TWI810920B - 閥及流體控制裝置 - Google Patents

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TWI810920B TW111116393A TW111116393A TWI810920B TW I810920 B TWI810920 B TW I810920B TW 111116393 A TW111116393 A TW 111116393A TW 111116393 A TW111116393 A TW 111116393A TW I810920 B TWI810920 B TW I810920B
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兒玉幸治
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日商村田製作所股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於可抑制氣體排出時之膜之振動。 閥11具備殼體用構件40、膜80、及殼體用構件70。殼體用構件40具有供來自泵12之氣體流入之孔400。殼體用構件70具有氣體排出用之孔790。於殼體用構件40、膜80、及殼體用構件70所排列之方向觀察，膜80與殼體用構件40之孔400之泵室側之開口面、與殼體用構件70之孔790之泵室側之開口面重疊。孔800與孔400之泵室側之開口面與孔790之泵室側之開口面不重疊。孔400之泵室側之開口面與孔790之泵室側之開口面於至少一部分重疊。

Description

閥及流體控制裝置
本發明關於一種使用可變形之膜進行流體之整流之閥及具備該閥之流體控制裝置。
於專利文獻1記載有一種具備壓電泵與止回閥(閥)之流體控制裝置。於止回閥(閥)之殼體形成有通氣孔、連通孔、急速排氣孔、及止回閥孔。通氣孔與壓電泵連通。連通孔及止回閥孔與流體控制裝置之外部之氣囊連通。急速排氣孔與止回閥之殼體之外部連通。
殼體具備彼此平行之第1壁與第2壁。通氣孔及止回閥孔形成於第1壁。連通孔及急速排氣孔形成於第2壁。
又，於殼體設置有隔膜。隔膜將殼體之內部空間分離為第1壁側空間、第2壁側空間。
該隔膜藉由流體之流動而變形，藉此切換對氣囊之氣體之送入、與自急速排氣孔之氣體之排出。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開2012/141113號
然而，於使用如專利文獻1所示之先前之隔膜(止回閥)中，有時產生於使用急速排氣孔排出氣體時隔膜振動之問題。
因此，本發明之目的在於抑制使用急速排氣孔排出氣體時之隔膜之振動。
該發明之閥具備殼體、第1孔、第2孔、第3孔、膜及第4孔。殼體具有彼此對向之第1壁及第2壁、與藉由第1壁及第2壁夾住之閥室。第1孔形成於第1壁，與外部之泵連通。第2孔形成於第2壁，與流體之噴出對象零件連通。第3孔係形成於第2壁，與殼體之外部連通，用於自閥室排出流體之孔。膜可變形地固定於閥室，將閥室分為第1壁側之空間與第2壁側之空間。第4孔連通第1壁側之空間與第2壁側之空間。
於第1壁、膜、及第2壁排列之殼體之第1方向觀察，膜與第1孔之泵室側之開口面與第3孔之泵室側之開口面重疊。第4孔未與第1孔之泵室側之開口面與第3孔之泵室側之開口面重疊。第1孔之泵室側之開口面與第3 孔之泵室側之開口面於至少一部分重疊。
於該構成中，於自第2孔向第3孔之流體排出初期時，形成自第2孔到達第3孔之流路(第1流路)、與自第2孔通過第4孔到達第1孔之流路(第2流路)，膜停留於第1孔與第3孔之間之中途位置，流體於第1流路與第2流路以幾乎相同之流量流動。
藉此，抑制第1流路之急速之流速上升。因此，抑制於膜以接近第1孔之方式變形之後，被吸引至第3孔側。藉由此種動作，抑制膜之振動。
另，此後，因第1流路較第2流路壓力損失較小，故流體更多地流動至第1流路，膜覆蓋第1孔之開口。藉此，流體自第3孔排出。因此，因膜幾乎不振動地封閉第1孔，故流體更穩定且高速地自第3孔排出。
根據該發明，可抑制使用急速排氣孔排出氣體時之隔膜之振動。
2:氣囊
10,10A,10B,10C,10D,10E,10F,10G:流體控制裝置
11,11A,11B,11C,11D,11E,11F,11G:閥
12:泵
21:主平板
22:框體
23:連結構件
30:壓電元件
40,40G:殼體用構件
41:平板
41B:平板
41C:平板
41D:平板
42:側壁
50:側壁構件
60:蓋構件
70,70G:殼體用構件
80,80A,80B,80C,80D,80F,80G1,80G2:膜
90,90A,90B,90C,90D,90E,90F,90G:保持板
400,400G1,400G2:孔
402:凹部
410:突出部
411:前端面
420,420C:支持構件
430:連通孔
500:中空
600:孔
700,700G:孔
710,710G:孔
790,790G1,790G2:孔
800,800G:孔
900,900G1,900G2:開口部
910,910F,910G:孔
圖1係顯示第1實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
圖2係顯示於第1實施形態之流體控制裝置安裝氣囊之狀態之圖。
圖3(A)係將第1實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖3(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。
圖4係顯示對氣囊之氣體供給動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
圖5(A)、圖5(B)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
圖6係顯示第2實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
圖7(A)係將第2實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖7(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。
圖8(A)係將第3實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖8(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。
圖9係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
圖10(A)係將第4實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖10(B)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
圖11(A)係將第5實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖11(B)係顯示對氣囊之氣體供給動作時之氣體流動之圖，圖11(C)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
圖12係顯示第6實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
圖13係顯示第7實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
圖14係顯示第8實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
圖15(A)、圖15(B)係顯示與泵連通之孔、氣體排出用之孔、與膜之位置關係之派生例之圖。
[第1實施形態]
對本發明之第1實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。圖1係顯示第1實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。圖2係顯示於第1實施形態之流體控制裝置安裝氣囊之狀態之圖。於包含本實施形態之各實施形態中，於各圖中，為了易於理解閥及流體控制裝置之構成，將各者之構成要件之形狀部分或整體地誇張記載。又，以下，雖顯示使用氣體(例如空氣)作為流體之態樣，但即使為其他流體、氣體亦可應用本案發明之構成。
如圖1、圖2所示，流體控制裝置10具備閥11與泵12。閥11與泵12具有共用之構件，一體形成。於閥11連接有氣囊2。氣囊2與本發明之「流體之噴出對象零件」對應。
概略而言，於將氣體供給至氣囊2之情形時，驅動泵12，將氣體自泵12供給至閥11內。供給至閥11內之氣體自閥11之孔700噴出至氣囊2。另一方面，於自氣囊2排出氣體之情形時，停止泵12之驅動。來自氣囊2之氣體自孔700流動至閥11內，通過孔790，排出至閥11之外部，換言之， 流體控制裝置10之外部。
(閥11)
圖3(A)係將第1實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖3(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。以下，參照圖1、圖2、圖3(A)、圖3(B)，說明閥11之具體構成。
閥11具備殼體用構件40、殼體用構件70、膜80、及保持板90。
殼體用構件40具備平板41與側壁42，包含金屬、樹脂等。平板41與本發明之「第1壁」對應。
側壁42與平板41之外緣連接。側壁42係自平板41之一主面突出之形狀。平板41與側壁42可一體形成，亦可獨立形成並接合、接著。藉由該平板41與側壁42形成凹部402。
平板41具備自側壁42連接之一主面突出之突出部410。於突出部410形成有沿著高度方向貫通突出部410之孔400。藉由具有該孔400之形狀，突出部410例如於俯視下(於與一主面正交之方向觀察)為圓形之圓筒形狀。平板41之一主面側與另一主面側藉由孔400連通。該孔400係閥11之向泵12之連通孔，與本發明之「第1孔」對應。
殼體用構件70係板狀，包含金屬、樹脂等。俯視殼體用構件70之形 狀與殼體用構件40幾乎相同。殼體用構件70與本發明之「第2壁」對應。
殼體用構件70具有孔700、孔710、孔790。孔700於殼體用構件70之一主面開口。孔710於殼體用構件70之另一主面開口。孔700與孔710於俯視下(於與一主面及另一主面正交之方向觀察)重疊。孔700與孔710連通。孔700與孔710連通而成之孔與本發明之「第2孔」對應。且，孔700與本發明之「外部側孔」對應，孔710與本發明之「內部側孔」對應。
孔790之一端於殼體用構件70之另一主面開口。孔790之另一端於殼體用構件70之外側面開口。該孔790與本發明之「第3孔」對應。
膜80係被稱為所謂閥膜、隔膜者，包含可變形之材料，例如橡膠片材。於膜80，於外緣之附近形成有孔800。孔800於厚度方向貫通膜80。該孔800與本發明之「第4孔」對應。
保持板90係板狀，例如包含金屬、樹脂等。保持板90具有開口部900。開口部900於厚度方向貫通保持板90，俯視開口部900之形狀小於膜80之外形形狀。
保持板90以與開口部900重疊之方式保持膜80。此時，保持板90以孔800與開口部900連通之方式保持膜80之外緣部。
又，俯視保持板90之開口部900之形狀大於孔700之開口面及孔790 之開口面。
該等構成要件以如下之位置關係組裝，形成閥11。
於殼體用構件40中側壁42突出之側，依序配置保持板90、殼體用構件70。保持板90與側壁42抵接。殼體用構件70之另一主面與保持板90連接。
藉由該構成，殼體用構件70以另一主面與殼體用構件40之平板41之一主面對向之狀態，將膜80及保持板90夾於其間，與殼體用構件40連接。藉此，形成閥室，其被由殼體用構件40、殼體用構件70、及保持板90形成之閥11之殼體包圍，且包含殼體用構件40之凹部402與保持板90之開口部900連通之空間。換言之，閥室係夾於殼體用構件40之平板41與殼體用構件70間之空間。
又，藉由該構成，膜80配置於閥室內，配置於殼體用構件40之平板41與殼體用構件70之間。且，膜80將閥室分為殼體用構件40側之第1空間(凹部402之空間：第1壁側之空間)、與殼體用構件70側之第2空間(開口部900之空間：第2壁側之空間)。第1空間與第2空間藉由膜80之孔800連通。
孔400與包含凹部402之第1空間連通，孔710(孔700)及孔790與包含開口部900之第2空間連通。即，孔400、孔710(孔700)及孔790夾著膜80 配置於彼此相反側。且，俯視閥11(於殼體用構件40、膜80、殼體用構件70排列之方向(閥11之第1方向)觀察)，膜80以與孔400、孔710(孔700)、及孔790重疊之方式配置。
再者，俯視閥11，孔400之閥室側(第1空間側)之開口面、與孔790之閥室側(第2空間側)之開口面重疊。更具體而言，孔790之閥室側(第2空間側)之開口面與孔400之閥室側(第1空間側)之開口面完全重疊。另，此處，所謂開口面重疊意指例如如圖1所示，於孔790之開口面之面積小於孔400之開口面之面積之情形時，於俯視下，孔790之開口面之整體進入孔400之開口面之範圍內。
又，俯視閥11，孔800未與孔400之閥室側之開口面、及孔790之閥室側之開口面重疊。另，較佳為孔800與孔710重疊。
(閥11之動作)
包含上述構成之閥11如下所示，實現對氣囊2之氣體供給動作、與自氣囊2之氣體排出動作。
(對氣囊2之氣體供給動作)
圖4係顯示對氣囊之氣體供給動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。
於向氣囊2供給氣體之情形時，驅動後述之泵12。藉由泵12之驅動， 氣體自泵12通過孔400流入至閥室之第1空間內。自孔400流入之氣體按壓膜80。藉此，膜80變形，覆蓋殼體用構件70之孔790。且，孔790由膜80封閉。
流入至第1空間之氣體流動於膜80之第1空間側，通過孔800，流入至第2空間。流入至第2空間之氣體通過孔710、孔700，噴出至閥11之外部。孔700與氣囊2連通，自孔700噴出至閥11之外部之氣體供給至氣囊2。
此時，孔790由膜80封閉，膜80自第1空間側以特定之壓力被按壓於殼體用構件70之泵室側之壁面。藉此，自孔800流入至第2空間之氣體不會洩漏至孔790，自孔700噴出。因此，可有效率地對氣囊2供給氣體。
(自氣囊2之氣體排出動作)
圖5(A)、圖5(B)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。圖5(A)顯示排出之過渡狀態(初期狀態)，圖5(B)顯示排出之定常狀態。
自氣囊2排出氣體時，停止後述之泵12之驅動。因泵12停止，故向氣囊2流入氣體而產生之壓力消失。因此，氣囊2變得較閥室更為高壓。因此，氣囊2內之氣體通過孔700、孔710，流入至閥室之第2空間內。
(過渡狀態)
如圖5(A)所示，於過渡狀態下，流入至第2空間內之氣體之一部分將膜80朝殼體用構件40側按壓。藉此，膜80與殼體用構件70之泵室側之壁面遠離。且，孔790與第2空間連通。
又，於該過渡狀態下，流入至第2空間之氣體之一部分通過孔800流入至第1空間內。於過渡狀態下，膜80未與殼體用構件40抵接。因此，如圖5(A)所示，流入至第1空間內之氣體通過膜80之第1空間側，自孔400排出。
如此，於過渡狀態下，氣體於膜80之孔790側(第2空間側)與孔400側之兩者流動。且，於俯視下，藉由孔790與孔400重疊，於該區域中，膜80自第1空間側與第2空間側之兩者受到相同程度之壓力(壓力均衡狀態)。尤其，若氣體流向孔790之流量與氣體流向孔400之流量相同，則受到相同壓力。藉此，如圖5(A)所示，膜80成為不與殼體用構件40與殼體用構件70之兩者抵接之狀態。
此後，若氣體持續流入至第2空間內，則該均衡狀態崩壞。更具體而言，孔710與孔790處於膜80之相同側，孔710與孔400隔著膜80處於相反側，藉此，自孔710向孔790之流路之壓力損失小於自孔710向孔400之壓力損失。該壓力損失之差例如可根據孔800之大小、位置等調整。
基於該壓力損失之關係，氣體容易自孔710流動至孔790，根據自排出開始之經過時間，氣體更多地流動至孔790。藉此，膜80以接近殼體用 構件40之方式變形，其後，與殼體用構件40之突出部410之前端面411抵接。且，如圖5(B)所示，膜80封閉孔400，來自孔710之氣體幾乎全部流動至孔790。
如此，膜80幾乎不振動，閥11可將氣囊2之氣體排出至外部。
另一方面，於先前之構成(孔790與孔400於俯視下較大遠離配置之構成)中，雖自氣囊2排出氣體後，氣體立即流入至孔790，但藉由其流速，膜80再度被吸引至孔790，孔790幾乎被膜80封閉。其後，藉由氣體之壓力，膜被再度自孔790拉離，與對向之壁面碰撞。藉此，膜振動。該結果，於先前之構成中，產生不期望之振動音。又，因孔790反復被封閉，或開放，而難以加快排出速度。
另一方面，可藉由使用本案發明之閥11之構成，抑制不期望之振動音，或提高氣體之排出速度。
又，於閥11中，具備突出部410。亦可不具備該突出部410。然而，藉由具備突出部410，可不改變泵室之容量地調整孔400之開口面與孔790之開口面之距離。因此，可控制於上述之過渡狀態下之膜80之兩側之流體之流量、流速，閥11可更確實地抑制振動之產生。
又，於閥11中，孔710係擴展至較孔700更靠近孔790之位置之形狀。該孔710中朝孔790擴展之部分亦可省略。然而，可藉由具有孔710中朝孔 790擴展之部分，使自孔700流動至孔790之氣體之壓力損失減小。即，藉由孔710之開口剖面積大於孔700之開口剖面積，可減小自孔700流動至孔790之氣體之壓力損失。另，所謂開口剖面積係於與孔700、孔710之開口面平行之面切開孔700、孔710之剖面積。
藉此，可進而提高氣體之排出速度。此時，較佳為孔710中朝孔790擴展之部分之至少一部分與孔400重疊。藉此，可進一步使自孔700流動至孔790之氣體之壓力損失減小。
又，於閥11中，可藉由孔400與孔790於俯視下重疊，使膜80之面積小於孔790與孔400於俯視下遠離之構成。藉此，可實現膜80之小型化、以及閥11之小型化。
又，於閥11中，孔800形成於膜80。藉此，可於相對於閥11之動作位置，即孔790與孔400重疊之位置更近之位置設置孔800。藉此，閥11可更小型化。
(泵12)
如圖1、圖2所示，泵12具備主平板21、框體22、連結構件23、壓電元件30、殼體用構件40之平板41、側壁構件50、及蓋構件60。殼體用構件40之平板41由閥11與泵12共用。
主平板21於俯視下為圓形。框體22以包圍主平板21之方式配置。複 數個連結構件23係梁形狀，配置於主平板21與框體22之間。複數個連結構件23相對於框體22可振動地支持主平板21。
壓電元件30俯視之形狀為圓形。壓電元件30具備壓電體、及驅動用導體。壓電元件30配置於主平板21之一主面。此時，壓電元件30之中心與主平板21之中心一致。另，此處之一致於製造誤差之範圍內，亦包含彼此之中心位置錯開之範圍內。
壓電元件30因施加驅動電壓而應變。主平板21因壓電元件30之應變產生之應力而振動。
側壁構件50係具有中空500之環狀，配置於框體22與殼體用構件40之間。側壁構件50與框體22與殼體用構件40連接。
由包含主平板21、框體22、及連結構件23之構造體、殼體用構件40、及側壁構件50包圍之空間(中空500)變為泵12之泵室。
蓋構件60包含平板部與框部，框部係自平板部之一主面突出之形狀。於平板部形成有貫通平板部之孔600。
蓋構件60以覆蓋主平板21之方式配置，蓋構件60之框部與框體22連接。
於此種構成中，若如上述般主平板21振動，則氣體通過孔600吸入至泵12內，通過孔400噴出至閥11之閥室內。
藉由此種構成，流體控制裝置10共用殼體用構件40之平板41及孔400，藉由1個殼體實現閥11與泵12。藉此，流體控制裝置10可實現薄型化、小型化。再者，流體控制裝置10可藉由具備上述之閥11，抑制不期望之振動音，以更高速排出來自氣囊2之氣體。
[第2實施形態]
對本發明之第2實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖6係顯示第2實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。圖7(A)係將第2實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖7(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。
如圖6、圖7(A)、圖7(B)所示，第2實施形態之流體控制裝置10A相對於第1實施形態之流體控制裝置10，於閥11A之構成不同。流體控制裝置10A之其他構成與流體控制裝置10相同，省略相同部位之說明。
流體控制裝置10A具備閥11A。閥11A具備膜80A及保持板90A。
保持板90A於配置於殼體用構件70之狀態下，於俯視下，具有突出至與孔710重疊之區域之形狀。藉此，保持板90A之開口部900之面積小於 保持板90。
保持板90A於該突出部具有孔910。孔910於厚度方向貫通保持板90A。孔910與本發明之「第4孔」對應。
膜80A係大於保持板90A之開口部900之形狀。膜80A覆蓋開口部900，未覆蓋孔910。膜80A之外緣部固定於保持板90A。於閥11A之俯視下，膜80A與孔400之閥室側之開口面及孔790之閥室側之開口面重疊。
藉由此種構成，閥11A可抑制膜80A之振動。再者，於閥11A中，因可減小膜80A之面積，更具體而言，膜80A中變形之區域之面積，故可提高膜80A之響應速度。
[第3實施形態]
對本發明之第3實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖8(A)係將第3實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖8(B)係顯示各孔與膜之關係之透視俯視圖。
如圖8(A)、圖8(B)所示，第3實施形態之流體控制裝置10B相對於第2實施形態之流體控制裝置10A，於閥11B之構成不同。流體控制裝置10B之其他構成與流體控制裝置10A相同，省略相同部位之說明。又，因圖中之膜80B與膜80A相同，保持板90B與保持板90A相同，故省略各者之具體 說明。
閥11B具備平板41B。平板41B具備支持構件420。支持構件420形成於孔400內。支持構件420於俯視下係例如網格狀。換言之，雖支持構件420部分地封閉孔400，但為確保孔400之氣體之透過性之形狀。
支持構件420之泵室側之端面與突出部410之前端面411為齊平面。
圖9係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，係將閥之一部分放大之側面剖視圖。圖9顯示排出動作之定常狀態。
如圖9所示，於氣體自氣囊2通過孔700、孔710流入，且膜80B變形與突出部410之前端面411抵接時，膜80B亦與支持構件420抵接，被支持。藉此，抑制膜80B進入孔400內。該結果，抑制膜80B之變形量，提高膜80B之對於氣體流動之變形之響應性。
[第4實施形態]
對本發明之第4實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖10(A)係將第4實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖10(B)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。圖10(B)顯示排出動作之定常狀態。
如圖10(A)、圖10(B)所示，第4實施形態之流體控制裝置10C相對於第3實施形態之流體控制裝置10B，於閥11C之構成不同。流體控制裝置10C之其他構成與流體控制裝置10B相同，省略相同部位之說明。又，因圖中之膜80C與膜80B相同，保持板90C與保持板90B相同，故省略各者之具體說明。
閥11C具備平板41C。平板41C具備支持構件420C。支持構件420C形成於孔400內。支持構件420C於俯視下為與閥11B之支持構件420相同形狀。
支持構件420C之泵室側之端面配置於較突出部410之前端面411更靠孔400之內部側。
如圖10(B)所示，於氣體自氣囊2通過孔700、孔710流入，膜80C變形與突出部410之前端面411抵接時，膜80C中之與孔400之開口面重疊之部分進入孔400內，與支持構件420C抵接，被支持。此時，藉由調節支持構件420C之端面之位置，可使膜80C進入孔400內之深度為期望量。該結果，可兼顧提高膜80C之對於氣體流動之變形之響應性、與實現特定之排出速度。
[第5實施形態]
對本發明之第5實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖11(A)係將第5實施形態之閥之一部分放大之側面剖視圖，圖11(B)係顯示對氣囊之氣體供給動作時之氣體流動之圖，圖11(C)係顯示自氣囊之氣體排出動作時之氣體流動之圖，且係將閥之一部分放大之側面剖視圖。圖11(C)顯示排出動作之定常狀態。
如圖11(A)、圖11(B)、圖11(C)所示，第5實施形態之流體控制裝置10D相對於第2實施形態之流體控制裝置10A，於閥11D之構成不同。流體控制裝置10D之其他構成與流體控制裝置10A相同，省略相同部位之說明。又，因圖中之膜80D與膜80A相同，保持板90D與保持板90A相同，故省略各者之具體說明。
閥11D具備平板41D。平板41D具備連通孔430。於閥11D之俯視下，連通孔430中之一開口與開口部900重疊。連通孔430中之另一開口與孔910重疊。換言之，於俯視下，連通孔430以跨越保持板90D中之開口部900與孔910之間之部分之方式形成於平板41D。
具有平板41D之殼體用構件之側壁之高度較低，膜80D於未產生氣體流動之靜態狀態下，與平板41D之泵室側之主面抵接。
於此種構成中，於將氣體供給至氣囊2之情形時，如圖11(B)所示，膜80D封閉孔790，使連通孔430與閥室連通。藉此，閥11D使氣體自孔400流入至閥11D內，通過連通孔430、孔910、孔710、孔700噴出至氣囊2。
另一方面，於自氣囊2排出氣體之情形時，如圖11(C)所示，膜80D封閉孔400，使孔790與閥室連通。藉此，閥11D將來自氣囊2之氣體通過孔700、孔710、孔790，排出至閥11D外。此時，例如，可藉由調整連通孔430之剖面積，於排出之過渡狀態下實現上述之膜80D之兩側之壓力之均衡狀態。因此，閥11D可抑制膜80D之振動。
[第6實施形態]
對本發明之第6實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖12係顯示第6實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
如圖12所示，第6實施形態之流體控制裝置10E相對於第1實施形態之流體控制裝置10，於閥11E之構成不同。流體控制裝置10E之其他構成與流體控制裝置10相同，省略相同部位之說明。
流體控制裝置10E具備閥11E。閥11E具備保持板90E。保持板90E係例如環狀。保持板90E保持膜80之外緣部。保持板90E固定於殼體用構件40之平板41。
保持板90E以於閥11E之俯視下，膜80與孔400及孔790重疊之方式固定。
藉由此種構成，閥11E與閥11相同，可抑制膜80之振動。即，即使膜80固定於殼體用構件40，固定於殼體用構件70，亦可抑制膜80之振動。
[第7實施形態]
對本發明之第7實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖13係顯示第7實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
如圖13所示，第7實施形態之流體控制裝置10F相對於第2實施形態之流體控制裝置10A，於閥11F之構成不同。流體控制裝置10F之其他構成與流體控制裝置10A相同，省略相同部位之說明。另，膜80F係與膜80A相同構造，省略具體說明。
流體控制裝置10F具備閥11F。閥11F具備保持板90F。保持板90F係例如環狀。保持板90F保持膜80F之外緣部。保持板90F固定於殼體用構件40之平板41。
保持板90F以於閥11F之俯視下，以膜80與孔400及孔790重疊之方式被固定。
於保持板90F形成有孔910F。孔910F貫通保持板90F之內側面與外側 面之間。
藉由此種構成，閥11F與閥11A同樣地，可抑制膜80F之振動。即，膜80F無論是固定於殼體用構件40或固定於殼體用構件70，皆可抑制膜80F之振動。
[第8實施形態]
對本發明之第8實施形態之閥及流體控制裝置，參照圖進行說明。
圖14係顯示第8實施形態之流體控制裝置之構成之概略性側面剖視圖。
如圖14所示，第8實施形態之流體控制裝置10G相對於第2實施形態之流體控制裝置10A，於閥11G之構成不同。流體控制裝置10G之其他構成與流體控制裝置10A相同，省略相同部位之說明。
流體控制裝置10G具備閥11G。概略而言，閥11G係將閥11之功能部以複數個並列配置之構成。
閥11G具備殼體用構件40G、殼體用構件70G、膜80G1、膜80G2、及保持板90G。
殼體用構件40G於平板41具有孔400G1與孔400G2。孔400G1與孔 400G2處於彼此遠離之位置。
殼體用構件70G具有孔700G、孔710G、孔790G1、及孔790G2。孔700G及孔710G形成於俯視殼體用構件70G之中央區域。孔790G1與孔790G2形成於將孔700G及孔710G夾於其間之位置。俯視閥11G，孔790G1與孔400G1重疊，孔790G2與孔400G2重疊。
保持板90G具有開口部900G1、開口部900G2、及孔910G。孔910G形成於俯視保持板90G之中央。俯視閥11G，孔910G與殼體用構件70G之孔710G重疊。開口部900G1及開口部900G2形成於將孔910G夾於其間之位置。俯視閥11G，開口部900G1與孔400G1及孔790G1重疊，與孔710G之一部分重疊。俯視閥11G，開口部900G2與孔400G2及孔790G2重疊，與孔710G之一部分重疊。
膜80G1以覆蓋開口部900G1之方式保持於保持板90G。藉此，俯視閥11G，膜80G1與孔400G1及孔790G1重疊。
膜80G2以覆蓋開口部900G2之方式保持於保持板90G。藉此，俯視閥11G，膜80G2與孔400G2及孔790G2重疊。
於膜80G1與膜80G2之間形成有孔800G。俯視閥11G，孔800G與孔910G重疊。藉此，孔910G與孔800G連通。
藉由此種構成，閥11G與閥11相同，可抑制膜80G1及膜80G2之振動。再者，於閥11G中，於泵12與孔700G之間並列具備包含孔400G1、孔790G1、及膜80G1之第1閥功能部、與包含孔400G2、孔790G2、及膜80G2之第2閥功能部。藉此，即使第1閥功能部與第2閥功能部中任一者故障、破損，亦可維持整流功能。
(孔400、孔790及膜80之位置關係之派生構成)
圖15(A)、圖15(B)係顯示與泵連通之孔、氣體排出用之孔、與膜之位置關係之派生例之圖。圖15(A)、圖15(B)係以第2實施形態之閥為例將一部分放大之側面剖視圖。
於圖15(A)中，俯視閥11A，孔790處於較孔400更靠孔700側，孔790之閥室側之開口面與孔400之閥室側之開口面部分地重疊。
於圖15(B)中，俯視閥11A，孔400處於較孔790更靠孔700側，孔790之閥室側之開口面與孔400之閥室側之開口面未重疊。
如圖15(A)、圖15(B)所示，俯視閥11A，孔400及孔790與膜80A之可變形之區域重疊。
若為此種構成，則可抑制膜80A之振動。但，俯視閥11A，較佳為孔400與孔790至少一部分重疊，更佳為如上述第2實施形態般完全重疊。
又，雖膜80A之形狀亦可為圓形、多角形等任意之形狀，但較佳為孔400及孔790於可變形區域之中央重疊。
另，於上述之說明中，顯示搬送氣體之態樣。然而，未限定於氣體，對於其他流體亦可應用上述之構成。
又，上述各實施形態之構成可適當組合，可發揮與各個組合相應之作用效果。
10:流體控制裝置
11:閥
12:泵
21:主平板
22:框體
23:連結構件
30:壓電元件
40:殼體用構件
41:平板
42:側壁
50:側壁構件
60:蓋構件
70:殼體用構件
80:膜
90:保持板
400:孔
402:凹部
410:突出部
411:前端面
500:中空
600:孔
700:孔
710:孔
790:孔
800:孔
900:開口部

Claims (11)

  1. 一種閥，其具備： 殼體，其具有彼此對向之第1壁及第2壁、與藉由上述第1壁及上述第2壁相夾之閥室； 第1孔，其形成於上述第1壁，與外部之泵連通； 第2孔，其形成於上述第2壁，與流體之噴出對象零件連通； 第3孔，其形成於上述第2壁，與上述殼體之外部連通，用於自上述閥室排出上述流體； 膜，其可變形地固定於上述閥室，將上述閥室分為上述第1壁側之空間與上述第2壁側之空間；及 第4孔，其將上述第1壁側之空間與上述第2壁側之空間連通；且 於上述第1壁、上述膜、及上述第2壁所排列之上述殼體之第1方向觀察， 上述膜與上述第1孔之泵室側之開口面與上述第3孔之泵室側之開口面重疊， 且，上述第4孔與上述第1孔之泵室側之開口面與上述第3孔不重疊， 且，上述第1孔之泵室側之開口面與上述第3孔之泵室側之開口面於至少一部分重疊。
  2. 如請求項1之閥，其中 上述第1孔之泵室側之開口面與上述第3孔之泵室側之開口面於上述第1方向觀察完全重疊。
  3. 如請求項1或2之閥，其中 上述第2孔具備於上述殼體之外部開口之外部側孔、與於上述第2壁側之空間開口之內部側孔；且 上述內部側孔之開口剖面積大於上述外部側孔之開口剖面積， 於上述殼體之第1方向觀察，上述內部側孔之至少一部分與上述第1孔之泵室側之開口面重疊。
  4. 如請求項1或2之閥，其中 上述第1壁具備向上述第2壁側突出之突出部， 上述第1孔形成於上述突出部。
  5. 如請求項1或2之閥，其具備： 保持板，其具有突出於上述閥室內之突出部，藉由該突出部保持上述膜；且 上述第4孔形成於上述保持板。
  6. 如請求項1或2之閥，其中 上述第4孔形成於上述膜。
  7. 如請求項1或2之閥，其具備： 支持構件，其形成於上述第1孔內。
  8. 如請求項7之閥，其中 上述支持構件之端面與上述第1孔之開口面為齊平面。
  9. 如請求項7之閥，其中 上述支持構件之端面位於較上述第1孔之開口面更靠上述第1孔之內部側。
  10. 如請求項1或2之閥，其分別具備： 複數個上述第1孔、上述第2孔、及上述膜。
  11. 一種流體控制裝置，其具備： 請求項1至10中任一項之閥；及 上述泵，其具有共用上述第1壁，與上述第1孔連通之泵室。
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