TWI816362B - 多管氣體流量檢測裝置與方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種多管氣體流量檢測裝置與方法，檢測裝置包括有氣管連接部、控制閥模組、流量計以及控制單元。氣管連接部用以連接複數個待測噴氣管，每一待測噴氣管內具有待測氣流，氣管連接部具有複數個管路出口。控制閥模組設置於氣管連接部內，且與複數個管路出口耦接。流量計與控制閥模組耦接，用以偵測每一待測噴氣管內之待測氣流之流量。控制單元與流量計以及控制閥模組電性連接，當進行流量檢測方法時，控制單元依序控制每一待測噴氣管內的待測氣流進入流量計，以量測出對應的待測氣流的流量。
Description
本發明為一種流量檢測技術，特別是指一種可以依序檢測多個氣體管路中，每一個氣體管路內的流量的一種多管氣體流量檢測裝置與方法。
請參閱圖1所示，該圖為習用技術之化學氣相沉積反應室剖面示意圖。反應室1具有蓋體10，以及反應室本體11，蓋體10用以封閉反應室內具有腔體空間12，用以提供製程反應的空間，以及容納用以承載晶圓的承載台13。在蓋體10上更設置有氣體供應環14，其內壁環設有複數個噴氣管140，每一個噴氣管140上具有噴嘴141用以供應製程所需的反應氣體進入腔體空間12。
腔體空間12內的反應氣體是影響製程良率的重要因素。由於氣體供應環14具有複數個噴氣管140，每一噴氣管140要如何以均勻的流量供應氣體至腔體空間12內，是一個重要的課題。習用技術中，並沒有成熟的設備或標準檢驗方法來檢測每一個噴氣管140內氣體的流量以及流阻的分佈。
綜合上述，因此需要一種多管氣體流量檢測裝置與方法來解決習用技術之問題。
在上述背景說明段落中所揭露之內容，僅為增進對本發明之背景技術的瞭解，因此，上述之內容含有不構成阻礙本發明之先前技術，且應為本領域習知技藝者所熟知。
本發明提供一種多管氣體流量檢測裝置與方法，其中，透過複數個閥門組合以及自動控制的機制，使用者可以透過簡單的操作，就可以檢測出多個噴氣管內的氣體流量以及管路中流阻的大小。本發明之檢測裝置與方法可以應用在(但不限於)半導體製程設備的氣體分配盤(gas distribution plate,GDP)氣體擴散器(showerhead；diffuser)與噴嘴(gas nozzle)，以及其他控制製程氣體進入腔體的機構件，以相對應的閥門組合及自動控制的設計，達到自動化檢測多管路氣流流量的目的。
在一實施例中，本發明提供一種多管氣體流量檢測裝置，包括有氣管連接部、控制閥模組、流量計以及控制單元。氣管連接部用以連接複數個待測噴氣管，每一待測噴氣管內具有待測氣流，氣管連接部具有複數個管路出口。控制閥模組設置於氣管連接部內，且與複數個管路出口耦接。流量計與控制閥模組耦接，用以偵測每一待測噴氣管內之待測氣流之流量。控制單元與流量計以及控制閥模組電性連接，控制單元依序控制每一待測噴氣管內的待測氣流進入流量計，以量測出對應的待測氣流的流量。
在另一實施例中，本發明提供一種多管氣體流量檢測方法，用以檢測具有複數個待測噴氣管之設備，每一待測噴氣管內具有待測氣流，該方法包括有下列步驟：首先，利用具有控制閥模組的氣管連接部連接該複數個待測噴氣
管，並使複數個待測噴氣管與控制閥模組耦接。然後，藉由控制閥模組使其中之一受測的待測噴氣管內的待測氣流通過流量計，並使其他的待測噴氣管內的待測氣流排出至大氣環境。接著，截取流量計所測得之對應受測之待測噴氣管的流量數據。最後，藉由控制閥模組變更下一個待測噴氣管，重複前述兩步驟複數次直到取得所有待測噴氣管的流量數據。
在一實施例中，多管氣體流量檢測裝置與方法更包括有變換氣管連接部與待測噴氣管連接的治具。其中，治具包含調整機構，透過物理性的旋轉使得該進口前方的橡膠吸嘴可以輕觸到相應之該待測噴氣管之噴嘴的前端並產生氣密效果。控制閥模組使其中之一受測的待測噴氣管內的待測氣流通過流量計之前更包括有根據不同待測噴氣管之測試邊界條件，使該控制閥模組選定治具與參數後進行量測並分析比較不同量測結果之間的差異。
在一實施例中，多管氣體流量檢測裝置與方法更包括有人機介面用以顯示檢測結果，檢測結果為數值表格或為視覺化之彩色分布圖。其中，複數個待測噴氣管分成不同的量測組別，在該人機介面上進行關於該不同量測組別間的比較，並根據比較的結果與自訂義閾值之間的關係來呈現檢測結果間的偏差。
上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚瞭解本發明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本發明的上述和其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合圖式，詳細說明如下。
1:反應室
10:蓋體10
11:反應室本體
12:腔體空間
13:承載台
14:氣體供應環
140:噴氣管
141:噴嘴
2:多管氣體流量檢測裝置
20:氣管連接部
200:進氣接口
201:管路出口
202:位置調整機構
203:調整螺
204:支撐架
205:環形框架
206:延伸架
207:定位元件
208:供氣管路
21:控制閥模組
210、210~210q:控制閥
2100:進口
2101:第一出口
2102:第二出口
22:流量計
23:控制單元
3、3a、3b:製程機台
30:反應腔室
31:容置空間
32:承載台
33:噴氣管
34:蓋體
35:環形表面
90:管路
92:管路
A1~A18:噴氣管
B1~B18:噴氣管
4:多管氣體流量檢測方法
40~46:步驟
所包括的圖式用來提供對本申請實施例的進一步的理解，其構成了說明書的一部分，用於例示本申請的實施方式，並與文字描述一起來闡釋本申請的原理。顯而易見地，下面描述中的圖式僅僅是本申請的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些圖式獲得其他的圖式。在圖式中：圖1為習用技術之化學氣相沉積反應室剖面示意圖；圖2為本發明之多管氣體流量檢測裝置應用於製程機台之一實施例剖面示意圖；圖3A及圖3B為多管氣體流量檢測裝置之控制閥與流量計管路連接之一實施例示意圖；圖4為本發明之檢測方法實施例流程示意圖；及圖5為不同製程機台之噴氣管路示意圖。
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，並不用於限定本發明。
本發明之優點及特徵以及達到其方法將參照例示性實施例及附圖進行更詳細地描述而更容易理解。然而，本發明可以不同形式來實現且不應該被理解僅限於此處所陳述的實施例。相反地，對所屬技術領域具有通常知識者而言，所提供的此些實施例將使本揭露更加透徹與全面且完整地傳達本發明的範疇，且本發明將僅為所附加的申請專利範圍所定義。在圖中，元件的尺寸及相對
尺寸為了清晰易懂而以誇示方法表示。整篇說明書中，某些不同的元件符號可以是相同的元件。本文所公開的具體結構和功能細節僅僅是代表性的，並且是用於描述本發明的示例性實施例的目的。但是本發明可以通過許多替換形式來具體實現，並且不應當被解釋成僅僅受限於本文所闡述的實施例。
除非另外定義，所有使用於後文的術語(包含科技及科學術語)具有與本發明所屬該領域的技術人士一般所理解相同的意思。將更可理解的是，例如於一般所使用的字典所定義的那些術語應被理解為具有與相關領域的內容一致的意思，且除非明顯地定義於後文，將以所屬技術領域通常知識者所理解的一般意義所理解。
在本發明的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水準”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關為基於附圖所示的方位或位置關係，僅是為了便於描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或組件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。此外，術語“第一”、“第二”僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特徵可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特徵。在本發明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。另外，術語“包括”及其任何變形，意圖在於覆蓋不排它的包含。
在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”等應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個組件內部的連通。對於本領域的
普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
本文所使用的術語僅僅是為了描述具體實施例而非意圖限制示例性實施例。除非上下文明確地另有所指，否則本文所使用的單數形式“一個”、“一項”還意圖包括複數。還應當理解的是，本文所使用的術語“包括”和/或“包含”規定所陳述的特徵、整數、步驟、操作、單元和/或組件的存在，而不排除存在或添加一個或更多其他特徵、整數、步驟、操作、單元、組件和/或其組合。
以下將配合圖式詳細敘述例示實施例。然而，這些實施例可以包含於不同的形式中，且不應被解釋為用以限制本發明之申請專利範圍。這些實施例之提供使得本發明之揭露完整與明暸，熟知此技術之人將能經由該些實施例瞭解本發明之範疇。
請參閱圖2所示，該圖為本發明之多管氣體流量檢測裝置應用於製程機台之一實施例剖面示意圖。多管氣體流量檢測裝置2可以拆卸地設置在製程機台3上，本實施例中製程機台3係為化學氣相沉積裝置，例如：高密度電漿化學氣相沉積裝置，但不以此為限制。製程機台3包括有反應腔室30，其內部具有容置空間31用以容置承載台32，以載承載要進行化學氣相沉積的晶圓。在反應腔室30的一側具有蓋體34，可以用來封閉容置空間31，以形成密閉的反應空間。蓋體34對應容置空間31的內壁上延伸出有複數個噴氣管33，噴氣管33的噴嘴開口可以往容置空間31內噴出製程氣體。要說明的是，蓋體34的環形表面35上具有複數個進氣孔340和每一個噴氣管33相連通。反應腔室30上具有供氣管路208導引反應氣體進入到進氣孔340。
請參閱圖2與圖3A所示，其中，圖3A為多管氣體流量檢測裝置之控制閥與流量計管路連接之一實施例示意圖。多管氣體流量檢測裝置2包括有氣
管連接部20、控制閥模組21、流量計22以及控制單元23。其中，氣管連接部20具有複數個進氣接口200用以和複數個待測噴氣管連接，以檢測待測噴氣管中的待測氣流。本實施例中，進氣接口200為橡膠吸嘴可以和待測噴氣管氣密接合。本實施例中，待測噴氣管為圖2所示之製程機台3的噴氣管33，而待測氣流則為每一噴氣管33內的製程氣體，氣管連接部20更具有複數個管路出口201。要說明的是本實施例中的氣管連接部20更具有治具用來調整每一個管路出口201的位置。在一實施例中，治具包括有複數個位置調整機構202，每一個位置調整機構202和進氣接口200連接在一起，每一個位置調整機構202透過物理性的旋轉調整以改變進氣接口200的位置。本實施例中，物理性的旋轉調整為利用位置調整螺203來實施，使用者可以透過位置調整螺203的順時鐘與逆時鐘轉動來調整進氣接口200與噴氣管33的相對位置，使得噴氣管33可以和進氣接口200穩固且氣密連接在一起。
本實施例中，氣管連接部20為一同心環結構，其係更包括有支撐架204以及環形框架205，其中支撐架204在本實施例中為圓環結構，往圓心的中央區域延伸複數個延伸架206。環形框架205設置在支撐架204內部與該複數個延伸架206相連接。環形框架205提供容置複數個位置調整機構202，使得複數個位置調整機構202可以被定位在環形框架205內。在本實施例中，支撐架204更具有複數個定位元件207，本實施例為吸盤，但不以此為限制。在使用多管氣體流量檢測裝置2的時候，定位元件207可以吸附在蓋體34的環形表面35上，使得整個多管氣體流量檢測裝置2可以被穩固地定位在反應腔室30上，進而對每一個噴氣管33進行流量測試。而供氣管路208穿過支撐架204而與進氣孔340相連通。
控制閥模組21和氣管連接部20相連接，本實施例中，控制閥模組
21具有複數個控制閥210，分別透過管路90與每一個管路出口201相連接。在一實施例中，控制閥210為電磁閥，但不以此為限制。每一控制閥210具有進口210a、第一出口210b以及第二出口210c，其中進口210a與每一管路90相連接，第一出口210b與流量計22相連接，第二出口210c與大氣環境相連通。流量計22與控制閥模組21耦接，本實施例中，流量計22藉由複數個管路92與每一個控制閥210的第一出口210b相連接，使的經過每一個控制閥210的待測氣體F可以進入到流量計22內，而偵測每一待測噴氣管內之待測氣流F之流量。控制單元23與流量計22以及控制閥模組21電性連接，當進行流量測試時，控制單元依序控制每一控制閥210，使得待測噴氣管33內的待測氣流F進入流量計22，以量測出待測噴氣管33對應的待測氣流F的流量。
接下來說明多管氣體流量檢測方法，請參閱圖2至圖4所示，其中圖4為本發明之檢測方法實施例流程示意圖。該檢測方法4用以檢測如圖2所示之製程機台3上每一噴氣管33供應製程氣體的流量。該方法包括有下列步驟：首先進行步驟40，提供多管氣體流量檢測裝置2設置在製程機台3。在本步驟中，如圖2與圖3所示，多管氣體流量檢測裝置2透過支撐架204抵靠在蓋體34的環形表面35上，使得環形框架205放置在蓋體34的中空區域內。接著進行步驟41，使氣管連接部20連接該複數個待測噴氣管，並使該複數個待測噴氣管與控制閥模組耦接，其中待測噴氣管係指圖3中製程機台3的噴氣管33。在步驟41中的實施例中，環形框架205上的複數個進氣接口200可以透過對應的位置調整機構202調整其位置而與對應的噴氣管33氣密連接。
接著進行步驟42，藉由控制閥模組21使其中之一受測的待測噴氣管內的待測氣流通過流量計，並使其他的待測噴氣管內的待測氣流排出至大氣
環境。在步驟42中，如圖3B所示，由於控制閥210具有進口2100、第一出口2101以及第二出口2102，進口2100藉由管路90與對應的管路出口201相連接，因此控制單元23可以切換每一個控制閥210內的通道來控制進入控制閥210的待測氣流F要從第一出口2101排出至流量計22或第二出口2102排出至大氣環境。以圖3為例，在第一時間點時，控制單元23藉由控制訊號切換控制閥210斷開進口2100與第二出口2102之間的通道，而讓進口2100與第一出口2101導通。而其他的控制閥210a~210q則透過控制單元23以控制訊號切換控制閥210a~210q斷開其進口2100與第一出口2101之間的導通，而讓進口2100與第二出口2102相互導通。因此，從噴氣管33進入進氣接口200再經由管路出口201排出至管路90而進入到控制閥210內的製程氣體就會經由管路92進入到流量計22，而其他進入到控制閥210a~210q的製程氣體會經由第二出口2102排到大氣環境中，不會進入到流量計22。
步驟42之後，進行步驟43，截取流量計所測得之對應受測之待測噴氣管的流量數據。誠如前述，因為只有控制閥210與流量計22導通，其餘的控制閥210a~210q都是與大氣環境導通，因此流量計22可以準確量測出與控制閥210連接的噴氣管33所提供的製程氣體F所具有的流量，而得到流量數據，並將其儲存，例如：存在資料庫中。之後，再進行步驟44，判斷所有的噴氣管33是否都完成，如果還沒有則進行步驟45，控制單元23切換控制閥模組21中的下一個控制閥重複前述兩步驟42-43複數次直到取得所有該待測噴氣管的該流量數據。接續前述控制閥210為例，當控制閥210所對應的噴氣管33進行流量測量完畢之後，控制單元23以控制訊號切換控制閥210斷開進口2100與第一出口2101之間的導通關係，而讓進口2100與第二出口2102相互導通，並且切換下一個控制閥210a，讓
控制閥210a斷開進口2100與第二出口2102之間的通道，而讓進口2100與第一出口2101導通。同時，控制閥210b~210q也繼續維持斷開進口2100與第一出口2101之間的導通關係，而讓進口2100與第二出口2102相互導通的狀態。在此狀態下，只有與控制閥210a連接的噴氣管33所供應的製程氣體F可以進入到流量計22內進行量測，其他的噴氣管33進入到控制閥210與控制閥210b~210q的製程氣體都會被排出到大氣環境中。如此反覆進行就可以取得對應每一噴氣管33所噴出的製程氣體的流量數據。
取得所有噴氣管33所噴出的製程氣體所具有的流量數據之後，可以進行步驟46透過控制單元23根據這些流量數據進行分析找出製程氣體流量偏離已知最佳值或偏離此設備已知之流量閾值的噴氣管33，並再進行調整使得所有的噴氣管33所噴出的流量都可以符合已知最佳值或此設備已知之流量閾值。在分析的一實施例中，控制單元23為計算機，可以執行應用程式產生人機介面，顯示出每一噴氣管33所噴出的製程氣體的檢測結果，其中檢測結果可以用數值表格或為視覺化之彩色分布圖來表示。
要說明的是，本發明中的多管氣體流量檢測裝置2所具有的氣管連接部20並不以圖2所示的同心環結構為限制，也就是說，氣管連接部的結構設計是根據噴氣管的排列方式而定。因此在一實施例中，使用者可以根據不同的噴氣管排列方式，例如直線型排列或者是環狀排列，而設計不同的氣管連接部的治具(jig)結構，例如：圖3的同心環狀或者是直線型的治具，透過不同的治具結構去檢測不同噴氣管或噴氣孔洞排列的半導體製程設備與零組件。然後根據噴氣管的排列方式以參數(recipe)形式管理不同待測工件之測試邊界條件(boundary condition)，例如：進入氣體的種類(氮氣N2/氬氣Ar/壓縮乾燥空氣CDA)、進入
氣體的壓力(psi)以及進入氣體的流量(sccm)等。在一實施例中，針對環狀排列的噴氣管(如圖2所示)，使用者可以在控制單元23內設定測試的邊界條件，例如：為以無塵室的高架地板下方的氮氣調整壓力至40psig總氣體流量至3000SCCM進行測試(測試分流之後從每一小管單獨出來的氣體流量)，針對直線排列的噴氣管在控制單元23內設定相應的邊界條件(同上)，然後使用者可以根據待測製程機台的噴氣管排列方式，選定適合的多管氣體流量檢測裝置2，並且從預先設定好的標準流量參數後，進行量測，控制單元23就可以根據量測的結果分析比較量測結果與相應邊界條件之間的差異，找到有問題的噴氣管。
在分析的另一實施例中，使用者可以利用控制單元23將複數個待測噴氣管分成不同的量測組別，在人機介面上顯示出不同量測組別間的量測數據比較，並根據比較的結果與自訂義閾值之間的關係來呈現量測結果間的偏差。其檢測結果可以在人機介面上進行不同量測組別間或是不同噴氣管之間的點對點比較(同樣的管線或孔洞路徑的量測值之間的差值)的代數相減，並根據代數相減的結果與自訂義閾值之間的關係(大於/小於/在規範閾值內)來呈現兩次量測結果間的偏差並另以百分比表示。
在分析的另一實施例中，更包括有不同待測噴氣管之間的比較，並根據比較結果與自訂義閾值之間的關係來呈現兩次檢測結果間的偏差。例如，使用者也可以利用不同製程機台但相對應的噴氣管之間的關係來分析有異常的噴氣管路。如圖5所示，該圖為不同製程機台之噴氣管路示意圖。本實施例中，有兩台製程機台3a與3b，其中，製程機台3a的噴氣管A1~A18與製程機台3b的噴氣管B1~B18位置與方位相互對應。在本實施例中，可以將製程機台3a與製程機台3b相互對應的噴氣管(A1,B1)~(A18~B18)的流量數據比值，例如以數據比較
A1/B1之間以及A2/B2之間到A18/B18之間的差異，透過這個過程去找出有問題(流量不符標準)的噴嘴具體是哪幾支。要說明的是，前述的兩台製程機台3a與3b，除了可以代表不同的設備機台之外，也可以是同一台機台，但是在不同時間下的狀態或者是不同員工組裝，例如：同一套噴氣管，但使用不一樣長的時間(如：製程機台3a代表使用3週，製程機台3b代表使用3個月)、同一套噴氣管但經過不同的員工組裝(例如：製程機台3a代表A員工組裝，製程機台3代表B員工組裝)，或者是同一套噴氣管但為不同的新舊程度(例如：製程機台3a代表全新，製程機台3b代表使用過；或者是製程機台3a代表清洗過v.s.製程機台3b代表翻新過)等情境。
綜合上述，本發明的多管氣體流量檢測裝置與方法，透過複數個閥門組合以及自動控制的機制，使用者可以透過簡單的操作，就可以檢測出多個噴氣管內的氣體流量以及管路中流阻的大小。本發明之檢測裝置與方法可以應用在(但不限於)半導體製程設備的氣體分配盤與噴嘴，以及其他控制製程氣體進入腔體的機構件，以相對應的閥門組合及自動控制的設計，達到自動化檢測多管路氣流流量的目的。
以上所述，乃僅記載本發明為呈現解決問題所採用的技術手段之較佳實施方式或實施例而已，並非用來限定本發明專利實施之範圍。即凡與本發明專利申請範圍文義相符，或依本發明專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本發明專利範圍所涵蓋。
綜觀上述，可見本發明在突破先前之技術下，確實已達到所欲增進之功效，且也非熟悉該項技藝者所顯而易見，其所具之新穎性、進步性及實用性，顯已符合專利之申請要件，爰依法提出專利申請，懇請 貴局核准本件發明
專利申請案，以勵發明，至感德便。
4:多管氣體流量檢測方法
40~46:步驟
Claims (17)
- 一種多管氣體流量檢測裝置，包括：一氣管連接部，用以連接複數個待測噴氣管，每一待測噴氣管內具有一待測氣流，該氣管連接部具有複數個管路出口；一控制閥模組，與該複數個管路出口耦接；一流量計，與該控制閥模組耦接，用以偵測每一該待測噴氣管內之該待測氣流之流量；一治具，用以變換該氣管連接部與該待測噴氣管的連接；以及一控制單元，與該流量計以及該控制閥模組電性連接，當進行流量測試時，該控制單元依序控制每一該待測噴氣管內的該待測氣流進入該流量計，以量測出對應的該待測氣流的流量。
- 如請求項1所述之多管氣體流量檢測裝置，其中該控制閥模組更具有複數個對應該複數個待測噴氣管的控制閥，每一控制閥具有一進口、第一出口以及第二出口，其中該進口與每一該管路出口相連接，該第一出口與該流量計相連接，該第二出口與一大氣環境相連通。
- 如請求項2所述之多管氣體流量檢測裝置，其中該控制閥為一電磁閥。
- 如請求項2所述之多管氣體流量檢測裝置，其中該氣管連接部更具有複數個管路出口，藉由管路與該流量計相連通。
- 如請求項1所述之多管氣體流量檢測裝置，其中該氣管連接部為一同心環結構。
- 如請求項5所述之多管氣體流量檢測裝置，其中該治具包含一位置調整機構，透過物理性的旋轉使得一進口前方的一橡膠吸嘴可以輕觸到相應之該待測噴氣管之一噴嘴的前端並產生氣密效果。
- 一種多管氣體流量檢測方法，用以檢測具有複數個待測噴氣管之設備，每一待測噴氣管內具有一待測氣流，該方法包括有下列步驟：利用具有一控制閥模組的一氣管連接部連接該複數個待測噴氣管，並使該複數個待測噴氣管與該控制閥模組耦接；藉由該控制閥模組使其中之一受測的該待測噴氣管內的該待測氣流通過一流量計，並使其他的該待測噴氣管內的該待測氣流排出至一大氣環境；截取流量計所測得之對應受測之該待測噴氣管的一流量數據；以及藉由該控制閥模組變更下一個該待測噴氣管，重複前述兩步驟複數次直到取得所有該待測噴氣管的該流量數據。
- 如請求項7所述之多管氣體流量檢測方法，其中該控制閥模組更具有複數個對應該複數個待測噴氣管的控制閥，每一控制閥具有一進口、第一出口以及第二出口，其中該進口與每一管路出口相連接，該第一出口與該流量計相連接，該第二出口與一大氣環境相連通，利用該控制閥模組控制該待測噴氣管更包括有下列步驟：使受測的該待測噴氣管所連接的控制閥開啟該第一出口以及關閉該第二出口；以及使其他未受測的該待測噴氣管所連接的控制閥關閉該第一出口以及開啟該第二出口。
- 如請求項8所述之多管氣體流量檢測方法，其中該控制閥為一電磁閥。
- 如請求項8所述之多管氣體流量檢測方法，其中該氣管連接部更具有複數個管路出口，藉由管路與該流量計相連通。
- 如請求項8所述之多管氣體流量檢測方法，其中該氣管連接部為一同心環結構。
- 如請求項8所述之多管氣體流量檢測方法，更包括有變換該氣管連接部與該待測噴氣管連接的治具。
- 如請求項12所述之多管氣體流量檢測方法，其中該治具包含一位置調整機構，透過物理性的旋轉使得該進口前方的一橡膠吸嘴可以輕觸到相應之該待測噴氣管之一噴嘴的前端並產生氣密效果。
- 如請求項12所述之多管氣體流量檢測方法，其中在控制閥模組使其中之一受測的該待測噴氣管內的該待測氣流通過該流量計之前更包括有根據不同待測噴氣管之測試邊界條件，使該控制閥模組選定治具與參數後進行量測並分析比較不同量測結果之間的差異。
- 如請求項8所述之多管氣體流量檢測方法，更包括有一人機介面用以顯示檢測結果，該檢測結果為一數值表格或為一視覺化之彩色分布圖。
- 如請求項15所述之多管氣體流量檢測方法，更包括有將複數個待測噴氣管分成不同的量測組別，在該人機介面上進行關於該不同量測組別間的比較，並根據比較的結果與自訂義閾值之間的關係來呈現量測結果間的偏差。
- 如請求項15所述之多管氣體流量檢測方法，更包括有不同該待測噴氣管之間的比較，並根據比較結果與自訂義閾值之間的關係來呈現檢測結果間的偏差。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6632322B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-10-14 | Lam Research Corporation | Switched uniformity control |
| TW200541414A (en) * | 2004-04-30 | 2005-12-16 | Lam Res Corp | Apparatus including gas distribution member supplying process gas and radio frequency (RF) power for plasma processing |
| US20130104996A1 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-02 | Applied Materials, Inc. | Method for balancing gas flow supplying multiple cvd reactors |
| TW201910956A (zh) * | 2017-07-31 | 2019-03-16 | 日商富士金股份有限公司 | 流體控制系統及流量測定方法 |
| CN210931292U (zh) * | 2019-08-21 | 2020-07-07 | 杭州向瑞医疗科技有限公司 | 一种多功能流量检测控制装置 |
-
2022
- 2022-04-14 TW TW111114139A patent/TWI816362B/zh active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6632322B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-10-14 | Lam Research Corporation | Switched uniformity control |
| TW200541414A (en) * | 2004-04-30 | 2005-12-16 | Lam Res Corp | Apparatus including gas distribution member supplying process gas and radio frequency (RF) power for plasma processing |
| US20130104996A1 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-02 | Applied Materials, Inc. | Method for balancing gas flow supplying multiple cvd reactors |
| TW201910956A (zh) * | 2017-07-31 | 2019-03-16 | 日商富士金股份有限公司 | 流體控制系統及流量測定方法 |
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