝置42將上述膜原料片1a搬送至膨潤處理槽4A。一面利用膨潤處理槽4A內之導輥42搬送膜原料片1a，一面將上述膜原料片1a浸漬於膨潤處理液，藉此而膜原料片1a膨潤。上述膨潤處理液之溫度並無特別限定，例如為20℃～45℃。將膜原料片1a浸漬於膨潤處理液之時間並無特別限定，例如為5秒～300秒。其次，將膨潤後之膜原料片1a浸漬於染色處理槽4B內之染色處理液，藉此，膜原料片1a藉由二色性物質而被染色。上述染色處理液之溫度並無特別限定，例如為20℃～50℃。將膜原料片1a浸漬於染色處理液時間並無特別限定，例如為5秒～300秒。藉由將染色後之膜原料片1a浸漬於交聯處理槽4C內之交聯處理液，從而使膜原料片1a之二色性物質交聯。上述交聯處理液之溫度並無特別限定，例如為25℃以上，較佳為40℃～70℃。將膜原料片1a浸漬於交聯處理液之時間並無特別限定，例如為5秒～800秒。
於延伸處理槽4D之延伸處理液中，將上述交聯後之膜原料片1a一面利用導輥進行搬送一面延伸。延伸處理液之溫度並無特別限定，例如為40℃～90℃。延伸倍率可根據目的而適當設定，總延伸倍率例如為2倍～7倍，較佳為4.5倍～6.8倍。上述總延伸倍率意指膜原料片1a之最終延伸倍率。藉由將上述延伸後之膜原料片1a浸漬於清洗處理槽4E內之清洗處理液而清洗膜原料片1a。上述清洗處理液之溫度例如為5℃～50℃。清洗時間例如為1秒～300秒。 藉由將上述清洗後之膜原料片1a利用乾燥裝置43進行乾燥，可獲得包含偏光元件之第1膜11。將所獲得之第1膜11繼續搬送至膜積層區域5。
＜接著劑之塗佈步驟＞ 上述包含偏光元件之長條帶狀第1膜11藉由搬送裝置51而搬送至貼合部55。於上述搬送過程中，於第1膜11之兩面藉由凹版輥61而塗佈活性能量線硬化型接著劑。藉由利用凹版輥61塗佈活性能量線硬化型接著劑，從而於第1膜11之兩面分別形成包含活性能量線硬化型接著劑之接著劑層。 另一方面，自第2輥部52拉出長條帶狀第2膜12，藉由搬送裝置51搬送至貼合部55。同樣地，自第3輥部53拉出長條帶狀第3膜13，藉由搬送裝置51搬送至貼合部55。於各個搬送過程中，於第2膜12之單面及第3膜13之單面分別藉由凹版輥61而塗佈活性能量線硬化型接著劑。藉由利用凹版輥61塗佈活性能量線硬化型接著劑，於第2膜12之單面及第3膜13之單面分別形成包含活性能量線硬化型接著劑之接著劑層。
上述接著劑層之塗佈厚度並無特別限定，若過小，則膜之接著強度降低，若過大，則積層偏光膜之厚度相對過大。就該觀點而言，形成於上述第1膜11、第2膜12及第3膜13之接著劑層之塗佈厚度較佳為分別獨立地為0.1 μm～5 μm。
又，塗佈時之活性能量線硬化型接著劑之黏度並無特別限定，若過小或過大，則有產生接著劑之塗佈斑之虞。就該觀點而言，活性能量線硬化型接著劑較佳為將25℃下之黏度調整為10 mPa・s～50 mPa・s，更佳為將25℃下之黏度調整為15 mPa・s～45 mPa・s。本發明之活性能量線硬化型接著劑為無溶劑型，關於此種無溶劑型之活性能量線硬化型接著劑，藉由利用增黏劑等黏性調整劑進行調整，可調整至上述較佳之範圍之黏度。 再者，上述黏度係指利用下述實施例中記載之方法測定之值。
進而，塗佈時之活性能量線硬化型接著劑較佳為表面張力為50 mN/m以下，進而，更佳為5 mN/m～45 mN/m以下。藉由使用具有此種表面張力之活性能量線硬化型接著劑，接著劑自凹版輥61之槽614良好地轉移至第1膜11等 (接著劑被良好地轉印)。 再者，上述表面張力係指利用下述實施例中記載之方法測定之值。
進而，塗佈時之第1膜11、第2膜12及第3膜13之各搬送速度(線速度)並無特別限定，若太快，則有產生氣泡之虞，若太慢，則積層偏光膜之生產效率下降。就該觀點而言，塗佈時之第1膜11、第2膜12及第3膜13之各搬送速度較佳為15 m/分～40 m/分，進而，更佳為20 m/分～35 m/分。
＜積層偏光膜之製作步驟＞ 將形成有上述接著劑層(未硬化之活性能量線硬化型接著劑)之第1膜11、第2膜12及第3膜13分別獨立地搬送至貼合部55。使形成於第1膜11之接著劑層與形成於第2膜12之接著劑層相向，並且一面使形成於第1膜11之接著劑層與形成於第3膜13之接著劑層相向，一面將該等膜插入夾輥7、7之間。藉由經過夾輥7，使第1膜11、第2膜12及第3膜13貼合，可獲得包含第2膜/未硬化之接著劑層/第1膜/未硬化之接著劑層/第3膜之積層體。 藉由硬化裝置56對該積層體照射活性能量線，藉此使活性能量線硬化型接著劑硬化，可獲得包含第2膜/硬化後之接著劑層/第1膜/硬化後之接著劑層/第3膜之積層偏光膜1。再者，包含上述活性能量線硬化型接著劑之接著劑層之硬化前(塗佈時)之厚度與硬化後之厚度實質上相同。 所獲得之積層偏光膜捲取於捲取輥部57。
＜變化例＞ 於上述製造方法中，例示了製造包含第2膜/硬化後之接著劑層/第1膜/硬化後之接著劑層/第3膜之積層偏光膜(圖1中所示之積層偏光膜1)之情形，但並不限定於此。例如，將具有凹版輥之接著劑塗佈部配置於上述積層偏光膜之下游側，於積層偏光膜之單面及/或第4膜之單面塗佈接著劑進行貼合並且使接著劑層硬化，藉此亦可獲得如例如圖2所示之包含第2膜/硬化後之接著劑層/第1膜/硬化後之接著劑層/第3膜/硬化後之接著劑層/第4膜之積層偏光膜1。又，藉由省略上述製造方法中之第3膜相對於第1膜之貼合，可獲得如圖3及圖4所示之於第1膜之單面未積層有其他膜之積層偏光膜1。
進而，於上述製造方法中，於第1膜之兩面塗佈活性能量線硬化型接著劑，於第2膜及第3膜之各單面亦塗佈活性能量線硬化型接著劑，接著劑層以相向之方式貼合，但並不限定於此。例如亦可僅於第1膜之單面或第2膜之單面中之任一者塗佈活性能量線硬化型接著劑形成接著劑層，並經由該接著劑層將第1膜與第2膜貼合。同樣地，亦可僅於第1膜之單面或第3膜之單面中之任一者塗佈活性能量線硬化型接著劑而形成接著劑層，並經由該接著劑層將第1膜與第3膜貼合。
[本發明之優點] 於本發明中，使用形成有具有7%～55%之開口率之槽之凹版輥塗佈活性能量線硬化型接著劑。若利用該凹版輥塗佈活性能量線硬化型接著劑，則難以產生塗佈斑，能夠形成大致均勻之接著劑層。進而，根據本發明，即便長時間地製造積層偏光膜，接著劑層之塗佈厚度亦難以降低，能夠製造均質之積層偏光膜。關於開口率未達7%之凹版輥，因槽之深度相對於開口寬度過小，故而產生活性能量線硬化型接著劑未附著於膜之部位(產生塗佈斑)。關於開口率超過55%之凹版輥，因槽之深度相對於開口寬度過大，故而存在接著劑未完全自槽轉移至膜之情形。因此，若生產線之運轉時間較長，則於槽之最深部殘留活性能量線硬化型接著劑且硬化，藉此槽之容積變小，接著劑層之塗佈厚度逐漸地降低。尤其是於使用有以可見光線進行硬化之活性能量線硬化型接著劑之情形時，因殘留於槽之活性能量線硬化型接著劑於通常之環境下容易硬化，故而若生產線之運轉時間較長，則槽之容積容易變小。 使用形成有具有如本發明之7%～55%之開口率之槽之凹版輥塗佈活性能量線硬化型接著劑，藉此能夠長時間形成均勻之接著劑層。根據本發明，可製造於包含偏光元件之第1膜與第2膜之層間難以產生微細之氣泡，於長時間內光學上良好之積層偏光膜。
[積層偏光膜之用途等] 本發明之積層偏光膜代表性地被用作液晶顯示裝置或有機顯示裝置等顯示器之光學膜。 又，本發明之積層偏光膜並不限定於使用於上述之顯示器之情形，亦可使用於顯示器以外之用途。作為顯示器以外之用途，可列舉光學機器、建築物、醫療、食品領域等。於積層偏光膜使用於光學機器之情形時，該積層偏光膜例如被加工成偏光透鏡、透明電波遮斷膜等。於積層偏光膜使用於電子裝置之情形時，該積層偏光膜例如被加工成調光窗用膜。於積層偏光膜使用於醫療、食品領域之情形時，該積層偏光膜例如被加工成防止光劣化膜等。 [實施例]
以下，對實施例及比較例進行說明，進一步詳述本發明。但，本發明並不限定於下述實施例。
[使用材料] ＜活性能量線硬化型接著劑A＞ 將28.5重量%之1,9-壬二醇二丙烯酸酯、38重量%之羥乙基丙烯醯胺及28.5重量%之丙烯醯基𠰌啉(活性能量線硬化性成分)、與3重量%之IRGACURE 907及2重量%之KAYACURE DETX-S(聚合起始劑)混合，攪拌3小時，藉此獲得活性能量線硬化型接著劑A。 該活性能量線硬化型接著劑A於25℃下之黏度為40 mPa・s，表面張力為35 mN/m。 ＜活性能量線硬化型接著劑B＞ 將55重量%之1,9-壬二醇二丙烯酸酯、10重量%之羥乙基丙烯醯胺及30重量%之丙烯醯基𠰌啉(活性能量線硬化性成分)、與3重量%之IRGACURE 907及2重量%之KAYACURE DETX-S(聚合起始劑)混合，攪拌3小時，藉此獲得活性能量線硬化型接著劑B。 該活性能量線硬化型接著劑A於25℃下之黏度為20 mPa・s，表面張力為25 mN/m。
＜包含偏光元件之第1膜X＞ 使用既有之偏光元件製造裝置，將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度45 μm的聚乙烯醇膜浸漬於30℃之溫水中60秒使其膨潤。其次，浸漬於碘/碘化鉀(重量比＝0.5/8)之濃度0.3%之水溶液中，一面使其延伸至3.5倍一面將膜染色。其後，於65℃之硼酸酯水溶液中以總延伸倍率成為6倍之方式進行延伸。於延伸後，利用40℃之烘箱進行3分鐘乾燥，獲得長條帶狀聚乙烯醇系偏光元件(厚度18 μm)。將該聚乙烯醇系偏光元件設為第1膜X。
＜第2膜Y及第3膜Z＞ 作為第2膜Y，使用厚度52 μm之環狀聚烯烴膜(日本瑞翁(股)公司製造)。 作為第3膜Z，使用厚度60 μm之三乙醯纖維素膜(Fuji Film(股)製造)。
[黏度之測定方法] 活性能量線硬化型接著劑A、B之黏度係於25℃下使用E型旋轉式黏度計(東機產業股份有限公司製造)測定。 [表面張力之測定方法] 活性能量線硬化型接著劑A、B之表面張力係於25℃下使用Drop Master(協和界面科學(股)製造)藉由懸滴法而測定。
[實施例1] 於具有藉由氧化鉻熔射而形成之氧化鉻製表面部之凹版輥之上述表面部，藉由雷射雕刻而以線數1000線/英吋均勻地形成開口寬度25 μm、開口率50%之槽。槽之俯視形狀為如圖8中所示之大致蜂巢狀，將角度設為60度。
於具有如圖5所示之膜積層區域5之既有之裝置之各個接著劑塗佈部54，設置上述製作之實施例1之凹版輥，於容器63中放入活性能量線硬化型接著劑A。將上述第1膜X、第2膜Y及第3膜Z分別以25 m/分之速度搬送，於第2膜Y之單面及第3膜Z之單面分別進行電暈放電處理後，於第1膜X之兩面、第2膜Y之上述單面及第3膜Z之上述單面利用實施例1之凹版輥立體狀地塗佈活性能量線硬化型接著劑A，分別形成塗佈厚度約0.7 μm之接著劑層之後，經過夾輥7、7，獲得第2膜/未硬化之接著劑層/第1膜/未硬化之接著劑層/第3膜之積層體，自該積層體之兩面照射波長為380 nm～450 nm之光使接著劑層硬化，藉此連續地製作積層偏光膜。再者，兩面側之硬化裝置如圖5所示般位置錯開地配置，因此，於使第2膜與第1膜之間之接著劑層硬化之後，使第3膜與第1膜之間之接著劑層硬化。使上述裝置連續運轉約1小時而製作長條帶狀積層偏光膜。
[實施例2] 除使用將槽之開口率設為25%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[實施例3] 除使用將槽之開口率設為25%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥及使用活性能量線硬化型接著劑B代替活性能量線硬化型接著劑A以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[實施例4] 除使用將槽之開口率設為0%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[實施例5] 除使用將槽之開口率設為10%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥及將各膜之搬送速度設為30 m/分以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[實施例6] 除使用將槽之開口率設為35%、將開口寬度設為36 μm、將線數設為700線/英吋之凹版輥及將接著劑層之塗佈厚度設為1.2 μm以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[實施例7] 除使用將槽之開口率設為25%、將開口寬度設為21 μm、將線數設為1200線/英吋之凹版輥及將接著劑層之塗佈厚度設為0.6 μm以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[比較例1] 除使用將槽之開口率設為60%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[比較例2] 除使用將槽之開口率設為5%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[比較例3] 除使用將槽之開口率設為60%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥及使用活性能量線硬化型接著劑B代替活性能量線硬化型接著劑A以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[比較例4] 除使用將槽之開口率設為5%、將開口寬度設為25 μm之凹版輥及使用活性能量線硬化型接著劑B代替活性能量線硬化型接著劑A以外，以與實施例1相同之方式連續地製作積層偏光膜。
[表1]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4
活性能量線硬化型接著劑 A A B A A A A A A B B
槽 線數(線/inch) 1000 1000 1000 1000 1000 700 1200 1000 1000 1000 1000
開口寬度(μm) 25 25 25 25 25 36 21 25 25 25 25
俯視形狀 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢 蜂巢
開口率(%) 50 25 25 10 10 35 25 60 5 60 5
搬送速度(m/分) 25 25 25 25 30 25 25 25 25 25 25
接著劑層之塗佈厚度(μm) 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7 1.2 0.6 0.7 0.7 0.7 0.7
塗佈斑 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 × 〇 ×
氣泡之有無 〇 〇 〇 〇 ∆ 〇 〇 〇 × 〇 ×
接著劑層之厚度降低率(%) 1 1 1 1 1 1 1 3 1 3 1
[塗佈斑之確認] 關於各實施例及比較例中所獲得之積層偏光膜，以如下之方式觀察接著劑之塗佈斑。將塗佈接著劑之後且貼合於第1膜X之前的第2膜Y及第3膜Z分別部分地切出。利用目視觀察該第2膜樣品片及第3膜樣品片之接著劑之塗佈狀態。將其結果示於表1。 表1之○表示無塗佈斑，×表示有塗佈斑。
[氣泡之確認] 關於各實施例及比較例中所獲得之積層偏光膜，以如下之方式確認氣泡之有無。裝置運轉後，於經過約1小時後將所獲得之積層偏光膜取出，利用光學顯微鏡分別放大觀察其兩面(單面與另一單面)，計數氣泡數。上述氣泡數係於5 cm×5 cm之範圍內計數，確認兩面之氣泡數之合計。將其結果示於表1。 表1之○表示氣泡之數量為零，△表示氣泡之數量未達10個，×表示氣泡之數量為10個以上。
[接著劑層之厚度之評價] 於各實施例及比較例中，分別計測於裝置運轉初期所獲得之積層偏光膜之接著劑層之厚度(硬化後之接著劑層之厚度)、及於自上述初期經過1小時後所獲得之積層偏光膜接著劑層之厚度(硬化後之接著劑層之厚度)。該厚度係以第2膜與第1膜之間之接著劑層為對象。又，該厚度係將積層偏光膜於厚度方向上切斷，使用掃描式電子顯微鏡(SEM)進行計測。 根據所計測之運轉初期之積層偏光膜之接著劑層之厚度及運轉1時間後之積層偏光膜之接著劑層之厚度，按照下式，算出接著劑層之厚度降低率(%)。將其結果示於表1。 式：接著劑層之厚度降低率(%)＝{(初期之接著劑層之厚度－1時間後之接著劑層之厚度)/初期之接著劑層之厚度}×100。
由各實施例之結果可知若使用具有10%～50%之開口率之槽之凹版輥，則可製造無塗佈斑、氣泡數較少及厚度降低率較小之積層偏光膜。尤其是於使用開口率超過10%之槽之情形時，亦可獲得實質上無氣泡之積層偏光膜。 另一方面，若如比較例2及4般使用具有5%之開口率之槽之凹版輥，則產生塗佈斑，且產生大量之氣泡。又，若如比較例1及3般使用具有60%之開口率之槽之凹版輥，則於裝置長時間運轉期間，接著劑層之厚度降低。推定其原因在於，於開口率過大之槽中，接著劑逐漸殘留於槽內，伴隨製造之進行，接著劑之塗佈厚度變小。 根據實施例與比較例之比對，藉由使用具有7%～55%之開口率之槽之凹版輥，可製造光學上良好之積層偏光膜。
1:積層偏光膜 1a:膜原料片 4:偏光元件製作區域 4A:膨潤處理槽 4B:染色處理槽 4C:交聯處理槽 4D:延伸處理槽 4E:清洗處理槽 5:膜積層區域 7:夾輥 9:積層偏光膜之製造裝置 11:包含偏光元件之第1膜 12:第2膜 13:第3膜 14:第4膜 31:接著劑層 32:接著劑層 41:第1輥部 42:搬送裝置 43:乾燥裝置 51:搬送裝置 52:第2輥部 53:第3輥部 54:接著劑塗佈部 55:貼合部 56:硬化裝置 57:捲取輥部 61:凹版輥 62:支承輥 63:容器 64:刮刀 611:支持軸 612:中間筒部 613:外周表面部 614:槽 615:凸部
圖1係本發明之一實施形態之積層偏光膜之剖視圖。 圖2係本發明之另一實施形態之積層偏光膜之剖視圖。 圖3係本發明之另一實施形態之積層偏光膜之剖視圖。 圖4係本發明之另一實施形態之積層偏光膜之剖視圖。 圖5係表示本發明之積層偏光膜之製造裝置之概略圖。 圖6係凹版輥之前視圖。 圖7(a)係1個槽之放大俯視圖，(b)係沿(a)之VIIb-VIIb線切斷之剖視圖。 圖8係圖6之VIII部之放大圖，係表示於凹版輥之表面形成之複數個槽之放大俯視圖。 圖9係表示另一實施形態之凹版輥之表面上形成之複數個槽之放大俯視圖。 圖10係表示另一實施形態之凹版輥之表面上形成之複數個槽之放大俯視圖。
1:積層偏光膜
1a:膜原料片
4:偏光元件製作區域
4A:膨潤處理槽
4B:染色處理槽
4C:交聯處理槽
4D:延伸處理槽
4E:清洗處理槽
5:膜積層區域
7:夾輥
9:積層偏光膜之製造裝置
11:包含偏光元件之第1膜
12:第2膜
13:第3膜
41:第1輥部
42:搬送裝置
43:乾燥裝置
51:搬送裝置
52:第2輥部
53:第3輥部
54:接著劑塗佈部
55:貼合部
56:硬化裝置
57:捲取輥部
61:凹版輥
62:支承輥
63:容器
64:刮刀

Claims (9)

  1. 一種積層偏光膜之製造方法，其具有： 搬送包含偏光元件之第1膜與第2膜，於其搬送過程中於上述第1膜及第2膜之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑之步驟；及 藉由將上述第1膜與第2膜貼合且使上述活性能量線硬化型接著劑硬化而製作積層偏光膜之步驟； 且使用槽之開口率為7%～55%之凹版輥塗佈上述活性能量線硬化型接著劑。
  2. 如請求項1之積層偏光膜之製造方法，其中上述活性能量線硬化型接著劑之塗佈厚度為0.1 μm～5 μm。
  3. 如請求項1或2之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述第1膜與第2膜之搬送速度為15 m/分～40 m/分。
  4. 如請求項1或2之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑於25℃下之黏度為10 mPa・s～50 mPa・s。
  5. 如請求項3之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑於25℃下之黏度為10 mPa・s～50 mPa・s。
  6. 如請求項1或2之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑之表面張力為50 mN/m以下。
  7. 如請求項3之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑之表面張力為50 mN/m以下。
  8. 如請求項4之積層偏光膜之製造方法，其中於塗佈上述接著劑之步驟中，上述活性能量線硬化型接著劑之表面張力為50 mN/m以下。
  9. 一種積層偏光膜之製造裝置，其具有： 搬送裝置，其分別搬送包含偏光元件之第1膜與第2膜； 凹版輥，其於上述第1膜及第2膜之至少一者塗佈活性能量線硬化型接著劑；及 硬化裝置，其使經由上述活性能量線硬化型接著劑而貼合之上述第1膜與第2膜之上述活性能量線硬化型接著劑硬化； 且於上述凹版輥之表面形成有複數個開口率為7%～55%之槽。
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