TWI808479B - 透鏡組、光學裝置與電子裝置 - Google Patents

透鏡組、光學裝置與電子裝置 Download PDF

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TWI808479B TW110132829A TW110132829A TWI808479B TW I808479 B TWI808479 B TW I808479B TW 110132829 A TW110132829 A TW 110132829A TW 110132829 A TW110132829 A TW 110132829A TW I808479 B TWI808479 B TW I808479B
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林正峰
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Abstract

一種透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一透鏡以及一遮光膜層。透鏡具有一光學部，且光路通過光學部。遮光膜層披覆於透鏡上且毗鄰設置於光學部。遮光膜層具有一遠側端以及一近側端。近側端較遠側端靠近光學部。近側端包含多個延伸結構以及多個凹陷結構。延伸結構分別沿遠離遠側端的方向延伸，且延伸結構在平行於光路的方向上不重疊。凹陷結構分別連接於相鄰兩個延伸結構之間，且沿朝向遠側端的方向凹陷。

Description

透鏡組、光學裝置與電子裝置
本發明係關於一種透鏡組、光學裝置與電子裝置，特別是一種適用於電子裝置的透鏡組與光學裝置。
隨著科技日新月異，具有高光學品質的鏡頭儼然成為不可或缺的一環。並且，配備光學鏡頭的電子裝置的應用範圍更加廣泛，對於光學鏡頭的要求也是更加多樣化。
然而，近年來傳統的光學鏡頭已難以滿足多元化發展下的電子產品的高光學品質需求，特別是在鏡片上用來消除雜光而設置的遮光膜層。已知的遮光膜層具有難以控制遮光範圍、過度遮光或通光量嚴重下降的缺點，故無法滿足目前日漸嚴格的光學品質市場需求。因此，如何改良遮光膜層以控制遮光範圍來消除明顯雜光，以滿足現今對電子裝置高規格的需求，已成為目前相關領域的重要議題。
鑒於以上提到的問題，本發明揭露一種透鏡組、光學裝置與電子裝置，有助於在消除明顯雜光的同時避免過度遮光，藉此提升總體的光學品質。
本發明之一實施例所揭露之透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一透鏡以及一遮光膜層。透鏡具有一光學部，且光路通過光學部。遮光膜層披覆於透鏡上且毗鄰設置於光學部。遮光膜層具有一遠側端以及一近側端。近側端較遠側端靠近光學部。近側端包含多個延伸結構以及多個凹陷結構。延伸結構分別沿遠離遠側端的方向延伸，且延伸結構在平行於光路的方向上不重疊。凹陷結構分別連接於相鄰兩個延伸結構之間，且沿朝向遠側端的方向凹陷。
延伸結構在最遠離遠側端處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：0.1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0004-28
△G
Figure 110132829-A0305-02-0004-27
299.5[微米]。
本發明之另一實施例所揭露之透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一反射元件以及一遮光膜層。反射元件具有一光學部，且光路通過光學部。遮光膜層披覆於反射元件上且毗鄰設置於光學部。遮光膜層具有一遠側端以及一近側端。近側端較遠側端靠近光學部。近側端包含多個延伸結構以及多個凹陷結構。延伸結構分別沿遠離遠側端的方向延伸，且延伸結構在平行於光路的方向上不重疊。凹陷結構分別連接於相鄰兩個延伸結構之間，且沿朝向遠側端的方向凹陷。
延伸結構在最遠離遠側端處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：0.1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0004-29
△G
Figure 110132829-A0305-02-0004-30
299.5[微米]。
本發明之再一實施例所揭露之透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一透光元件以及一遮光膜層。透光元件具有一光學部， 且光路通過光學部。遮光膜層披覆於透光元件上且毗鄰設置於光學部。遮光膜層具有一遠側端以及一近側端。近側端較遠側端靠近光學部。近側端包含多個延伸結構以及多個凹陷結構。延伸結構分別沿遠離遠側端的方向延伸，且延伸結構在平行於光路的方向上不重疊。凹陷結構分別連接於相鄰兩個延伸結構之間，且沿朝向遠側端的方向凹陷。
延伸結構在最遠離遠側端處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：0.1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0005-31
△G
Figure 110132829-A0305-02-0005-32
299.5[微米]。
本發明之又一實施例所揭露之透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一透光元件以及一遮光膜層。透光元件具有一光學部，且光路通過光學部。遮光膜層披覆於透光元件上且毗鄰設置於光學部。遮光膜層具有多個遮光區塊以及其餘部分，且遮光區塊彼此間隔設置。遮光區塊包含一第一遮光區塊以及一第二遮光區塊，且第一遮光區塊較第二遮光區塊靠近光路。其中，其餘部分皆較第二遮光區塊遠離光路，或者一部分其餘部分位於第一遮光區塊與第二遮光區塊之間且另一部分其餘部分較第二遮光區塊遠離光路。
第一遮光區塊與第二遮光區塊以及遮光膜層的其餘部分兩者中的最短距離為D1，第二遮光區塊與遮光膜層的其餘部分的最短距離為D2，其滿足下列條件：0.15
Figure 110132829-A0305-02-0005-33
D2/D1
Figure 110132829-A0305-02-0005-34
1.5。
本發明之再另一實施例所揭露之透鏡組，具有一光路。透鏡組包含一透光元件以及一遮光膜層。透光元件具有一光 學部，且光路通過光學部。遮光膜層披覆於透光元件上且毗鄰設置於光學部。透光元件更具有一第一通光孔隙以及一第二通光孔隙。第一通光孔隙與第二通光孔隙由遮光膜層所環繞，且第一通光孔隙較第二通光孔隙靠近光路。
定義出一參考平面，且參考平面垂直於光路。第一通光孔隙在參考平面上的投影面積為HA1，第一通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離為HD1，第二通光孔隙在參考平面上的投影面積為HA2，第二通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離為HD2，其滿足下列條件：0.02
Figure 110132829-A0305-02-0006-35
(HA2^0.5/HD2)/(HA1^0.5/HD1)
Figure 110132829-A0305-02-0006-36
0.98。
本發明之又另一實施例所揭露之光學裝置，包含前述的透鏡組。
本發明之又再另一實施例所揭露之電子裝置，包含前述的光學裝置。
根據上述實施例所揭露的透鏡組、光學裝置與電子裝置，其遮光膜層具有可圖形化的特性，使得遮光膜層的遮光範圍能進一步地被控制，藉此提升光學品質及增加設計自由度。
當△G滿足上述條件時，可透過改變延伸結構之間的距離，使得遮光的程度可控，藉以提升光學品質。
當D2/D1滿足上述條件時，可使得光線自光學部的中心到邊緣平滑地過渡。
當(HA2^0.5/HD2)/(HA1^0.5/HD1)滿足上述條件時， 可使得光線自光學部的中心到邊緣平滑地過渡。
以上關於本發明內容的說明及以下實施方式的說明係用以示範與解釋本發明的原理，並且提供本發明的專利申請範圍更進一步的解釋。
1、2、3、4、5、6、7:光學裝置
11、21、31、41、51、61、71:載體元件
11a、31a:對應部
12、22、32、42、52、62、72:透鏡組
13、23、53、63:濾光元件
14、24、54、64、74:成像面
35、45:光源面
101、201、301、401、501、601、701:光路
110、210、310、410、510、610、710:第一透鏡
120、220、320、420、520、620、720:第二透鏡
130、230、330、430、530、630、730:第三透鏡
140、240、340、440、540、640、740:第四透鏡
150、250、350、450、550、650:第五透鏡
560、660:第六透鏡
570、670:第七透鏡
580、680:第八透鏡
750、850:反射元件
151、241、351、441、551、611、751、851:光學部
152、242、352、442、552、612:光學面
153、553、613:連接面
154、354:端部
245a:第一通光孔隙
245b:第二通光孔隙
245c:第三通光孔隙
245d:第四通光孔隙
245e:第五通光孔隙
245f:第六通光孔隙
245g:第七通光孔隙
245h:第八通光孔隙
245i:第九通光孔隙
245j:第十通光孔隙
245k:第十一通光孔隙
245m:第十二通光孔隙
245n:第十三通光孔隙
756:入光面
757a:第一反射面
757b:第二反射面
757c:第三反射面
757d:第四反射面
758:出光面
759、859:V形溝
7591:遮光表面
7592、8592:弧形突起
190、290、390、490、590、690、790、890:遮光膜層
191、291、391、491、691、791、891:遠側端
192、292、392、492、692、792、892:近側端
1921、2921、3921、4921、6921、7921、8921:延伸結構
1922、2922、3922、4922、6922、7922、8922:凹陷結構
493、593:遮光區塊
4931、5931:第一遮光區塊
4932、5932:第二遮光區塊
9:電子裝置
9a、9b、9c、9d、9e、9f、9g、9h:光學裝置
9k:提示燈
92:發光元件
93:對焦輔助模組
94:單晶片系統
95:顯示裝置
951:變焦控制鍵
952:對焦拍照按鍵
953:影像回放按鍵
954:光學裝置切換按鍵
955:集成選單按鍵
97:生物識別感測器
98:電路板
981:連結器
99:電子元件
AX1:第一軸線
AX2:第二軸線
BD:邊界
BM:遮光膜層
BM1:遮光層
BM2:中介層
BM3:抗紅外線層
BM4:抗紫外線層
BM5:抗反射層
BM6:疏水層
IMS:影像源
ITM:影像傳遞模組
LS:光源
OBJ:被攝物
ODS:外徑面
OL:光學元件
PLM:投影鏡頭組
RT:固定元件
SP1:第一間隔元件
SP2:第二間隔元件
SP3:第三間隔元件
SP4:第四間隔元件
ST:支撐元件
D1:第一遮光區塊與遮光膜層的其餘部分的最短距離
D2:第二遮光區塊與遮光膜層的其餘部分的最短距離
△G:延伸結構在最遠離遠側端處彼此間的最短距離
△H:延伸結構與凹陷結構在平行於光路方向上的最大距離
△Hh:第一通光孔隙與第二通光孔隙在平行於光路方向上的最大距離
△Hs:第一遮光區塊與第二遮光區塊在平行於光路方向上的最大距離
HA1:第一通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA2:第二通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA3:第三通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA4:第四通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA5:第五通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA6:第六通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA7:第七通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA8:第八通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA9:第九通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA10:第十通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA11:第十一通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA12:第十二通光孔隙在參考平面上的投影面積
HA13:第十三通光孔隙在參考平面上的投影面積
HD1:第一通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD2:第二通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD3:第三通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD4:第四通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD5:第五通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD6:第六通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD7:第七通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD8:第八通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD9:第九通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD10:第十通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD11:第十一通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD12:第十二通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
HD13:第十三通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離
S1:光學部在第一軸線方向上的寬度
S2:光學部在第二軸線方向上的寬度
T:遮光膜層的平均厚度
圖1係為根據本發明第一實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖2係為圖1之光學裝置的分解示意圖。
圖3係為圖1之光學裝置的另一分解示意圖。
圖4係為圖3之光學裝置的第五透鏡與載體元件的局部分解示意圖。
圖5係為圖4之第五透鏡尚未披覆有遮光膜層的像側示意圖。
圖6係為圖4之第五透鏡已經披覆有遮光膜層並組裝於載體元件的像側示意圖。
圖7係為圖6之第五透鏡的AA區域的放大示意圖。
圖8係為圖6之第五透鏡的側面示意圖。
圖9係為圖6之第五透鏡的像側示意圖。
圖10係為圖9之第五透鏡沿10-10切線剖切的側面剖切示意圖。
圖11係為圖9之第五透鏡沿11-11切線剖切的側面剖切示意圖。
圖12係為根據本發明第二實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖13係為圖12之光學裝置的分解示意圖。
圖14係為圖12之光學裝置的另一分解示意圖。
圖15係為圖13之光學裝置的第四透鏡的局部放大圖。
圖16係為圖15之第四透鏡的物側示意圖。
圖17係為圖15之第四透鏡的側面示意圖。
圖18係為圖16之第四透鏡沿18-18切線剖切的側面剖切示意圖。
圖19係為圖16之第四透鏡的BB區域的放大示意圖。
圖20係為根據本發明第三實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖21係為圖20之光學裝置的局部剖切示意圖。
圖22係為圖20之光學裝置的分解示意圖。
圖23係為圖22之光學裝置的第五透鏡的局部放大圖。
圖24係為圖23之第五透鏡在第一軸線方向上的側面示意圖。
圖25係為圖23之第五透鏡的出光側示意圖。
圖26係為圖23之第五透鏡在第二軸線方向上的側面示意圖。
圖27係為圖23之第五透鏡的出光側示意圖。
圖28係為圖27之第五透鏡沿28-28切線剖切的側面剖切示意圖。
圖29係為圖27之第五透鏡沿29-29切線剖切的側面剖切示意圖。
圖30係為根據本發明第四實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖31係為圖30之光學裝置的局部剖切示意圖。
圖32係為圖30之光學裝置的分解示意圖。
圖33係為圖32之光學裝置的第四透鏡的局部放大圖。
圖34係為圖33之第四透鏡的側面示意圖。
圖35係為圖33之第四透鏡的出光側示意圖。
圖36係為圖33之第四透鏡沿36-36切線剖切的側面剖切示意圖。
圖37係為圖35之第四透鏡的CC區域的放大示意圖。
圖38係為圖37之第四透鏡的DD區域的放大示意圖。
圖39係為根據本發明第五實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖40係為圖39之光學裝置的分解示意圖。
圖41係為圖39之光學裝置的另一分解示意圖。
圖42係為圖41之光學裝置的第五透鏡的局部放大圖。
圖43係為圖42之第五透鏡的側面示意圖。
圖44係為圖42之第五透鏡的像側示意圖。
圖45係為圖44之第五透鏡沿45-45切線剖切的側面剖切示意圖。
圖46係為圖44之第五透鏡的EE區域的放大示意圖。
圖47係為根據本發明第六實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖48係為圖47之光學裝置的分解示意圖。
圖49係為圖47之光學裝置的另一分解示意圖。
圖50係為圖48之光學裝置的第一透鏡的局部放大圖。
圖51係為圖50之第一透鏡的側面示意圖。
圖52係為圖50之第一透鏡的物側示意圖。
圖53係為圖52之第一透鏡沿53-53切線剖切的側面剖切示意圖。
圖54係為根據本發明第七實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖。
圖55係為圖54之光學裝置的分解示意圖。
圖56係為圖55之光學裝置的反射元件的局部放大圖。
圖57係為圖56之光學裝置的反射元件尚未披覆有遮光膜層的局部放大圖。
圖58係為圖56之光學裝置的反射元件已經披覆有遮光膜層的局部放大圖。
圖59係為圖58之反射元件的側視示意圖。
圖60係為圖58之反射元件的另一示意圖。
圖61係為圖56之反射元件沿61-61切線剖切的側面剖切示意圖。
圖62係為圖61之反射元件的FF區域的放大示意圖。
圖63係為圖56之反射元件沿63-63切線剖切的側面剖切示意圖。
圖64係為圖63之反射元件的GG區域的放大示意圖。
圖65係為根據本發明第八實施例所繪示之光學裝置的反射元件的立體示意圖。
圖66係為圖65之反射元件沿66-66切線剖切的側面剖切示意圖。
圖67係為圖66之反射元件的HH區域的放大示意圖。
圖68係為圖65之反射元件沿68-68切線剖切的側面剖切示意圖。
圖69係為圖68之反射元件的II區域的放大示意圖。
圖70繪示依照本發明第九實施例的一種電子裝置的立體示意圖。
圖71繪示圖70之電子裝置之另一側的立體示意圖。
圖72繪示圖70之電子裝置的系統方塊圖。
圖73繪示圖70之電子裝置以介於11mm至14mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖。
圖74繪示圖70之電子裝置以介於22mm至30mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖。
圖75繪示圖70之電子裝置以介於60mm至300mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖。
圖76繪示圖70之電子裝置以介於400mm至600mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖。
圖77至圖78繪示圖70之電子裝置作為投影裝置時的應用場景示意圖。
圖79繪示依照本發明披覆於光學元件上的一種遮光膜層的示意圖。
圖80繪示依照本發明披覆於光學元件上的另一種遮光膜層的示意圖。
圖81繪示依照本發明披覆於光學元件上的一種遮光膜層之邊緣的示意圖。
圖82繪示依照本發明披覆於光學元件上的另一種遮光膜層之邊緣的示意圖。
圖83繪示依照本發明披覆於光學元件上的再一種遮光膜層之邊緣的示意圖。
以下在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點。以下之實施例進一步詳細說明本發明之觀點，但非以任何觀點限制本發明之範疇。
本發明提供一種透鏡組，可應用於成像系統或發光系統。成像系統可為成像鏡頭模組，可具有自動對焦或光學防抖的功能性，但本發明不以此為限。發光系統可為投影模組或顯示模組，可具有縮放影像、校正變形或立體影像的功能性，但本發明不以此為限。
當透鏡組應用於成像系統時，入光側為物側，出光側為像側，可在像側定義有一成像面，且可在成像面上設置一電子感光元件。當透鏡組應用於發光系統時，可在入光側設置有一光源，光源可為但不限於影像源(如液晶投影器、數位光處理投影器...等等)、雷射光源或紫外/紅外光源，來自光源的光線自入光側射入透鏡組後可被匯聚或發散，再由出光側射出。其中，透鏡組亦可同時應用於成像系統與發光系統，例如為飛時測距(Time of Flight，TOF)或光達(LIDAR)，但本發明不以此為限。
透鏡組具有一光路。透鏡組包含一光學元件以及一遮光膜層。光學元件可為供光路通過的透光元件或將光路轉向的反射元件。其中，透光元件可例如為透鏡、稜鏡或濾鏡，但本發明不以此為限。其中，反射元件可具有全反射面、鏡面反射面或部分反射面，但本發明不以此為限；所謂部分反射意指光線有部分被反射而有部分穿透或被吸收，更可進一步針對光線的特性而選擇性地部分反射，例如波長。
光學元件具有一光學部，且光路通過光學部。當光學元件為透鏡時，透鏡可為一模造玻璃透鏡。模造玻璃透鏡可以透過壓模成型(Compression Molding)、射出成型(Injection Molding)或是射壓成型(Injection-compression Molding)等製程製造而成。當光學元件為反射元件時，反射元件可具有一V形溝。V形溝可具有二遮光表面，且遮光表面自光學部沿遠離光路的方向逐漸遠離。其中，V形溝更可具有多個弧形突起。弧形突起依序排列且連接遮光表面。
光學元件可具有至少一非球面，且光學部可通過至少一非球面。當光學元件為反射元件時，反射元件的非球面可提供匯聚或發散光線的功能，藉此減少透鏡組的元件數量。其中，非球面可以進一步是自由曲面。
光學元件更可具有一光學面以及一連接面。光學部可通過光學面。光學部在光學面可以發生折射或反射。具體來說，光學面的面形可為但不限於平面、球面或非球面，且光學面可為 但不限於透光面、反射面或分光面。連接面可以一邊界相接於光學面。邊界可為一交線、一導角、一圓角或用任何方法連接二面所產生的邊界。
光學元件更可具有一入光面、至少一反射面以及一出光面，且光學部沿光路依序通過入光面、至少一反射面與出光面。
光學元件更可具有一端部。端部可沿朝向光路的方向內縮或沿遠離光路的方向凸出。端部可用以對應於一載體元件的一對應部，且端部可用以與對應部相對設置，以將光學元件容置於載體元件內。藉此，可定位光學元件相對於載體元件的方向。
光學元件更可具有一第一通光孔隙以及一第二通光孔隙。第一通光孔隙與第二通光孔隙可由遮光膜層所環繞，且第一通光孔隙可較第二通光孔隙靠近光路。藉此，可提升光學部邊緣的通光量，以提升光學品質。
遮光膜層披覆於光學元件上且毗鄰設置於光學部。其中，遮光膜層亦可披覆於光學元件的端部。藉此，可避免在端部產生雜光。其中，遮光膜層亦可同時披覆於光學面及邊界。由於光學元件上二相連表面在邊界附近的面形變化較大，容易產生雜光，透過將遮光膜層同時披覆於光學面及邊界，可藉此減少雜光的產生。其中，遮光膜層亦可披覆於V形溝的二遮光表面當中至少一者。其中，遮光膜層亦可披覆於V形溝的多個弧形突起，以形成下述之延伸結構及凹陷結構。
遮光膜層可為單層膜。單層膜包含遮光層，遮光層具有遮光的功能性。詳細來說，遮光層可例如為黑色塗層，透過吸收可見光線來達成遮光的目的；遮光層亦可例如為中性灰度塗層(neutral-density coating)，透過遮擋穿透光線來達成遮光的目的，但本發明不以上述方法與塗層為限。遮光層也因為不同的遮光方法及製程而可以有不同的遮光度，對於穿透光線的波長可以具有選擇性。在對應實際需求時，遮光層可同時具有多種遮光的特性，藉此進一步改善光學品質。請參照圖79，係繪示有披覆於光學元件OL上的遮光膜層BM，且圖79中的遮光膜層BM係為單層膜，包含一遮光層BM1，但圖79中的層體厚度並非用以限定本發明。
遮光膜層亦可為多層膜堆疊而成。除了包含遮光層外，多層膜更可包含但不限於中介層、隔絕層、抗紫外/紅外線(UV/IR)層、抗反射層、疏水層等多種膜層。藉此，可達成更好的遮光效果、提升附著性與延長使用壽命等功效，但本發明不限於上述舉例的功效。請參照圖80，係繪示有披覆於光學元件OL上的遮光膜層BM，且圖80中的遮光膜層BM係為多層膜堆疊，包含一中介層BM2、一抗紅外線層BM3、一遮光層BM1、一抗紫外線層BM4、一抗反射層BM5以及一疏水層BM6，但圖80中的層體堆疊順序與層體厚度並非用以限定本發明。
遮光膜層亦可包含一光致變化層，可透過照射特定波長的光線來圖形化遮光膜層，使得遮光範圍在圓周方向上可控。藉此，可提升精度，並改善遮光品質。其中，光致變化層可為遮 光層或中介層，但本發明不以此為限。當光致變化層為遮光層時，可透過照射特定波長的光線形成高精度的圖形化表面，藉以提升光學品質。當光致變化層為中介層時，可透過親合度的差異披覆圖形化的遮光層，藉以提升光學品質。其中，遮光膜層更可包含一包覆層，且包覆層將光致變化層與空氣間隔開來。藉此，可保護光致變化層。值得注意的是，包覆層可以具有空氣隔絕與抗UV/IR等功能性，亦可進一步具有抗反射、防汙與疏水等功能性，例如為圖80中的抗反射層BM5或疏水層BM6，但本發明不以此為限。
披覆在光學元件上的遮光膜層，其邊緣可為垂直面。藉此，可簡化生產流程，提高生產效率。請參照圖81，係繪示有披覆於光學元件OL上的遮光膜層BM的垂直邊緣。或者，披覆在光學元件上的遮光膜層，其邊緣可為斜面或弧面。藉此，可進一步減少光線透過邊緣所產生的雜光，藉以提升光學品質。請參照圖82至圖83，係分別繪示有披覆於光學元件OL上的遮光膜層BM的斜向邊緣與弧狀邊緣。
遮光膜層可具有一遠側端以及一近側端。近側端可較遠側端靠近光學部。近側端可包含多個延伸結構以及多個凹陷結構。延伸結構可分別沿遠離遠側端的方向延伸，且延伸結構可在平行於光路的方向上不重疊。凹陷結構分別可連接於相鄰兩個延伸結構之間，且可沿朝向遠側端的方向凹陷。藉此，可在有效遮蔽雜光(unwanted light)的同時避免光線發生繞射現象，藉以保 證光學品質。所謂雜光，於成像系統中可以在成像面產生雜散光，於發光系統中可以在投射面產生光斑，但本發明不限於上述舉例。其中，延伸結構亦可披覆於部分的光學面上。其中，延伸結構可設置於V形溝靠近光路的一端。其中，延伸結構可設置於入光面、至少一反射面與出光面其中一者。
遮光膜層更可具有多個遮光區塊。藉此，可修飾光學部邊緣的光學品質。遮光區塊可彼此間隔設置。遮光區塊可包含一第一遮光區塊以及一第二遮光區塊，且第一遮光區塊可較第二遮光區塊靠近光路。其中，遮光區塊可設置於入光面、至少一反射面與出光面其中一者。
遮光膜層的厚度可自凹陷結構向延伸結構漸減。或者也可以說，遮光膜層的厚度可自延伸結構靠近光路的一端向凹陷結構漸增。藉此，可提升延伸結構的尺寸精度，以保證光學品質。其中，第一遮光區塊的厚度可小於第二遮光區塊的厚度。
延伸結構在最遠離遠側端處彼此間的最短距離為△G，其可滿足下列條件：0.1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0017-41
△G
Figure 110132829-A0305-02-0017-42
299.5[微米]。藉此，可透過改變延伸結構之間的距離，使得遮光的程度可控，藉以提升光學品質。其中，亦可滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0017-39
△G
Figure 110132829-A0305-02-0017-40
200[微米]。其中，亦可滿足下列條件：0.7[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0017-37
△G
Figure 110132829-A0305-02-0017-38
150[微米]。請參照圖7，係繪示有依照本發明第一實施例的△G。
遮光膜層可更具有其餘部分，其中其餘部分皆較第二遮光區塊遠離光路，或者一部分其餘部分位於第一遮光區塊與 第二遮光區塊之間且另一部分其餘部分較第二遮光區塊遠離光路。第一遮光區塊與第二遮光區塊以及遮光膜層的其餘部分兩者中的最短距離為D1，第二遮光區塊與遮光膜層的其餘部分的最短距離為D2，其可滿足下列條件：0.15
Figure 110132829-A0305-02-0018-43
D2/D1
Figure 110132829-A0305-02-0018-44
1.5。藉此，可使得光線自光學部的中心到邊緣平滑地過渡。請參照圖38，係繪示有依照本發明第四實施例的D1與D2。
定義出一參考平面，且參考平面垂直於光路。第一通光孔隙在參考平面上的投影面積為HA1，第一通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離為HD1，第二通光孔隙在參考平面上的投影面積為HA2，第二通光孔隙與光路在參考平面上的最短距離為HD2，其可滿足下列條件：0.02
Figure 110132829-A0305-02-0018-46
(HA2^0.5/HD2)/(HA1^0.5/HD1)
Figure 110132829-A0305-02-0018-45
0.98。藉此，可使得光線自光學部的中心到邊緣平滑地過渡。
在垂直於光路的參考平面上定義有一第一軸線以及一第二軸線，且第一軸線、第二軸線與光路相互垂直。光學部可對稱於第一軸線與第二軸線當中至少一者。其中，端部可與第一軸線或第二軸線保持距離。光學部在第一軸線方向上的寬度為S1，光學部在第二軸線方向上的寬度為S2，其可滿足下列條件：0.3<S1/S2<0.9。藉此，可使得光學部呈非圓形，藉以減少體積，並可將端部設置成對應於光學部的寬度範圍，藉以進一步地使光學部與載體元件在特定方向上保持定位。請參照圖6，係繪示有依照本發明第一實施例的S1與S2。
遮光膜層的平均厚度為T，其可滿足下列條件：0.9 [微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-47
T
Figure 110132829-A0305-02-0019-48
10[微米]。藉此，可在遮光膜層能有效遮蔽光線的前提下降低平均厚度，以避免光線透過遮光膜層的邊緣產生雜光。
延伸結構與凹陷結構在平行於光路方向上的最大距離為△H，其可滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-51
△H
Figure 110132829-A0305-02-0019-52
249.5[微米]。藉此，可提升斜射光線的入光量，藉以增加通光量。其中，亦可滿足下列條件：1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-49
△H
Figure 110132829-A0305-02-0019-50
200[微米]。其中，亦可滿足下列條件：2[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-53
△H
Figure 110132829-A0305-02-0019-54
150[微米]。值得注意的是，在計算△H時，若遮光膜層厚度不可忽略，則以遮光膜層與光學元件交界處為量測位置。請參照圖10至圖11，係繪示有依照本發明第一實施例的△H。
第一遮光區塊與第二遮光區塊在平行於光路方向上的最大距離為△Hs，其可滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-55
△Hs
Figure 110132829-A0305-02-0019-56
249.5[微米]。藉此，可提升斜射光線的入光量，藉以增加通光量。其中，亦可滿足下列條件：1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-57
△Hs
Figure 110132829-A0305-02-0019-58
200[微米]。其中，亦可滿足下列條件：2[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-59
△Hs
Figure 110132829-A0305-02-0019-60
150[微米]。值得注意的是，在計算△Hs時，若遮光膜層厚度不可忽略，則以遮光膜層與光學元件交界處為量測位置。
第一通光孔隙與第二通光孔隙在平行於光路方向上的最大距離為△Hh，其可滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-61
△Hh
Figure 110132829-A0305-02-0019-62
249.5[微米]。藉此，可提升斜射光線的入光量，藉以增加通光量。其中，亦可滿足下列條件：1[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0019-63
△Hh
Figure 110132829-A0305-02-0019-64
200[微米]。其中，亦 可滿足下列條件：2[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0020-65
△Hh
Figure 110132829-A0305-02-0020-66
150[微米]。值得注意的是，在計算△Hh時，若遮光膜層厚度不可忽略，則以遮光膜層與光學元件交界處為量測位置。
上述本發明光學裝置中的各技術特徵皆可組合配置，而達到對應之功效。
根據上述實施方式，以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。
<第一實施例>
請參照圖1至圖11，其中圖1係為根據本發明第一實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖2係為圖1之光學裝置的分解示意圖，圖3係為圖1之光學裝置的另一分解示意圖，圖4係為圖3之光學裝置的第五透鏡與載體元件的局部分解示意圖，圖5係為圖4之第五透鏡尚未披覆有遮光膜層的像側示意圖，圖6係為圖4之第五透鏡已經披覆有遮光膜層並組裝於載體元件的像側示意圖，圖7係為圖6之第五透鏡的AA區域的放大示意圖，圖8係為圖6之第五透鏡的側面示意圖，圖9係為圖6之第五透鏡的像側示意圖，圖10係為圖9之第五透鏡沿10-10切線剖切的側面剖切示意圖，且圖11係為圖9之第五透鏡沿11-11切線剖切的側面剖切示意圖。
在本實施例中，光學裝置1為成像鏡頭，包含一載體元件11、一透鏡組12以及一濾光元件13，並且具有一成像面14。載體元件11具有一對應部11a。對應部11a為載體元件11 內側的平坦區域，以方便載體元件11容置並定位透鏡組12。透鏡組12具有一光路101，且由物側至像側沿光路101依序包含一第一透鏡110、一第一間隔元件SP1、一第二透鏡120、一第二間隔元件SP2、一第三透鏡130、一第四透鏡140、一第三間隔元件SP3、一第五透鏡150、一遮光膜層190以及一固定元件RT。濾光元件13位於透鏡組12的像側。成像面14位於濾光元件13的像側。光線通過透鏡組12後匯聚並成像於成像面14，當像高為5.0公釐(mm)時，所對應的半視角(HFOV)為60.0度，故光學裝置1係為一超廣角鏡頭。
在垂直於光路101的參考平面上定義有一第一軸線AX1以及一第二軸線AX2，且第一軸線AX1、第二軸線AX2與光路101相互垂直。
第五透鏡150具有一光學部151。光學部151對稱於第一軸線AX1與第二軸線AX2，且光路101通過光學部151。第五透鏡150於像側更具有一光學面152以及一連接面153。光學面152為透光的非球面，光學面152更進一步為自由曲面。光學部151通過光學面152，且光學部151在光學面152產生折射。連接面153以一邊界BD相接於光學面152。
第五透鏡150更具有二個端部154。端部154在第二軸線AX2的方向上朝向光路101內縮，且與第一軸線AX1保持距離。端部154對應於載體元件11的對應部11a，並與對應部11a相對設置，以將第五透鏡150容置並定位於載體元件11內，藉此 提高生產效率。
遮光膜層190環繞且毗鄰設置於光學部151，且同時披覆於第五透鏡150的光學面152、邊界BD與連接面153上，以減少在邊界BD處所產生的雜光，藉此提升光學品質。請參照圖5至圖6，係為遮光膜層190披覆於第五透鏡150上的前後步驟對照圖。
遮光膜層190在第一軸線AX1方向上的兩端分別具有一遠側端191以及一近側端192。近側端192較遠側端191靠近光學部151。近側端192包含多個延伸結構1921以及多個凹陷結構1922。延伸結構1921與凹陷結構1922設置於光學面152上。延伸結構1921分別沿遠離遠側端191的方向延伸，且延伸結構1921在平行於光路101的方向上不重疊。凹陷結構1922連接於相鄰兩個延伸結構1921之間，且沿朝向遠側端191的方向凹陷。
遮光膜層190的厚度自凹陷結構1922向延伸結構1921漸減。或者也可以說，遮光膜層190的厚度自延伸結構1921靠近光路101的一端向凹陷結構1922漸增。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層190的披覆範圍，圖10與圖11的遮光膜層190厚度未依實際比例繪製。
延伸結構1921在最遠離遠側端191處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=105.5[微米]。
光學部151在第一軸線AX1方向上的寬度為S1，光學部151在第二軸線AX2方向上的寬度為S2，其滿足下列條件： S1=2.384[公釐]；S2=3.072[公釐]；以及S1/S2=0.776。
遮光膜層190的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0023-67
T
Figure 110132829-A0305-02-0023-68
10[微米]。
如圖10與圖11的10-10截面與11-11截面所示，延伸結構1921與凹陷結構1922在平行於光路101方向上的最大距離為△H，其在10-10截面上滿足下列條件：△H=36.4[微米]，其在11-11截面上滿足下列條件：△H=47.8[微米]。
<第二實施例>
請參照圖12至圖19，其中圖12係為根據本發明第二實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖13係為圖12之光學裝置的分解示意圖，圖14係為圖12之光學裝置的另一分解示意圖，圖15係為圖13之光學裝置的第四透鏡的局部放大圖，圖16係為圖15之第四透鏡的物側示意圖，圖17係為圖15之第四透鏡的側面示意圖，圖18係為圖16之第四透鏡沿18-18切線剖切的側面剖切示意圖，且圖19係為圖16之第四透鏡的BB區域的放大示意圖。
在本實施例中，光學裝置2為成像鏡頭，包含一載體元件21、一透鏡組22以及一濾光元件23，並且具有一成像面24。載體元件21容置透鏡組22。透鏡組22具有一光路201，且由物側至像側沿光路201依序包含一第一透鏡210、一第一間隔元件SP1、一第二透鏡220、一第二間隔元件SP2、一第三透鏡230、一遮光膜層290、一第四透鏡240、一第三間隔元件SP3、 一第五透鏡250以及一固定元件RT。濾光元件23位於透鏡組22的像側。成像面24位於濾光元件23的像側。光線通過透鏡組22後匯聚並成像於成像面24，當像高為5.0公釐時，所對應的半視角(HFOV)為60.0度，故光學裝置2係為一超廣角鏡頭。
第四透鏡240具有一光學部241，且光路201通過光學部241。第四透鏡240為模造玻璃透鏡，藉以降低第四透鏡240對溫度變化的敏感性。第四透鏡240於物側更具有一光學面242。光學面242為透光的非球面。光學部241通過光學面242，且光學部241在光學面242產生折射。
第四透鏡240更具有多個第一通光孔隙245a、多個第二通光孔隙245b、多個第三通光孔隙245c、多個第四通光孔隙245d、多個第五通光孔隙245e、多個第六通光孔隙245f、多個第七通光孔隙245g、多個第八通光孔隙245h、多個第九通光孔隙245i、多個第十通光孔隙245j、多個第十一通光孔隙245k、多個第十二通光孔隙245m以及多個第十三通光孔隙245n。第一通光孔隙245a至第十三通光孔隙245n皆由遮光膜層290所環繞，藉以提升第四透鏡240的通光量。第一通光孔隙245a至第十三通光孔隙245n依序沿遠離光路201的方向排列。
遮光膜層290環繞且毗鄰設置於光學部241，且同時披覆於第四透鏡240的光學面242與外徑面ODS上。
遮光膜層290具有一遠側端291以及一近側端292。遠側端291設置於第四透鏡240的外徑面ODS上。近側端292 設置於第四透鏡240的物側，較遠側端291靠近光學部241。近側端292包含多個延伸結構2921以及多個凹陷結構2922。延伸結構2921與凹陷結構2922設置於光學面242上。延伸結構2921分別沿遠離遠側端291的方向延伸，且延伸結構2921在平行於光路201的方向上不重疊。凹陷結構2922連接於相鄰兩個延伸結構2921之間，且沿朝向遠側端291的方向凹陷。
遮光膜層290的厚度自凹陷結構2922向延伸結構2921漸減。或者也可以說，遮光膜層290的厚度自延伸結構2921靠近光路201的一端向凹陷結構2922漸增。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層290的披覆範圍，圖18的遮光膜層290厚度未依實際比例繪製。
延伸結構2921在最遠離遠側端291處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=51.0[微米]。
定義出一參考平面，且參考平面垂直於光路201。第一通光孔隙245a在參考平面上的投影面積為HA1，第一通光孔隙245a與光路201在參考平面上的最短距離為HD1，第二通光孔隙245b在參考平面上的投影面積為HA2，第二通光孔隙245b與光路201在參考平面上的最短距離為HD2，第三通光孔隙245c在參考平面上的投影面積為HA3，第三通光孔隙245c與光路201在參考平面上的最短距離為HD3，第四通光孔隙245d在參考平面上的投影面積為HA4，第四通光孔隙245d與光路201在參考平面上的最短距離為HD4，第五通光孔隙245e在參考平面上的 投影面積為HA5，第五通光孔隙245e與光路201在參考平面上的最短距離為HD5，第六通光孔隙245f在參考平面上的投影面積為HA6，第六通光孔隙245f與光路201在參考平面上的最短距離為HD6，第七通光孔隙245g在參考平面上的投影面積為HA7，第七通光孔隙245g與光路201在參考平面上的最短距離為HD7，第八通光孔隙245h在參考平面上的投影面積為HA8，第八通光孔隙245h與光路201在參考平面上的最短距離為HD8，第九通光孔隙245i在參考平面上的投影面積為HA9，第九通光孔隙245i與光路201在參考平面上的最短距離為HD9，第十通光孔隙245j在參考平面上的投影面積為HA10，第十通光孔隙245j與光路201在參考平面上的最短距離為HD10，第十一通光孔隙245k在參考平面上的投影面積為HA11，第十一通光孔隙245k與光路201在參考平面上的最短距離為HD11，第十二通光孔隙245m在參考平面上的投影面積為HA12，第十二通光孔隙245m與光路201在參考平面上的最短距離為HD12，第十三通光孔隙245n在參考平面上的投影面積為HA13，第十三通光孔隙245n與光路201在參考平面上的最短距離為HD13，其滿足下表一之條件：
Figure 110132829-A0305-02-0026-1
Figure 110132829-A0305-02-0027-2
表一中的X代表對應第一通光孔隙245a相關數據的「1」至代表對應第十三通光孔隙245n相關數據的「13」。舉例來說，若X為2(即表一中的X=2)時，HAX=HA2，HDX=HD2，HAX^0.5/HDX=HA2^0.5/HD2，且(HAX^0.5/HDX)/(HA(X-1)^0.5/HD(X-1))=(HA2^0.5/HD2)/(HA1^0.5/HD1)。其中，HAX^0.5/HDX代表通光比，由表一中可得知，通光比隨著遠離光路201方向漸減，使得通光量漸縮，藉以確保光線強度平滑。
遮光膜層290的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0027-3
T
Figure 110132829-A0305-02-0027-4
10[微米]。
第一通光孔隙245a至第十三通光孔隙245n在平行於光路201方向上的最大距離為△Hh，其滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0027-5
△Hh
Figure 110132829-A0305-02-0027-6
249.5[微米]。
<第三實施例>
請參照圖20至圖29，其中圖20係為根據本發明第三實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖21係為圖20之光學裝置的局部剖切示意圖，圖22係為圖20之光學裝置的分解示意圖，圖23係為圖22之光學裝置的第五透鏡的局部放大圖，圖 24係為圖23之第五透鏡在第一軸線方向上的側面示意圖，圖25係為圖23之第五透鏡的出光側示意圖，圖26係為圖23之第五透鏡在第二軸線方向上的側面示意圖，圖27係為圖23之第五透鏡的出光側示意圖，圖28係為圖27之第五透鏡沿28-28切線剖切的側面剖切示意圖，且圖29係為圖27之第五透鏡沿29-29切線剖切的側面剖切示意圖。
在本實施例中，光學裝置3為投影裝置，包含一載體元件31以及一透鏡組32，並且具有一光源面35。載體元件31具有一對應部31a。對應部31a為載體元件31內側的平坦區域，以方便載體元件31容置並定位透鏡組32。透鏡組32具有一光路301，且由入光側至出光側沿光路301依序包含一第一透鏡310、一第二透鏡320、一第一間隔元件SP1、一第三透鏡330、一第四透鏡340、一第五透鏡350以及一遮光膜層390。光源面35位於透鏡組32的入光側。當光學裝置3應用於一電子裝置(本實施例未繪示)時，例如為液晶投影器或數位光處理投影器的影像源(本實施例未繪示)可作為發光源，以設置於光源面35上，向透鏡組32投射光線。光線通過透鏡組32後匯聚並成像於一投影面(本實施例未繪示)，其中透鏡組32的焦距(f)為14.5公釐，光圈值(Fno)為3.4，可投影的視角(AOP)在對角線方向上為21.8度。透鏡組32亦可應用於成像系統，當像高為2.5公釐時，所對應的半視角(HFOV)為9.75度，故光學裝置3係為一望遠鏡頭。
在垂直於光路301的參考平面上定義有一第一軸線 AX1以及一第二軸線AX2，且第一軸線AX1、第二軸線AX2與光路301相互垂直。
第五透鏡350具有一光學部351。光學部351對稱於第一軸線AX1與第二軸線AX2，且光路301通過光學部351。第五透鏡350於出光側更具有一光學面352。光學面352為透光的非球面。光學部351通過光學面352，且光學部351在光學面352產生折射。
第五透鏡350更具有二個端部354。端部354在第一軸線AX1的方向上朝向光路301內縮，且與第二軸線AX2保持距離。端部354對應於載體元件31的對應部31a，並與對應部31a相對設置，以將第五透鏡350容置並定位於載體元件31內，藉此提高生產效率。
遮光膜層390環繞且毗鄰設置於光學部351，且同時披覆於第五透鏡350的光學面352與端部354上，以減少在光學面352與端部354的交界處所產生的雜光，藉此提升光學品質。
遮光膜層390在第一軸線AX1方向上的兩端分別具有一遠側端391以及一近側端392。近側端392較遠側端391靠近光學部351。近側端392包含多個延伸結構3921以及多個凹陷結構3922。延伸結構3921與凹陷結構3922設置於光學面352上。延伸結構3921分別沿遠離遠側端391的方向延伸，且延伸結構3921在平行於光路301的方向上不重疊。凹陷結構3922連接於相鄰兩個延伸結構3921之間，且沿朝向遠側端391的方向凹陷。
遮光膜層390的厚度自凹陷結構3922向延伸結構3921漸減。或者也可以說，遮光膜層390的厚度自延伸結構3921靠近光路301的一端向凹陷結構3922漸增。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層390的披覆範圍，圖28與圖29的遮光膜層390厚度未依實際比例繪製。
延伸結構3921在最遠離遠側端391處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=160[微米]。
光學部351在第一軸線AX1方向上的寬度為S1，光學部351在第二軸線AX2方向上的寬度為S2，其滿足下列條件：S1=3.87[公釐]；S2=4.26[公釐]；以及S1/S2=0.908。
遮光膜層390的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0030-7
T
Figure 110132829-A0305-02-0030-8
10[微米]。
如圖28與圖29的28-28截面與29-29截面所示，延伸結構3921與凹陷結構3922在平行於光路301方向上的最大距離為△H，其在28-28截面上滿足下列條件：△H=152.4[微米]，其在29-29截面上滿足下列條件：△H=167.2[微米]。
<第四實施例>
請參照圖30至圖38，其中圖30係為根據本發明第四實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖31係為圖30之光學裝置的局部剖切示意圖，圖32係為圖30之光學裝置的分解示意圖，圖33係為圖32之光學裝置的第四透鏡的局部放大圖，圖34係為圖33之第四透鏡的側面示意圖，圖35係為圖33之第四 透鏡的出光側示意圖，圖36係為圖33之第四透鏡沿36-36切線剖切的側面剖切示意圖，圖37係為圖35之第四透鏡的CC區域的放大示意圖，且圖38係為圖37之第四透鏡的DD區域的放大示意圖。
在本實施例中，光學裝置4為投影裝置，包含一載體元件41以及一透鏡組42，並且具有一光源面45。載體元件41容置透鏡組42。透鏡組42具有一光路401，且由入光側至出光側沿光路401依序包含一第一透鏡410、一第二透鏡420、一第一間隔元件SP1、一第三透鏡430、一第四透鏡440、二遮光膜層490以及一第五透鏡450。光源面45位於透鏡組42的入光側。當光學裝置4應用於一電子裝置(本實施例未繪示)時，例如為液晶投影器或數位光處理投影器的影像源(本實施例未繪示)可作為發光源，以設置於光源面45上，向透鏡組42投射光線。光線通過透鏡組42後匯聚並成像於一投影面(本實施例未繪示)，其中透鏡組42的焦距(f)為14.5公釐，光圈值(Fno)為3.4，可投影的視角(AOP)在對角線方向上為21.8度。透鏡組42亦可應用於成像系統，當像高為2.5公釐時，所對應的半視角(HFOV)為9.75度，故光學裝置4係為一望遠鏡頭。
第四透鏡440具有一光學部441，且光路401通過光學部441。第四透鏡440於出光側更具有一光學面442。光學面442為透光的非球面。光學部441通過光學面442，且光學部441在光學面442產生折射。
遮光膜層490環繞且毗鄰設置於光學部441，且披覆於第四透鏡440的光學面442上。
遮光膜層490具有一遠側端491以及一近側端492。近側端492較遠側端491靠近光學部441。近側端492包含多個延伸結構4921以及多個凹陷結構4922。延伸結構4921與凹陷結構4922設置於光學面442上。延伸結構4921分別沿遠離遠側端491的方向延伸，且延伸結構4921在平行於光路401的方向上不重疊。凹陷結構4922連接於相鄰兩個延伸結構4921之間，且沿朝向遠側端491的方向凹陷。
遮光膜層490更具有多個遮光區塊493以及其餘部分。遮光區塊493彼此間隔地設置於光學面442上。遮光區塊493包含多個第一遮光區塊4931以及多個第二遮光區塊4932，且第一遮光區塊4931較第二遮光區塊4932靠近光路401。此外，遮光膜層490的其餘部分較第二遮光區塊4932遠離光路401。
遮光膜層490的厚度自凹陷結構4922向延伸結構4921漸減。或者也可以說，遮光膜層490的厚度自延伸結構4921靠近光路401的一端向凹陷結構4922漸增。並且，第一遮光區塊4931的厚度小於第二遮光區塊4932的厚度。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層490的披覆範圍，圖36的遮光膜層490厚度未依實際比例繪製。
延伸結構4921在最遠離遠側端491處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=83[微米]。
第一遮光區塊4931與第二遮光區塊4932以及遮光膜層490的其餘部分兩者中的最短距離為D1，第二遮光區塊4932與遮光膜層490的其餘部分的最短距離為D2，其滿足下列條件：D1=27.5[微米]；D2=21.3[微米]；以及D2/D1=0.775。在本實施例中，如圖37和圖38所示，第二遮光區塊4932較遮光膜層490的其餘部分靠近第一遮光區塊4931，故D1為第一遮光區塊4931與第二遮光區塊4932的最短距離。
遮光膜層490的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0033-9
T
Figure 110132829-A0305-02-0033-10
10[微米]。
如圖36的36-36截面所示，延伸結構4921與凹陷結構4922在平行於光路401方向上的最大距離為△H，其在36-36截面上滿足下列條件：△H=2.5[微米]。
第一遮光區塊4931與第二遮光區塊4932在平行於光路401方向上的最大距離為△Hs，其滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0033-11
△Hs
Figure 110132829-A0305-02-0033-12
249.5[微米]。
<第五實施例>
請參照圖39至圖46，其中圖39係為根據本發明第五實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖40係為圖39之光學裝置的分解示意圖，圖41係為圖39之光學裝置的另一分解示意圖，圖42係為圖41之光學裝置的第五透鏡的局部放大圖，圖43係為圖42之第五透鏡的側面示意圖，圖44係為圖42之第五透鏡的像側示意圖，圖45係為圖44之第五透鏡沿45-45切線剖 切的側面剖切示意圖，且圖46係為圖44之第五透鏡的EE區域的放大示意圖。
在本實施例中，光學裝置5為成像鏡頭，包含一載體元件51、一透鏡組52以及一濾光元件53，並且具有一成像面54。載體元件51容置透鏡組52。透鏡組52具有一光路501，且由物側至像側沿光路501依序包含一第一透鏡510、一第二透鏡520、一第三透鏡530、一第四透鏡540、一第五透鏡550、一遮光膜層590、一第一間隔元件SP1、一第六透鏡560、一第七透鏡570、一第二間隔元件SP2、一第八透鏡580以及一固定元件RT。濾光元件53位於透鏡組52的像側。成像面54位於濾光元件53的像側。光線通過透鏡組52後匯聚並成像於成像面54，當像高為8.2公釐時，所對應的半視角(HFOV)為42.5度，故光學裝置5係為一廣角鏡頭。
第五透鏡550具有一光學部551，且光路501通過光學部551。第五透鏡550於像側更具有一光學面552以及一連接面553。光學面552為透光的非球面。光學部551通過光學面552，且光學部551在光學面552產生折射。連接面553以一邊界BD相接於光學面552。
遮光膜層590環繞且毗鄰設置於光學部551，且同時披覆於第五透鏡550的光學面552、邊界BD與連接面553上，以減少在邊界BD處所產生的雜光，藉此提升光學品質。
遮光膜層590具有多個遮光區塊593以及其餘部分。 遮光區塊593彼此間隔地設置於光學面552上。遮光區塊593包含多個第一遮光區塊5931以及多個第二遮光區塊5932，且第一遮光區塊5931較第二遮光區塊5932靠近光路501。此外，一部分其餘部分位於第一遮光區塊5931與第二遮光區塊5932之間，且另一部分其餘部分較第二遮光區塊5932遠離光路501。
第一遮光區塊5931的厚度小於第二遮光區塊5932的厚度。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層590的披覆範圍，圖45的遮光膜層590厚度未依實際比例繪製。
第一遮光區塊5931與第二遮光區塊5932以及遮光膜層590的其餘部分兩者中的最短距離為D1，第二遮光區塊5932與遮光膜層590的其餘部分的最短距離為D2，其滿足下列條件：D1=15.7[微米]；D2=4.45[微米]；以及D2/D1=0.286。在本實施例中，如圖46所示，遮光膜層590的部分其餘部分較第二遮光區塊5932較靠近第一遮光區塊5931，故D1為第一遮光區塊5931與遮光膜層590的其餘部分的最短距離。並且，遮光膜層590中較第二遮光區塊5932遠離光路501的其餘部分較位於第一遮光區塊5931與第二遮光區塊5932之間的其餘部分靠近第二遮光區塊5932，故D2為第二遮光區塊5932與遮光膜層590中較第二遮光區塊5932遠離光路501的其餘部分的最短距離。
遮光膜層590的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0035-13
T
Figure 110132829-A0305-02-0035-14
10[微米]。
第一遮光區塊5931與第二遮光區塊5932在平行於 光路501方向上的最大距離為△Hs，其滿足下列條件：0.5[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0036-15
△Hs
Figure 110132829-A0305-02-0036-16
249.5[微米]。
<第六實施例>
請參照圖47至圖53，其中圖47係為根據本發明第六實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖48係為圖47之光學裝置的分解示意圖，圖49係為圖47之光學裝置的另一分解示意圖，圖50係為圖48之光學裝置的第一透鏡的局部放大圖，圖51係為圖50之第一透鏡的側面示意圖，圖52係為圖50之第一透鏡的物側示意圖，且圖53係為圖52之第一透鏡沿53-53切線剖切的側面剖切示意圖。
在本實施例中，光學裝置6為成像鏡頭，包含一載體元件61、一透鏡組62以及一濾光元件63，並且具有一成像面64。載體元件61容置透鏡組62。透鏡組62具有一光路601，且由物側至像側沿光路601依序包含一遮光膜層690、一第一透鏡610、一第二透鏡620、一第三透鏡630、一第四透鏡640、一第五透鏡650、一第一間隔元件SP1、一第六透鏡660、一第七透鏡670、一第二間隔元件SP2、一第八透鏡680以及一固定元件RT。濾光元件63位於透鏡組62的像側。成像面64位於濾光元件63的像側。光線通過透鏡組62後匯聚並成像於成像面64，當像高為8.2公釐時，所對應的半視角(HFOV)為42.5度，故光學裝置6係為一廣角鏡頭。
第一透鏡610具有一光學部611，且光路601通過光 學部611。第一透鏡610於物側更具有一光學面612以及一連接面613。光學面612為透光的非球面。光學部611通過光學面612，且光學部611在光學面612產生折射。連接面613以一邊界BD相接於光學面612。
遮光膜層690環繞且毗鄰設置於光學部611，且同時披覆於第一透鏡610的光學面612、邊界BD、連接面613、外徑面ODS與像側的非光學有效區域(未另標號)上，以減少在邊界BD處、連接面613與外徑面ODS的交界處以及外徑面ODS與像側非光學有效區域的交界處所產生的雜光，藉此提升光學品質。
遮光膜層690具有一遠側端691以及一近側端692。近側端692較遠側端691靠近光學部611。近側端692包含多個延伸結構6921以及多個凹陷結構6922。延伸結構6921與凹陷結構6922設置於光學面612上。延伸結構6921分別沿遠離遠側端691的方向延伸，且延伸結構6921在平行於光路601的方向上不重疊。凹陷結構6922連接於相鄰兩個延伸結構6921之間，且沿朝向遠側端691的方向凹陷。
遮光膜層690的厚度自凹陷結構6922向延伸結構6921漸減。或者也可以說，遮光膜層690的厚度自延伸結構6921靠近光路601的一端向凹陷結構6922漸增。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層690的披覆範圍，圖53的遮光膜層690厚度未依實際比例繪製。
延伸結構6921在最遠離遠側端691處彼此間的最短 距離為△G，其滿足下列條件：△G=7[微米]。
遮光膜層690的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0038-17
T
Figure 110132829-A0305-02-0038-18
10[微米]。
如圖53的53-53截面所示，延伸結構6921與凹陷結構6922在平行於光路601方向上的最大距離為△H，其在53-53截面上滿足下列條件：△H=1.25[微米]。
<第七實施例>
請參照圖54至圖64，其中圖54係為根據本發明第七實施例所繪示之光學裝置的立體示意圖，圖55係為圖54之光學裝置的分解示意圖，圖56係為圖55之光學裝置的反射元件的局部放大圖，圖57係為圖56之光學裝置的反射元件尚未披覆有遮光膜層的局部放大圖，圖58係為圖56之光學裝置的反射元件已經披覆有遮光膜層的局部放大圖，圖59係為圖58之反射元件的側視示意圖，圖60係為圖58之反射元件的另一示意圖，圖61係為圖56之反射元件沿61-61切線剖切的側面剖切示意圖，圖62係為圖61之反射元件的FF區域的放大示意圖，圖63係為圖56之反射元件沿63-63切線剖切的側面剖切示意圖，且圖64係為圖63之反射元件的GG區域的放大示意圖。
在本實施例中，光學裝置7為成像鏡頭，包含一載體元件71、一透鏡組72以及一支撐元件ST，並且具有一成像面74。載體元件71容置透鏡組72。透鏡組72具有一光路701，且由物側至像側沿光路701依序包含一第一透鏡710、一第一間隔 元件SP1、一第二間隔元件SP2、一第二透鏡720、一第三間隔元件SP3、一第三透鏡730、一第四間隔元件SP4、一第四透鏡740、一固定元件RT、一反射元件750以及一遮光膜層790。支撐元件ST較部分的反射元件750靠近像側，並供反射元件750承靠。成像面74位於反射元件750的像側。光線通過透鏡組72時，在反射元件750被反射，隨後匯聚並成像於成像面74。
反射元件750具有一光學部751，且光路701通過光學部751。反射元件750由物側至像側沿光路701依序更具有一入光面756、一第一反射面757a、一第二反射面757b、一第三反射面757c、一第四反射面757d以及一出光面758。光學部751沿光路701依序經過入光面756、第一反射面757a、第二反射面757b、第三反射面757c、第四反射面757d與出光面758，且光學部751在第一反射面757a至第四反射面757d產生反射。入光面756與出光面758可為透光的非球面，以提供匯聚或發散光線的功能，藉此減少透鏡組72的元件數量。
反射元件750更具有二個V形溝759。V形溝759各自具有二遮光表面7591以及多個弧形突起7592。遮光表面7591自光學部751沿遠離光路701的方向逐漸遠離。弧形突起7592依序排列且連接遮光表面7591。
遮光膜層790毗鄰設置於光學部751，且披覆於反射元件750的V形溝759的遮光表面7591與弧形突起7592上。請參照圖57至圖58，係為遮光膜層790披覆於反射元件750上的 前後步驟對照圖。
遮光膜層790在靠近V形溝759之兩處分別具有一遠側端791以及一近側端792。近側端792較遠側端791靠近光學部751。近側端792包含多個延伸結構7921以及多個凹陷結構7922。延伸結構7921設置於V形溝759靠近光路701的一端。延伸結構7921分別沿遠離遠側端791的方向延伸，且延伸結構7921在平行於光路701的方向上不重疊。凹陷結構7922連接於相鄰兩個延伸結構7921之間，且沿朝向遠側端791的方向凹陷。在本實施例中，延伸結構7921亦可根據實際需要設置於入光面756、第一反射面757a、第二反射面757b、第三反射面757c、第四反射面757d與出光面758當中至少一者。
遮光膜層790的厚度自凹陷結構7922向延伸結構7921漸減。或者也可以說，遮光膜層790的厚度自延伸結構7921靠近光路701的一端向凹陷結構7922漸增。值得注意的是，為清楚示意遮光膜層790的披覆範圍，圖59與圖60的V形溝759上的遮光膜層790厚度未依實際比例繪製。
延伸結構7921在最遠離遠側端791處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=75[微米]。
遮光膜層790的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
Figure 110132829-A0305-02-0040-19
T
Figure 110132829-A0305-02-0040-20
10[微米]。
<第八實施例>
請參照圖65至圖69，其中圖65係為根據本發明第 八實施例所繪示之光學裝置的反射元件的立體示意圖，圖66係為圖65之反射元件沿66-66切線剖切的側面剖切示意圖，圖67係為圖66之反射元件的HH區域的放大示意圖，圖68係為圖65之反射元件沿68-68切線剖切的側面剖切示意圖，且圖69係為圖68之反射元件的II區域的放大示意圖。
本實施例類似於第七實施例，以下僅就本實施例與第七實施例中不同之處進行說明。
本實施例的弧形突起8592形狀與第七實施例的弧形突起7592形狀不相同，使得披覆於弧形突起8592上的遮光膜層890的形狀亦不相同，連帶影響延伸結構8921與凹陷結構8922的形狀。
延伸結構8921在最遠離遠側端891處彼此間的最短距離為△G，其滿足下列條件：△G=0.15[微米]。
<第九實施例>
請參照圖70至圖72，其中圖70繪示依照本發明第九實施例的一種電子裝置的立體示意圖，圖71繪示圖70之電子裝置之另一側的立體示意圖，且圖72繪示圖70之電子裝置的系統方塊圖。
在本實施例中，電子裝置9為一行動裝置，其中行動裝置可以是電腦、智慧型手機、智慧型穿戴裝置、空拍機或車用影像紀錄與顯示儀器等等，本發明不以此為限。電子裝置9包含光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d、光學 裝置9e、光學裝置9f、光學裝置9g、光學裝置9h、發光元件92、對焦輔助模組93、影像訊號處理器(Image Signal Processor)、顯示裝置95、影像軟體處理器、生物識別感測器97以及電子感光元件。
光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d、光學裝置9e、光學裝置9f、光學裝置9g及光學裝置9h可例如包含本發明的透鏡組12~72，且電子感光元件可設置於透鏡組12~72的成像面14、24、54、64、74上以將光學訊號轉換成電子訊號。
光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d及光學裝置9e係皆配置於電子裝置9的同一側。光學裝置9f、光學裝置9g、光學裝置9h及顯示裝置95係皆配置於電子裝置9的另一側，並且顯示裝置95可為使用者介面，以使光學裝置9f、光學裝置9g及光學裝置9h可作為前置鏡頭以提供自拍功能，但本發明並不以此為限。
光學裝置9a為一超望遠取像裝置，光學裝置9b為一微距取像裝置，光學裝置9c為一廣角取像裝置，光學裝置9d為一超廣角取像裝置，光學裝置9e為一望遠取像裝置，光學裝置9f為一超廣角取像裝置，光學裝置9g為一廣角取像裝置，且光學裝置9h為一飛時測距(Time of Flight，ToF)取像裝置。本實施例之光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d及光學裝置9e具有相異的視角，使電子裝置9可提供不同的放大倍率， 以達到光學變焦的拍攝效果。舉例來說，超廣角光學裝置9d具有105度至125度的最大視角，其能達成介於11mm至14mm之間等效焦距的影像。在此情況下所拍攝到的影像可參照圖73，係繪示有電子裝置9以介於11mm至14mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖，其中所擷取到的影像包含整體教堂、周邊建築與廣場上的人物。圖73的影像具有較大的視角與景深，但常伴隨有較大的畸變。廣角光學裝置9c具有70度至90度的最大視角，其能達成介於22mm至30mm之間等效焦距的影像。在此情況下所拍攝到的影像可參照圖74，係繪示有電子裝置9以介於22mm至30mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖，其中所擷取到的影像包含整體教堂與教堂前的人物。望遠光學裝置9e具有10度至40度的最大視角，其能達成介於60mm至300mm之間等效焦距的影像，而望遠光學裝置9e能被視為可提供5倍的放大倍率。在此情況下所拍攝到的影像可參照圖75，係繪示有電子裝置9以介於60mm至300mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖，其中所擷取到的影像包含教堂前方飛翔的鳥群。圖75的影像具有較小的視角與景深，使得望遠光學裝置9e可用於拍攝移動目標，光學元件驅動裝置(未另繪示)驅動透鏡組對目標物快速且連續的自動對焦，使目標物不會因為遠離對焦位置而模糊不清；在取像時，望遠光學裝置9e可進一步針對拍攝主題進行光學變焦，獲得更清晰的影像，其中光學裝置的放大倍率被定義為焦距最大值及最小值的比值，以此光學裝置為例，放大倍率為5倍。超望遠光 學裝置9a具有4度至8度的最大視角，其能達成介於400mm至600mm之間等效焦距的影像。在此情況下所拍攝到的影像可參照圖76，係繪示有電子裝置9以介於400mm至600mm之間的等效焦距所擷取到的影像示意圖，其中所擷取到的影像包含教堂尖塔上方的天使像與十字架。圖76的影像具有更小的視角與景深，使得超望遠光學裝置9a的透鏡組更容易因抖動而失焦，因此光學元件驅動裝置在提供驅動力使超望遠光學裝置9a的透鏡組對目標物聚焦時，可同時提供修正抖動的反饋力以達成光學防震的功效。另外，光學裝置9h係可取得影像的深度資訊。上述電子裝置9以包含多個光學裝置9a、9b、9c、9d、9e、9f、9g、9h為例，但光學裝置的數量與配置並非用以限制本發明。上述光學裝置所對應的等效焦距為一經過換算的估計值，其與實際焦距可能會因為透鏡組的設計以及電子感光元件的尺寸而不同。
當使用者拍攝被攝物OBJ時，電子裝置9利用光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c或光學裝置9e聚光取像，啟動發光元件92進行補光，並使用對焦輔助模組93提供的被攝物OBJ之物距資訊進行快速對焦，再加上影像訊號處理器進行影像最佳化處理，來進一步提升透鏡組所產生的影像品質。對焦輔助模組93可採用紅外線或雷射對焦輔助系統來達到快速對焦。
此外，電子裝置9亦可利用光學裝置9f、光學裝置9g或光學裝置9h進行拍攝。當光學裝置9f、光學裝置9g或光學裝置9h進行拍攝時，可有一提示燈9k發光以提醒使用者電子裝 置9正在拍攝中。顯示裝置95可採用觸控螢幕或變焦控制鍵951和對焦拍照按鍵952之實體的拍攝按鈕，配合影像軟體處理器的多樣化功能進行影像拍攝以及影像處理。經由影像軟體處理器處理後的影像可顯示於顯示裝置95。使用者還可透過顯示裝置95的影像回放按鍵953重播先前拍攝的影像，亦可透過光學裝置切換按鍵954以選取適合的光學裝置來進行拍攝，還可透過集成選單按鍵955來對當下的拍攝場景進行適合的拍攝條件調整。
當光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d、光學裝置9e、光學裝置9f、光學裝置9g或光學裝置9h當中的透鏡組可應用成投影系統時，透鏡組的入光側可設置有一光源LS，以使電子裝置9可作為一投影裝置。在此情況下所應用的場景可參照圖77至圖78，係繪示有電子裝置9作為投影裝置時的應用場景示意圖。光學裝置9a、光學裝置9b、光學裝置9c、光學裝置9d、光學裝置9e、光學裝置9f、光學裝置9g與光學裝置9h可擇一或多當作投影鏡頭組PLM，將影像源IMS透過上述的透鏡組與影像傳遞模組ITM投影於一平面或人眼。其中，影像傳遞模組ITM可為波導(Waveguide)或光路轉折鏡組，但本發明不以此為限。
進一步來說，電子裝置9更包含一電路板98，且電路板98承載多個電子元件99。光學裝置9a、9b、9c、9d、9e、9f、9g、9h透過電路板98上的連結器981電性連接電子元件99，其中電子元件99可包含一訊號發射模組，可透過訊號發射模組將 影像傳遞至其他電子裝置或是雲端儲存。其中，訊號發射模組可以是無線網路技術(Wireless Fidelity,WiFi)模組、藍牙模組、紅外線模組、網路服務模組或上述多種訊號發射的集成模組，本發明不以此為限。
電子元件99亦可包含儲存單元、隨機存取記憶體以儲存影像訊號、陀螺儀、位置定位器以利電子裝置9的導航或定位。在本實施例中，影像訊號處理器、影像軟體處理器與隨機存取記憶體整合成一個單晶片系統94，但本發明不以此配置為限。在部分其他實施例中，電子元件亦可以整合於光學裝置或亦可設置於多個電路板的其中一者。此外，生物識別感測器97可提供電子裝置9開機和解鎖等功能。
本發明的透鏡組及光學裝置不以應用於智慧型手機為限。透鏡組及光學裝置更可視需求應用於移動對焦的系統，並兼具優良像差修正與良好光學品質的特色。舉例來說，透鏡組及光學裝置可多方面應用於三維(3D)影像擷取、數位相機、行動裝置、數位平板、智慧型電視、網路監控設備、行車記錄器、倒車顯影裝置、多鏡頭裝置、辨識系統、體感遊戲機與穿戴式裝置等電子裝置中。前揭電子裝置僅是示範性地說明本發明的實際運用例子，並非限制本發明之透鏡組及光學裝置的運用範圍。
雖然本發明以前述之諸項實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護 範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
11:載體元件
11a:對應部
101:光路
150:第五透鏡
151:光學部
154:端部
190:遮光膜層

Claims (9)

  1. 一種透鏡組，具有一光路，且該透鏡組包含：一透光元件，具有一光學部，其中該光路通過該光學部；以及一遮光膜層，披覆於該透光元件上且毗鄰設置於該光學部；其中該透光元件更具有一第一通光孔隙以及一第二通光孔隙，該第一通光孔隙與該第二通光孔隙由該遮光膜層所環繞，且該第一通光孔隙較該第二通光孔隙靠近該光路；其中，定義出一參考平面，該參考平面垂直於該光路，該第一通光孔隙在該參考平面上的投影面積為HA1，該第一通光孔隙與該光路在該參考平面上的最短距離為HD1，該第二通光孔隙在該參考平面上的投影面積為HA2，該第二通光孔隙與該光路在該參考平面上的最短距離為HD2，其滿足下列條件：0.02
    Figure 110132829-A0305-02-0053-21
    (HA2^0.5/HD2)/(HA1^0.5/HD1)
    Figure 110132829-A0305-02-0053-22
    0.98。
  2. 如請求項1所述之透鏡組，其中該第一通光孔隙與該第二通光孔隙在平行於該光路方向上的最大距離為△Hh，其滿足下列條件：0.5[微米]
    Figure 110132829-A0305-02-0053-23
    △Hh
    Figure 110132829-A0305-02-0053-24
    249.5[微米]。
  3. 如請求項1所述之透鏡組，其中在垂直於該光路的一參考平面上定義有一第一軸線以及一第二軸線，該第一軸線、該第二軸線與該光路相互垂直，該光學部對稱於該第一軸線與該第二軸線當中至少一者，該透光元件更具有一端部，該端部 沿朝向該光路的方向內縮或沿遠離該光路的方向凸出，且該端部與該第一軸線或該第二軸線保持距離；其中，該光學部在該第一軸線方向上的寬度為S1，該光學部在該第二軸線方向上的寬度為S2，其滿足下列條件：0.3<S1/S2<0.9。
  4. 如請求項1所述之透鏡組，其中該透光元件更具有一端部，該端部沿朝向該光路的方向內縮或沿遠離該光路的方向凸出，該端部用以對應於一載體元件的一對應部，且該端部用以與該對應部相對設置，以將該透光元件容置於該載體元件內。
  5. 如請求項1所述之透鏡組，其中該遮光膜層包含一光致變化層。
  6. 如請求項5所述之透鏡組，其中該遮光膜層更包含一包覆層，其中該包覆層將該光致變化層與空氣間隔開來。
  7. 如請求項1所述之透鏡組，其中該遮光膜層的平均厚度為T，其滿足下列條件：0.9[微米]
    Figure 110132829-A0305-02-0054-25
    T
    Figure 110132829-A0305-02-0054-26
    10[微米]。
  8. 一種光學裝置，包含：如請求項1所述之透鏡組。
  9. 一種電子裝置，包含：如請求項8所述之光學裝置。
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