TW202108338A - 積層偏光薄膜之製造方法、偏光件用之乾燥裝置、及偏光件之製造裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於：將經濕式處理製出之偏光件乾燥後，透過接著劑將前述偏光件再與薄膜接著時，可抑制於前述偏光件與薄膜之層間產生微細氣泡。 其解決手段具有以下步驟：偏光件製造步驟，係將長條帶狀親水性聚合物薄膜利用染色處理液染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；乾燥步驟，係將前述偏光件乾燥；及積層步驟，係使用接著劑將前述乾燥後之偏光件再與薄膜接著，藉此獲得積層偏光薄膜；並且，在前述乾燥步驟中，將前述偏光件乾燥成使前述偏光件之寬度方向的收縮率成為15%~20%。

Description

積層偏光薄膜之製造方法、偏光件用之乾燥裝置、及偏光件之製造裝置
本發明涉及藉由將利用濕式延伸法製出之偏光件乾燥、並將乾燥後之偏光件與保護薄膜等任意薄膜接著來製造積層偏光薄膜之方法等。
以往，液晶顯示裝置或偏光太陽眼鏡等構成材料係使用包含偏光件之積層偏光薄膜。前述積層偏光薄膜譬如係使用包含經碘等二色性物質染色之偏光件與用以保護該偏光件之保護薄膜的積層薄膜。 所述積層偏光薄膜譬如可如專利文獻1所記載，以特定接著劑將保護薄膜接著於偏光件之單面或兩面而獲得。 具體而言，可經由以下步驟來獲得積層偏光薄膜：將聚乙烯醇系樹脂薄膜用碘溶液染色的同時進行延伸，再加以水洗，藉此製造偏光件之步驟；將該水洗後之偏光件乾燥之步驟；及，於乾燥後之偏光件透過接著劑貼合保護薄膜之步驟。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2012-041533號公報
發明欲解決之課題 然而，當將藉由前述進行染色且延伸之濕式處理所得之偏光件乾燥後，貼合於保護薄膜時，有空氣進入該層間之情形。結果，有在偏光件與保護薄膜之層間產生微細氣泡之情形。積層偏光薄膜係要求高光學特性。因此，要求以不產生微細氣泡之方式來接著偏光件與薄膜。
本發明之第1目的係一種在將經濕式處理製出之偏光件乾燥後，透過接著劑接著前述偏光件與薄膜來製造積層偏光薄膜之方法，該方法可抑制於偏光件與薄膜之層間產生微細氣泡。 本發明之第2目的係提供一種偏光件用之乾燥裝置及偏光件之製造裝置，該乾燥裝置係將經濕式處理製出之偏光件予以乾燥者，且其係以在接著該偏光件與薄膜時使空氣不易進入之方式將偏光件予以乾燥。
用以解決課題之手段 以親水性聚合物薄膜作為原料薄膜並利用濕式處理製出之長條帶狀偏光件係沿長邊方向(製造生產線之MD方向)延伸。因此，若利用乾燥裝置將經濕式處理製出之偏光件予以乾燥時，大多會在寬度方向(製造生產線的TD方向)上收縮。 本發明人等發現當該偏光件往寬度方向之收縮大時，於乾燥步驟中會於偏光件產生微細的皺紋。後知將於乾燥步驟中產生微細皺紋的偏光件貼合到薄膜時，該皺紋會變成空氣進入的原因，而易於偏光件與薄膜之層間產生微細的氣泡。基於所述知識見解，遂而完成了本發明。
本發明之積層偏光薄膜之製造方法具有以下步驟：偏光件製造步驟，係將長條帶狀親水性聚合物薄膜利用染色處理液染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；乾燥步驟，係將前述偏光件乾燥；及積層步驟，係使用接著劑將前述乾燥後之偏光件再與薄膜接著，藉此獲得積層偏光薄膜；並且，在前述乾燥步驟中，將前述偏光件乾燥成使前述偏光件之寬度方向的收縮率成為15%~20%。
本發明之較佳製造方法係於前述乾燥步驟中，將前述偏光件乾燥成使前述偏光件之水分率成為18重量%以下。 本發明之較佳製造方法係於前述乾燥步驟中，一邊利用包含表面經粗面化之粗面導輥的複數個導輥輸送前述偏光件一邊乾燥前述偏光件。 本發明之較佳製造方法中，前述粗面導輥之表面粗度以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm。 本發明之較佳製造方法係於前述積層步驟中，使用活性能量線硬化型接著劑作為前述接著劑。
根據本發明之另一面向提供一種偏光件用之乾燥裝置。 本發明之乾燥裝置，係將藉由將長條帶狀親水性聚合物薄膜利用染色處理液染色的同時進行延伸而得之長條帶狀偏光件予以乾燥者；該乾燥裝置具有：輸送部，其包含複數個輸送前述偏光件之導輥；及加熱部，其係加熱被前述輸送部輸送之偏光件；並且，前述複數個導輥中之至少1支導輥係表面經粗面化之粗面導輥。較佳為前述粗面導輥之表面粗度以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm。
根據本發明之另一面向提供一種偏光件之製造裝置。 本發明之偏光件之製造裝置具有：濕式處理裝置，其係利用染色處理液將長條帶狀親水性聚合物薄膜染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；及前述乾燥裝置，其係將經前述濕式處理裝置製出之偏光件予以乾燥。
發明效果 根據本發明之製造方法，不易於偏光件與薄膜之層間產生微細的氣泡而可製造光學性良好的積層偏光薄膜。 且，根據本發明之乾燥裝置，可在乾燥時抑制偏光件之收縮且可在乾燥後獲得具有適當水分率之偏光件。
本說明書中，「下限值X~上限值Y」所示數值範圍意指下限值X以上且在上限值Y以下。當前述數值範圍個別記載多個時，可選擇任意下限值與任意上限值，來設定「任意下限值~任意上限值」。 各圖為參考性表示者，須注意各圖所示構件等之尺寸、比例尺及形狀有時與實際之物不同。
[積層偏光薄膜] 可藉由本發明之製造方法獲得之積層偏光薄膜具有偏光件與使用接著劑層接著於前述偏光件之單面的薄膜。該薄膜為與偏光件不同之薄膜。 圖1至圖4係顯示可藉由本發明之製造方法獲得之積層偏光薄膜1的構成例。 在圖1中，本發明之一實施形態之積層偏光薄膜1依序積層有第1薄膜12、接著劑層31、偏光件11、接著劑層32與第2薄膜13。 圖2中，本發明之其他實施形態的積層偏光薄膜1依序積層有第1薄膜12、接著劑層31、偏光件11、接著劑層32、第2薄膜13、接著劑層33與第3薄膜14。 圖3中，本發明之其他實施形態的積層偏光薄膜1依序積層有偏光件11、接著劑層31、第1薄膜12、接著劑層32與第2薄膜13。 圖4中，本發明之其他實施形態的積層偏光薄膜1依序積層有偏光件11、接著劑層31、第1薄膜12。 惟，本發明之積層偏光薄膜不限於圖1至圖4之構成例，可適當變更。 例如，亦可於上述各構成例之積層偏光薄膜進一步積層有1層或多層第4薄膜等任意之其他薄膜(與偏光件不同之薄膜)。
＜偏光件＞ 偏光件係指具有僅使沿特定一方向振動之光(偏光)透射並可遮蔽沿其以外之方向振動之光之性質的光學元件。本發明之偏光件係柔軟的薄膜狀。 具體上，本發明之偏光件係藉由後述濕式處理所製造者。前述偏光件係由經二色性物質染色且經延伸之親水性聚合物薄膜(例如經二色性物質染色且經延伸之聚乙烯醇系薄膜等)構成。
＜第1薄膜、第2薄膜、第3薄膜等＞ 第1薄膜、第2薄膜及第3薄膜等其他薄膜(偏光件以外之薄膜)皆為不含偏光件之薄膜。 第1薄膜係透過接著劑層接著於偏光件之單面(參照圖1至圖4)。 第2薄膜可視需要透過接著劑層接著於偏光件之另一面(參照圖1及圖2)。 第3薄膜等其他薄膜可視需要透過接著劑層接著於第2薄膜等(參照圖2)。
第1薄膜、第2薄膜及第3薄膜等其他薄膜可使用任意之光學薄膜。 光學薄膜可使用以往公知之物，可舉例如保護薄膜、相位差薄膜、防眩薄膜、增亮薄膜、視角提升薄膜、透明導電性薄膜等。 第1薄膜、第2薄膜及第3薄膜等其他薄膜分別獨立可使用選自保護薄膜、相位差薄膜、防眩薄膜、增亮薄膜、視角提升薄膜、透明導電性薄膜等之薄膜。 其中，第1薄膜宜使用TAC薄膜等之保護薄膜。第2薄膜接著於偏光件之單面時，宜使用保護薄膜作為第2薄膜。
＜接著劑層＞ 接著劑層為接著劑之固化層，且係存在於2個薄膜之間將該2個薄膜接著之層。 偏光件與第1薄膜之層間的接著劑層並無特別限定，可使用以往公知的接著劑。接著劑可舉溶劑揮發型接著劑、2液反應型接著劑、活性能量線硬化型接著劑等。較佳可使用活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑宜使用於至少接著偏光件與薄膜時。 例如，為圖1及圖2之各積層偏光薄膜1時，接著劑層31、32宜皆由活性能量線硬化型接著劑所構成。在圖3及圖4之各積層偏光薄膜1之情況時，接著劑層31宜由活性能量線硬化型接著劑構成。在圖2之積層偏光薄膜1之情況時，接著劑層33可由活性能量線硬化型接著劑構成，或可由其以外之接著劑構成，較佳為由活性能量線硬化型接著劑構成。又，在圖3之積層偏光薄膜1的情況時，第1薄膜12與第2薄膜13之層間的接著劑層32可由活性能量線硬化型接著劑構成，或者由其以外之接著劑構成，較佳為由活性能量線硬化型接著劑構成。
[偏光件之製造裝置及積層偏光薄膜之製造裝置] 本發明之偏光件之製造裝置具有：濕式處理裝置，其係利用染色處理液將長條帶狀親水性聚合物薄膜染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；及乾燥裝置，其係將利用前述濕式處理裝置獲得之偏光件予以乾燥。 又，本發明之積層偏光薄膜之製造裝置具有：濕式處理裝置，其係利用染色處理液將長條帶狀親水性聚合物薄膜染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；乾燥裝置，其係將利用前述濕式處理裝置獲得之偏光件予以乾燥；及層合裝置，其係將前述偏光件與其他薄膜予以貼合。
前述偏光件之製造裝置係在利用濕式處理裝置由長條帶狀親水性聚合物薄膜製造長條帶狀偏光件之後，利用乾燥裝置連續乾燥該偏光件。亦即，濕式處理裝置與乾燥裝置配置於一個製造生產線上。 前述積層偏光薄膜之製造裝置可為於經利用前述偏光件之製造裝置乾燥之偏光件上利用層合裝置連續接著其他薄膜之形式。或者，前述積層偏光薄膜之製造裝置亦可為暫時將經利用前述偏光件之製造裝置乾燥之偏光件捲取成捲狀並拉出該捲狀偏光件，再利用層合裝置接著其他薄膜之形式。前者之形式是將從製造偏光件至接著薄膜而獲得積層偏光薄膜之一連串之步驟在一個製造生產線上進行之形式；而後者之形式係將製造偏光件在一個製造生產線上進行，並將於該偏光件上接著薄膜而獲得積層偏光薄膜之步驟在另一個製造生產線上進行之形式。 本發明之積層偏光薄膜之製造裝置宜為捲對捲之形式，該捲對捲之形式係將從製造偏光件至接著薄膜而獲得積層偏光薄膜之一連串之步驟在一個製造生產線上進行之形式。上述形式之積層偏光薄膜的製造裝置中，具有濕式處理裝置及乾燥裝置之偏光件的製造裝置與層合裝置係配置在一個製造生產線上。
圖5係顯示積層偏光薄膜之製造裝置2之構成例。 參照圖5，積層偏光薄膜之製造裝置2自上游側起依序具有濕式處理裝置4、乾燥裝置5及層合裝置6。 前述濕式處理裝置4具有第1滾筒部41、輸送部42及處理部，第1滾筒部41上捲附有長條帶狀之未處理的親水性聚合物薄膜1a，輸送部42係用以輸送前述親水性聚合物薄膜1a者。前述處理部係對未處理之親水性聚合物薄膜1a處理二色性物質，使親水性聚合物薄膜1a變成偏光件1b之部分。 前述乾燥裝置5具有輸送長條帶狀偏光件的輸送部、與對偏光件1b賦予熱以乾燥偏光件1b之加熱部。前述輸送部包含複數個導輥7，且其中至少1支導輥7為表面經粗面化之粗面導輥71。 前述層合裝置6具有：輸送部61，係輸送乾燥後之偏光件1c及第1薄膜12等；捲附有第1薄膜12之第2滾筒部62；捲附有第2薄膜13之第3滾筒部63；接著劑塗敷部64；貼合部65；及捲取製造出之積層偏光薄膜的捲取滾筒部67。
＜濕式處理裝置＞ 濕式處理裝置4包含有處理部，該處理部係藉由染色處理液將長條帶狀親水性聚合物薄膜1a染色同時進行延伸者。濕式處理包括了使包含染色處理液之複數個處理液對親水性聚合物薄膜1a作用且同時延伸親水性聚合物薄膜1a之處理。 濕式處理裝置為以往所公知，而關於本發明之濕式處理裝置4亦可採用以往公知之構成。 前述處理部例如從上游側起依序具有膨潤處理槽4A、染色處理槽4B、交聯處理槽4C、延伸處理槽4D及洗淨處理槽4E。 濕式處理裝置4之輸送部42具有複數個導輥等，係將捲附於第1滾筒部41上之長條帶狀親水性聚合物薄膜1a拉出，輸送至前述處理部。 圖5之空白箭頭表示被輸送之薄膜的行進方向(輸送方向)。
親水性聚合物薄膜1a為長條帶狀。在本說明書中，長條帶狀係指長邊方向之長度較寬度方向(寬度方向係與長邊方向正交之方向)的長度大上甚多之長方形狀。長條帶狀之長邊方向的長度例如為10m以上，且宜為50m以上。 前述親水性聚合物薄膜1a並無特別限定，可使用以往公知之薄膜。具體而言，親水性聚合物薄膜1a可舉例如聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系薄膜、該等部分皂化薄膜等。又，除該等外，還可使用PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯定向薄膜、經延伸定向之聚乙烯系薄膜等。該等中，尤其由二色性物質所帶來之染色性佳來看，以PVA系聚合物薄膜為佳。 前述PVA系聚合物薄膜之原料聚合物可舉例如：乙酸乙烯酯聚合後再皂化的聚合物、相對於乙酸乙烯酯為少量之不飽和羧酸或不飽和磺酸等可共聚之單體共聚而成的聚合物等。前述PVA系聚合物之聚合度並無特別限定，由對水之溶解度的觀點等來看，宜為500~10000，更宜為1000~6000。又，前述PVA系聚合物之皂化度宜為75莫耳%以上，更宜為98莫耳%~100莫耳%。 未處理之親水性聚合物薄膜1a的厚度並無特別限定，例如為15µm~110µm。
膨潤處理槽4A係容置有膨潤處理液的處理槽。膨潤處理液可使親水性聚合物薄膜1a膨潤。前述膨潤處理液譬如可使用水。並且，亦可於水中添加適量之甘油或碘化鉀等碘化合物並將所得之水做成膨潤處理液。添加甘油時，其濃度宜為5重量%以下，而添加碘化鉀等碘化合物時，其濃度宜為10重量%以下。
染色處理槽4B係容置有染色處理液的處理槽。染色處理液可將親水性聚合物薄膜1a染色。前述染色處理液可舉含二色性物質作為有效成分之溶液。二色性物質可舉碘、有機染料等。較佳為前述染色處理液可使用已使碘溶解於溶劑的溶液。前述溶劑一般會使用水，而亦可更添加與水具相溶性之有機溶劑。染色處理液中之碘濃度無特別限定，宜為0.01重量%~10重量%，且0.02重量%~7重量%之範圍較佳，0.025重量%~5重量%更佳。為了更提升染色效率，亦可視需求於染色處理液中添加碘化合物。碘化合物係分子內包含碘與碘以外之元素的化合物，可舉例如：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。
交聯處理槽4C係容置有交聯處理液的處理槽。交聯處理液可使經染色之親水性聚合物薄膜1a交聯。前述交聯處理液可使用含硼化合物作為有效成分之溶液。譬如，交聯處理液可使用已使硼化合物溶解於溶劑的溶液。前述溶劑一般會使用水，而亦可更添加與水具相溶性之有機溶劑。硼化合物可舉硼酸、硼砂等。交聯處理液中之硼化合物的濃度並無特別限定，宜為1重量%~10重量%，且2重量%~7重量%較佳，2重量%~6重量%更佳。並且，由可獲得具有均一光學特性之偏光件的觀點來看，亦可視需要於前述交聯處理液中添加碘化合物。
延伸處理槽4D係容置有延伸處理液的處理槽。 延伸處理液並無特別限定，例如可使用含硼化合物作為有效成分之溶液。延伸處理液譬如可使用使硼化合物及因應需求使各種金屬鹽、鋅化合物等溶解於溶劑之溶液。前述溶劑一般會使用水，而亦可更添加與水具相溶性之有機溶劑。延伸處理液中之硼化合物的濃度並無特別限定，宜為1重量%~10重量%，且2重量%~7重量%更佳。由抑制吸附於薄膜之碘溶出之觀點，亦可視需要於前述延伸處理液中添加碘化合物。
洗淨處理槽4E係容置有洗淨處理液的處理槽。洗淨處理液可洗淨延伸後之親水性聚合物薄膜1a。洗淨處理液係用以洗淨附著於親水性聚合物薄膜1a之染色處理液或交聯處理液等處理液的處理液。前述洗淨處理液代表上可使用離子交換水、蒸餾水、純水等之水。 此外，在圖式例中，處理部具有膨潤處理槽4A、染色處理槽4B、交聯處理槽4C、延伸處理槽4D及洗淨處理槽4E，而在以具有染色處理槽4B為條件下，亦可省略其中1或2個處理槽。另一方面，前述處理部亦可更具有調整處理槽(未圖示)。調整處理槽係容置有調整處理液的處理槽。該調整處理槽中雖未於圖5中顯示，但可設置於前述交聯處理槽4C與延伸處理槽4D之間、或延伸處理槽4D與洗淨處理槽4E之間。前述調整處理液係用以調整薄膜之色相等的溶液，可使用含碘化合物作為有效成分的溶液。
＜乾燥裝置(偏光件用之乾燥裝置)＞ 乾燥裝置5係設置在前述濕式處理裝置4之下游側且在層合裝置6之上游側。在圖式例中，乾燥裝置5係設置在洗淨處理槽4E之下游側。 乾燥裝置5可為1個，或亦可於偏光件之輸送方向上並排設置2個以上。在圖式例中，例如就在偏光件之輸送方向上並排設置有2個乾燥裝置5。以下，將其中一乾燥裝置5稱為「第1乾燥裝置5A」，另一稱為「第2乾燥裝置5B」，並將1個或2個以上之乾燥裝置5統稱為「乾燥裝置5」。 參照圖5及圖6，第1及第2乾燥裝置5A、5B分別具有輸送部與加熱部，該輸送部係輸送藉由前述濕式處理裝置4製出之長條帶狀偏光件1b，該加熱部係對利用前述輸送部沿長邊方向(MD方向)輸送之偏光件1b賦予熱使其乾燥。 加熱部具有譬如腔室521與熱源(未圖示)。腔室521於內部具有可輸送偏光件之空間522。熱源可使用例如溫風。前述腔室521之內壁配置有用以傳送溫風的管道523。前述管道523中複數個送風口524呈開口狀態。經未圖示之熱源加熱的空氣(溫風)通過前述管道523從送風口524送出至腔室521之空間522。另，圖6之箭頭表示溫風之送出。 在腔室521內配置有輸送偏光件1b的輸送部。輸送部具有複數個導輥7。
具體而言，在第1及第2乾燥裝置5A、5B之各腔室521內，乾燥裝置之輸送部係以2支以上之導輥7於長條帶狀偏光件之行進方向上做出間隔而設置。前述輸送部之導輥7宜設有3支以上，更宜設有4支以上。導輥7之數量上限並無特別限定，通常為20支，宜為16支。 在圖式例中，第1及第2乾燥裝置5A、5B分別於腔室521內配置有具有8支導輥7的輸送部。
前述乾燥裝置5(包含第1及第2乾燥裝置5A、5B之乾燥裝置5)之複數個導輥7包含有表面經粗面化之導輥71(本說明書中，將表面經粗面化之導輥稱為「粗面導輥71」)。又，前述複數個導輥7亦可包含有表面經鏡面化之導輥72(在本說明書中，將表面經鏡面化之導輥7稱為「鏡面導輥72」)。
圖7(a)係顯示1支粗面導輥71，圖7(b)係顯示1支鏡面導輥72。 如圖7(a)所示，粗面導輥71之表面(外周面)係做成微細的凹凸面。鏡面導輥72之表面(外周面)係做成實質上不具凹凸面的鏡面。 前述粗面導輥71之表面及鏡面導輥72之表面的材質並無特別限定，係分別獨立而可列舉鋁、鐵等金屬、橡膠、硬質合成樹脂等。粗面導輥71及鏡面導輥72之各直徑及軸方向長度可設定成與以往公知之導輥相同的尺寸。
粗面導輥71之表面的凹凸可凸與凹規律排列，或可為凸與凹不規則排列。 粗面導輥71之表面的粗面化程度並無特別限定，但若粗面化之程度太低，有無法充分獲得抑制微細的氣泡之效果之虞，而若粗面化之程度太高，則有對偏光件造成微細傷痕之虞。 從所述觀點來看，前述粗面導輥71之表面粗度宜以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm，並且以十點平均粗度Rz計為2µm~15µm更佳，以十點平均粗度Rz計為3µm~12µm尤佳。 藉由在利用前述具有以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm之表面粗度的粗面導輥71輸送偏光件1b的同時予以乾燥，可抑制偏光件在寬度方向收縮，並可將偏光件乾燥至成為適當之水分率為止。 此外，鏡面導輥72之表面粗度譬如以十點平均粗度Rz計小於1µm，宜為以十點平均粗度Rz計為0.5µm以下。 本說明書中，十點平均粗度Rz意指JIS B 0601：2013之附件JA中所提Rzjis94 (舊JIS B 0601：1994之十點平均粗度)。
前述乾燥裝置5之複數個導輥7中，至少任一支為粗面導輥71。 令乾燥裝置5(包含第1及第2乾燥裝置5A、5B之乾燥裝置5)所用導輥7的總數為100%時，宜為30%~100%為粗面導輥71，較宜為40%~100%為粗面導輥71，更宜為50%~100%為粗面導輥71。譬如，前述30%為粗面導輥71時，乾燥裝置5(包含第1及第2乾燥裝置5A、5B之乾燥裝置5)之導輥7的30%為粗面導輥71，而70%為粗面導輥71以外之導輥(譬如鏡面導輥72)。當前述100%為粗面導輥71時，表示乾燥裝置5全部之導輥7為粗面導輥71之情形。
在一實施形態中，譬如乾燥裝置5包含第1乾燥裝置5A及第2乾燥裝置5B，且全部導輥7係使用粗面導輥71。 在其他實施形態中，例如如圖6所示，乾燥裝置5包含第1乾燥裝置5A及第2乾燥裝置5B，第1乾燥裝置5A之全部導輥7係使用粗面導輥71，而第2乾燥裝置5B之全部導輥7係使用鏡面導輥72。 在其他實施形態中，例如乾燥裝置5包含第1乾燥裝置5A及第2乾燥裝置5B，第1乾燥裝置5A之全部導輥7係使用鏡面導輥72，而第2乾燥裝置5B之全部導輥7係使用粗面導輥71。 在其他實施形態中，例如乾燥裝置5包含第1乾燥裝置5A及第2乾燥裝置5B，第1乾燥裝置5A之導輥7係交替使用粗面導輥71與鏡面導輥72，且第2乾燥裝置5B之全部導輥7係交替使用粗面導輥71與鏡面導輥72。 在其他實施形態中，例如乾燥裝置5包含第1乾燥裝置5A及第2乾燥裝置5B，第1乾燥裝置5A之導輥7係隨機使用1支或2支以上粗面導輥71與1支或2支以上鏡面導輥72，且第2乾燥裝置5B之導輥7係隨機使用1支或2支以上粗面導輥71與1支或2支以上鏡面導輥72。
＜層合裝置＞ 層合裝置6之輸送部61具備導輥等。前述輸送部61係將經前述乾燥裝置5乾燥之長條帶狀偏光件1c輸送至貼合部65等下游側。且，前述輸送部61係將積層於前述偏光件1c之長條帶狀第1薄膜12等往貼合部65等之下游側輸送。 圖式例之積層偏光薄膜的製造裝置2係可分別於偏光件1c之兩面積層第1薄膜12及第2薄膜13者。根據該裝置，可獲得如圖1所示之具有第1薄膜12/接著劑層31/偏光件11/接著劑層32/第2薄膜13之層構成的積層偏光薄膜1。
所述製造裝置2具有第2滾筒部62與第3滾筒部63，第2滾筒部62捲附有長條帶狀第1薄膜12，第3滾筒部63捲附有長條帶狀第2薄膜13。第2滾筒部62之第1薄膜12及第3滾筒部63之第2薄膜13分別獨立被輸送部61從各滾筒部62、63往貼合部65等之下游側輸送。
接著劑塗敷部64例如係利用凹版滾筒641將接著劑塗佈於薄膜上。接著劑塗敷部64係配置在貼合部65之上游側。 在圖式例之層合裝置6中，接著劑塗敷部64係分別配置於：偏光件1c的單面側、該偏光件1c之另一單面側、第1薄膜12的單面側及第2薄膜13的單面側。 利用接著劑塗敷部64於偏光件1c之單面塗敷接著劑且於第1薄膜12之單面塗敷接著劑，並使兩接著劑層面對面來貼合前述偏光件與第1薄膜12，藉此可有效防止於偏光件與第1薄膜12之層間產生氣泡。同樣地，藉由接著劑塗敷部64於偏光件1c之單面塗敷接著劑且於第2薄膜13之單面塗敷接著劑，並使兩接著劑層面對面來貼合前述偏光件1c與第2薄膜13，藉此可有效防止於偏光件1c與第2薄膜13之層間產生氣泡。
惟，只要於偏光件1c與第1薄膜12中之至少任一者之單面塗佈接著劑便可接著偏光件1c與第1薄膜12，故可省略配置於偏光件1c之單面側的接著劑塗敷部64及配置於第1薄膜12之單面側的接著劑塗敷部64中之任一者。同樣地，只要於偏光件1c與第2薄膜13中之至少任一者之單面塗佈接著劑便可接著偏光件1c與第2薄膜13，故可省略配置於偏光件1c之單面側的接著劑塗敷部64及配置於第2薄膜13之單面側的接著劑塗敷部64中之任一者。
接著劑塗敷部64具有凹版滾筒641、與凹版滾筒641相對向配置的背托滾筒642、儲留有接著劑之容器643及刮刀片644。另，關於配置在偏光件1c之單面側及另一單面側的接著劑塗敷部64，係省略背托滾筒，而各凹版滾筒641係包夾偏光件1c而相對向配置。 凹版滾筒641於表面形成有複數個凹槽(可放入接著劑的凹部)。凹版滾筒641係以使其表面接觸儲留在容器643內之接著劑之方式繞軸旋轉(以箭頭表示凹版滾筒641之旋轉方向)。隨著旋轉，凹版滾筒641之包含凹槽的表面會附著接著劑，而多餘的接著劑會被刮刀片644刮除至容器643內。凹槽內裝有接著劑之凹版滾筒641與偏光件1c等接觸，藉此前述凹槽內之接著劑會轉印至偏光件1c等之單面。依所述方式，各接著劑會分別從凹版滾筒641以平鋪狀塗敷至偏光件1c等各薄膜之單面上。
使偏光件1c與其他薄膜(圖式例中，為第1薄膜12及第2薄膜13)接著的接著劑並無特別限定，如上述宜使用活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑可使用以往公知之物。活性能量線硬化型接著劑一般而言包含活性能量線硬化性成分及聚合引發劑，可視需要包含各種添加劑。 前述活性能量線硬化性成分可大致分類成電子射線硬化性、紫外線硬化性及可見光線硬化性。又，活性能量線硬化性成分在硬化之機制的觀點上可大致分類成自由基聚合性化合物與陽離子聚合性化合物。
自由基聚合性化合物可舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。又，可使用單官能自由基聚合性化合物或二官能以上之多官能自由基聚合性化合物中任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種或併用2種以上。前述自由基聚合性化合物宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，可舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物、具有(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯等。 使用自由基聚合性化合物作為活性能量線硬化型接著劑時，聚合引發劑可因應活性能量線適當選擇。在藉由紫外線或可見光線使接著劑硬化時，可使用紫外線開裂或可見光線開裂之聚合引發劑。所述聚合引發劑可舉例如二苯基酮系化合物、芳香族酮化合物、苯乙酮系化合物、芳香族縮酮系化合物、芳香族磺醯氯系化合物、9-氧硫
Figure 109119712-A0304-12-01
Figure 109119712-A0304-12-02
系化合物等。
陽離子聚合性化合物可舉分子內具有1個陽離子聚合性官能基之單官能陽離子聚合性化合物、分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基之多官能陽離子聚合性化合物等。前述陽離子聚合性官能基可舉環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基等。具有環氧基之陽離子聚合性化合物可舉脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物等。具有氧雜環丁烷基之陽離子聚合性化合物可舉3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(苯氧甲基)氧雜環丁烷等。具有乙烯基醚基之陽離子聚合性化合物可舉2-羥乙基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚等。 使用陽離子聚合性化合物作為活性能量線硬化型接著劑時，可摻混陽離子聚合引發劑。該陽離子聚合引發劑藉由照射可見光線、紫外線、電子射線等活性能量線，會產生陽離子種或路易士酸，而與陽離子聚合性化合物之環氧基等開始進行聚合反應。陽離子聚合引發劑可使用光酸產生劑及光鹼產生劑。
本發明中，亦可使用藉由包含380nm~450nm之可見光線的光而硬化之活性能量線硬化型接著劑。此時，宜使用包含自由基聚合性化合物與聚合引發劑之活性能量線硬化型接著劑。 所述活性能量線硬化型接著劑例如揭示於專利文獻1(日本專利特開2018-092186)中，而本發明之活性能量線硬化型接著劑可使用前述專利文獻1所記載之活性能量線硬化型接著劑。本說明書中，為配合書面而省略轉載前述專利文獻1之記載，但本說明書係直接將前述專利文獻1之接著劑之相關記載納入其中。
貼合部65中具備一對夾輥651、651。 由透過接著劑層貼合之偏光件1c與第1薄膜12等所構成之積層薄膜係插通在夾輥651、651而被壓接。 在使用活性能量線硬化型接著劑作為接著劑時，係於貼合部65之下游側配置硬化裝置66。 硬化裝置66係對前述積層體照射活性能量射線之裝置。活性能量射線可因應活性能量線硬化型接著劑之硬化性適當選擇。例如可如專利文獻1所記載使用可照射380nm~450nm之可見光線的硬化裝置66。 又，照射活性能量線之硬化裝置66宜如圖5所示，分別配置於積層體之兩面側，而分別可從積層體之兩面側照射活性能量線。 配置於前述兩面側之2個硬化裝置66可包夾積層體配置成相對向，或者亦可如圖5所示，其中一硬化裝置66配置在上游側且另一硬化裝置66配置在比其更下游側。在圖式例中，第1薄膜側之硬化裝置66係配置於較第2薄膜側之硬化裝置66更上游側。藉由以所述方式配置，可使用以使第1薄膜12接著於偏光件1c之接著劑硬化後，使用以使第2薄膜13接著於偏光件1c的接著劑硬化。
[偏光件之製造方法及積層偏光薄膜之製造方法] ＜偏光件之製造步驟＞ 參照圖5，從第1滾筒部41拉出未處理之親水性聚合物薄膜1a，藉由輸送部42將前述親水性聚合物薄膜1a輸送至膨潤處理槽4A。一邊藉由膨潤處理槽4A內之導輥42輸送親水性聚合物薄膜1a，一邊將前述親水性聚合物薄膜1a浸漬於膨潤處理液中，藉此使親水性聚合物薄膜1a膨潤。前述膨潤處理液之溫度並無特別限定，譬如為20℃~45℃。將親水性聚合物薄膜1a浸漬於膨潤處理液中之時間並無特別限定，例如為5秒~300秒。接著，將膨潤後之親水性聚合物薄膜1a浸漬於染色處理槽4B內之染色處理液中，藉此親水性聚合物薄膜1a會被二色性物質染色。前述染色處理液之溫度並無特別限定，譬如為20℃~50℃。將親水性聚合物薄膜1a浸漬於染色處理液中之時間並無特別限定，例如為5秒~300秒。將染色後之親水性聚合物薄膜1a浸漬於交聯處理槽4C內之交聯處理液中，藉此親水性聚合物薄膜1a的二色性物質便會交聯。前述交聯處理液之溫度並無特別限定，譬如為25℃以上，宜為40℃~70℃。將親水性聚合物薄膜1a浸漬於交聯處理液中之時間並無特別限定，例如為5秒~800秒。
將前述交聯後之親水性聚合物薄膜1a在延伸處理槽4D之延伸處理液中一邊藉由導輥42輸送一邊進行延伸。延伸處理液之溫度並無特別限定，譬如為40℃~90℃。延伸倍率可因應目的適當設定，而總延伸倍率例如為2倍~7倍，宜為4.5倍~6.8倍。前述總延伸倍率意指親水性聚合物薄膜1a最後的延伸倍率。將前述延伸後之親水性聚合物薄膜1a浸漬於洗淨處理槽4E內之洗淨處理液中，藉此洗淨親水性聚合物薄膜1a。前述洗淨處理液之溫度譬如為5℃~50℃。洗淨時間譬如為1秒~300秒。 前述洗淨後之親水性聚合物薄膜會成為偏光件1b。所獲得之偏光件1b接著會被輸送至乾燥裝置5。
＜乾燥步驟＞ 藉由上述濕式處理所得之偏光件1b含有較多水分，因此藉由乾燥裝置5將其乾燥。 利用乾燥裝置5之包含導輥7的輸送部輸送長條帶狀偏光件1b。偏光件1b於通過乾燥裝置5之腔室521內的期間會被加熱部乾燥。 上述濕式處理中，係將親水性聚合物薄膜1a沿長邊方向(MD方向)延伸，因此在利用乾燥裝置5乾燥之期間，偏光件1b會於寬度方向(TD方向)收縮。 在本發明中，使乾燥步驟中偏光件之寬度方向的收縮率成為15%~20%很是重要。藉由令乾燥步驟中偏光件的收縮率為15%~20%，則於接著乾燥後的偏光件1c與薄膜12時空氣變得不易進入。較佳為將偏光件乾燥成使前述收縮率成為16%~19%。 於此，偏光件之寬度方向的收縮率係分別測量將要進入乾燥裝置5之前之偏光件1b的寬度方向的長度(乾燥前的長度)、與剛從乾燥裝置5出來之後之偏光件1c之寬度方向的長度(乾燥後的長度)，並代入下述式而求得。 收縮率(%)={(乾燥前之寬度方向的長度-乾燥後之寬度方向長度)/乾燥前之寬度方向的長度}×100。
又，宜以使乾燥後之偏光件1c的水分率盡可能地小之方式將前述偏光件1b予以乾燥。例如，乾燥後(在乾燥步驟中乾燥後)之偏光件1c的水分率宜為18重量%以下，17重量%以下較佳，16重量%以下更佳。前述水分率宜盡可能地小，因此其下限值並無特別限定，惟實際上不易乾燥到水分率成為零為止，故由此來看乾燥後之偏光件1c的水分率譬如為10重量%以上，且進一步為12重量%以上。 前述水分率係指乾燥後之偏光件1c中所含水分的比率。前述水分率係分別測定在乾燥步驟中乾燥後之偏光件1c的重量(乾燥後之偏光件1c的重量)、與從該乾燥後之偏光件1c實質上去除水分後之偏光件的重量(完全乾燥後之偏光件的重量)，並代入下述式而求得。 水分率(重量%)={(乾燥後之偏光件的重量-完全乾燥後之偏光件的重量)/乾燥後之偏光件的重量}×100。
乾燥步驟之乾燥溫度宜設定成乾燥後之偏光件1c的收縮率在前述範圍內且乾燥後之偏光件1c的水分率成為前述範圍。譬如，如上述使用具有腔室521之乾燥裝置5時，腔室521之空間522的溫度(腔室521內之氣體環境溫度)係設定成例如40℃~100℃，且宜設定成50℃~90℃。又，如上述為使用溫風之乾燥裝置5時，溫風之風速係設定成例如1m/秒~30m/秒，且宜設定成2m/秒~20m/秒。
乾燥步驟之路徑長度宜設定成乾燥後之偏光件1c的收縮率在前述範圍內且使乾燥後之偏光件1c的水分率成為前述範圍。例如，乾燥步驟之路徑長度係設定為15m~45m，且宜設定為20m~40m。另，乾燥步驟之路徑長度係指從乾燥裝置5之最初的導輥7(入口側之導輥)至最後之導輥7(出口側之導輥)為止之偏光件的輸送長度。如圖6所示，在包含第1及第2乾燥裝置5A、5B之乾燥裝置5中，路徑長度係指從第1乾燥裝置5A之紙面左端的導輥7至第2乾燥裝置5B之紙面右端的導輥7為止之偏光件的輸送長度。 並且，乾燥步驟中之偏光件的輸送速度無特別限定，例如為15m/分鐘~40m/分鐘，且宜為20m/分鐘~35m/分鐘。又，可從前述路徑長度與輸送速度求出乾燥時間。
＜積層步驟＞ 前述乾燥後之長條帶狀偏光件1c藉由輸送部61輸送至貼合部65。在前述輸送過程中，活性能量線硬化型接著劑等接著劑藉由接著劑塗敷部64而塗敷於偏光件1c之兩面。藉由塗敷接著劑，分別於偏光件1c之兩面形成接著劑層。另一方面，從第2滾筒部62拉出長條帶狀第1薄膜12，藉由輸送部61輸送至貼合部65。同樣地，從第3滾筒部63拉出長條帶狀第2薄膜13，藉由輸送部61輸送至貼合部65。在各輸送過程中，活性能量線硬化型接著劑等接著劑藉由接著劑塗敷部64而分別塗敷於第1薄膜12之單面及第2薄膜13之單面。藉由塗敷接著劑，分別於第1薄膜12之單面及第2薄膜13之單面形成接著劑層。
前述接著劑層之塗敷厚度並無特別限定，但若太小，接著強度會降低，而若太大，則積層偏光薄膜的厚度會相對變得過大。從所述觀點來看，形成於前述偏光件1c、第1薄膜12及第2薄膜13之接著劑層的塗敷厚度分別獨立為0.1µm~5µm為佳。
又，塗敷時的接著劑之黏度並無特別限定，但若太小或太大，則有產生接著劑之塗敷不均之虞。從所述觀點來看，接著劑在25℃下之黏度宜調整成10mPa・s~50mPa・s，且在25℃下之黏度調整成15mPa・s~45mPa・s更佳。此外，前述黏度可在25℃下使用黏度計來測定。 又，塗敷時的偏光件、第1薄膜12及第2薄膜13的各輸送速度(生產線速度)並無特別限定，但若太快，有產生氣泡之虞，而若太慢則積層偏光薄膜之生產效率會降低。從所述觀點來看，塗敷時的偏光件1c、第1薄膜12及第2薄膜13之各輸送速度宜為15m/分鐘~40m/分鐘，且20m/分鐘~35m/分鐘更佳。
形成有前述接著劑層(未硬化之接著劑)的偏光件1c、第1薄膜12及第2薄膜13分別獨立被輸送至貼合部65。一邊使形成於偏光件1c之接著劑層與形成於第1薄膜12之接著劑層面對面，且使形成於偏光件1c之接著劑層與形成於第2薄膜13之接著劑層面對面，同時該等薄膜係插通在夾輥651、651間。藉由通過夾輥651、651，偏光件1c、第1薄膜12及第2薄膜13會貼合，而可獲得由第1薄膜12/未硬化之接著劑層/偏光件1c/未硬化之接著劑層/第2薄膜13構成之積層體。 使用活性能量線硬化型接著劑時，藉由對該積層體利用硬化裝置66照射活性能量線，使活性能量線硬化型接著劑硬化，可獲得由第1薄膜12/硬化後之接著劑層/偏光件1c/硬化後之接著劑層/第2薄膜13所構成的積層偏光薄膜1。此外，由前述活性能量線硬化型接著劑構成之接著劑層之硬化前(塗敷時)之厚度與硬化後之厚度實質上會相同。 所獲得之積層偏光薄膜會被捲取滾筒部67捲取。
＜變形例＞ 上述中，係例示製造由第1薄膜/硬化後之接著劑層/偏光件/硬化後之接著劑層/第2薄膜所構成之積層偏光薄膜(圖1所示積層偏光薄膜1)之情形，但不受此限。例如，於前述積層偏光薄膜之下游側配置接著劑塗敷部，於積層偏光薄膜之單面及/或第3薄膜之單面塗佈接著劑並貼合且使接著劑層硬化，藉此亦可獲得例如如圖2所示之由第1薄膜12/硬化後之接著劑層31/偏光件11/硬化後之接著劑層32/第2薄膜13/硬化後之接著劑層33/第3薄膜14所構成的積層偏光薄膜1。又，藉由省略上述製造方法中第2薄膜對偏光件的貼合，可獲得如圖3及圖4所示之偏光件之單面未積層其他薄膜的積層偏光薄膜1。
並且，上述製造方法係於偏光件1c之兩面塗敷接著劑，且亦於第1薄膜12及第2薄膜13之各單面塗敷接著劑後以使接著劑層相對向來貼合，惟不受此限。譬如，亦可僅於偏光件1c之單面或第1薄膜12之單面中之任一者塗敷接著劑而形成接著劑層，並透過該接著劑層貼合偏光件與第1薄膜12。同樣地，亦可僅於偏光件1c之單面或第2薄膜13之單面中之任一者塗敷接著劑而形成接著劑層，並透過該接著劑層貼合偏光件1c與第2薄膜13。
[本發明之作用效果] 根據本發明之製造方法，不易於偏光件與薄膜之層間產生微細的氣泡而可獲得光學性良好的積層偏光薄膜。 根據本發明人等之研究可知，在將藉由濕式處理獲得之偏光件乾燥時，偏光件若於寬度方向較大幅收縮時，會於偏光件產生微細的皺紋(沿長邊方向延伸之筋條狀皺紋)。而若將產生有所述皺紋的偏光件於後續積層步驟中接著於薄膜時，空氣便容易進入偏光件與薄膜之層間。因此，最後所得積層偏光薄膜之偏光件與薄膜之層間會產生微細氣泡，而該氣泡會使積層偏光薄膜之光學特性降低。故，由防止氣泡產生之觀點來看，宜以使偏光件之收縮率盡可能地小之方式將偏光件予以乾燥。 另一方面，根據本發明人等之研究，乾燥偏光件時偏光件之寬度方向收縮率與乾燥後之偏光件的水分率為抵換關係。具體來說，若欲獲得水分率低之偏光件，乾燥時偏光件會容易收縮(也就是若為了可獲得水分率低之偏光件而將偏光件予以乾燥，則乾燥時之偏光件的收縮率會變大)。相反的，若欲抑制乾燥時偏光件之收縮，則可於乾燥後獲得水分率高的偏光件(也就是以使收縮率變小的方式將偏光件予以乾燥時，乾燥後之偏光件的水分率會變高)。如上所述，乾燥時之偏光件的收縮率與乾燥後之偏光件的水分率具抵換關係。
如本發明，藉由將偏光件乾燥成使偏光件的寬度方向的收縮率成為15%~20%，可抑制前述皺紋產生，並可獲得乾燥後的水分率較低的偏光件。可藉由本發明之製法獲得之積層偏光薄膜如上述微細之氣泡已獲抑制，因此具有良好的光學特性，並且偏光件之水分率成為適當之範圍，故隨時間經過不易發生捲曲等變形。 尤其，藉由使用上述粗面導輥作為乾燥裝置之輸送部，可縮小收縮率將偏光件予以乾燥，且可獲得水分率低之乾燥後的偏光件。本發明人等首次發現一事項：藉由使用上述表面粗度的粗面導輥來乾燥偏光件，可在乾燥時抑制偏光件收縮防止皺紋產生且可獲得水分率低之乾燥後的偏光件。
[積層偏光薄膜之用途等] 本發明之積層偏光薄膜代表上係作為液晶顯示裝置或有機顯示裝置等顯示器之光學薄膜使用。 又，本發明之積層偏光薄膜不限於使用於前述顯示器之情況，亦可使用於顯示器以外之用途。顯示器以外之用途可舉光學機器、建築物、醫療、食品領域等。積層偏光薄膜使用於光學機器時，該積層偏光薄膜譬如可被加工成偏光透鏡、透明電波屏蔽薄膜等。積層偏光薄膜使用於電子組件時，該積層偏光薄膜譬如可被加工成調光窗用薄膜等。積層偏光薄膜使用在醫療、食品領域時，該積層偏光薄膜譬如可被加工成抗光劣化薄膜等。 實施例
以下，說明實施例及比較例，以更詳述本發明。惟，本發明不受下述實施例限定。
[使用材料] ＜粗面導輥A ＞ 準備粗面導輥A，該粗面導輥A係一具有鋁製表面層之導輥且表面粗度(十點平均粗度Rz)為12µm。該粗面導輥A之直徑約110mm，軸方向長度為2000mm。 ＜粗面導輥B ＞ 準備粗面導輥B，該粗面導輥B係一具有鋁製表面層之導輥且表面粗度(十點平均粗度Rz)為3µm。該粗面導輥B之直徑約110mm，軸方向長度為2000mm。 ＜鏡面導輥C＞ 準備鏡面導輥C，該鏡面導輥C係一具有鋁製表面層之導輥且表面粗度(十點平均粗度Rz)為0.3µm。該鏡面導輥C之直徑約110mm，軸方向長度為2000mm。 前述粗面導輥及鏡面導輥之表面粗度(十點平均粗度Rz)係使用依循JIS B 0601：2013之附件JA之十點平均粗度Rzjis94 之表面粗度(東京精密股份公司製，商品名「Surfcom 130A」)來分別測定。
＜活性能量線硬化型接著劑D ＞ 將28.5重量%之1,9-壬二醇二丙烯酸酯、38重量%之羥乙基丙烯醯胺及28.5重量%之丙烯醯基嗎福林(活性能量線硬化性成分)、3重量%之IRGACURE 907及2重量%之KAYACURE DETX-S(聚合引發劑)混合並攪拌3小時，藉此獲得活性能量線硬化型接著劑D。 該活性能量線硬化型接著劑D在25℃下之黏度為40mPa・s，表面張力為35mN/m。
＜第1薄膜E及第2薄膜F ＞ 第1薄膜E係使用厚度52µm之環狀聚烯烴薄膜(日本ZEON(股)製)。 第2薄膜F係使用厚度60µm之三醋酸纖維素薄膜(富士軟片(股)製)。
[黏度之測定方法] 活性能量線硬化型接著劑D的黏度係在25℃下利用E型旋轉式黏度計(東機產業股份公司製)來測定。 [表面張力之測定方法] 活性能量線硬化型接著劑D之表面張力係在25℃下使用Drop Master(協和界面科學(股)製)藉由懸滴法來測定。
[使用之製造裝置] 利用具有濕式處理裝置、乾燥裝置及層合裝置之以往的積層偏光薄膜之製造裝置(圖5所示之製造裝置)。該以往製造裝置所含乾燥裝置如圖6所示，第1乾燥裝置與第2乾燥裝置係配置成連續並排。該第1乾燥裝置及第2乾燥裝置皆為於腔室內設置有13支導輥，且藉由溫風將偏光件予以乾燥之形式。該乾燥裝置之路徑長度為約30m(自第1乾燥裝置之入口側之導輥起至第2乾燥裝置之出口側之導輥為止的路徑長度約30m)。 另，第1乾燥裝置及第2乾燥裝置係在腔室之容積、導輥之數量及配置、送風口之數量及配置等方面相同的裝置。
[實施例1] 前述以往之製造裝置之第1乾燥裝置的所有導輥係安裝上述粗面導輥A，而第2乾燥裝置之所有導輥係安裝上述鏡面導輥C。 使用該實施例1之製造裝置以下述方式製作偏光件並將其乾燥後，於偏光件兩面接著第1薄膜及第2薄膜而製作出積層偏光薄膜。
＜偏光件之製造步驟＞ 使用上述製造裝置之濕式處理裝置，將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%的聚乙烯醇薄膜(厚度45µm，寬度3000mm)浸漬在30℃之溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊使其延伸至3.5倍一邊將薄膜染色。然後，在65℃的硼酸酯水溶液中進行延伸以使總延伸倍率達6倍後進行水洗，藉此製作出長條帶狀偏光件。 ＜偏光件之乾燥步驟＞ 接著，將該偏光件輸送至乾燥裝置內予以乾燥。乾燥裝置之溫風的風速設為3m/秒，腔室內之氣體環境溫度設為約60℃，並以輸送速度25m/分鐘輸送偏光件。 ＜積層步驟＞ 接著，將乾燥後之偏光件一邊在裝置之接著劑塗敷部以25m/分鐘之速度輸送，一邊利用凹版滾筒將活性能量線硬化型接著劑D以平鋪狀塗敷於偏光件之兩面，而形成塗敷厚度1.0µm之接著劑層。同時，亦利用凹版輥筒將活性能量線硬化型接著劑D以平鋪狀分別塗敷於第1薄膜E之單面及第2薄膜F之單面，而形成塗敷厚度1.0µm之接著劑層。疊合該等接著劑層彼此並使其通過夾輥，而獲得第1薄膜/未硬化之接著劑層/偏光件/未硬化之接著劑層/第2薄膜的積層體，並從該積層體之兩面照射波長380nm~450nm的光使接著劑層硬化，藉此連續積層偏光薄膜。
實施例1之偏光件的收縮率為19%，水分率為15%。 偏光件之收縮率係以下述方式測定。 從裝置運轉起約60分鐘後，測量將要進入乾燥裝置之前(從濕式處理裝置出來後且在進入乾燥裝置前)之偏光件的寬度方向的長度之後，測量剛從乾燥裝置出來之後之偏光件的寬度方向的長度。另外，前述測量係針對正在輸送之之偏光件進行。 將將要進入乾燥裝置之前之偏光件的長度(乾燥前之寬度方向的長度)與剛從乾燥裝置出來之後之偏光件的長度(乾燥後之寬度方向的長度)代入下述式，藉此求得偏光件的收縮率。 偏光件的收縮率(%)={(乾燥前之寬度方向的長度-乾燥後之寬度方向的長度)/乾燥前之長度}×100。
偏光件之水分率係依以下方式測定。 從裝置運轉起約60分鐘後，將剛從乾燥裝置出來之後之偏光件的任意位置裁切出正方形而獲得試樣片。裁切後，迅速地在標準狀態下測定試樣片之重量。然後，使用加熱烘箱在120℃下將該試樣片強制乾燥2小時後，在標準狀態下迅速測定該試樣片之重量。又，藉由該強制乾燥，推測試樣片中所含之水分幾乎消失。 將強制乾燥前之試樣片的重量(乾燥後之偏光件的重量)與強制乾燥後之試樣片的重量(完全乾燥後之偏光件的重量)代入下述式而求得偏光件之水分率。 偏光件之水分率(重量%)={(乾燥後之偏光件的重量-完全乾燥後之偏光件的重量)/乾燥後之偏光件的重量}×100。
[實施例2] 除了第1乾燥裝置之所有導輥及第2乾燥裝置之所有導輥安裝了上述粗面導輥A以外，以與實施例1同樣方式製作積層偏光薄膜。 實施例2之偏光件的收縮率為17%，乾燥後之偏光件的水分率為15%。
[實施例3] 除了第1乾燥裝置之所有導輥及第2乾燥裝置之所有導輥安裝了上述粗面導輥B以外，以與實施例1同樣方式製作積層偏光薄膜。 實施例3之偏光件的收縮率為18%，乾燥後之偏光件的水分率為15%。
[比較例] 除了第1乾燥裝置之所有導輥及第2乾燥裝置之所有導輥安裝了上述鏡面導輥C以外，以與實施例1同樣方式製作積層偏光薄膜。 比較例之偏光件的收縮率為21%，乾燥後之偏光件的水分率為15%。
[表1]
Figure 02_image001
[確認氣泡] 針對各實施例及比較例中所得積層偏光薄膜，以下述方式確認有無氣泡。取出裝置運轉後經過約1小時後所得之積層偏光薄膜，利用光學顯微鏡分別放大其兩面(其一面與另一面)後進行觀察，確認有無氣泡產生。前述氣泡係以5cm×5cm之範圍進行計算，並確認兩面之氣泡。茲將結果列於表1。 表1中，「◎」表示無氣泡；「○」表示有確認到些微微細之氣泡，但製品品質無問題；「×」表示有氣泡存在，製品品質有問題。
[評估] 可知乾燥時之偏光件的收縮率為19%之實施例1、該收縮率為17%之實施例2及該收縮率為18%之實施例3，與該收縮率為21%之比較例相比不易產生氣泡。由各實施例與比較例之對比來看，乾燥時之偏光件的收縮率為20%以下時，可抑制微細氣泡產生，並可接著偏光件與薄膜。 並且，由實施例1與實施例2及3之對比可知，藉由使用盡可能多個粗面導輥，可抑制微細氣泡產生，並可接著偏光件與薄膜。
1:積層偏光薄膜 1a:親水性聚合物薄膜 1b:乾燥前之偏光件 1c,11:乾燥後之偏光件 12,13,14:薄膜 31,32,33:接著劑層 2:積層偏光薄膜之製造裝置 4:濕式處理裝置 4A:膨潤處理槽 4B:染色處理槽 4C:交聯處理槽 4D:延伸處理槽 4E:洗淨處理槽 41:第1滾筒部 42:輸送裝置(導輥) 5:偏光件用之乾燥裝置 5A:第1乾燥裝置 5B:第2乾燥裝置 521:腔室 522:空間 523:管道 524:送風口 6:層合裝置 61:輸送裝置 62:第2滾筒部 63:第3滾筒部 64:接著劑塗敷部 641:凹版滾筒 642:背托滾筒 643:容器 644:刮刀片 65:貼合部 651:夾輥 66:硬化裝置 67:捲取滾筒部 7:乾燥裝置之導輥 71:乾燥裝置之粗面導輥 72:鏡面導輥
圖1係本發明之一實施形態之積層偏光薄膜的截面圖。 圖2係本發明之其他實施形態之積層偏光薄膜的截面圖。 圖3係本發明之其他實施形態之積層偏光薄膜的截面圖。 圖4係本發明之其他實施形態之積層偏光薄膜的截面圖。 圖5係顯示本發明之積層偏光薄膜之製造裝置的概略圖。 圖6為本發明之乾燥裝置的放大概略圖。 圖7中，(a)係乾燥裝置使用之粗面導輥的立體圖，(b)為鏡面導輥之立體圖。
1:積層偏光薄膜
1a:親水性聚合物薄膜
1b:乾燥前之偏光件
1c:乾燥後之偏光件
12,13:薄膜
2:積層偏光薄膜之製造裝置
4:濕式處理裝置
4A:膨潤處理槽
4B:染色處理槽
4C:交聯處理槽
4D:延伸處理槽
4E:洗淨處理槽
41:第1滾筒部
42:輸送裝置(導輥)
5:偏光件用之乾燥裝置
5A:第1乾燥裝置
5B:第2乾燥裝置
521:腔室
522:空間
6:層合裝置
61:輸送裝置
62:第2滾筒部
63:第3滾筒部
64:接著劑塗敷部
641:凹版滾筒
642:背托滾筒
643:容器
644:刮刀片
65:貼合部
651:夾輥
66:硬化裝置
67:捲取滾筒部
7:乾燥裝置之導輥

Claims (10)

  1. 一種積層偏光薄膜之製造方法，具有以下步驟： 偏光件製造步驟，係將長條帶狀親水性聚合物薄膜利用染色處理液染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件； 乾燥步驟，係將前述偏光件乾燥；及 積層步驟，係使用接著劑將前述乾燥後之偏光件再與薄膜接著，藉此獲得積層偏光薄膜； 並且，在前述乾燥步驟中，將前述偏光件乾燥成使前述偏光件之寬度方向的收縮率成為15%~20%。
  2. 如請求項1之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述乾燥步驟中，係將前述偏光件乾燥成使前述偏光件之水分率成為18重量%以下。
  3. 如請求項1或2之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述乾燥步驟中，係一邊利用包含表面經粗面化之粗面導輥的複數個導輥輸送前述偏光件一邊乾燥前述偏光件。
  4. 如請求項3之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述粗面導輥之表面粗度以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm。
  5. 如請求項1或2之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述積層步驟中，使用活性能量線硬化型接著劑作為前述接著劑。
  6. 如請求項3之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述積層步驟中，使用活性能量線硬化型接著劑作為前述接著劑。
  7. 如請求項4之積層偏光薄膜之製造方法，其中前述積層步驟中，使用活性能量線硬化型接著劑作為前述接著劑。
  8. 一種偏光件用之乾燥裝置，係將藉由將長條帶狀親水性聚合物薄膜利用染色處理液染色的同時進行延伸而得之長條帶狀偏光件予以乾燥者； 該乾燥裝置具有： 輸送部，其包含複數個輸送前述偏光件之導輥；及 加熱部，其係加熱被前述輸送部輸送之偏光件； 並且，前述複數個導輥中之至少1支導輥係表面經粗面化之粗面導輥。
  9. 如請求項8之偏光件用之乾燥裝置，其中前述粗面導輥之表面粗度以十點平均粗度Rz計為1µm~20µm。
  10. 一種偏光件之製造裝置，具有： 濕式處理裝置，其係利用染色處理液將長條帶狀親水性聚合物薄膜染色的同時進行延伸，藉此來製造長條帶狀偏光件；及 如請求項8或9之乾燥裝置，其係將經前述濕式處理裝置製出之偏光件予以乾燥。
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