TWI805530B - 製程廢棄物處理再利用系統、製程廢棄物處理再利用的方法、以及光學膜材的製造方法 - Google Patents
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Abstract
本揭露提供一種製程廢棄物處理再利用系統、一種製程廢棄物處理再利用的方法、一種光學膜材的製造方法、一種儲能系統、以及一種製程系統。製程廢棄物處理再利用系統包含電解裝置。電解裝置包含電解槽、正極電極與負極電極。電解槽填充有電解液。正極電極與負極電極浸設於電解液中，其中正極電極用以將具有雜質的吸附劑容置於正極電極中。電解裝置用以進行電解反應將雜質自吸附劑脫附，以回收吸附劑。
Description
本揭露是有關於一種製程廢棄物處理再利用系統、一種製程廢棄物處理再利用的方法、一種光學膜材的製造方法、一種儲能系統、以及一種製程系統。
在光學膜材的製程中，常需要將光學膜材浸泡於各種浴槽中以進行各種製程，例如染色製程及交聯製程等。然而，上述製程需要使用大量含碘及碘化鉀溶液，需要定期進行製程液體的更換並且直接將製程廢液丟棄，這導致生產成本大幅增高。
在一些實施例中，本揭露提供一種製程廢棄物處理再利用系統，其包含電解裝置。電解裝置包含電解槽、正極電極與負極電極。電解槽填充有電解液。正極電極與負極電極浸設於電解液中，其中正極電極用以將具有雜質的吸附劑容置於正極電極中。電解裝置用以進行電解反應將雜質自吸附劑脫附，以回收吸附劑。
在一些實施例中，本揭露提供一種製程廢棄物處理再利用的方法，其包含：將具有雜質的吸附劑從製程廢棄物中分離；將正極電極與負極電極浸設於電解槽的電解液中，其中正極電極用以將具有雜質的吸附劑容置於正極電極中；以及進行電解反應將雜質自吸附劑脫附，以回收吸附劑。
在一些實施例中，本揭露提供一種光學膜材的製造方法，其包含：提供製程設備，其包含輸送系統及至少一製程浴槽；使光學膜材藉由輸送系統沿著輸送方向經過前述至少一製程浴槽；以及以前述方法處理再利用前述至少一製程浴槽中的至少一製程廢棄物。
在一些實施例中，本揭露提供一種儲能系統，其包含至少一電池模組。電池模組包含至少一電解裝置，電解裝置包含電解液及浸設於電解液中的正極電極與負極電極。正極電極包含具有雜質的吸附劑，且電池模組具有充電模式及至少一放電模式。
在一些實施例中，本揭露提供一種儲能系統，其包含至少一電池模組。電池模組包含至少一電解裝置，電解裝置包含電解液及浸設於電解液中的正極電極與負極電極。電解液包含來自製程設備的製程液體，且電池模組具有充電模式及至少一放電模式。
在一些實施例中，本揭露提供一種製程系統，其包含製程設備以及儲能系統。製程設備包含輸送系統及至少一製程浴槽。儲能系統包含至少一電池模組，電池模組具有充電模式及至少一放電模式，且電池模組包含至少一電解裝置，用以回收再處理來自製程設備的製程廢棄物。
1,2:製程系統
1A:製程設備
1B,1C:製程廢棄物處理再利用系統
10,10':電解裝置
11:輸送系統
12:染色槽
13:交聯槽
14:洗淨槽
20:電透析裝置
22,22':電解質
23,25:標定濃度步驟
24,24',40,40':製程液體
30,30':吸附劑
100:光學膜前驅物
110:電解槽
120:正極電極
121:導電載體
123:可拆式導電罩層
125:導電黏著劑
130:負極電極
140:電解液
500,600:儲能系統
510,610:電池模組
520:供電裝置
530,620,620':負載
DR1:輸送方向
為讓本揭露之特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉不同實
施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。應注意的是，圖式中的各種特徵並未按照實際比例繪製且僅用以說明例示。事實上，圖式中的各種元件的尺寸可依照實際應用任意地放大或縮小，以清楚地表現出本揭露實施例的特徵。
圖1是根據本揭露的一些實施例之製程系統的示意圖。
圖2是根據本揭露的一些實施例之製程系統的示意圖。
圖3A、圖3B、圖3C和圖3D是根據本揭露的一些實施例之正極電極的製造方法的流程圖。
圖4是根據本揭露的一些實施例之儲能系統的示意圖。
圖5是根據本揭露的一些實施例之儲能系統的示意圖。
以下的揭露內容提供許多不同的實施例或範例，以展示本揭露之實施例的不同部件。以下將揭示本說明書各部件及其排列方式之特定範例，用以簡化本揭露之敘述。當然，這些特定範例並非用於限定本揭露。例如，若是本說明書以下的揭露敘述了將形成第一部件於第二部件之上或上方，即表示其包括了所形成之第一部件及第二部件是直接接觸的實施例，亦包括了尚可將附加的部件形成於上述第一部件及第二部件之間，則第一部件及第二部件為未直接接觸的實施例。此外，本揭露之說明中的各式範例可能使用重複的參照符號及/或用字。這些重複符號或用字的目的在於使本揭露較為簡化與清晰，並非用以限定各式實施例及/或所述配置之間的關係。
再者，為了方便描述圖式中之一元件或部件與另一(些)元件或部件的關係，可使用空間相對用語，例如「在...之下」、「下
方」、「下部」、「上方」、「上部」及諸如此類用語。除了圖式所繪示之方位外，空間相對用語亦涵蓋使用或操作中之結構或裝置的不同方位。當結構或裝置被轉向不同方位時(例如，旋轉90度或者其他方位)，則其中所使用的空間相對形容詞亦將依轉向後的方位來解釋。
在此，「約」、「大約」、「大抵」之用語通常表示在一給定值或範圍的20%之內，較佳是10%之內，且更佳是5%之內，或3%之內，或2%之內，或1%之內，或0.5%之內。應注意的是，說明書中所提供的數量為大約的數量，亦即在沒有特定說明「約」、「大約」、「大抵」的情況下，仍可隱含「約」、「大約」、「大抵」之含義。
本揭露之實施例提供一種製程系統，透過將製程廢棄物處理再利用系統整合至製程設備中，可以將製程設備中產生的製程廢棄物有效回收再利用，進而可大幅降低製程成本。並且，製程廢棄物處理再利用系統的電解裝置不僅可用以回收再處理製程設備的製程廢棄物，並且還可以作為儲能系統的電池模組，對製程設備的一或多個裝置及/或外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置充電。
請參照圖1，圖1是根據本揭露的一些實施例之製程系統1的示意圖。製程系統1可包含製程設備1A及製程廢棄物處理再利用系統1B。
如圖1所示，製程設備1A可包含輸送系統11及至少一製程浴槽。在一些實施例中，前述至少一製程浴槽可包含至少一個或多個染色槽12、交聯槽13及洗淨槽14。在一些實施例中，在光學膜材的製程中，可使光學膜材前驅物100藉由輸送系統11沿著輸送方向DR1經過前述的至少一製程浴槽。在一些實施例中，光學膜材的製造方法可包含以下步驟。
光學膜材前驅物100可以先被輸送系統11的引導輥引導至膨潤槽(未繪示於圖中)，以對光學膜材前驅物100進行膨潤處理。膨潤處理能夠去除光學膜材前驅物100表面的異物以及光學膜材前驅物100中的可塑劑，並有助於後續染色處理及交聯處理的進行。
接著，如圖1所示，可以對光學膜材前驅物100進行延伸處理。延伸處理可以在通過膨潤槽、和/或後續的染色槽12、交聯槽13時進行。舉例來說，可以令設置在膨潤槽入口的輸送系統11的引導輥與設置在膨潤槽出口的輸送系統11的引導輥存在周速差，進行單軸延伸處理。在一些實施例中，從膨潤處理至交聯處理，光學膜材前驅物100所累積的延伸倍率約為4.5倍至8倍。
如圖1所示，光學膜材前驅物100接著可被輸送系統11的引導輥引導至染色槽12，以對光學膜材前驅物100進行染色處理。染色槽12中的液體(或稱為製程液體)含有光學調整劑。在一些實施例中，染色槽12中的光學調整劑可包含活性物質碘，活性物質碘可包含碘分子(I2)、聚碘陰離子、碘離子、碘化鉀(KI)、或其他經過電化學氧化還原能夠產生碘分子的物質、或上述的任意組合。在一些實施例中，光學調整劑包含碘(I2)和碘化鉀(KI)。光學調整劑可以使用二色性色素或其它適合的水溶性二色素染料。舉例來說，光學調整劑可以為包含0.003重量份至0.2重量份的碘和3重量份至30重量份的碘化鉀的水溶液。在一些實施例中，染色處理的溫度為10℃至50℃，染色處理的時間則為10秒至600秒。為了使染色處理的效果更好，染色槽12中的液體中可以包含其它添加物，例如硼酸。在一些實施例中，染色槽12中的液體(或稱為製程液體)可進一步包含吸附劑，用以吸附液體中的雜質，例如是多餘或濃度過高的活性物質碘。在一些實
施例中，吸附劑可包含活性碳材料。活性碳材料可包含活性碳布、活性碳顆粒、多孔性活性碳(CMK-3)、多孔導電碳黑、有序介孔碳等具有高比表面積、高孔隙率以及高電導率的多孔碳材料中的一種或者兩種以上任意比例的混合物。
接著，如圖1所示，光學膜材前驅物100可被輸送系統11的引導輥引導至交聯槽13，以對光學膜材前驅物100進行交聯處理。交聯槽13中的液體(或稱為製程液體)包含交聯劑，例如可以使用硼酸。在一些實施例中，交聯槽13中的液體可以更包含光學調整劑，交聯槽13中的光學調整劑可包含活性物質碘，活性物質碘可包含碘分子(I2)、聚碘陰離子、碘離子、碘化鉀(KI)、碘化鋅、或其他經過電化學氧化還原能夠產生碘分子的物質、或上述的任意組合。在一些實施例中，光學調整劑包含碘(I2)和碘化鉀(KI)。光學調整劑可以使用二色性色素或其它適合的水溶性二色素染料。改變光學調整劑的濃度能夠調整光學膜材料(或偏光材料)的色相。在一些實施例中，為了調整光學調整劑的濃度，也可以選擇性地添加還原劑於交聯槽13之中。還原劑可以為硫代硫酸鹽、二硫亞磺酸鹽、亞硫酸鹽、亞硫酸、亞硝酸鹽、鐵鹽、或錫鹽。在一些實施例中，交聯槽13中的液體為水溶液，其中包含1重量份至10重量份的硼酸、及1重量份至30重量份的碘化鉀。在一些實施例中，交聯處理的溫度為10℃至70℃，交聯處理的時間則為1秒至600秒。在一些實施例中，交聯處理需在酸性環境下進行，pH值例如是2至5。因此，交聯槽13中的液體可以更包含酸鹼值調整劑。酸鹼值調整劑例如為過氯酸、氫碘酸、氫溴酸、鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、氫氟酸、甲酸、抗壞血酸、或乙酸。在一些實施例中，可以另外投入沉澱劑到交聯槽13中以調整液體。所述沉澱劑例如包含陰離子和
金屬陽離子的化合物，其中金屬陽離子與液體中酸鹼值調整劑的陰離子反應形成析出化合物。在一些實施例中，交聯槽13中的液體(或稱為製程液體)可進一步包含吸附劑，用以吸附液體中的雜質，例如是多餘或濃度過高的活性物質碘。在一些實施例中，吸附劑可包含活性碳材料。活性碳材料可包含活性碳布、活性碳顆粒、多孔性活性碳(CMK-3)、多孔導電碳黑、有序介孔碳等具有高比表面積、高孔隙率以及高電導率的多孔碳材料中的一種或者兩種以上任意比例的混合物。
如圖1所示，在交聯處理之後，光學膜材前驅物100可以被輸送系統11的引導輥引導至洗淨槽14，在此除去可能因之前的流程而殘留在光學膜材前驅物100上的溶劑和/或雜質(例如，光學調整劑中的活性物質碘)等等。在一些實施例中，洗淨槽14中的液體(或稱為製程液體)可包含來自於前段製程浴槽的活性物質碘，活性物質碘可包含碘分子(I2)、聚碘陰離子、碘離子、碘化鉀(KI)、或其他經過電化學氧化還原能夠產生碘分子的物質、或上述的任意組合。在一些實施例中，洗淨槽14中的液體(或稱為製程液體)可進一步包含吸附劑，用以吸附液體中的雜質，例如是多餘或濃度過高的活性物質碘。在一些實施例中，吸附劑可包含活性碳材料。活性碳材料可包含活性碳布、活性碳顆粒、多孔性活性碳(CMK-3)、多孔導電碳黑、有序介孔碳等具有高比表面積、高孔隙率以及高電導率的多孔碳材料中的一種或者兩種以上任意比例的混合物。
之後，可藉由乾燥爐(未繪示於圖中)進行乾燥處理，即可獲得光學膜材。
在一些實施例中，光學膜材可為一偏光膜。在一些實施例中，光學膜材例如是由聚乙烯醇(PVA)製成的偏光膜。所使用的聚乙烯醇
可以藉由皂化聚乙酸乙烯酯而形成。在一些實施例中，聚乙酸乙烯酯可以為乙酸乙烯酯的單聚物、或乙酸乙烯酯及其它單體的共聚物，所述其它單體可以為不飽和羧酸類、烯烴類、不飽和磺酸類、或乙烯基醚類等等。在一些實施例中，聚乙烯醇可以經過改質，例如是經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛(polyvinylformal)、聚乙烯醇縮乙酸、或聚乙烯醇縮丁醛(polyvinylbutyral)等等。可以理解的是，除了聚乙烯醇之外，也可以使用其他適合的材料。在一些實施例中，光學膜材前驅物100的厚度約為20μm至100μm。
在一些實施例中，光學膜材的製造方法可進一步包含以下步驟：將前述至少一製程浴槽中的至少一製程廢棄物進行處理再利用。在一些實施例中，如圖1所示，可藉由製程廢棄物處理再利用系統1B將前述至少一製程浴槽中的至少一製程廢棄物進行處理再利用。在一些實施例中，使光學膜材前驅物100藉由輸送系統11沿著輸送方向DR1經過前述的至少一製程浴槽之後，可將前述至少一製程浴槽中的至少一製程廢棄物進行處理再利用。
當相當數量或相當長度的光學膜材前驅物100經過前述的至少一製程浴槽以形成光學膜材之後，製程浴槽中的液體可能會包含某些雜質、及/或液體中的反應物(例如，光學調整劑中的活性物質碘)的濃度已經偏離預定濃度，或者製程浴槽中的吸附劑可能已經吸附相當含量的雜質而使其吸附效能減低，使得此時的製程浴槽中的液體已經不符合製程需求、或可能會降低製程產率及/或產品品質。根據本揭露的一些實施例，前述製程浴槽中的液體已經不符合製程需求及/或不適合繼續進行光學膜材製程，則此時的製程浴槽中的液體便可視作製程廢棄物。在一些實施例
中，製程廢棄物可包含染色槽12中的液體(或稱為製程液體)、染色槽12中的具有雜質的吸附劑、交聯槽13中的液體(或稱為製程液體)、交聯槽13中的具有雜質的吸附劑、洗淨槽14中的液體(或稱為製程液體)、及/或洗淨槽14中的具有雜質的吸附劑。
在一些實施例中，如圖1所示，可從製程廢棄物中分離出具有雜質的吸附劑30及製程液體40。在一些實施例中，製程廢棄物的吸附劑包含活性碳材料，雜質包含光學調整劑中的活性物質碘，具有雜質的吸附劑30則包含吸附有活性物質碘的活性碳材料。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30則包含吸附有碘分子(I2)與碘化鉀(KI)的活性碳材料。在一些實施例中，製程廢棄物的製程液體40包含活性物質碘與其他化學廢棄物，其中活性物質碘可包含碘分子(I2)、聚碘陰離子、碘離子、碘化鉀(KI)、或其他經過電化學氧化還原能夠產生碘分子的物質、或上述的任意組合。在一些實施例中，製程廢棄物的製程液體40包含碘分子(I2)、碘化鉀(KI)、硼酸、硫酸、PVA的溶出物、或上述的任意組合。在一些實施例中，製程廢棄物的製程液體40包含具有離子態的前述雜質。在一些實施例中，可統一收集多個製程浴槽的具有雜質的吸附劑30。在一些實施例中，可將多個製程浴槽(例如，染色槽12、交聯槽13及洗淨槽14)的製程液體40統一收集並暫時存放在一個儲存槽中，或者也可將多個製程浴槽的製程液體40分別暫時存放在多個儲存槽中。
在一些實施例中，製程廢棄物處理再利用系統1B可包含廢棄物分離機構(未繪示於圖中)，用以將具有雜質的吸附劑30及製程液體40從製程廢棄物中分離。
在一些實施例中，製程廢棄物處理再利用系統1B可包含電
解裝置10。在另一實施例中，製程廢棄物處理再利用系統1B可包含電解裝置10及電透析裝置20。
在一些實施例中，電解裝置10包含電解槽110、正極電極120、和負極電極130，電解槽110填充有電解液140，正極電極120與負極電極130浸設於電解液140中。在一些實施例中，正極電極120用以將來自製程廢棄物的具有雜質的吸附劑容置於正極電極120中。在一些實施例中，電解裝置10用以進行電解反應將雜質自吸附劑脫附，以回收吸附劑。
在一些實施例中，正極電極120可包含化學穩定的電極材料，例如表面塗覆金屬氧化物的金屬材料，例如鈦。在一些實施例中，正極電極120可包含含碳導電材料，例如乙炔黑、炭黑、科琴黑、奈米碳管、石墨烯、碳纖維、碳布、活性碳、或上述的組合。在一些實施例中，正極電極120可採用具有過氫電壓的電極，這有利於活性物質碘的氧化還原反應發生。在一些實施例中，負極電極130可包含化學穩定的電極材料，例如鋅、貴金屬(例如，鉑和鈦)、導電金剛石、摻雜雜質(例如，硼、磷、及/或石墨)的金剛石、非晶相氧化硼和金剛石的複合材料、碳化矽、碳化鈦、碳化鎢、或其類似物。在一些實施例中，負極電極130可採用具有過氧電壓的電極，這有利於活性物質碘的氧化還原反應發生。在一些實施例中，負極電極130採用鋅，具有容易取得且可降低成本的優點。
在一些實施例中，電解液140包含製程液體40。在一些實施例中，電解液140進一步包含電解質，電解質的成份或材料可以包含不同或相同於前述製程液體40的成份或材料。在一些實施例中，電解質包含硫酸鋅(ZnSO4)、碘化鉀(KI)、溴化鋅(ZnBr2)、溴化鉀(KBr)、硫酸鋰(Li2SO4)、硫酸鉀(K2SO4)、硫酸銅(CuSO4)、鹽酸(HCl)、或上述之任意
組合。在一些實施例中，電解液140可進一步包含光學調整劑中的活性物質碘。在一些實施例中，電解液140包含活性物質碘和硫酸鋅。
電解液140可透過以下方式製備。在一些實施例中，將製程液體40從製程廢棄物中分離後，將製程液體40注入電解槽110中，使得電解液140包含來自製程廢棄物的製程液體40。在一些實施例中，進一步將電解質22'注入電解槽110中，使得電解液140包含製程液體40和電解質22'。在一些實施例中，電解液140中的電解質的莫爾數(M1)與來自製程廢棄物的製程液體的莫爾數(M2)的比例(M1/M2)為約1至3，較佳約為2/1.5。當前述比例(M1/M2)小於1時，則電解質的含量相對較少，電解反應的電容量相對較小。當前述比例等於或大於4/1.5時，電解液140中可能會生成非勻相的物質，例如白色凝膠、過飽和之析出物、或沉澱物，則無法作為電解液使用。在一些實施例中，電解質22'包含硫酸鋅(ZnSO4)、碘化鉀(KI)、溴化鋅(ZnBr2)、溴化鉀(KBr)、硫酸鋰(Li2SO4)、硫酸鉀(K2SO4)、硫酸銅(CuSO4)、鹽酸(HCl)、或上述之任意組合。
在一些實施例中，將具有雜質的吸附劑30容置於正極電極120中後，將正極電極120與負極電極130浸設於電解槽110的電解液140中，進行電解反應將雜質自吸附劑30脫附，以回收實質上不具有雜質的吸附劑30'。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30佔正極電極120之總重量約10~90wt%、約30~70wt%、或約40~60wt%。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30佔正極電極120之表面積約10~90%、約30~70%、或約40~60%。在一些實施例中，藉由電解反應使雜質以離子態自吸附劑30'脫附，且電解液140用以溶解離子態的雜質。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30包含具有碘分子吸附於其上的活性碳(I2C)，進行電解反應
時，在正極電極120發生的反應如下式(I)所示，在負極電極130發生的反應如下式(II)所示：I2+2e-→2I- 式(I)
Zn→Zn2++2e 式(II)
在一些實施例中，可將回收後的吸附劑30'添加至製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12、交聯槽13、及/或洗淨槽14)中，用以吸附液體中的雜質。
在一些實施例中，可藉由電解反應將製程液體24與光學調整劑從電解液140中分離，以回收製程液體24及光學調整劑。在一些實施例中，回收後的製程液體24包含回收後的光學調整劑及/或自吸附劑30'脫附並溶解在液體中的離子態的雜質。
在一些實施例中，也可選擇性的進一步再純化進行電解反應後的電解液140，以回收電解液140。一些實施例中，可藉由電透析裝置20再純化電解液140。在一些實施例中，可藉由電透析裝置20將製程液體24與電解質22從電解液140中分離，以回收製程液體24及電解質22。在一些實施例中，電解質22的成份或材料不同於製程液體24的成份或材料。在一些實施例中，電解質22包含硫酸鋅(ZnSO4)、碘化鉀(KI)、溴化鋅(ZnBr2)、溴化鉀(KBr)、硫酸鋰(Li2SO4)、硫酸鉀(K2SO4)、硫酸銅(CuSO4)、鹽酸(HCl)、或上述之任意組合。在一些實施例中，電解質22不包含活性物質碘。
在一些實施例中，電透析裝置20可包含陽極、陰極、及在陽極與陰極間交替配置的陽離子交換膜與陰離子交換膜，藉由上述元件構成複數個單元，並在陽極與陰極之間施加直流電流之狀態下，將電解液
140通入。在一些實施例中，電解液140中的正1價離子及/或負1價離子例如碘離子(I-)及鉀離子(K+)分別會往陽極側及陰極側移動，並生成碘化鉀(KI)後，自電透析裝置20中排出，則可藉由電透析裝置20將製程液體24與包含碘化鉀之光學調整劑從電解液140中分離，以回收製程液體24及光學調整劑。在一些實施例中，回收後的製程液體24包含回收後的光學調整劑。在一些實施例中，電解質22包含的離子並非為正1價離子及/或負1價離子，例如是正2價離子及/或負2價離子，因此可藉由電透析裝置20將電解液140中的電解質22與包含碘化鉀之光學調整劑從電解液140中各自分離，以分別回收包含光學調整劑的製程液體24及電解質22。在一些實施例中，也可將電解液140以不同陽離子交換膜與陰離子交換膜，進行多次的電透析反應，以達到更佳的回收效果。
在一些實施例中，將進行電透析反應前的電解液140的pH值調整至大於7，例如大約11，以延長電解液140的保存期限、減緩光學調整劑(例如，碘化鉀)的氧化速度，而能夠減少甚至不添加抗氧化劑於電解液140中。
在一些實施例中，如圖1所示，可對回收的電解質22進行標定濃度步驟23，以得到電解質22的確切濃度。接著，在一些實施例中，將標定濃度後的回收的電解質22注入電解槽110中。在一些實施例中，當電解槽110中的電解液140的電解質未達到預定濃度時，進一步添加額外量的電解質22'至電解槽110中，以將電解槽110中的電解液140的電解質調整為具有預定濃度。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於電解裝置10中。
在一些實施例中，如圖1所示，可對回收的光學調整劑進
行標定濃度步驟26，以得到光學調整劑的確切濃度。在一些實施例中，回收後的製程液體24包含回收後的光學調整劑，可對回收的製程液體24進行標定濃度步驟26以得到光學調整劑的確切濃度。接著，在一些實施例中，將標定濃度後的回收的光學調整劑(或回收的製程液體24)，例如碘化鉀(KI)作為電解質的用途，注入電解槽110中。在一些實施例中，當電解槽110中的電解液140的電解質未達到預定濃度時，進一步添加額外量的電解質22'至電解槽110中，以將電解槽110中的電解液140的電解質調整為具有預定濃度。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於電解裝置10中。在一些實施例中，也可以將標定濃度後的回收的光學調整劑，例如碘化鉀(KI)，直接再使用在製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12及/或交聯槽13)中。在一些實施例中，可同時將標定濃度後的回收的光學調整劑添加至染色槽12及交聯槽13中，接著根據各個製程浴槽所需的預定濃度分別添加不同額外量的製程液體24'至染色槽12及交聯槽13中，以分別將染色槽12及交聯槽13中的液體中的處理試劑調整為具有各自的預定濃度。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於製程設備1A及電解裝置10中。
在一些實施例中，製程液體24與製程液體40的差別在於，製程液體40來自於已經處理過相當數量或相當長度的光學膜材前驅物100的至少一製程浴槽，因此製程液體40可能會包含某些雜質、及/或製程液體40中的反應物(例如，光學調整劑中的活性物質碘)的濃度已經偏離預定濃度。在一些實施例中，經純化後回收的製程液體24可直接再使用在製程設備1A的至少一製程浴槽中。在一些實施例中，經純化後回收的製程液體24實質上不包含雜質，或可將雜質大量減少。
在一些實施例中，如圖1所示，可對回收的製程液體24進行標定濃度步驟25，以得到製程液體24的確切濃度。接著，在一些實施例中，將標定濃度後的製程液體24注入製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12及/或交聯槽13)中。在一些實施例中，當製程浴槽(例如，染色槽12及/或交聯槽13)中的液體中的處理試劑(例如，染色槽12及/或交聯槽13的光學調整劑)未達到預定濃度時，進一步添加額外量的製程液體24'至製程浴槽中，以將製程浴槽中的液體中的處理試劑調整為具有預定濃度。在一些實施例中，可同時將標定濃度後的回收的製程液體24添加至染色槽12及交聯槽13中，接著根據各個製程浴槽所需的預定濃度分別添加不同額外量的製程液體24'至染色槽12及交聯槽13中，以分別將染色槽12及交聯槽13中的液體中的處理試劑調整為具有各自的預定濃度。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於製程設備1A及電解裝置10中。
近年來廢液的處理通常透過凝聚法、吸附法、過濾法、離子交換法等方式，然而不僅時間成本高，回收效率較為不理想，且產生的廢棄物對於環境也造成負擔。舉例而言，在偏光膜製程中會有多餘的碘及碘化鉀產出，通常用活性碳吸附多餘的碘，對碘化鉀則是經過前處理後以蒸發方式回收。然而，吸附了碘的活性碳則無法再度使用，不僅造成材料的浪費，也會產生對環境造成不良影響的廢棄物。此外，製程中產生的廢液也需要定期大量更換，同樣具有高成本且對環境造成不良影響的問題。
根據本揭露的一些實施例，透過將製程廢棄物處理再利用系統1B整合至製程設備1A中，可以將製程設備1A中產生的製程廢棄物有效回收再利用，進而可大幅降低製程成本。
舉例而言，根據本揭露的一些實施例，可採用來自光學膜材(例如，偏光膜)製程的碘分子/碘化鉀廢液作為電解液，正極電極120採用來自光學膜材製程的活性碳(即，吸附劑30)，活性碳上的碘分子可透過電解反應還原成碘離子而從活性碳脫附，並溶入碘分子/碘化鉀廢液中。當碘都從活性碳脫附之後，則可以得到實質上無碘分子/碘化鉀的活性碳，便可將此活性碳回收並再度投入光學膜材製程中。再者，碘分子/碘化鉀廢液不僅可以作為回收活性碳的電解液，並且也可以透過電解反應及或電透析反應純化回收，回收的碘分子/碘化鉀溶液可以再度投入偏光膜製程中。如此一來，透過整合製程設備1A與製程廢棄物處理再利用系統1B的製程系統1製造光學膜片(例如，偏光膜)，在光學膜片製程及廢棄物處理再利用的整個過程中均不會產生額外的廢液，並且還能處理回收製程設備1A的廢液。
再者，根據本揭露的一些實施例，透過電解反應回收活性碳(吸附劑30)，製程設備1A的廢液(例如，碘分子/碘化鉀溶液)不需要經過再次處理便可以直接作為電解液使用，且製程設備1A的廢液的其他雜質(例如硼酸)並不參與電解反應(氧化還原反應)，因此不需要額外分離或純化廢液的其他雜質就可以進行活性碳(吸附劑30)的回收，接著再直接回收再利用電解液作為製程設備1A的製程液體，具有降低成本且簡化製程的優點。
此外，根據本揭露的一些實施例，電解液中除了包含來自製程設備1A的廢液(例如，碘分子/碘化鉀溶液)，還可進一步添加其他的電解質(例如，硫酸鋅)，有助於電解反應的進行，僅需透過電解反應及或電透析反應便可同時純化回收碘分子/碘化鉀廢液與電解質，將回收的碘
分子/碘化鉀溶液再度投入偏光膜製程中，並且將回收的電解質再度投入電解反應中。
請參照圖2，圖2是根據本揭露的一些實施例之製程系統2的示意圖。在一些實施例中，製程系統2類似於製程系統1，其差別如下所述。此外，本文自此以下與前述元件相同或相似的元件沿用相同或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參照前述，在此不再贅述。
如圖2所示，製程系統2可包含製程設備1A及製程廢棄物處理再利用系統1C。
在一些實施例中，如圖2所示，可藉由電透析裝置20純化製程廢棄物以得到製程液體40'，電解液140可包含製程液體40'。在一些實施例中，電透析裝置20可以去除來自製程廢棄物的異物，例如從光學膜材前驅物100掉落的異物及/或光學膜材前驅物100的溶出物(例如PVA的溶出物)。
在一些實施例中，電透析裝置20可包含陽極、陰極、及在陽極與陰極間交替配置的陽離子交換膜與陰離子交換膜，藉由上述元件構成複數個單元，並在陽極與陰極之間施加直流電流之狀態下，將來自染色槽12、及/或交聯槽13、及/或洗淨槽14之製程液體通入。在一些實施例中，製程液體中的正1價離子及/或負1價離子例如碘離子(I-)及鉀離子(K+)分別會往陽極側及陰極側移動，並生成碘化鉀(KI)後，自電透析裝置20中排出，則可藉由電透析裝置20清除製程液體中來自製程廢棄物的異物，並將製程液體40'與包含碘化鉀之光學調整劑從電解液140中分離而回收。在一些實施例中，回收後的製程液體40'包含回收後的光學調整劑。
在一些實施例中，將進行電透析反應前的製程液體的pH值
調整至大於7，例如大約11，以延長製程液體的保存期限、減緩光學調整劑(例如，碘化鉀)的氧化速度，而能夠減少甚至不添加抗氧化劑於製程液體中。
在一些實施例中，如圖2所示，藉由電透析裝置20分離出之包含碘化鉀的光學調整劑後，類似於前述如圖1所示的實施例，可對回收的光學調整劑進行標定濃度步驟27，以得到光學調整劑的確切濃度。在一些實施例中，回收後的製程液體40'包含回收後的光學調整劑，可對回收的製程液體40'進行標定濃度步驟27以得到光學調整劑的確切濃度。接著，在一些實施例中，將標定濃度後的回收的光學調整劑(或回收的製程液體40')注入製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12及/或交聯槽13)中。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於製程設備1A及電解裝置10中。
在一些實施例中，如圖2所示，電解液140可透過以下方式製備。在一些實施例中，經過前述電透析反應將製程液體40'從製程廢棄物中分離後，將製程液體40'注入電解槽110中，使得電解液140包含製程液體40'。在一些實施例中，不另外添加額外的電解質。在一些其他實施例中，亦可另外添加額外的不包含活性物質碘的電解質。
接著，在一些實施例中，以類似於圖1所述的方法步驟，藉由電解反應使雜質以離子態自吸附劑30'脫附，以回收吸附劑30'，且電解液140用以溶解離子態的雜質。在一些實施例中，可將回收後的吸附劑30'添加至製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12、交聯槽13、及/或洗淨槽14)中，用以吸附液體中的雜質。
在一些其他實施例中，以類似於如圖1所述的方法步驟，
可進一步藉由電解反應將製程液體24與不包含活性物質碘的電解質從電解液140中分離，以回收製程液體24及不包含活性物質碘的電解質。
接著，在一些實施例中，如圖2所示，由於電解液140僅包含藉由電透析裝置20純化後得到的製程液體40'，因此將回收的吸附劑30'取出後，可得到製程液體24。在一些實施例中，製程液體24與製程液體40'的差別在於，此兩者的濃度不同。在一些實施例中，製程液體24與製程液體40'的處理試劑(例如，染色槽12的光學調整劑、及/或交聯槽13的光學調整劑)的濃度不同，這是由於吸附劑30的雜質(例如，製程浴槽的處理試劑，例如是碘分子)經離子化而脫附並溶解至電解液140中，而導致改變了製程液體的濃度。
接著，在一些實施例中，如圖2所示，以類似於圖1所述的方法步驟，可對回收的製程液體24進行標定濃度步驟25，以得到製程液體24的確切濃度，並將標定濃度後的製程液體24注入製程設備1A的至少一製程浴槽(例如，染色槽12及/或交聯槽13)中。如此一來，透過上述的步驟可回收製程廢棄物，並將其處理再利用於製程設備1A及電解裝置10中。
圖3A、圖3B、圖3C和圖3D是根據本揭露的一些實施例之正極電極120的製造方法的流程圖。值得注意的是，本文自此以下與前述元件相同或相似的元件沿用相同或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參照前述，在此不再贅述。
如圖3A所示，在一些實施例中，提供導電載體121。在一些實施例中，導電載體121包含乙炔黑、炭黑、科琴黑、奈米碳管、石墨烯、碳纖維、碳布、或上述的組合。在一些實施例中，導電載體121例如
是導電碳棒。
如圖3B所示，在一些實施例中，將導電黏著劑125貼附至導電載體121上。在一些實施例中，導電黏著劑125包含含碳雙面膠帶、含碳膠層、或上述的組合。
如圖3C所示，在一些實施例中，將具有雜質的吸附劑30藉由導電黏著劑125黏附至導電載體121上。在一些實施例中，吸附劑30包含活性碳顆粒。在一些實施例中，吸附劑30包含尺寸為約2mmx1mm且具有微米或奈米尺寸孔洞的多孔性活性碳顆粒。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30可佔正極電極120上約10~90%、約30~70%、或約40~60%的表面積。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30佔正極電極120之總重量約10~90wt%、約30~70wt%、或約40~60wt%。
如圖3D所示，在一些實施例中，以可拆式導電罩層123包覆導電載體121及吸附劑30。在一些實施例中，具有雜質的吸附劑30封置於導電載體121及可拆式導電罩層123之間。在一些實施例中，可拆式導電罩層123包含乙炔黑、炭黑、科琴黑、奈米碳管、石墨烯、碳纖維、碳布、或上述的組合。
在一些實施例中，將從製程廢棄物中分離出的具有雜質的吸附劑30封置在導電載體121及可拆式導電罩層123之間，以形成正極電極120，接著如前述內容將正極電極120與負極電極130浸設於電解液140中並進行電解反應將雜質自吸附劑脫附。在一些實施例中，當容置在正極電極120內的雜質實質上均自吸附劑脫附後，將可拆式導電罩層123移除，取下實質上不具有雜質的吸附劑30'以回收吸附劑30'。在一些實施例中，導電載體121、可拆式導電罩層123及導電黏著劑125可重複使用並容
置新的一批具有雜質的吸附劑30以製作另一個正極電極120，並重複上述的電解反應繼續回收新的一批實質上不具有雜質的吸附劑30'。
根據本揭露的一些實施例，吸附劑30是容置在正極電極120的拆式導電罩層123與導電載體121之間，雜質脫附後，吸附劑30'可以輕易地從正極電極120取中，不需要複雜的分離步驟，且導電載體121、可拆式導電罩層123及導電黏著劑125均可重複使用，更具有降低成本的優點。
圖4是根據本揭露的一些實施例之儲能系統500的示意圖。值得注意的是，本文自此以下與前述元件相同或相似的元件沿用相同或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參照前述，在此不再贅述。
如圖4所示，儲能系統500可包含一或多個電池模組510、供電裝置520、及至少一個負載530。
在一些實施例中，電池模組510包含一或多個電解裝置10。在一些實施例中，多個電解裝置10並聯及/或串聯以形成電池模組510。在一些實施例中，電池模組510具有充電模式及至少一放電模式。
請同時參照圖1至圖3，在一些實施例中，各個電解裝置10包含電解液140及浸設於電解液140中的正極電極120與負極電極130。在一些實施例中，正極電極120包含具有雜質的吸附劑30。在一些實施例中，正極電極120包含來自至少一製程浴槽中之具有雜質的吸附劑30。在一些實施例中，正極電極120包含來自製程設備1A的具有雜質的吸附劑30。在一些實施例中，電解液140包含來自製程設備1A的至少一製程浴槽的製程液體40或40'。在一些實施例中，電解液140包含來自製程設備1A
的製程液體40或40'。在一些實施例中，電池模組510的電解裝置10用以回收再處理來自製程設備1A的製程廢棄物。製程廢棄物可包含自製程設備1A的具有雜質的吸附劑30、製程液體40或40'、或上述之組合。
在一些實施例中，每一個電池模組510的電解裝置10作為電池具有約1~2V的電壓、約0.1~0.4A的電流、約大於350mAh的電池容量、約2.5小時以上的充放電時間、約大於0.42W的功率、及約大於0.42Wh的電池能量。在一些實施例中，每一個電池模組510的電解裝置10作為電池具有約1.2V的電壓、約0.14A的電流、約350mAh的電池容量、約2.5小時的充放電時間、約0.42W的功率、及約0.42Wh的電池能量。電池模組510的電壓可透過串聯多個電解裝置10而調高，電池模組510的電流可透過並聯多個電解裝置10而調高。在一些實施例中，當電池模組510處於放電模式時，電解裝置10的正極電極120和負極電極130分別發生前述的式(I)的逆反應與式(II)所示的逆反應。
在一些實施例中，供電裝置520電性耦接至電池模組510。在一些實施例中，供電裝置520可包含輸電網路、發電機、或其他同樣可以提供電能給電池模組510的裝置。
在一些實施例中，請同時參照圖1至圖3，當電池模組510處於充電模式時，供電裝置520提供電能至電池模組510。電池模組510的電解裝置10進行電解反應以回收再處理來自製程設備1A的製程廢棄物。在一些實施例中，當電池模組510處於充電模式時，電池模組510的電解裝置10進行電解反應將雜質自吸附劑30脫附，以回收實質上不具有雜質的吸附劑30'。在一些實施例中，當電池模組510處於充電模式時，電池模組510的電解裝置10進行電解反應將製程液體24與光學調整劑從電解液
140中分離，以回收製程液體24及光學調整劑。在一些實施例中，由於碘分子在電解液中析出，因此可觀測到電解液的顏色轉為深褐色。在一些實施例中，當電池模組510處於充電模式時，電解裝置10的正極電極120和負極電極13()分別發生前述的式(I)與式(II)所示的反應。
在一些實施例中，負載530電性耦接至電池模組510。在一些實施例中，當電池模組510處於至少一放電模式時，電池模組510輸出電能至負載530。在一些實施例中，多個電池模組510以並聯及/或串聯的方式總體提供電能給負載530。在一些實施例中，負載530包含製程設備1A的一或多個裝置(例如，膨潤槽、染色槽12、交聯槽13、洗淨槽14、乾燥爐、及/或其他製程裝置)及外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置。在一些實施例中，電解裝置10構成的電池模組510可在處於至少一放電模式時輸出電能至製程設備1A的一或多個裝置及/或外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置。
在一些實施例中，如圖2所示的製程廢棄物處理再利用系統1C的電解裝置10可構成儲能系統500的電池模組510。在一些實施例中，如圖2所示的製程廢棄物處理再利用系統1C的電解裝置10可用以回收再處理製程設備1A的製程廢棄物，並且還可以作為儲能系統500的電池模組510。在一些實施例中，一或多個製程系統2的製程廢棄物處理再利用系統1C的多個電解裝置10可構成儲能系統500的電池模組510。在一些實施例中，電解裝置10可用以回收再處理製程設備1A的製程廢棄物，並且還可以作為儲能系統500的電池模組510，對製程設備1A的一或多個裝置及/或外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置充電。
圖5是根據本揭露的一些實施例之儲能系統600的示意圖。
在一些實施例中，儲能系統600類似於儲能系統500，其差別如下所述。此外，本文自此以下與前述元件相同或相似的元件沿用相同或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參照前述，在此不再贅述。
如圖5所示，儲能系統600可包含一或多個電池模組610、供電裝置520、至少一個負載530、及多個負載620和620'。
在一些實施例中，負載530電性耦接至電池模組610，負載620電性耦接至電解裝置10，負載620'電性耦接至電解裝置10'。電解裝置10'的結構與電解裝置10的結構大致相同，其相關說明請參照前述，在此不再贅述。
在一些實施例中，儲能系統600的電子模組610可具有充電模式、第一放電模式、及第二放電模式。
在一些實施例中，請同時參照圖1至圖3，當電池模組610處於充電模式時，電池模組610的電解裝置10進行電解反應以回收再處理來自製程設備1A的製程廢棄物。在一些實施例中，當電池模組610處於充電模式時，電池模組610的電解裝置10進行電解反應將雜質自吸附劑30脫附，以回收實質上不具有雜質的吸附劑30'。在一些實施例中，當電池模組610處於充電模式時，電池模組610的電解裝置10進行電解反應將製程液體24、光學調整劑、及電解質22從電解液140中分離，以回收製程液體24、光學調整劑、及電解質22。
在一些實施例中，負載530電性耦接至電池模組610。在一些實施例中，當電池模組610處於第一放電模式時，電池模組610輸出電能至負載530，且電解裝置10和10'與對應的負載620和620'之間形成斷路。在一些實施例中，多個電池模組610以並聯及/或串聯的方式總體提供
電能給負載530。在一些實施例中，負載530包含製程設備1A的一或多個裝置(例如，膨潤槽、染色槽12、交聯槽13、洗淨槽14、乾燥爐、及/或其他製程裝置)及外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置。在一些實施例中，電解裝置10構成的電池模組610可在處於第一放電模式時輸出電能至製程設備1A的一或多個裝置及/或外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置。
在一些實施例中，負載620電性耦接至對應的電解裝置10，負載620'電性耦接至對應的電解裝置10'。在一些實施例中，當電池模組610處於第二放電模式時，電解裝置10輸出電能至對應的負載620，電解裝置10'輸出電能至對應的負載620'，且電池模組610與負載530之間形成斷路。
在一些實施例中，負載620和620'各自電性耦接至各個對應的電解裝置10和10'。在一些實施例中，負載620和620'包含電透析裝置，用以純化對應的電解裝置10和10'的電解液。在一些實施例中，電解裝置10和10'提供輸出電能給各自電性耦接的電透析裝置。
在一些實施例中，如圖1所示的製程廢棄物處理再利用系統1B的電解裝置10可構成儲能系統600的電池模組610。在一些實施例中，如圖1所示的製程廢棄物處理再利用系統1B的電解裝置10可用以回收再處理製程設備1A的製程廢棄物，並且還可以作為儲能系統600的電池模組610。在一些實施例中，一或多個製程系統1的製程廢棄物處理再利用系統1B的多個電解裝置10可構成儲能系統600的電池模組610。在一些實施例中，電解裝置10可用以回收再處理製程設備1A的製程廢棄物，並且還可以作為儲能系統600的電池模組610，透過切換不同的放電模式，對
製程設備1A的一或多個裝置及/或外部製程設備(未繪示於圖中)的一或多個裝置充電，或對對應的電透析裝置20充電。
雖然本揭露以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露。本揭露所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可做些許之更動與潤飾。因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。此外，每個申請專利範圍建構成一獨立的實施例，且各種申請專利範圍及實施例之組合皆介位於本揭露之範圍內。
1:製程系統
1A:製程設備
1B:製程廢棄物處理再利用系統
10:電解裝置
11:輸送系統
12:染色槽
13:交聯槽
14:洗淨槽
20:電透析裝置
22,22':電解質
23,25:標定濃度步驟
24,24',40:製程液體
30,30':吸附劑
100:光學膜前驅物
110:電解槽
120:正極電極
130:負極電極
140:電解液
DR1:輸送方向
Claims (19)
- 一種製程廢棄物處理再利用系統，包括：一電解裝置，包括：一電解槽，填充有一電解液；及一正極電極與一負極電極，浸設於該電解液中，其中該正極電極用以將具有一雜質的一吸附劑容置於該正極電極中，其中該電解裝置用以進行一電解反應將該雜質自該吸附劑脫附，以回收該吸附劑，及其中該電解液包括一製程廢棄物的一製程液體，且該吸附劑的該雜質來自該製程廢棄物。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，其中該正極電極包括一導電載體及一可拆式導電罩層包覆該導電載體，且具有該雜質的該吸附劑封置於該導電載體與該可拆式導電罩層之間。
- 如請求項2之製程廢棄物處理再利用系統，其中該正極電極進一步包括一導電黏著劑，用以將具有該雜質的該吸附劑黏附至該導電載體上。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，其中該雜質以一離子態自該吸附劑脫附，且該電解液用以溶解該離子態的該雜質。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，更包括一電透析裝置，用 以純化該製程廢棄物以得到該電解液。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，更包括一電透析裝置，用以純化進行該電解反應後的該電解液，以回收該電解液。
- 如請求項6之製程廢棄物處理再利用系統，其中該電解液進一步包括一光學調整劑，該製程液體包括具有一離子態的該雜質，且該電透析裝置用以分離該製程液體與該光學調整劑。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，更包括一廢棄物分離機構，用以將具有該雜質的該吸附劑及該製程液體從該製程廢棄物中分離。
- 如請求項1之製程廢棄物處理再利用系統，其中該吸附劑包括一活性碳材料，及/或該雜質包括一活性物質碘，及/或該電解液包括該活性物質碘及硫酸鋅。
- 一種製程廢棄物處理再利用的方法，包括：將具有一雜質的一吸附劑從一製程廢棄物中分離；將一正極電極與一負極電極浸設於一電解槽的一電解液中，其中該正極電極用以將具有一雜質的一吸附劑容置於該正極電極中；以及進行一電解反應將該雜質自該吸附劑脫附，以回收該吸附劑，其中該電解液包括該製程廢棄物的一製程液體，且該吸附劑的該雜質來自該製程廢棄物。
- 如請求項10之方法，更包括形成該正極電極，其包括將具有該雜質的該吸附劑封置於一導電載體及一可拆式導電罩層之間。
- 如請求項11之方法，其中形成該正極電極進一步包括將具有該雜質的該吸附劑藉由一導電黏著劑黏附至該導電載體上。
- 如請求項12之方法，其中具有該雜質的該吸附劑佔該正極電極之總重量約30~70wt%或表面積約30~70%。
- 如請求項12之方法，其中該導電載體及該可拆式導電罩層各自包括乙炔黑、炭黑、科琴黑、奈米碳管、石墨烯、碳纖維、碳布、或上述的組合，及/或該導電黏著劑包括含碳雙面膠帶、含碳膠層、或上述的組合。
- 如請求項10之方法，進一步包括：將該製程液體從該製程廢棄物中分離；將該製程液體注入該電解槽中；以及將一電解質注入該電解槽，其中該電解液包括該製程液體及該電解質。
- 如請求項15之方法，進一步包括：在進行該電解反應之後，藉由一電透析裝置分離該製程液體及該電解質，以回收該製程液體及該電解質； 標定回收之該電解質的濃度；將標定濃度後的回收之該電解質注入該電解槽中；以及當該電解槽中的該電解液的該電解質未達到一預定濃度時，進一步添加一額外量的該電解質至該電解槽中。
- 如請求項10之方法，其中該電解液包括從該製程廢棄物中分離的該製程液體，該方法進一步包括：在進行該電解反應之後，藉由一電透析裝置純化該電解液，以回收該製程液體；標定回收之該製程液體的濃度；以及將標定濃度後的回收之該製程液體注入一製程設備的至少一製程浴槽中。
- 一種光學膜材的製造方法，包括：提供一製程設備，其包括一輸送系統及至少一製程浴槽；使一光學膜材藉由該輸送系統沿著一輸送方向經過該至少一製程浴槽；以及以請求項11~17中任一項所述之方法處理再利用該至少一製程浴槽中的至少一製程廢棄物。
- 如請求項18之方法，其中該至少一製程浴槽選自由一染色槽、一交聯槽及一洗淨槽所組成的群組。
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| 專書 王愛愛, 〝廢棄活性碳電化學再生研究及安全評價〞, 天津理工大學研究生學位論文, 2019年3月。 |
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