TWI794509B - 用於輸送至少一個晶圓的輸送裝置以及用於操作輸送裝置的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種用於運用至少一個運輸本體(200)輸送至少一個晶圓(36)之輸送裝置(10)，其中該運輸本體(200)建構成至少攜載或固持一晶圓(36)，且其中該輸送裝置(10)建構成在一輸送表面(35)上至少二維地移動該至少一個運輸本體(200)。

Description

用於輸送至少一個晶圓的輸送裝置以及用於操作輸送裝置的方法
本發明係關於一種用於輸送至少一個晶圓之輸送裝置，及一種用於其操作的方法。較佳地，磁懸浮用於該至少一個晶圓之浮動運輸及/或定位及/或定向。此處所呈現之解決方案可較佳地用於半導體生產之領域中。
在半導體生產中，諸如晶圓之常見物件必須經運輸或定位。習知地，運輸系統用於此用途，其在固定軌道或導軌上移動晶圓。此等固定軌道或導軌正常地僅允許一維移動，其詳言之具有如下缺點：晶圓以所建立之次序輸送且詳言之其通常不可能將後部晶圓帶至前部晶圓前方。
此外，對於所謂集束型工具內部之晶圓運輸，已知使用居中配置之處置裝置，其可在徑向方向上(一維地)輸送各晶圓直至集束型工具之圍繞該處置裝置配置成圓的處理台。然而，集束型工具內部之此先前習知類型的晶圓運輸導致集束型工具之設計的約束。
因此需要提供一種輸送裝置，其允許至少一個晶圓詳言之直至處理台及/或處理台內部之更靈活輸送。
根據技術方案1，一種用於運用至少一個運輸本體輸送至少一個晶圓之輸送裝置，其中該運輸本體建構成至少攜載或固持至少一個晶圓，且其中該輸送裝置建構成在一輸送表面上至少二維地移動該至少一個運輸本體。
有利實施例為附屬技術方案及以下描述內容之主題。
晶圓通常為用於微電子件、光伏打及/或微型系統工程化中的例如圓形或正方形且約1mm厚的盤。此等晶圓或盤通常由被稱作晶錠之單晶或多晶(半導體)坯料製成，且通常充當用於電子組件包括用於積體電路(IC或晶片)、微型機械組件及/或光電塗層之電子組件的基板(底板)。
運輸本體建構成攜載及/或固持至少一個晶圓。在此情形下，至少一個晶圓可定位於運輸本體上(頂部上)、運輸本體下方，或緊接運輸本體定位。此外，運輸本體亦可建構成攜載及/或固持若干晶圓之堆疊。在此情形下，在運輸本體此外建構成自晶圓之堆疊提取個別晶圓且在適用之處將晶圓插入堆疊中情況下為尤佳的。運輸本體可包含一個或多個叉狀物，其各自建構成固持或攜載至少一個晶圓或若干晶圓之堆疊。替代地或累積地，運輸本體可包含工作台(呈板之方式)，其建構成使得至少一個晶圓或若干晶圓之堆疊可沈積於工作台上。在此情形下，在工作台包含建構成緊固(可釋放地)沈積於工作台上之一或多個晶圓(在運輸期間)之緊固元件的情況下為尤佳的。
輸送裝置建構成在輸送表面上至少二維地(或在一些狀況下甚至三維地)移動至少一個運輸本體。在此情形下，在輸送裝置建構成沿著至少二維或甚至三維輸送路徑(在輸送表面上)移動至少一個運輸本體情況下為尤佳的。二維移動此處詳言之為突出的在於，其在一個平面上發生。另外(如下文所解釋)，在運輸本體在六個自由度上可移動的情況下為尤佳的。
詳言之此處所提議之解決方案允許用於半導體生產之特別有利 的運輸系統，在該運輸系統中，一或多個晶圓可在輸送表面上或在平面中自由地輸送。此處亦描述為二維之移動有利地允許至少一個晶圓詳言之直至處理台及/或處理台內部的更靈活輸送。此允許如下其他優勢：半導體生產設備(plant)詳言之所謂集束型工具可經更好地設計。
根據一有利實施例，提議該輸送裝置經組態而以一受控浮動樣式輸送該至少一個運輸本體。換言之，此詳言之意謂運輸本體之非接觸式或無觸碰輸送。在此情形下，在輸送裝置以磁性運輸系統之方式形成的情況下或在浮動輸送以磁性方式執行的情況下為尤佳的。一浮動輸送詳言之結合如用於半導體生產中之清潔室為有利的，此係由於此可進一步減小清潔室之可能污染的風險。詳言之當輸送必須在真空條件下發生時，磁性實施方案為特別有利的。詳言之在此類真空條件外部，例如，亦可使用經壓縮空氣系統，其例如在運輸本體下方提供氣墊。
根據一尤佳實施例，輸送裝置此外包含一定子，其中該輸送裝置經組態而以受控樣式相對於定子輸送該至少一個運輸本體。此處，該定子可具有若干可移動配置之致動磁體，該等磁體中之每一者經由一致動元件連接至該定子，其中該致動元件經組態而以受控樣式改變該等已連接致動磁體相對於該定子的一位置及/或一定向；該至少一個運輸本體包含至少兩個靜止磁體，其連接至該運輸本體，使得該至少兩個靜止磁體相對於該運輸本體不可移動；該定子及該至少一個運輸本體藉助於該至少兩個靜止磁體及該若干致動磁體磁性耦合；且該輸送裝置建構成藉由若干致動磁體藉助於該等致動元件之受控定位及/或定向相對於該定子輸送該至少一個運輸本體。替代地，該至少一個運輸本體可包含若干可移動配置之致動磁體，該等致動磁體中之每一者經由一致動元件連接至該運輸本體，其中該致動元件經組態而以受控樣式改變該等已連接致動磁體相對於該運輸本體的一位置及/或一定向；該定子包含至少兩個靜止磁體， 其連接至該定子，使得該至少兩個靜止磁體相對於該定子不可移動；該至少一個運輸本體及該定子藉助於該至少兩個靜止磁體及該若干致動磁體磁性耦合；且該輸送裝置建構成藉由若干致動磁體藉助於該等致動元件之受控定位及/或定向相對於該定子輸送該至少一個運輸本體。
在此情形下，詳言之為了提供浮動運輸，提議一種具有一定子之輸送裝置，該輸送裝置用於相對於定子受控地輸送運輸本體。此處，有利地，一運輸本體相對於一定子之一受控輸送為可能的在於，兩個元件中之一者具有複數個致動磁體，該等致動磁體經配置以便係至少部分可移動的，且其相對於此元件之各別位置及/或定向可以受控方式藉由致動元件預定義，且兩個元件中之另一者具有不可移動地連接至此元件之至少兩個靜止磁體，其中該等靜止磁體磁性耦合至致動磁體。該輸送裝置建構成藉由致動磁體之受控定位及/或定向相對於該定子輸送該運輸本體。輸送詳言之包含將該至少一個運輸本體相對於定子帶至所要位置及/或定向。
此詳言之允許運輸本體相對於定子在六個自由度上亦即在三個平移自由度及三個旋轉自由度上的完全磁懸浮。此具有運輸本體相較於習知系統中可更靈活地予以輸送的優勢。
此外，此給予如下優勢：運輸本體相對於定子之懸浮及/或平移移動可藉由致動磁體藉助於相關致動元件之對應定位及/或定向來達成。以此方式，不需要提供磁性線圈之複雜配置及致動。此不僅減小輸送裝置之複雜度且因此降低生產成本，而且允許使用永久磁體，永久磁體相較於可用於此類用途之磁性線圈可通常提供大得多之通量密度。此又可允許定子與運輸本體之間的較大抬升高度或較大氣隙，藉此移動之更大自由度在Z方向上及/或在間距及橫搖之角範圍上的移動有可能。此外，此給予如下優勢：甚至電能供應中之中斷仍不會導致故障或引起損害。詳言之，電力供應器中之中斷不會導致定子與運輸 本體之間的磁場或磁性耦合之損失。舉例而言，在電力供應器之中斷的狀況下，致動磁體之位置及/或定向一對靜止磁體之吸引力效應作出回應，致動磁體與靜止磁體之間的耦合力就可增大，藉此運輸本體被拉向定子，且因此相對於不可控下降保證安全。此外，此有利實施例給予如下優勢：定子與運輸本體之間的磁性耦合可達成運輸本體之懸浮亦即在定子上方之抬升而且運輸本體相對於定子之平移移動亦即輸送兩者，而不需要其他接觸或非接觸式系統為絕對必不可少的。以此方式，非接觸式運輸變得有可能，使得輸送裝置亦可用於具有增大之清潔要求的環境(諸如，半導體生產中的上述清潔室)中。舉例而言，運輸本體可在具有增大之清潔度要求之環境中輸送，同時定子配置於具有較低清潔度要求的外部環境。舉例而言，分離元件可穿過定子與運輸本體之間的氣隙以便分離不同清潔度區。因此，輸送裝置亦適用於化學製程中，諸如半導體生產之化學反應區中，且例如用於氣密、流體密封及/或囊封區中。
此外，可達成如下優勢：不必在運輸本體或定子中提供磁性線圈，使得運輸本體及/或定子藉由在此等線圈中發生之電流進行的加熱可被避免。此促成輸送裝置在熱關鍵環境中或針對輸送熱敏物件的使用，且改良輸送裝置之能效，此係由於電能之耗散可被減小。
由於藉助於磁性耦合之有利懸浮或輸送，運輸本體或輸送裝置可自振盪及/或振動及/或本體承載聲波解耦，藉此輸送裝置亦可用於以特別有利樣式輸送敏感物件，諸如半導體產品。
較佳地，輸送裝置包含複數個致動磁體及/或複數個靜止磁體。尤佳地，致動磁體及/或靜止磁體配置於定子中或上或者運輸本體中或上之輸送表面上方，使得運輸本體可沿著輸送表面經懸浮及/或輸送。以此方式，產生運輸本體可予以輸送的較大區。尤佳地，致動磁體整體上具有至少大達運輸本體之自由度之數目的數個自由度，其中運輸本體以受控樣式輸送或定位。若例如 運輸本體以六個自由度輸送及/或定位，則有利的是提供總計具有六個或六個以上自由度的若干致動磁體。舉例而言，為此，致動磁體可經組態，使得運輸本體每次與至少六個致動磁體互動。
較佳地，致動磁體之磁場及/或至少兩個靜止磁體之磁場面向輸送表面，亦即，一個磁極面向輸送表面。輸送表面為運輸本體以受控樣式相對於定子輸送沿著的表面。詳言之，輸送表面可與定子平面及/或定子之作用表面一致。尤佳地，輸送表面位於(運輸)平面中。此外，輸送表面亦可經彎曲及/或可沿著至少一個彎曲或以不恆定樣式延伸。舉例而言，位於定子與自定子懸浮之運輸本體之間的表面可構成輸送表面。此配置給予如下優勢：致動磁體與靜止磁體之間的磁性耦合可經增大或最佳化。較佳地，致動磁體及靜止磁體之磁極面向彼此地配置，或使得其磁場具有重疊及/或相互作用。較佳地，磁場在背離輸送表面之方向上最小化。
根據有利實施例，提議輸送裝置建構成沿著輸送表面上之不同輸送路徑輸送至少兩個運輸本體(以受控樣式相對於定子)，尤其使得一個運輸本體可追越另一運輸本體。在此情形下，等待區亦可經形成，尤其使得一個等待運輸本體可超過另一者。此外，可規定，追越運輸本體觀測距另一運輸本體之(預定義)最小距離。最小距離在此情況下詳言之經預定義，使得追越運輸本體並不打斷另一運輸本體之磁性浮動。
根據另一有利實施例，提議，輸送裝置建構成沿著在輸送表面上具有至少兩個軌道之輸送路徑輸送至少兩個運輸本體(以受控樣式相對於定子)。以此方式，有利地，多軌道運輸路徑在輸送表面上有可能，藉此可有利地增大生產能力。
根據另一有利實施例，提議，輸送裝置建構成輸送至少一個運輸本體(以受控樣式相對於定子)直至(晶圓)處理台，及/或以藉助於處理台中 之運輸本體定位或對準(定向)晶圓。處理台可例如為化學反應處理台、微影處理台或檢驗台，其中晶圓可例如藉助於顯微鏡檢驗。
替代地或累積地，輸送裝置可建構成輸送至少一個運輸本體(以受控樣式相對於定子)直至晶圓之儲存器或儲存單元，及/或定位及/或對準(定向)藉助於用於晶圓之儲存器或儲存單元中的運輸本體所運輸之晶圓。較佳地，輸送裝置建構成將至少一個運輸本體輸送入及/或輸送出用於晶圓之儲存器或儲存單元直至處理台及/或至處理台中。
此外，較佳地，輸送裝置建構成經由(晶圓)處理台輸送至少一個運輸本體(以受控樣式相對於定子)。此外，輸送裝置可經組態沿著(晶圓)處理台輸送至少一個運輸本體(以受控樣式相對於定子)，使得藉助於運輸本體輸送之晶圓經由(晶圓)處理台輸送。此外，輸送裝置可建構成在經由處理台之運輸期間定位及/或對準(定向)藉助於運輸本體在處理台中輸送的晶圓。
在例如處理台中，可提供具有增大之清潔度要求之環境(潔淨室)及/或真空。在此情形下，在對於將晶圓移動至處理台中而言僅運輸本體之部分，例如運輸本體之固持器或夾持器或夾鉗器突出至處理台中的情況下為尤佳的。運輸本體之此部分可例如通過配置於處理台前方的鎖定件。
處理台中晶圓的定向(晶圓之位置)可例如藉由相對於輸送表面傾斜運輸本體及/或藉由圍繞其垂直軸線旋轉運輸本體來達成。處理台中晶圓之定位(晶圓之位置)可例如藉由沿著輸送表面之(二維)移動及/或運輸本體圍繞其垂直軸線的旋轉來達成。運輸本體相對於輸送表面之傾斜可另外又在沿著輸送表面之輸送期間為有利的，此係由於此在一些狀況下可達成增大之輸送速度。舉例而言，運輸本體之(目標)傾斜可在運輸本體之加速期間防止晶圓掉落。
較佳地，至少兩個靜止磁體及/或致動磁體各自包含至少一個永 久磁體。此具有如下優勢：磁性線圈在定子中及/或在運輸本體中之使用可經減小，或甚至被完全避免，且因此輸送裝置之能量消耗可被減小。此外，藉助於永久磁體，相比於磁性線圈，可產生極強磁場，該極強磁場亦可在小型空間中提供。又，當永久磁體用以提供磁場時，不需要提供電力至磁體，如例如在使用磁性線圈時需要提供電力至磁體。又，永久磁體並不耗散電力，且因此並不促成輸送裝置之非所要加熱。尤佳地，靜止磁體及/或致動磁體獨佔地包含一或多個永久磁體而無任何額外磁性線圈。此可例如避免對使運輸本體與電能供應線接觸的需要，電能供應線構成對平移移動之阻礙。
較佳地，永久磁體(在表面上之點處)提供至少0.05 T、較佳地至少0.1 T、更佳地至少0.25 T、甚至更佳地至少0.5 T、尤佳地至少0.75 T且最佳地至少1 T的磁通量密度。詳言之，永久磁體可經選擇，使得對於運輸本體之運輸及/或定位必要之力及力矩可藉由所選擇之通量密度來達成。具有較大通量密度之永久磁體可例如用來產生較大抬升及/或較大加速度，及/或藉由運輸本體輸送較重負載。
較佳地，致動磁體包含磁體群組，其較佳地具有若干永久磁體及/或磁性線圈。較佳地，靜止磁體亦形成至少一個磁體群組，其中磁體群組較佳包含若干永久磁體及/或磁性線圈。詳言之，對於磁體群組之若干磁體配置成直線之狀況，可為有利的是配置磁體，使得若干磁體經定向，或者經配置，使得其磁性偶極並不平行地定向或並不指向相同方向，詳言之並非皆平行於直線而定向。偶極之非平行配置對於所有六個自由度中運輸本體的受控輸送或移動為有利的。
尤佳地，至少一個磁體群組之複數個永久磁體及/或磁性線圈至少部分根據海爾貝克陣列配置。此給予如下優勢：藉由若干磁體產生之磁場在遠離海爾貝克陣列之一個方向上彼此放大，且在遠離海爾貝克陣列之另一方向 上彼此減小或甚至完全熄滅。此例如可為有利的在於，磁場可在定子與運輸本體之間在方向上放大，而磁場在其他方向上彼此減小或甚至彼此抵消。因此，磁場可對於懸浮特別有效地利用，及/或海爾貝克陣列中之磁鐵可詳言之在小型空間中彼此鄰近地配置而不會不利地影響彼此。較佳地，海爾貝克陣列經配置，使得磁體群組之磁場較佳地延伸直至輸送表面或作用表面。詳言之，海爾貝克陣列之配置允許磁體之針對同一耦合力及力矩的總重量及/或慣性力矩上的減小。在不同空間方向上形成海爾貝克陣列之磁體的表面配置對於在所有自由度上傳輸高的力及力矩為最佳的。
較佳地，致動元件包含驅動元件，其經組態而以受控樣式改變已連接致動磁體之位置及/或定向。舉例而言，此類驅動元件可包含電馬達，其直接連接至致動磁體或經由齒輪機構及/或連桿系統連接至致動磁體以便移動致動磁體。又，驅動元件可經組態，使得若干致動磁體可藉此移動。此等配置具有如下優勢：連接至致動元件之致動磁體之位置及/或定向可經個別地改變。舉例而言，致動元件可經組態，以使得其可圍繞致動磁體之軸線及/或矩心旋轉致動磁體。此外，驅動元件可經組態，使得至少一個致動磁體之一個以上自由度可藉此移動。另外較佳地，致動磁體包含感測器元件，其經組態而判定連接至致動元件之致動磁體的位置及/或定向。此允許控制致動磁體之定向及/或位置且以高效且有效樣式藉助於致動磁體達成所要效應。另外較佳地，致動磁體包含控制元件，該控制元件建構成藉助於驅動器設定連接至致動元件之致動磁體之位置及/或定向為預定義值。舉例而言，控制元件可包含控制及/或調整單元，致動磁體之移動可經由驅動元件藉助於該控制及/或調整單元來控制及/或調節。以此方式，致動磁體可特定言之快速且精準地經定位及/或定向。
此外，一種輸送裝置亦可包含一位置判定單元，其建構成判定該至少一個運輸本體相對於該定子之相對位置及/或定向。舉例而言，該位置判定 單元可包含光學感測器及/或電容感測器及/或諸如霍爾感測器之磁場感測器，其基於藉由該運輸本體產生之該磁場至少部分判定該運輸本體相對於該定子的一位置及/或定向。
根據另一態樣，提議一種用於操作此處提議之一輸送裝置的方法，其中該至少一個運輸本體在該輸送表面上自由地移動至一所要位置及/或定向。
結合該輸送裝置解釋之細節、特徵及有利實施例可對應地應用至此處所提議之方法，且反之亦然。在此程度上，充分參看上文針對詳細表徵特徵進行的陳述。
本發明之其他優勢及實施例起因於描述內容及附接圖式。
應理解，上文概述且下文將解釋之特徵可不僅在組合中給出而且在其他組合中或單獨地給出而不背離本發明。
本發明藉助於例示性實施例以圖解方式描述於圖式中且下文參看圖式詳細地描述，然而不受約束於所展示之例示性實施例。
相同或類似元件攜載相同參考符號。對應解釋出於簡潔性目的不予以重複。
10:輸送裝置
12:機器工作台
14:懸浮場
16:氣密密封件
18:連接件
20:運輸產品
22:靜止磁體
24:磁體群組
26:致動磁體
28:驅動軸
30:感測器
32:齒輪機構
34:馬達
35:輸送表面
36:晶圓
37:處理台
38:能量供應源
39:狹縫閥
40:地板
42:驅動器
100:定子
102:作用表面
112:結構組件
112a:覆蓋層
114:致動元件
116:運輸本體位置判定元件
118:磁體位置判定元件
120:電路板
122:控制元件
124:資料連接件
126:能量供應源
128:可選線圈層
132:感測器
200:運輸本體
202:頂蓋元件/上部覆蓋層
204:底蓋元件/下部覆蓋層
206:邊緣元件
208:盤
900:定子座標系統
902:X方向
904:Y方向
906:Z方向
920:運輸本體座標系統
920i:座標系統
922:X1方向
924:Y1方向
926:Z1方向
932:橫搖角
934:俯仰角
936:橫偏角
940:重力
1001:標稱位置
1002:控制器
1003:驅動器放大器
1004:驅動器
1005:齒輪機構
1006:感測器
1007:實際角位置或實際位置
2001:較高層級系統之控制系統
2002:輸送裝置之中心控制系統
2003:使用者介面
2004:定子1之模組控制系統
2005:定子2之模組控制系統
2006:定子3之模組控制系統
2007:定子4之模組控制系統
2008:定子5之模組控制系統
2009:定子6之模組控制系統
3000a:功能步驟
3000b:功能步驟
3000c:功能步驟
3000d:功能步驟
3000e:功能步驟
3000f:功能步驟
α:致動角度/旋轉角
圖1圖解地展示根據一較佳實施例之輸送裝置的俯視圖。
圖2A至圖2E展示根據較佳實施例之輸送裝置的示意性描繪。
圖3A及圖3B展示根據一較佳實施例之運輸本體。
圖4A至圖4M以示意性描繪展示靜止磁體或磁體群組之各種配置的俯視圖。
圖5A至圖5C展示運輸本體之較佳實施例。
圖6展示具有額外功能之根據一較佳實施例的運輸本體。
圖7A至圖7D以示意性描繪展示根據較佳實施例之定子。
圖8A至圖8E展示磁體群組或致動磁體的例示性配置。
圖9A至圖9H展示致動磁體及磁體群組以及較佳配置的較佳實施例。
圖10A及圖10B以示意性描繪展示致動元件之較佳實施例。
圖10C以方塊圖展示致動元件之例示性功能原理。
圖11展示位置判定單元之較佳實施例。
圖12展示例示性控制圖。
圖13A至圖13C展示輸送裝置之較佳實施例。
圖14展示輸送裝置之較佳實施例。
圖15展示例示性程序圖。
圖1以圖解方式展示根據一較佳實施例之輸送裝置10的俯視圖。輸送裝置10用於輸送至少一個晶圓36。輸送裝置10此處例如具有兩個運輸本體200。每一運輸本體200建構成此處例如藉由運輸本體200之以夾持器方式形成的部分攜載及/或固持至少一個晶圓36。此外，輸送裝置10建構成在輸送表面35上二維地移動運輸本體200。
運輸本體200可在輸送表面35上實質上自由地移動，且因此將晶圓36遞送至處理台37，且在一些狀況下將晶圓固持於處理台37中或在處理台中定位及/或對準晶圓。但是為了能夠保證處理台37之內部與環境的最佳分離，例如可提供狹縫閥39，經由該等狹縫閥，運輸本體200之固持晶圓36的至少部分可突出(在閥開啟時)。
圖2A以示意性描繪展示根據一較佳實施例之輸送裝置10與關聯 座標系統900及920。所展示之輸送裝置10配置於機器工作台12上，且包含定子100及運輸本體200。在此狀況下為主動調節之磁場的懸浮場14以圖解方式描繪於定子100與運輸本體200之間。懸浮場14藉由分別形成於定子100與運輸本體200中的致動磁體及靜止磁體(圖中未示)而產生於定子100之作用表面102上。懸浮場14位於定子100與運輸本體200之間，其中運輸本體200在懸浮場14中浮動。點線以圖解方式描繪可選氣密密封件16，其允許運輸本體200藉助於定位於氣密密封件16外部之定子100在氣密密封件16內輸送。此外，圖示意性地描繪連接件18，藉助於該等連接件，輸送裝置10可供應有電能，且經由電能可接收及/或傳輸通信資料。
運輸本體相對於定子之位置及定向可描述於定子座標系統900中，其藉由X方向902、Y方向904及Z方向906橫跨。運輸本體具有其自己之運輸本體座標系統920，其藉由X1方向922、Y1方向926及Z1方向926橫跨，且包含橫搖角932、俯仰角934及橫偏角936。
輸送裝置10較佳經控制，使得運輸本體200以穩定樣式懸浮，且在相對於平移及旋轉之預定義標稱曲面上導引。
圖2A展示輸送裝置10處於工作台模式，亦即配置於或位於平面中使得運輸本體200藉由重力940在定子100之方向上加速，而圖2B展示輸送裝置10處於壁模式(wall mode)，在該模式中，重力使運輸本體實質上平行於輸送表面而加速。定子100與運輸本體200之間的磁性耦合經設定，使得補償重力之力亦平行於輸送表面起作用。懸浮場14此處防止運輸本體200滑動及/或絆倒。至致動磁體及靜止磁體(圖中未示)包含永久磁體的程度，滑動及/或絆倒仍可被防止，即使在電力供應器被中斷時。相同情形應用於處於天花板模式之輸送裝置10，如圖2C中以圖解方式展示。
圖2D以示意性描繪展示具有三個運輸本體200之輸送裝置10，運 輸本體200經由彼此鄰近地配置之三個定子100或定子模組運輸，其中定子模組形成平坦作用表面102。圖2D亦展示運輸本體200在Z方向906上於不同抬升高度或不同距離的定位。
圖2E以示意性描繪展示根據另一較佳實施例之輸送裝置10，其中運輸本體200藉由兩個獨立定子100輸送或定位或定向，其中每一定子僅耦接至運輸本體中之磁體配置的部分區。以此方式，運輸本體200可轉動約橫偏角936及/或傾斜約橫搖角932，及/或翻轉約俯仰角934。
圖3A以圖解描繪在X1/Z1平面中之橫截面中展示根據一較佳實施例的運輸本體200，其中運輸本體200包含靜止磁體22之磁體群組24。圖3B以俯視圖展示來自圖3A之運輸本體。運輸本體200此外包含鄰近於磁體群組24之頂部及底部配置的頂蓋元件202及底蓋元件204。在所展示之實施例中，沿著Z1方向926之不同位置指定為頂部及底部。在X1方向922及Y1方向924上於運輸本體200之側處，邊緣元件206鄰近於磁體群組24形成。
運輸本體200可充當一側上之運輸產品20例如用於固持晶圓36的固持器與另一側上之定子100之間的機械連桿。較佳地，運輸本體200形成為機械剛性元件，且建構成支撐或運輸頂蓋元件202之頂側上的運輸產品200。較佳地，運輸產品20可緊固至運輸本體200，且接著與運輸本體200一起在定子100上方在標稱曲面上導引，及/或穩定地固持於標稱位置。根據所展示之實施例的運輸本體200為電被動的，亦即為了執行其功能，其不需要電能或連接，且詳言之不包含致動磁體。
根據所展示之實施例，運輸本體200包含X1/Y1平面中處於表面配置的複數個靜止磁體22，在幾何配置上配置為磁體群組24，其中靜止磁體22之幾何配置相對於運輸本體200經緊固，且靜止磁體22因此並不相對於運輸本體200移動。舉例而言，頂蓋元件202及/或底蓋元件204及/或邊緣元件206可建構成 至少部分將靜止磁體22緊固於其位置或幾何配置。替代地或另外，運輸本體200可包含用於緊固靜止磁體22之一或多個其他組件。較佳地，靜止磁體22包含永久磁體及/或組態為永久磁體。尤佳地，靜止磁體22包含稀土合金永久磁體。
磁體或靜止磁體22之位置較佳地意謂矩心之位置。各別靜止磁體之磁化方向藉由偶極向量來描述，其象徵性地描繪為對應箭頭。自圖3A明顯的是，根據所展示之實施例，關於其磁化方向，每一靜止磁體22不同於各別鄰近靜止磁體22配置或定向。在所展示之狀況下，其形成海爾貝克陣列，其磁場在Z1方向上為特別強的，且在相反方向上減弱。較佳地，使用磁體作為靜止磁體22，該等磁體經實質上均勻地磁化，使得各別靜止磁體22之個別部分體積的偶極向量大約指向與靜止磁體22之總偶極向量相同的方向上。偶極向量指向箭頭尖端的方向。
運輸本體200中靜止磁體22之配置較佳地適合或匹配至定子100中之致動磁體26(參見例如圖8)的配置，使得在各別定子100上之運輸本體200的工作區中，對於運輸必要之力及力矩可自定子100傳輸至運輸本體200，及/或運輸本體200之所有所要自由度始終可經獨立地控制。
圖4A至圖4M以圖解描繪且以俯視圖展示形成磁體群組24之靜止磁體22的不同配置。又在此等諸圖中，箭頭指示各別靜止磁體22之磁化方向，其中藉由點或X標記之靜止磁體22具有在Z1方向926上脫離圖式平面或進入圖式平面的磁化方向。
圖4A至圖4G展示呈規則矩形圖案之靜止磁體22的配置。較佳地，運輸本體200包含以線性樣式配置成直線的至少兩個靜止磁體22(參見圖4A)，其中靜止磁體中之至少一個的偶極矩並非平行於此直線而定向。此為特別有利的，以便能夠控制運輸本體200或在所有六個自由度上以受控樣式移動該運輸本體。較佳地，每一運輸本體200具有至少三個靜止磁體22(參見圖4B至圖 4G)，其定位於空間平面例如X1-Y1平面中及/或其形成複雜之三維空間配置。
靜止磁體22皆配置於一個配置平面中的配置特別適合於如下應用：主要平移移動必須平行於配置平面及/或圍繞定子100之Z軸線或各別運輸本體200之Z1軸線之旋轉執行。
磁體群組24較佳包含配置為至少一個海爾貝克陣列的靜止磁體22。海爾貝克陣列較佳地經定向或配置，使得磁場或磁場強度在定子100之方向上增大及/或在運輸產品20之方向上及/或在亦可在同一定子100上輸送之可能鄰近運輸本體200的方向上減小。形成海爾貝克陣列外加其他之靜止磁體22的例示性佈置描繪於圖4D、圖4F及圖4G中。長度λ指示海爾貝克週期之長度，亦即海爾貝克陣列的週期。
圖4H至圖4K展示靜止磁體22以六邊形圖案配置的磁體群組24。根據圖4I及圖4K之配置係基於海爾貝克陣列的二維配置。圖4L及圖4M展示靜止磁體22以圓形圖案配置之磁性群組24。詳言之，圖4L展示靜止磁體22以五個海爾貝克陣列或在72°之各別角範圍上的海爾貝克週期配置的配置。靜止磁體22以18°之角形間距等距地配置。圖4M中之配置除展示於圖4L中之配置外具有五個徑向配置之海爾貝克陣列，其在圓形配置之中心中共用共同靜止磁體22。此類配置可有利地與具有正方形圖案之定子磁體配置組合。詳言之，此配置可為有利的以便避免相對於致動磁體及靜止磁體之相對相互配置的奇點。
圖5A至圖5C展示運輸本體200與磁體群組24之較佳實施例，其中靜止磁體22以三維配置來配置。為了更好地描述，未展示下部覆蓋層204及上部覆蓋層202。圖5A展示靜止磁體22之部分圓柱形配置，其可例如提供圍繞Y1軸線之關於旋轉的放大樞轉範圍。圖5B展示呈球形區段形狀的靜止磁體22之配置，其可提供關於圍繞X1軸線及Y1軸線兩者之旋轉配置的放大樞轉範圍。兩個配置不必經受相對於圍繞Z1軸線之旋轉性或樞轉性的約束。
靜止磁體22在彎曲平面上之配置可給予至少在運輸本體200之一個方向上增大之樞轉角範圍。舉例而言，圓柱形運輸本體200在一些狀況下可執行圍繞其圓柱軸線的環形旋轉，該運輸本體之彎曲殼體表面作為作用表面懸浮於定子100上。此外，圍繞定子100之Z軸的環形旋轉可有可能。
在兩個空間方向上彎曲之表面可例如放大在運輸本體200之兩個空間方向上的樞轉角度範圍。舉例而言，在一些狀況下，具備靜止磁體22之球面運輸本體200可在所有空間方向上執行環形旋轉。
運輸本體200亦可經設計為圓柱體或球之片段，如例如圖5A及圖5B中所展示，其中彎曲側裝備有磁體及建構成收納運輸產品之平坦側。此等配置可例如給予實施具有大樞轉角度範圍(例如，90°)之測角計工作台的可能性，其可另外執行圍繞Z1軸線之旋轉且較佳地在所有空間方向上的平移。此配置可例如有利地用於諸如雷射機械加工或測試製程中及工業影像處理中的機械加工製程中，此係由於例如用作運輸產品20之工件可在機械加工工具或測試構件下方在廣泛區域內自由地定位及/或朝向。此外，視需要，工件可快速地運入並運出處理位置以便使常常經濟上低效之工件改變時間最小化，在該工件改變期間，不可使用製程。
圖5C展示另一較佳實施例之運輸本體200，在該實施例中，靜止磁體22以角形配置來配置。詳言之，所展示之運輸本體200包含靜止磁體22，其沿著第一支腳在X1/Y1平面中且沿著第二支腳在X1/Z1平面中水平地延伸。以此方式，運輸本體200可具備兩個作用表面，如所展示例如具有水平作用表面及垂直作用表面，以便藉由不同配置之定子100例如藉由一個水平配置之定子100及一個垂直配置之定子100在不同時間或同時懸浮或輸送。此配置可例如用於運輸本體200中，其在進行中改變中於不同定向作用表面處操作。舉例而言，運輸本體200可具有以90°角配置之兩個作用表面。當此在亦以彼此成90°之角度配置之 兩個定子的配置操作時，其中一個定子100水平地操作且另一定子100垂直地操作時，有可能的是例如自地板操作改變至壁操作而不需要中斷。
例如將運輸本體200的諸如靜止磁體22之個別組件固持在一起的運輸本體200之結構組件或殼體或框架較佳地由非鐵磁性材料製成，例如由塑膠及/或陶瓷及/或非鐵金屬製成。視需要，其具有並不裝備磁體之邊緣元件206，該邊緣元件用作例如與其他運輸本體200之間隔物，使得較佳地兩個觸碰運輸本體200之間的相互接觸力受限且兩個運輸本體200之自由定位能力較佳在亦當其正觸碰時並不受到阻礙。
在面向定子100之側上，運輸本體200可具備底蓋元件204，其例如具有較佳充當與運輸本體200之環境中可能物件之間隔物的覆蓋層，且較佳地可安全地限制距離且因此限制靜止磁體22的最大作用力。以此方式，例如，有可能減小處置運輸本體200中損傷的風險，諸如在鐵磁性物件之不正確逼近時擠壓指狀物的風險。此外，較佳地過載限制可針對定子100中之驅動器或致動磁體來達成，此係由於運輸本體200在定子100中之致動磁體作用的力及力矩可較佳地受到限制。此外，較佳地，可達成運輸本體200免受附接鐵磁性粒子影響之更好淨化，此係由於固持力為較低的。又，底蓋元件中額外功能之可選整合，諸如用於電感能量傳輸之線圈或用於識別運輸本體200之資料載體的整合可為有利的。
若干運輸本體200可機械地及/或出於控制目的耦合在一起以便例如執行常見功能。舉例而言，桿藉由獨立運輸本體200主動地驅動及定位的被動機械並行運動學可執行處置任務。在另一實例中，藉由較佳地同步地移動及輸送，若干運輸本體200一起可運輸例如對於單一運輸本體200過重的負載。
根據另一較佳實施例，運輸本體200亦可具有內部自由度且例如由相對於彼此可移動的若干組件組成，使得其較佳地總計具有六個以上自由 度。藉由在若干組件中提供靜止磁體22，較佳地可主動地控制運輸本體200之六個以上自由度。如圖6展示，例如可旋轉地安裝於運輸本體200中之盤208可分離地旋轉以便例如對運輸本體200執行額外功能，諸如執行運輸產品20之夾持或夾鉗功能。
此外，根據一較佳實施例，運輸本體200可具備用於其他額外功能之功能群組。舉例而言，機械能傳輸可發生在於，較佳地可旋轉地安裝於運輸本體200中且裝備有磁體的盤藉由定子100主動地驅動。對於驅動器，盤藉由定子100例如作為第七自由度處置。又，視需要，電非接觸式能量傳輸可予以實施，在於例如用於電感能量傳輸之線圈整合於定子100中且運輸本體200中。替代地或另外，例如，定子100中之永久旋轉磁體可在運輸本體200中之線圈中誘發交流電壓，其較佳地可用以在運輸本體200上產生電力。在運輸本體200之平移移動上，激勵額外功能之任務連續地傳送至定子100之其他磁體群組或致動磁體，該等磁體群組或致動磁體位於例如感應線圈之作用區中。又例如，非接觸式資料傳輸可例如運用電感及/或光學傳輸器及接收器在定子100與運輸本體200之間達成。此外，視需要，可提供用於運輸本體200之定位及/或識別的設施。舉例而言，定子100中之基於光學攝影機之感測器可讀取設置於運輸本體200之面向定子100之側上的位置或識別碼。舉例而言，運輸本體200之至少部分可裝備有諸如條碼之識別元件，輸送裝置10或定子100使用該條碼可識別各別運輸本體200。
圖7A及圖7B以示意性描繪以透視圖(圖7A)且以橫截面視圖(圖7B)展示根據一較佳實施例之定子100。定子100此處具有複數個致動磁體26，該等致動磁體中之每一者再次包含磁體群組24。致動磁體26至少部分藉由定子殼體之結構組件112包圍。根據所展示之較佳實施例，磁體群組24配置於定子100之在所展示狀況下為定子100之頂部的面或側上。儘管在展示於圖7A中之描繪 中，磁體群組24皆類似地定向，亦即使得其由屬於磁體群組24之磁體的個別偶極向量產生的整個或有效偶極向量經並行配置，但應指出，磁體群組24經組態或可移動地配置，使得其至少在其配置平面中可相對於定子殼體旋轉。儘管圖7B中之橫截面視圖在每一磁體群組24中展示僅三個磁體，但磁體群組24可包含少於或多於三個磁體，該等磁體可以一維、二維或三維配置來配置。
致動磁體26或磁體群組24藉助於其位置及/或定向可被改變而連接至致動元件114。致動元件114此處具有至少一個驅動器，諸如電馬達，其較佳地經由驅動軸及/或齒輪機構及/或連桿系統連接至磁體群組24。
導引至少一個運輸本體200需要之磁場藉由定子100中磁體群組24或致動磁體26之受控例如調節移動來產生。藉由磁體群組24產生的磁場至少部分自定子100之作用表面102顯現，且對運輸本體200中之靜止磁體22施加力及/或力矩。運輸本體200中之力及/或力矩之方向及強度受定子100中致動磁體26或磁體群組24的位置或定向影響。定子100中致動磁體26或磁體群組24之位置此處較佳地經控制，使得運輸本體200浮動且沿著預定義標稱曲面在所有六個維度中導引，或以穩定樣式以預定義標稱定向固持於預定義標稱位置。
如圖7B展示，定子100包含可移動致動磁體26的配置。致動元件114可根據標稱規範改變磁體群組24或致動磁體26之定向及/或位置。運輸本體位置判定元件116建構成判定在定子100上輸送之所有運輸本體200或各別定子100之影響區中所有運輸本體的實際位置。舉例而言，運輸本體位置判定元件116可包含感測器層及/或具有感測器之電路板。控制元件122可較佳地評估藉由運輸本體位置判定元件116提供之感測器信號，且提供此等信號例如至較高層級系統。致動元件114可例如經由電路板120接觸。
此外，根據所展示之較佳實施例，定子100包含磁體位置判定元件118，磁體群組24或致動磁體26之實際位置及/或定向可藉助於該磁體位置判定 元件來判定。舉例而言，磁體位置判定元件118可具有感測器層。
磁體群組24在定子100中之配置較佳地為平坦的，亦即，較佳地所有磁體群組24配置於一個平面中。
圖7C及圖7D展示根據另一較佳實施例的定子100，該實施例類似於展示於圖7A及圖7B中之實施例且另外包含覆蓋層112a及可選線圈層128。覆蓋層112a較佳由非磁性材料製成。藉由磁體群組24發射之磁場通過覆蓋層112a顯現於外部，該覆蓋層例如至少部分由塑膠及/或非磁性金屬及/或陶瓷及/或玻璃製成。覆蓋層112a可例如掩蔽定子100之內部從而免受運輸本體200之工作空間影響，且因此防止粒子穿透及/或顯現。此外，覆蓋層112a可用來安全地限制定子100中之致動磁體26對定子100外部之物件的最大作用力。距離可經設計，使得位於覆蓋層112a上之運輸本體200較佳地並不導致致動元件114的阻斷。此外，較佳地並不正確地沈積於覆蓋層112a上之鐵磁性部分的吸引力受到限制，使得此等鐵磁性部分可易於再次分離且在處置期間不導致損傷。
線圈層128可例如組態為具有內部線圈之多層電路板。
覆蓋層112a之面向至少一個運輸本體200之表面較佳地形成定子100的作用表面102。視需要，可提供機械回縮裝置(圖中未示)，其增大致動磁體26之所有磁體群組24與作用表面102的距離。此回縮裝置可例如在輸送裝置10停止時自動地啟動，使得在停止時自作用表面102顯現的磁場經安全地限制。因此，例如，作用表面102前方之安全處置為可能的，且更易於移除黏附鐵磁性粒子。
定子100可例如在工作台模式(運輸本體200在作用表面102上方浮動)、壁模式(運輸本體200緊接於作用表面102浮動)或在天花板模式(運輸本體200在作用表面102下方浮動)中相對於重力在任何方向上操作。又，原則上，整個系統可在加速參考系統中或在失重條件下操作。
較佳地，定子100在構造上為模組化的，使得若干相同及/或不同定子模組可易於緊接於彼此地配置，較佳無縫((圖2D)地配置。定子模組較佳裝備有資料連接件124，例如裝備有通信通道，使得關於定子100之狀態及其上之運輸本體200的資訊可較佳即時地傳輸。
運輸本體200可較佳地自一個定子模組自由地滑動至另一定子模組。因此，較佳地，運輸本體200之工作範圍可按需要延伸。此外，每一模組較佳地具有用於能量供應源126之界面及用於耦接至其他定子模組且用於系統中之簡單整合的機械界面。
定子100之磁場較佳地藉由磁體群組24之初始表面或平坦配置產生。磁體群組24之配置較佳地形成磁體群組24之規則正方形圖案，但然而其他常規或不規則配置有可能。
圖8A至圖8E展示磁體群組24或致動磁體26之例示性配置。舉例而言，圖8A展示呈矩形詳言之正方形圖案之磁體群組24的配置。圖8B展示呈六邊形圖案之磁體群組24的配置。圖8C展示呈矩形圖案之不同磁體群組24的例示性配置。舉例而言，磁體群組在其磁偶極力矩上不同。此外，磁體群組中之一些可具有快速或緩慢旋轉，將經由不同齒輪機構連接至驅動器，及/或藉由不同驅動器操作。根據圖8A至圖8C之配置在旋轉軸線意欲實質上垂於配置平面定位之情況下為特別有利的。此外，圖8D及圖8E展示磁體群組經由驅動軸28連接至驅動器的配置，其中驅動軸實質上平行於作用表面102延伸。根據圖8D中之配置，驅動軸28平行延伸，而根據圖8E中之配置，其至少大約徑向或以圓形樣式運轉。
根據一較佳實施例，致動磁體26藉由單一磁體形成，如圖9A及圖9B中所展示，替代地藉由磁體群組24中之若干磁體的配置形成，其中磁體較佳地機械緊固地連接在一起，如圖9C及圖9D所展示。替代地，致動磁體26可藉 由具有若干不同磁化區的磁體群組24形成。較佳地，磁體群組24形成在作用表面之方向上定向的海爾貝克陣列(參見圖9C及圖9D)。此給予如下優勢：通量密度在作用表面102之方向上增大，且在所有其他方向上減小，詳言之在鄰近磁體群組24的方向上減小。展示於圖9A至圖9D中之致動磁體26或磁體群組24連接至驅動軸28，使得驅動器之旋轉軸線垂直於作用表面102。角度α此處指明驅動軸28或致動磁體26或磁體群組24之致動角。
圖9E及圖9F展示如下配置：致動磁體26或磁體群組24連接至各別驅動軸28，使得驅動軸28實質上平行於作用表面102延伸。因此，在此類配置中，致動磁體26或磁體群組24圍繞X軸902旋轉。
圖9G以圖解方式展示根據一較佳實施例之在定子100中具有呈正方形圖案之6×6磁體群組24的配置，其中磁體群組24各自組態為海爾貝克陣列。圖9H展示個別磁體群組24之詳述描述，該磁體群組詳言之具有根據此磁體群組24之一個較佳實施例之典型維度。
磁體群組24較佳地在定子100中個別地可調整，亦即，其位置及/或定向可發生變化。較佳地，其可執行線性移動及/或旋轉及/或疊置移動。較佳地，旋轉圍繞驅動軸28之結構上緊固地預定義之旋轉軸線執行。為了藉由旋轉達成磁場之有效改變，磁體群組24之佔優勢偶極向量較佳地垂直於驅動軸28的旋轉軸線而定向。磁體群組24之旋轉軸線可相對於作用表面102不同地定向。較佳地，其垂直及/或平行於作用表面102定向。鄰近磁體群組24之間的距離經選擇，使得磁體群組24上藉由其磁性相互作用引起的扭矩相比於藉由運輸本體200引起的典型扭矩為低的。
對於磁體群組24之定位及定向，使用致動元件114，其可較佳地執行線性移動及/或旋轉及/或疊置移動。致動元件114較佳地移動至少一個磁體群組24。較佳地，使用致動元件114，其可覆蓋360°之角度範圍且較佳地能夠執 行環形旋轉。此情形對於運輸本體200之許多移動為有利的。
圖10A及圖10B以示意性描繪展示致動元件114之較佳實施例。較佳地，此等致動元件具有一驅動器，該驅動器包含例如馬達34，諸如電馬達，其視需要經由齒輪機構32及驅動軸28機械連接或耦接至致動磁體26或磁體群組24。較佳地，致動元件114具有用於判定致動角α之感測器30，且視需要具有控制器(圖中未示)，該控制器可較佳快速且精準地設定或調整致動角α為預定義標稱位置。
舉例而言，致動元件114具有電馬達，其中至少一個磁體群組24安裝於其軸上。感測器30量測驅動軸之旋轉角α，具有可選下游驅動器放大器之PID控制器較佳地致動馬達34。為了增大扭矩或旋轉速度，齒輪機構32可設置於馬達34與驅動軸28之間。齒輪機構32可例如自我禁止，使得馬達34不需要供應有電力用於在恆定角度位置維持扭矩。
具有呈規則圖案之相同磁體群組24的展示於圖8A至圖8E中之例示性平坦配置較佳地經組態，使得磁體群組24中之每一者可藉由獨立致動元件114驅動或移動。此處例如，展示於圖8C中之大型及小型磁體群組24可藉由不同致動元件114驅動，其中例如大型磁體群組24藉由具有高扭矩且高慣性(例如，運用齒輪)之致動元件114致動，而小型磁體群組24藉由具有較低扭矩及較低慣性的致動元件114致動。圖8D展示驅動軸28平行於作用表面102延伸且較佳地每一驅動軸28驅動若干磁體群組24的例示性配置。
具有若干驅動器之致動元件114可較佳地影響磁體群組24的若干自由度。舉例而言，統一可旋轉地安裝於兩個空間方向上的磁體群組24可藉由兩個致動元件114在兩個不同空間方向上旋轉。
替代電馬達，其他驅動系統亦可用於例如抬升磁體或壓電驅動器中。
為了達成高動態，可有利的是在低慣性力矩情況下圍繞主要慣性軸線中的一者旋轉磁體群組24。旋轉軸線較佳地穿過各別磁體群組24之矩心運轉，以便避免定子100因為不平衡的振動。為了補償機械驅動器之慣性，例如額外線圈(參見圖7C及圖7D)可配置於作用表面102下方；該等線圈例如能夠施加相對小的校正力及/或力矩於具有高動態的運輸本體200上。定子100之作用場或懸浮場14或磁場接著由致動磁體磁場及線圈場之疊置產生，其中儘管線圈場可實際上為顯著較弱的，但其可更快速地發生變化。
由於驅動器及驅動放大器在操作中可加熱，因此可提供冷卻裝置，該冷卻裝置例如藉由經由冷卻本體之熱耗散或定子100中之通風系統及合適通風通道(參見例如圖7B)冷卻驅動器及/或驅動放大器。
圖10C以方塊圖展示致動元件114之例示性功能原理。此處，例如，各別磁體群組24之標稱位置1001經傳輸至控制器1002。經由驅動器放大器1003，驅動器1004可接著經致動，使得磁體群組24因此在一些狀況下經由齒輪機構1005致動。磁體群組24之實際角位置或實際位置1007可經由對應感測器1006判定且又供應至位置控制器，使得控制迴路產生，磁體群組藉助於該控制迴路可儘可能精準地定位及/或定向。
根據另一較佳實施例，輸送裝置包含位置判定單元。此較佳地經組態，使得至少一個運輸本體200相對於定子100之作用表面的位置及/或定向可較佳地以環形樣式尤佳地在高頻且低潛時時間情況下予以偵測。較佳地，運輸本體200之所有自由度予以偵測。量測值可例如構成用於控制運輸本體之位置的基礎。圖11展示包含運輸本體位置判定元件116之位置判定單元的較佳實施例。舉例而言，運輸本體位置判定元件116可經組態為電路板，該電路板較佳地具有用於磁體群組24或致動磁體26之凹座及/或裝備有感測器132，其中感測器132較佳地形成為磁場感測器。
位置判定單元可至少部分整合於定子100中或與定子100實體分離地安設，且將位置資料傳輸至定子控制器。然而較佳地，位置判定單元整合於中定子100中，藉此較佳地對定子100之恆定維度參看可被保證，及/或整個系統之處置可得以簡化。整合於定子100中可例如高效利用現有安設空間，此係由於位置判定在運輸本體200之面向定子100的側上發生，且因此較佳地位置判定並非藉由運輸產品阻礙或偽造。
較佳地，磁場感測器及/或電容感測器及/或光學感測器用作感測器132。感測器較佳以規則圖案形式配置於作用表面102下方。舉例而言，霍爾感測器可偵測運輸本體200中在若干地點及/或不同空間方向上的磁場。較佳地，所有感測器信號被傳輸至電腦系統以供評估。此處，舉例而言，藉助於演算法，運輸本體200之實際位置可自感測器信號以及運輸本體200及定子100中磁體配置的模型化描述而判定出。
為了減小或消除定子100中之磁場對運輸本體200之位置判定的影響，感測器132較佳地儘可能遠離定子100之磁體群組24而安裝。此外，可提供磁性掩蔽裝置，其減弱磁體群組24對組態為磁場感測器之感測器132的影響。舉例而言，在運輸本體不存在之單一自動校準程序中，來自所有感測器132之感測器信號可依據每一個別磁體群組24之位置而量測，其中量測值可永久地儲存於作為校正表之電腦系統的記憶體中。在操作中，例如，依據當前位置，原始感測器值可藉由儲存於校正表中之所有磁體群組的誤差量在每一量測之後校正。
根據另一較佳實施例，定子100中之操作界面提供用於裝置及/或用於操作及/或服務及/或維護的基本操作及顯示元件。舉例而言，開/關切換、重設按鈕及用於顯示定子100之操作或故障狀態的信號燈可存在。更複雜之設立功能較佳地自較高層級電腦系統可存取，該電腦系統例如經由通信介面連接至 定子100。
較佳地，具有至少一個電腦系統之電子控制系統偵測感測器信號，與較高層級系統、使用者介面且在一些狀況下與其他定子及系統組件通信，且致動該等致動元件。
較佳地，電腦系統整合於每一定子100中或每一定子模組中。當使用若干定子100或定子模組時，其電腦系統可例如運用匯流排系統經網路連接，其拓樸可以靈活樣式延伸。圖12展示包含以下元件之例示性控制系統圖式：
2001：較高層級系統之控制系統
2002：輸送裝置之中心控制系統
2003：使用者介面
2004：定子1之模組控制系統
2005：定子2之模組控制系統
2006：定子3之模組控制系統
2007：定子4之模組控制系統
2008：定子5之模組控制系統
2009：定子6之模組控制系統
匯流排系統能夠在無潛時情況下在短時間內傳輸大量資料量。匯流排系統可以電方式、光學方式及/或電感方式傳輸資料。舉例而言，鄰近定子100或定子模組可具有其交換狀態資訊經由的光學傳輸器及接收器。其他電腦系統可整合於匯流排系統中。
根據一較佳實施例，用於操作輸送裝置10之方法可以演算法之形式在至少一個電腦系統上實施。若干定子100之群組可被視為功能單元，使得運輸本體200經控制而無關於其定位於僅一個定子100或若干定子100之影響區中。對此，電腦系統較佳在共同時間基礎上同步。
至少一個電腦系統較佳地提供對於每一定子100及若干定子100之群組的設立及/或安全操作及/或服務及維護必要的所有功能。舉例而言，整合式自診斷功能永久地監視校正功能，使得故障可立即經偵測並報告及/或採取取代措施，且系統可在必要時自動地傳送至安全緊急事件固持。
輸送裝置10此處包含至少一個定子100或至少一個定子模組及至少一個運輸本體200。較佳地，存在針對適應於目標應用可受到影響之許多組態參數，例如，定子100的對於運輸產品之大小或重量按比例調整之尺寸、驅動器之最大扭矩及/或旋轉速度及/或慣性力矩、定子100或運輸本體200中致動磁體及靜止磁體之強度及/或配置，及控制參數。
定子100中磁體群組24的配置較佳匹配至運輸本體200中磁體群組24的配置，使得具有f個自由度之運輸本體200在其工作空間之每一點處可受至少f個磁體群組24的力及力矩影響。詳言之，磁體配置經設計，使得不存在奇點，亦即，不存在此條件並不被滿足之工作空間中之單數區。定子及運輸本體中磁體配置的例示性配對係如下：
-如圖8A中之定子及如圖4F之運輸本體，其中γ/λ=1/3。
-圖8A之定子及圖4G之運輸本體，其中γ/λ=1/3。
-如圖8A之定子及圖4I中之運輸本體，其中γ/λ=1/3。
-圖8A之定子及圖4M之運輸本體，其中γ/2r=1/3。
-圖8B之定子及如圖4F之運輸本體，其中γ/λ=1/3。
-如圖8E之定子及圖4I之運輸本體，其中R/r=1。
而λ指明靜止磁體22之海爾貝克陣列或者靜止磁體22之磁體群組24的週期長度，γ指明致動磁體26或磁體群組24(參見例如圖8A)之規則配置的週期長度。
較佳地，運輸本體200為超定的，亦即，其可同時受f個以上之磁 體群組24影響。所得冗餘具有諸如相對於失效之改良之安全性的優勢。若一個磁體群組24可不再實際上受到控制，則較佳地其他磁體群組24至少部分補償失效，使得運輸本體200之位置可得以維持，即使在可能具有約束情況下。對於力/力矩改變必要之位置改變可較佳地在若干磁體群組24上劃分。此較佳地減小針對每一個別磁體群組24的位置改變。因此，較佳地位置改變整體上可經更快速地施行，使得輸送裝置10之動態增大。較佳地，待應用於導引運輸本體200之力及力矩在若干磁體群組24上方劃分，使得具有較弱致動元件114之較小磁體群組24可用以達成相同效應。此可帶來輸送裝置10之能量消耗及成本的優勢。
輸送裝置可較佳地組合有習知轉移系統。舉例而言，運輸本體200可藉由輸送帶在大距離上運輸在於，例如，該運輸本體離開定子100，藉由輸送帶移動至新位置，且此處傳送至或置放於定子上。作為模組化整體系統之部分，具有不同容量的定子100可予以組合。舉例而言，可使用定子模組，其針對高速度及/或高精度及/或大的力經最佳化。此等模組較佳用於其被需要的區中。
如圖13A中所示之具有彎曲表面的定子亦可例如藉由呈如圖13B及圖13C中所展示之圓形設計的磁體群組之對應配置來實施，其具有外部或內部引導運輸本體200及各別內部或外部定子100。舉例而言，此類輸送裝置對於用作機械軸承例如從而圍繞一軸可旋轉地安裝可為有利的。
為了節省能量，較佳地當無運輸本體200處於各別磁體群組24之包括區中時，致動元件114可在減小之電力或切斷情況下臨時操作。關於運輸本體200之逼近，致動元件較佳地經暫時地重新啟動。
定子100及運輸本體200之外表面可較佳地經組態，使得其適合於各別環境條件，例如，極端溫度要求、高清潔度要求、不存在粒子、不存在病菌、易於清潔、對侵略性材料之抵抗、危險區域中之用途、液體或氣態氛圍下的使用等。對此，例如，廣泛範圍之非磁性材料，諸如非鐵金屬、塑膠、鐵氟 龍、陶瓷、玻璃、橡膠、原木及更多材料的材料為可用的。
運輸本體200之群組可較佳地一起執行任務。舉例而言，同步地移動之若干運輸本體可攜載對於一個運輸本體200過重的大型負載。或者，若干運輸本體200例如經由被動並行運動學及接頭連接在一起，使得運動學可用作處置裝置。
並非所有自由度需要以懸浮樣式執行，而是實情為個別自由度可藉由機械導引件實施。
對於具有大型運輸區之懸浮系統能夠的經濟實施，定子100可較佳地組合有習知軸線系統或作為移動裝置的載具。
舉例而言，軸線系統或具有車輪之運輸載具在大型工作區中運輸定子100，而定子100自身可在小型工作區中以精準且浮動樣式定位運輸本體200。
視需要，中間位準(粒子障壁)存在於定子100與運輸本體200之間。運輸本體200可較佳地位於清潔區中，同時載具係在外部。平移移動功能主要藉由具有經典輪式驅動器之載具執行，且懸浮功能及精準定位藉由定子100與運輸本體200進行。
定子100及運輸本體200之作用原理可在其他較佳實施例中交換，使得定子100例如包含靜止磁體22之配置，且運輸本體200含有主動地可移動之致動磁體26。在例如此變型中，運輸本體200可攜載其自身之能量供應源38(例如，蓄電池、燃料電池、太陽能電池)或具有外部能量供應器(例如，經由纜線)。舉例而言，以此方式，用於固持晶圓36之晶圓固持器可在無輪子情況下藉由主動驅動器來移動在於，其包含具有致動磁體26之驅動器42，以便例如在附接至地板40且裝備有靜止磁體22的導軌或平面上行進(參見圖14)。
在上述輸送裝置10之基礎上，根據一較佳實施例之方法在下文予 以描述，至少一個運輸本體200之穩定磁性懸浮運用該方法來達成，然而本發明不約束於所解釋之方法。
至少一個運輸本體200在動態可變之磁場中經歷力及力矩，該動態可變磁場藉由致動磁體26及至少一個定子100之受控移動來產生。
為了描述至少一個運輸本體200之位置，使用笛卡爾座標系統900及920：每一運輸本體i具有具軸線(xi，yi，zi)及對運輸本體之靜止參考的座標系統920i；其原點位於例如運輸本體之磁體配置之理論質心中。
具有軸線(x,y，Z)之定子座標系統900具有對定子之靜止參考。其X軸及Y軸位於定子之作用表面中，而Z軸垂直地於作用表面且指向運輸本體之方向。具有索引i之運輸本體的位置藉由空間向量
Figure 108120231-A0305-02-0032-38
描述於定子座標系統中，
Figure 108120231-A0305-02-0032-39
指示運輸本體座標系統的原點。運輸本體i之角位置藉由向量
Figure 108120231-A0305-02-0032-40
表達，其三個分量給出分別藉由定子及運輸本體之座標系統的X、Y及Z軸圍封的角度。
此外，定子包含磁體群組之配置，其在至少一個維度上相對於該定子可個別地移動，且其位置可藉由致動元件改變。下文假設，磁體群組之旋轉位置或角位置為可變的，同時定子座標系統中之旋轉軸線為恆定的，且穿過磁體群組之質心。磁體群組k之實際旋轉位置為αk。控制系統預定義標稱角度αk，nom，其藉由致動元件之控制器快速且精準地實施，使得在短時間之後，αk=αk，nom。
根據較佳實施例，方法實施為控制單元中之程式，且以100至10,000Hz之頻率以環形樣式執行。如作為實例在圖15中所描繪貫穿的例示性迴路之功能步驟在下文描述。
3000a)判定運輸本體之實際位置及實際速度
磁場感測器、電容感測器及/或光學感測器在定子之作用表面下方以規則圖案配置。以下描述作為實例係基於霍爾感測器。每一霍爾感測器量 測正交方向上的三個磁場分量。原始感測器值藉由電腦與定子中所有磁體群組之角位置一起讀取。若其他定子鄰近，則此處同時判定之量測值經由資料匯流排傳輸至定子。整個讀取程序典型地花費0.1ms至1ms。
首先，來自每一感測器之量測值針對鄰近磁體群組之影響予以校正。鄰近磁體群組之場權重在初始化執行中針對每一感測器判定一次，且依據旋轉角度儲存於校正表中。校正表使用鄰近磁性群組之實際讀取旋轉角度來存取。鄰近磁體群組之場權重自所有原始感測器值減去。所得校正感測器值表示作用表面上方運輸本體磁體配置的通量密度。
接著，判定至少一個運輸本體之位置。對此，運輸本體之磁體配置之描述作為清單儲存於電腦記憶體中。清單含有所有致動磁體及/或磁體群組24之指示於運輸本體座標系統中之位置及偶極向量。使用此清單、每一磁偶極之場方程式及疊置原理，產生運輸本體之通量密度分佈的電腦模型。使用模型，可計算在定子感測器之針對預定義運輸本體位置的方位處預期到之通量密度向量。純量誤差函數判定所有運輸本體及磁體群組之所量測及模型化通量密度之誤差調適的尺寸。藉由模型中運輸本體之位置及角位置的反覆最佳化，誤差函數經最小化，亦即，經調適至真實量測資料。一旦無其他改進被達成及/或誤差降低至預定義誤差臨限值以下，反覆程序就結束。
至少一個運輸本體i之所得6D位置在模型之準確性的上下文中解譯為運輸本體i之運用空間向量
Figure 108120231-A0305-02-0033-28
及角向量
Figure 108120231-A0305-02-0033-29
的真實位置。藉由位置值之環形序列的數值差異，實際速度運用針對平直之速度向量
Figure 108120231-A0305-02-0033-30
及針對旋轉之角速度向量
Figure 108120231-A0305-02-0033-31
來計算。
3000b)判定運輸本體之標稱位置及標稱速度
較高層級系統之控制系統可依據6D標稱位置、標稱時間及/或標稱速度來判定至少一個運輸本體之所要移動軌道。軌道可由直線、圓環部分或 其他幾何基本元素組成。
控制系統在空間及時間上對移動軌道進行內插。對於空間內插，考慮各種內插方法，該等內插方法通常應用於機器人技術中：例如，線性、仿樣函數或多項式內插。對於時間內插，控制系統將空間內插軌道分解成支撐點。在每一循環中，對於每一運輸本體i，提供具有空間向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-32
及角向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-33
的標稱位置，且視情況具有針對平移之速度向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-34
及針對旋轉之角速度向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-35
的標稱速度，且將此等傳輸至軌道控制器。
3000c)軌道控制
軌道控制器確保運輸本體之實際位置快速且精準地遵循標稱位置。對此，軌道控制器計算所有6個維度上的控制偏差，亦即，標稱位置與實際位置之間的差，及/或標稱速度與實際速度之間的差。其使用此等作為控制演算法例如PID演算法的輸入變數，其針對待控制之每一維度分離地計算。作為輸入變數，對於每一運輸本體i，軌道控制器供應對於軌道之校正必要的標稱力向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-36
及標稱力矩向量
Figure 108120231-A0305-02-0034-37
。諸如放大率(P)、調整時間(I)及固持時間(D)的控制參數判定一次且緊固地儲存於控制系統中，或動態地適合於運輸本體之移動及負載狀態，諸如適合於其總質量或質量分佈，其可藉由觀測器或藉由觀測裝置(參見3000f))判定。
3000d)力/力矩控制
對於所有運輸本體，此程式部分自標稱力向量及標稱力矩向量判定所有磁體群組之標稱位置，其導致標稱力及力矩的產生。慮及所有磁體群組，該等磁體群組對待控制之運輸本體有影響。對此，力/力矩控制器使用定子及至少一個運輸本體中磁體配置的空間模型。模型能夠近似地計算在磁體群組之預定義位置處產生的力及力矩。模型含有運輸本體之磁體配置作為所有運輸本體磁體之位置及偶極向量的清單。模型亦含有每一磁體群組之磁體的清單。模型 首先用以計算所有磁體對之間的部分力及力矩，且自此部分力及力矩判定作用於每一運輸本體上的全部力及全部力矩。慮及所有影響以及可能例如相互施加於兩個運輸本體之間的力及力矩。
實質上，以下方程式用於計算。
磁偶極子
Figure 108120231-A0305-02-0035-1
在位點
Figure 108120231-A0305-02-0035-2
處的磁場
Figure 108120231-A0305-02-0035-3
：
Figure 108120231-A0305-02-0035-4
其中
Figure 108120231-A0305-02-0035-5
，其中μ0為恆定磁場。
作為磁場
Figure 108120231-A0305-02-0035-6
之疊置的磁場
Figure 108120231-A0305-02-0035-7
(疊置原理)
Figure 108120231-A0305-02-0035-8
其中n表示待疊置之場的數目。
磁偶極子
Figure 108120231-A0305-02-0035-9
在場
Figure 108120231-A0305-02-0035-10
中的力
Figure 108120231-A0305-02-0035-11
：
Figure 108120231-A0305-02-0035-12
作用於場
Figure 108120231-A0305-02-0035-13
中磁偶極
Figure 108120231-A0305-02-0035-14
的扭矩
Figure 108120231-A0305-02-0035-15
：
Figure 108120231-A0305-02-0035-16
來自作用於距矩心之距離
Figure 108120231-A0305-02-0035-17
處之力
Figure 108120231-A0305-02-0035-18
的額外扭矩
Figure 108120231-A0305-02-0035-19
，其中n表示力的數目：
Figure 108120231-A0305-02-0035-20
藉由包括所有致動元件及運輸本體之實際位置，模型用以計算當前作用於每一運輸本體i的實際力向量
Figure 108120231-A0305-02-0035-21
及實際力矩向量
Figure 108120231-A0305-02-0035-22
。所有運輸本體之實際力與標稱力及實際力矩與標稱力矩之間的誤差調整藉由純量誤差函數E評估：
Figure 108120231-A0305-02-0035-23
其中m表示運輸本體之數目，
Figure 108120231-A0305-02-0035-24
及
Figure 108120231-A0305-02-0035-25
分別表示實際力及實際力矩，
Figure 108120231-A0305-02-0035-26
及
Figure 108120231-A0305-02-0035-27
表示標稱力及標稱力矩，且F0及M0表示參考力及參考力矩。
E愈低，所有運輸本體之實際力與標稱力以及實際力矩與標稱力矩之間的相關愈好。誤差函數可藉由額外術語修改或擴展，使得促成積極有利的分佈圖。因此，整個系統之行為可例如針對最小率消耗、磁體群組之最小位置改變或者涉及於位置改變中之磁體群組的最小數目而最佳化。
在反覆最佳化程序中，模型中磁體群組的位置在階段間改變。在每一步驟之後，力及力矩在模型中予以重新計算且用誤差函數予以評估。導致誤差E減小之步驟經保持且形成下一反覆步驟的基礎。誤差一旦不可被進一步減小及/或下降至預定義之臨限值以下，及/或經執行了預定義數目個反覆步驟，最佳化循環便結束。
3000e)標稱位置至致動元件之輸出
已在模型中最佳化之磁體群組的位置作為標稱規範輸出至致動元件。
3000f)用於判定移動參數(可選)之觀測器
描述為「觀測器」之演算法偵測磁體群組及運輸本體之實際位置的時間演化(temporal development)作為對觀測器之反應。其使用資訊以使用擴展模型來判定運輸本體之移動參數。擴展模型係基於上述力/力矩模型，且藉由其他實體變數來補充，該等實體變數描述運輸本體之移動狀態，例如，質量、減幅、重心、重力向量、慣性感測器或慣性加速度。
此外，模型計算運輸本體在平移及旋轉兩者中的移動方程式。
由於移動參數並非先驗已知的，因此其值經初始地估計且接著藉由模型之反覆計算中的目標參數變化而最佳化。為了評估誤差調適，應用純量誤差函數，其在最後量測之週期內評估模型化軌道曲面與量測軌道曲面的偏差。
此導致針對上述移動參數之近似值。此等可用於控制系統內以使諸如P、I、D之控制參數最佳化。舉例而言，運輸本體在負載情況下之總重量m 可經判定且作為計算標稱力及力矩中的因數用於軌道控制器中，使得為了使重量加倍，經加倍之力及力矩輸出至運輸本體，且因此加速度a=F/m獨立於質量。移動參數亦可作為狀態資訊輸出至較高層級系統(圖16)，使得此可例如自運輸本體之重量推斷出負載狀態且藉此實施程序控制。舉例而言，輸送裝置可具有用於偵測運輸本體之負載狀態或總質量的負載偵測裝置。在另一實例中，重心例如在晃動流體之運輸時的移位可經主動調整，使得具有流體之開放容器可快速且可靠地運輸。
以下有利實施例中之一或多者亦可有助於改進此處所提議之輸送裝置(10)，根據該輸送裝置，詳言之：‧至少兩個靜止磁體(22)包含-兩個靜止磁體(22)，其按一直線配置，其中該等靜止磁體中之至少一者的一偶極矩並非平行於此直線而定向，或-三個或三個以上靜止磁體(22)；‧至少兩個靜止磁體(22)及/或若干致動磁體(26)各自包含至少一個永久磁體；‧該至少一個永久磁體具有至少0.05 T、較佳地至少0.1 T、更佳地至少0.25 T、甚至更佳地至少0.5 T、尤佳地至少0.75 T、最佳地至少1 T的磁通量密度；‧若干致動磁體(26)各自包含一磁體群組(24)，及/或至少兩個靜止磁體(22)配置成一磁體群組(24)，其中較佳地每一致動磁體(26)包含一磁體群組(24)，及/或其中較佳地每一致動磁體(26)包含一磁體群組(24)，且其中每一磁體群組包含複數個永久磁體及/或磁性線圈；‧至少一個磁體群組(24)之複數個永久磁體及/或磁性線圈根據至少一個海爾貝克陣列配置，使得該磁體群組(24)之一磁場較佳地延伸朝向輸送表面；‧致動元件(114)包含一驅動元件，其經組態而以受控樣式改變已連接致動 磁體(26)的位置及/或定向；及/或其中致動元件(114)包含一感測器元件，其建構成判定連接至致動元件(114)之致動磁體(26)的位置及/或定向；及/或其中致動元件(114)包含控制元件，該控制元件建構成藉助於驅動器將連接至致動元件(114)之致動磁體(26)的位置及/或定向調整至預定義值；‧輸送裝置(10)此外包含位置判定單元，其建構成判定至少一個運輸本體(200)相對於定子(100)的相對位置及/或定向；‧輸送裝置(10)此外包含移動裝置，其建構成相對於環境移動定子；‧運輸本體(200)或定子包含能量儲存器；‧至少一個運輸本體(200)具有至少一個內部自由度，且較佳地總計六個以上自由度；‧定子(100)及/或運輸本體(200)此外包含覆蓋層(112a)，其建構成限制作用於定子(100)與運輸本體(200)之間的力；‧靜止磁體(22)配置為二維海爾貝克陣列，且詳言之具有矩形及/或正方形及/或六邊形及/或環形配置；‧運輸本體(200)中之靜止磁體(22)至少部分以圓柱體及/或球體形式配置，使得其相較於具有靜止磁體(22)之平坦配置的運輸本體(200)具有較大樞轉範圍；‧至少一個運輸本體(200)具有識別元件，且輸送裝置(10)建構成自識別元件識別出運輸本體(200)；‧定子包含較佳地彼此鄰近配置之若干定子模組；‧致動元件(114)經組態為旋轉致動器，其詳言之具有垂直於定子(100)之作用表面(102)的旋轉軸線；‧定子(100)具有彎曲作用表面(102)；‧致動磁體(26)之自由度的數目至少大達至少一個運輸本體(200)以受控 樣式輸送及/或定位沿著的自由度之數目；‧輸送裝置(10)經組態為非接觸式機械軸承；‧輸送裝置建構成在電力供應器中斷情況下將至少一個運輸本體固定至至少一個定子；‧輸送裝置(10)此外包含一負載偵測裝置，其建構成判定運輸本體之負載狀態；‧輸送裝置(10)此外包含觀測裝置，其建構成判定運輸本體(200)相對於定子(100)的質心及/或重心。
以下有利實施例中之一或多者可有助於改進此處所提議之方法，根據該方法，詳言之：‧致動元件(114)經致動，使得至少一個運輸本體(200)相對於定子(100)採用所要位置及/或定向；‧所要位置及/或定向具有六個自由度；‧致動該等致動元件(114)使得至少一個運輸本體(200)採用相對於定子(100)之所要位置及/或定向的步驟包含；-判定運輸本體(200)相對於定子(100)之實際位置及/或實際速度；-判定運輸本體(200)相對於定子(100)的標稱位置及/或標稱速度；-建立實際位置及/或實際速度與標稱位置及/或標稱速度的偏差；-計算致動磁體(26)中之至少一些的標稱設定，使得各別致動磁體(26)針對減小運輸本體之標稱位置及/或標稱速度與實際位置及/或實際速度之偏差起作用；-藉助於致動元件(114)配置各別致動磁體(26)，使得各別致動磁體採用標稱設定。
10:輸送裝置
35:輸送表面
36:晶圓
37:處理台
39:狹縫閥
200:運輸本體

Claims (8)

  1. 一種用於輸送至少一個晶圓(36)之輸送裝置(10)，該輸送裝置(10)包含一定子(100)和至少一個運輸本體(200)，其中該運輸本體(200)建構成至少攜載或固持至少一個晶圓(36)，且其中該輸送裝置(10)建構成在一輸送表面(35)上以一受控浮動樣式至少二維地移動該至少一個運輸本體(200)，其中：該定子(100)包含若干可移動配置之致動磁體(26)，該致動磁體(26)中之每一者經由一致動元件(114)連接至該定子(100)，其中該致動元件(114)經組態而以受控樣式改變該等已連接致動磁體(26)相對於該定子(100)的一位置及/或一定向；該至少一個運輸本體(200)包含至少兩個靜止磁體(22)，其連接至該運輸本體(200)，使得該至少兩個靜止磁體(22)相對於該運輸本體(200)不可移動；該定子(100)及該至少一個運輸本體(200)藉助於該至少兩個靜止磁體(22)及該若干致動磁體(26)磁性耦合；且該輸送裝置(10)建構成藉由該若干致動磁體(26)藉助於該等致動元件(114)之受控定位及/或定向相對於該定子(100)輸送該至少一個運輸本體(200)。
  2. 如請求項1所述之輸送裝置(10)，其具有一定子(100)，其中該輸送裝置(10)經組態而以受控樣式相對於該定子(100)輸送該至少一個運輸本體(200)，其中：該至少一個運輸本體(200)包含若干可移動配置之致動磁體(26)，該等致動磁體中之每一者經由一致動元件(114)連接至該運輸本體(200)，其中該致動元件(114)經組態而以受控樣式改變該已連接致動磁體(26)相對於該運 輸本體(200)的一位置及/或一定向；該定子(100)包含至少兩個靜止磁體(22)，其連接至該定子(100)，使得該至少兩個靜止磁體(22)相對於該定子(100)不可移動；該至少一個運輸本體(200)及該定子(100)藉助於該至少兩個靜止磁體(22)及該若干致動磁體(26)磁性耦合；且該輸送裝置(10)建構成藉由該若干致動磁體(26)藉助於該等致動元件(114)之受控定位及/或定向相對於該定子(100)輸送該至少一個運輸本體(200)。
  3. 如請求項1或2所述之輸送裝置(10)，其中該若干致動磁體(26)及/或該至少兩個靜止磁體(22)面向該輸送表面(35)配置，其中該輸送裝置(10)建構成以受控樣式相對於該該定子(100)沿著該輸送表面(35)輸送該至少一個運輸本體(200)。
  4. 如請求項1或2所述之輸送裝置(10)，其中該輸送裝置(10)建構成在該輸送表面(35)上沿著不同輸送路徑輸送至少兩個運輸本體(200)，尤其使得一個運輸本體(200)可追越另一運輸本體(200)。
  5. 如請求項1或2所述之輸送裝置(10)，其中該輸送裝置(10)建構成沿著該輸送表面(35)上之具有至少兩個軌道的一輸送路徑輸送至少兩個運輸本體(200)。
  6. 如請求項1或2所述之輸送裝置(10)，其中該輸送裝置(10)建構成輸送該至少一個運輸本體(200)至少直至一處理台(37)，或在一處理台(37)中定位或對準藉助於該運輸本體(200)運輸之該晶圓(36)。
  7. 如請求項1或2所述之輸送裝置(10)，其中該輸送裝置(10)建構成藉助於該若干致動磁體(26)及該至少兩個靜止磁體(22)使該至少一個運輸本體(200)相對於該定子(100)懸浮。
  8. 一種用於操作一如請求項1至7中任一項所述之輸送裝置(10)的方法，其中該至少一個運輸本體(200)在該輸送表面(35)上自由地移動至一所要位置及/或定向。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI732285B (zh) * 2015-01-23 2021-07-01 美商應用材料股份有限公司 半導體處理設備
JP7370233B2 (ja) * 2019-11-29 2023-10-27 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理システム
EP3883124A1 (de) * 2020-03-19 2021-09-22 Beckhoff Automation GmbH Verfahren zum steuern eines planarantriebssystems und planarantriebssystem
DE102020204749A1 (de) 2020-04-15 2021-10-21 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Beförderungsvorrichtung
DE102020205002A1 (de) 2020-04-21 2021-10-21 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Transportsystem
DE102020212223A1 (de) 2020-09-29 2022-03-31 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Berührungslose Beförderungsvorrichtung
DE102020212642A1 (de) 2020-10-07 2022-04-07 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Berührungslose Beförderungsvorrichtung
JP2022107906A (ja) * 2021-01-12 2022-07-25 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置、基板搬送方法、および基板処理システム
JP2022113548A (ja) * 2021-01-25 2022-08-04 東京エレクトロン株式会社 基板の搬送を行う装置、基板を処理するシステム及び基板を処理する方法
JP2022133867A (ja) * 2021-03-02 2022-09-14 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理システム
DE102021202915A1 (de) 2021-03-25 2022-09-29 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Berührungslose Beförderungsvorrichtung
CN113707585A (zh) * 2021-08-23 2021-11-26 上海引万光电科技有限公司 一种磁悬浮式衬底传送腔及传送方法
US20230085667A1 (en) * 2021-09-22 2023-03-23 Applied Materials, Inc. Substrate transfer systems and methods of use thereof
DE102021211426A1 (de) 2021-10-11 2023-04-13 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Anlage zur Durchführung von Arbeitsprozessen an Werkstücken oder dgl.
DE102021127039A1 (de) * 2021-10-19 2023-04-20 Beckhoff Automation Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Planarantriebssystems und Planarantriebssystem

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201351551A (zh) * 2012-06-01 2013-12-16 Taiwan Semiconductor Mfg 用於半導體製程區之晶圓處理系統以及在半導體設備間輸送晶圓之裝置及方法
US20160375534A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Supporting unit and substrate-treating apparatus including the same

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6036222A (ja) * 1983-08-05 1985-02-25 Irie Koken Kk 高真空中の物品搬送装置
US6206176B1 (en) 1998-05-20 2001-03-27 Applied Komatsu Technology, Inc. Substrate transfer shuttle having a magnetic drive
DE19960321A1 (de) 1999-12-15 2001-07-05 Daimlerchrysler Aerospace Ag Vorrichtung zur elektromagnetischen Levitation von Objekten
US6684794B2 (en) * 2002-05-07 2004-02-03 Magtube, Inc. Magnetically levitated transportation system and method
US7224252B2 (en) * 2003-06-06 2007-05-29 Magno Corporation Adaptive magnetic levitation apparatus and method
US8492934B2 (en) * 2009-03-23 2013-07-23 Nikon Corporation Coil variations for an oval coil planar motor
JP2012019618A (ja) * 2010-07-08 2012-01-26 Atomu Giken:Kk 磁気浮上移動装置
DE102011079247B4 (de) * 2011-04-28 2015-07-02 Rofin-Baasel Lasertech Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Transportieren eines dünnen, flächenhaft ausgedehnten Werkstückes
AT511407B1 (de) * 2011-05-11 2014-02-15 Franz Haas Waffel Und Keksanlagen Ind Gmbh Vorrichtung und verfahren zur herstellung von waffelblöcken
US9202719B2 (en) 2011-10-27 2015-12-01 The University Of British Columbia Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
DE102014003882B4 (de) * 2014-03-19 2017-07-13 Applied Materials, Inc. (N.D.Ges.D. Staates Delaware) Transportvorrichtung zum Bewegen und/oder Positionieren von Objekten
EP3152822B1 (en) * 2014-06-07 2019-08-07 The University Of British Columbia Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device
DE102014225171A1 (de) * 2014-12-08 2016-06-09 Robert Bosch Gmbh Sicherungssystem für eine Anordnung zum Bewegen von Transportkörpern
DE102016203854A1 (de) * 2016-03-09 2017-09-14 Festo Ag & Co. Kg Fördereinrichtung
DE102016224951A1 (de) 2016-12-14 2018-06-14 Robert Bosch Gmbh Beförderungsvorrichtung mit einem Stator zur kontrollierten Beförderung eines Transportkörpers relativ zum Stator

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201351551A (zh) * 2012-06-01 2013-12-16 Taiwan Semiconductor Mfg 用於半導體製程區之晶圓處理系統以及在半導體設備間輸送晶圓之裝置及方法
US20160375534A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Supporting unit and substrate-treating apparatus including the same

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Publication number Publication date
US11430683B2 (en) 2022-08-30
CN112236851A (zh) 2021-01-15
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