TWI788803B - 導光板及背光模組 - Google Patents
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Abstract
一種導光板包括基板、多個光學微結構以及多個第一支撐結構。基板具有入光面以及連接入光面且彼此相對的出光面與底面。出光面具有有效出光區及圍繞有效出光區的無效區。這些光學微結構分散地設置於基板的底面,且重疊於有效出光區。這些第一支撐結構設置於基板的底面,且重疊於無效區。一種採用上述導光板的背光模組亦被提出。
Description
本發明是有關於一種光學元件及光學裝置,且特別是有關於一種導光板及背光模組。
隨著平面顯示技術的快速發展,液晶顯示器已被廣泛使用於日常生活當中。由於液晶顯示面板為非自發光型顯示面板,因此其背面通常都設有背光模組,以提供液晶顯示面板所需的面光源。依據光源的配置位置,背光模組可分為直下式(direct type)背光模組與側入式(side incident type)背光模組,其中側入式背光模組是利用導光板來導引配置於導光板一側的光源所發出的光,以形成上述的面光源。
為了提升光源的光能利用率,此類背光模組除了在導光板的出光面的一側設置光學膜片(例如光學增亮膜、擴散片或稜鏡片)之外,還會在導光板與出光面相對的底面的一側設置反射片。由於此類背光模組在組立的過程中,外來異物(例如落塵、導光板的拋光屑、膠框屑或毛屑)容易進入導光板的底面與反射片之間的空隙。隨著背光模組的薄型化,這些外來異物容易受到外力的擠壓或劇烈的震動而刮傷或碰傷導光板的底面並產生亮白點的問題,且這些亮白點是無法被修復的。
“先前技術”段落只是用來幫助了解本發明內容,因此在“先前技術”段落所揭露的內容可能包含一些沒有構成所屬技術領域中具有通常知識者所知道的習知技術。在“先前技術”段落所揭露的內容,不代表該內容或者本發明一個或多個實施例所要解決的問題,在本發明申請前已被所屬技術領域中具有通常知識者所知曉或認知。
本發明提供一種導光板,其出光品質較佳。
本發明提供一種背光模組,其生產良率較高。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
為達上述的一或部分或全部目的或是其他目的,本發明的一實施例提出一種導光板。導光板包括基板、多個光學微結構以及多個第一支撐結構。基板具有入光面以及連接入光面且彼此相對的出光面與底面。出光面具有有效出光區及圍繞有效出光區的無效區。這些光學微結構分散地設置於基板的底面,且重疊於有效出光區。這些第一支撐結構設置於基板的底面,且重疊於無效區。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的基板還具有第一側面、第二側面與第三側面。第一側面與第二側面彼此相對且連接入光面。第三側面與入光面彼此相對。多個第一支撐結構包括兩第一側支撐結構。這兩第一側支撐結構分別位於底面鄰近第一側面的邊緣與鄰近第二側面的邊緣,且其延伸方向垂直於入光面。各個第一側支撐結構的長度等於第一側面的長度或第二側面的長度。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構更包括第一後支撐結構。第一後支撐結構的延伸方向平行於入光面。第一後支撐結構連接兩第一側支撐結構,且位於底面鄰近第三側面的邊緣。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度大於多個光學微結構沿著底面的法線方向的厚度。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度與基板沿著底面的法線方向的厚度的百分比值介於4%至20%之間。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度從較靠近有效出光區的一側往底面的邊緣遞增。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構的橫截面輪廓具有背離底面的弧線段。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的多個第一支撐結構在垂直這些第一支撐結構的延伸方向的一方向上的寬度小於出光面的無效區在所述方向上的寬度。
在本發明的一實施例中,上述的導光板更包括至少一第二支撐結構,設置於基板的底面上,且位於多個第一支撐結構之間。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構的延伸方向垂直於入光面。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的第二支撐結構具有第一部分與第二部分。重疊於無效區的第一部分連接重疊於有效出光區的第二部分而具有轉折點。第一部分在平行於入光面的一方向上的寬度朝遠離轉折點的方向遞增,且第二部分在所述方向上的寬度朝遠離轉折點的方向遞增。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構的延伸方向平行於入光面。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構包括至少一第二縱支撐結構與至少一第二橫支撐結構。至少一第二縱支撐結構的延伸方向垂直於入光面。至少一第二橫支撐結構的延伸方向平行於入光面。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構為多個第二支撐結構。這些第二支撐結構依一距離間隔排列,且所述距離大於5毫米。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構沿著底面的法線方向的厚度小於多個第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度且大於多個光學微結構沿著底面的法線方向的厚度。
在本發明的一實施例中,上述的導光板的至少一第二支撐結構沿著底面的法線方向的厚度與基板沿著底面的法線方向的厚度的百分比值介於2%至10%之間。
為達上述之一或部分或全部目的或是其他目的,本發明的一實施例提出一種背光模組。背光模組包括導光板、光源以及反射片。導光板包括基板、多個光學微結構及多個第一支撐結構。基板具有入光面以及連接入光面且彼此相對的出光面與底面。出光面具有有效出光區以及圍繞有效出光區的無效區。這些光學微結構分散地設置於基板的底面,且重疊於有效出光區。這些第一支撐結構設置於基板的底面上,且重疊於無效區。光源設置在導光板的入光面的一側。反射片設置在導光板的底面的一側。導光板透過第一支撐結構抵靠在反射片上。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的基板還具有第一側面、第二側面與第三側面。第一側面與第二側面彼此相對且連接入光面,且第三側面與入光面彼此相對。多個第一支撐結構包括兩第一側支撐結構,這兩第一側支撐結構分別位於底面鄰近第一側面的邊緣與鄰近第二側面的邊緣。這兩第一側支撐結構的延伸方向垂直於入光面。各個第一側支撐結構的長度等於第一側面的長度或第二側面的長度。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的多個第一支撐結構更包括第一後支撐結構。第一後支撐結構的延伸方向平行於入光面。第一後支撐結構連接兩第一側支撐結構,且位於底面鄰近第三側面的邊緣。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度大於多個光學微結構沿著底面的法線方向的厚度。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的多個第一支撐結構在垂直這些第一支撐結構的延伸方向的一方向上的寬度小於出光面的無效區在所述方向上的寬度。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的導光板更包括至少一第二支撐結構,設置於基板的底面上,且位於多個第一支撐結構之間。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的至少一第二支撐結構為多個第二支撐結構。這些第二支撐結構依一距離間隔排列,且所述距離大於5毫米。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的至少一第二支撐結構的延伸方向垂直於入光面,光源更包括多個發光元件,這些發光元件分別對應這些第二支撐結構之間的區域而設置。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組的至少一第二支撐結構沿著底面的法線方向的厚度小於多個第一支撐結構沿著底面的法線方向的厚度且大於多個光學微結構沿著底面的法線方向的厚度。
基於上述,在本發明的一實施例的背光模組中,導光板的底面上設有多個光學微結構與多個第一支撐結構。這些光學微結構位於導光板的有效出光區。透過在圍繞有效出光區的無效區內設置這些第一支撐結構,可有效阻絕外來物(例如粉塵、毛屑)進入導光板與反射片之間的空隙。另一方面,這些第一支撐結構在導光板的底面與反射片之間形成的額外空間,可降低外來物因外力擠壓或劇烈震動而磨傷導光板的風險,有助於提升背光模組的生產良率。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
有關本發明的前述及其他技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式的一較佳實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語,例如:上、下、左、右、前或後等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
圖1是本發明的第一實施例的背光模組的剖視示意圖。圖2是圖1的導光板的示意圖。圖3是圖1的背光模組的下視示意圖。圖4A至圖4D是本發明的另一些實施例的背光模組的剖視示意圖。特別說明的是,為清楚呈現及說明起見,圖2省略了圖1的光學微結構MS的繪示,且圖3省略了圖1的背框BF、膠框MF、前框FF及光學膜片180的繪示。
請參照圖1至圖3,背光模組10包括導光板100、光源LS以及反射片150。導光板100包括基板101、多個光學微結構MS及多個第一支撐結構110。基板101具有入光面101is以及連接入光面101is且彼此相對的出光面101es與底面101bs。光源LS設置在基板101的入光面101is的一側。反射片150設置在基板101的底面101bs的一側。
進一步而言,背光模組10還可包括背框BF、膠框MF以及前框FF,膠框MF設置於背框BF內,且具有容置空間S,導光板100、光源LS與反射片150設置在容置空間S中,且反射片150位於背框BF與基板101之間。此外,光源LS可包括多個發光元件LE,其中發光元件LE例如是發光二極體(light emitting diode,LED)元件或其它種類的發光元件。
具體而言,出光面101es具有有效出光區EA以及圍繞有效出光區EA的無效區IA。多個光學微結構MS分散地設置在基板101的底面101bs,並且重疊於有效出光區EA。詳細而言,這些光學微結構MS在出光面101es的法線方向(例如方向Z)上重疊於有效出光區EA。多個第一支撐結構110也設置在基板101的底面101bs,並且重疊於無效區IA。詳細而言,這些第一支撐結構110在出光面101es的法線方向上重疊於無效區IA。應注意的是,導光板100是經由這些第一支撐結構110抵靠在反射片150上。特別說明的是,此處的有效出光區EA可由前框FF的開口FFa在導光板100的出光面101es的正投影位置來定義,而出光面101es的有效出光區EA以外的區域則定義為無效區IA,但不以此為限。在其他未示出的實施例中,導光板100的有效出光區EA也可由顯示面板DP的顯示區(或透光區)在導光板100的出光面101es的正投影位置來定義。由於無效區IA出射的光線大致上會被前框FF所遮擋,因此,在視線方向(例如方向Z的反向)上,使用者並不容易察覺到導光板100位於無效區IA內的部分。
在本實施例中,導光板100的這些第一支撐結構110可包括兩個第一側支撐結構110S1、110S2與一個第一後支撐結構110B,但不以此為限。詳細而言,基板101還具有連接底面101bs的第一側面101s1、第二側面101s2以及第三側面101s3。第一側面101s1與第二側面101s2連接入光面101is,且彼此相對。第三側面101s3連接於第一側面101s1與第二側面101s2之間,並且與入光面101is彼此相對。兩個第一側支撐結構110S1、110S2分別位於底面101bs鄰近第一側面101s1與第二側面101s2的兩邊緣,且第一側支撐結構110S1、110S2在垂直於入光面101is的方向(例如方向Y)上延伸。第一後支撐結構110B位於底面101bs鄰近第三側面101s3的邊緣,且第一後支撐結構110B在平行於入光面101is的方向(例如方向X)上延伸。
特別注意的是,這些第一支撐結構110沿著底面101bs的法線方向(例如方向Z)的厚度H1大於多個光學微結構MS沿著底面101bs的法線方向的厚度h。也就是說,當導光板100抵靠在反射片150上時,第一支撐結構110的設置可在導光板100的底面101bs與反射片150之間形成額外的緩衝空間,以降低位在底面101bs上的光學微結構MS與反射片150發生碰撞的風險。舉例來說,這些第一支撐結構110的厚度H1與基板101沿著底面101bs的法線方向的厚度T的百分比值可介於4%至20%之間。
另一方面,本實施例的兩個第一側支撐結構110S1、110S2與第一後支撐結構110B彼此相接,並且在底面101bs上的垂直投影具有類U形的輪廓。此類U形輪廓的開口是朝向基板101的入光面101is(或光源LS)。更具體地說,這些第一支撐結構110、基板101的底面101bs及反射片150可定義出半封閉的空間,且此空間是經由朝向光源LS一側的開口與膠框MF的容置空間S相連通。據此,在背光模組10的組立過程中,可有效阻絕外來物(例如粉塵、毛屑)進入導光板100與反射片150之間的空隙(即前述的半封閉空間),從而降低亮白點發生的機率,有助於提升背光模組10的生產良率。
為了降低這些第一支撐結構110在視線方向(例如方向Z的反向)上的可視性(visibility),第一支撐結構110的設置位置可避開底面101bs鄰近入光面101is的邊緣。此外,各個第一支撐結構110(例如第一側支撐結構110S2)在垂直所述第一支撐結構110的延伸方向的方向(例如方向X)上的寬度(例如寬度W1)可小於所對應的出光面101es的無效區IA在垂直所述第一支撐結構110的延伸方向的方向上的寬度(例如寬度W2)。舉例來說,第一支撐結構110的上述寬度(通常指的是最大寬度)可以是1毫米,但不以此為限。從另一觀點來說,這些第一支撐結構110在底面101bs的法線方向上不重疊於有效出光區EA,且在出光面101es上的垂直投影面積要小於出光面101es的無效區IA的區域面積。
請參照圖1至圖3、圖4A及圖4B,在本實施例中,第一支撐結構110的橫截面(例如圖1的XZ平面)輪廓例如是矩形,但本發明不以此為限。在另一實施例中,背光模組10A的導光板100A的第一支撐結構110A的橫截面輪廓具有背離底面101bs的弧線段110Ac(如圖4A所示)。亦即,第一支撐結構110A用於抵靠反射片150的部分具有一弧面。據此,可避免反射片150被第一支撐結構110A刮傷。在又一實施例中,背光模組10B的導光板100B的第一支撐結構110D沿著底面101bs的法線方向的厚度從較靠近有效出光區EA的一側(即設有光學微結構MS的一側)往底面101bs的邊緣(或者是,基板101的第一側面101s1)遞增(如圖4B所示)。據此,可進一步降低第一支撐結構110D在視線方向(例如圖1的方向Z的反向)上的可視性。
再請參照圖1至圖3,進一步而言,導光板100更包括至少一第二支撐結構120,設置於基板101的底面101bs上,且位於多個第一支撐結構110之間。在本實施例中,導光板100的第二支撐結構120的數量以繪示為三個為例,這些第二支撐結構120在底面101bs的法線方向上重疊於出光面101es的有效出光區EA,且在垂直於入光面101is的方向(方向Y)上延伸。為了避免這些第二支撐結構120對背光模組10的光學表現與視覺品味產生影響,這些第二支撐結構120是以距離d間隔排列,且此距離d需大於5毫米。舉例來說,第二支撐結構120在垂直於第二支撐結構120的延伸方向的方向(例如方向X)上的寬度W3可介於20微米至80微米之間。
在本實施例中,各個第二支撐結構120沿著底面101bs的法線方向的厚度H2與基板101的厚度T的百分比值可介於2%至10%之間。據此,可有效降低這些第二支撐結構120在視線方向(例如方向Z的反向)上的可視性。另一方面,光源LS所包括的多個發光元件LE分別對應這些第二支撐結構120之間的區域R(繪示於圖3)而設置,亦即,這些第二支撐結構120在垂直入光面101is的方向上與這些發光元件LE錯開,從而降低這些第二支撐結構120在光源LS發出的光線照射下而發亮,有助於進一步降低其可視性。此外,第二支撐結構120之間的各區域R可分別對應不只一個發光元件LE,亦可對應例如兩個或三個發光元件LE(圖未示)。
特別注意的是,各個第二支撐結構120沿著底面101bs的法線方向的厚度H2小於第一支撐結構110的厚度H1,並且大於光學微結構MS的厚度h。因此,當導光板100的基板101受外力擠壓或自重下垂而朝向反射片150彎曲形變時,可為導光板100重疊於有效出光區EA的部分提供足夠的支撐力,以避免光學微結構MS因碰撞或摩擦反射片150而損傷。此外,還可降低導光板100與反射片150之間的外來物因外力擠壓或劇烈震動而磨傷導光板100的風險,有助於提升背光模組10的生產良率。
請參照圖1至圖3、圖4C及圖4D,在本實施例中,第二支撐結構120的橫截面(例如圖1的XZ平面)輪廓具有背離底面101bs的弧線段120c(標示於圖1),但本發明不以此為限。在另一實施例中,背光模組10C的導光板100C的第二支撐結構120A的橫截面輪廓可以是三角形(如圖4C所示)。在又一實施例中,背光模組10D的導光板100D的第二支撐結構120B的橫截面輪廓也可以是矩形(如圖4D所示)。
特別一提的是,本實施例的基板101、光學微結構MS、第一支撐結構110及第二支撐結構120的材質可選擇性地相同。更具體地說,導光板100的這些結構與基板101可以是一體成型,但不以此為限。需說明的是,本實施例的圖式示出的光源LS、光學微結構MS、第一支撐結構110及第二支撐結構120的數量僅作為示例性的說明之用,並非用以限制本發明。在其他實施例中,光源LS、光學微結構MS、第一支撐結構110及第二支撐結構120的數量可根據實際的產品設計或製程需求而調整。
在本實施例中,背光模組10還可包括光學膜層180,且此光學膜層180可選自光學增亮膜(brightness enhancement film,BEF)、擴散片(diffuser)、稜鏡片(prism sheet)、或上述的組合、或其他合適的光學膜片。應可理解的是,本實施例的背光模組10適於搭載顯示面板DP(如圖1所示)以構成顯示裝置,而此處的顯示面板DP例如是液晶顯示面板,但不以此為限。
以下將列舉另一些實施例以詳細說明本揭露,其中相同的構件將標示相同的符號,並且省略相同技術內容的說明,省略部分請參考前述實施例,以下不再贅述。
圖5是本發明的第二實施例的背光模組的下視示意圖。請參照圖5,本實施例的背光模組11與圖3的背光模組10的差異在於:第一支撐結構的數量不同。具體而言,背光模組11的導光板100E的第一支撐結構的數量為兩個,分別為第一側支撐結構110C-S1與第一側支撐結構110C-S2。亦即,本實施例的導光板100E並未設有圖3的第一後支撐結構110B。在本實施例中,兩個第一側支撐結構110C-S1、110C-S2各自在其延伸方向(例如方向Y)上的長度L1可等於基板101的第一側面101s1或第二側面101s2在兩個第一側支撐結構的延伸方向上的長度L2,但本發明不以此為限。
舉例來說,當背光模組的設計讓外來物在組立的過程中較容易從基板101的第一側面101s1或第二側面101s2的一側進入導光板100E與反射片之間的空隙時,透過上述兩個第一側支撐結構110C-S1、110C-S2的設置可有效阻絕外來物(例如粉塵、毛屑)進入所述空隙中,從而降低亮白點發生的機率,有助於提升背光模組11的生產良率。
也就是說,導光板的第一支撐結構未必要連續地設置在基板101的周邊,當背光模組的設計較容易讓外來物從導光板的特定側進入導光板與反射片之間的空隙時,第一支撐結構的設置位置可相應地被調整至導光板的所述特定側以阻絕大部分的外來物,而導光板較不容易有外來物進入的邊緣則無需設置第一支撐結構。據此,還可增加背光模組的設計彈性及製程裕度。
圖6是本發明的第三實施例的背光模組的下視示意圖。請參見圖6,本實施例的背光模組12與圖3的背光模組10的差異在於:第二支撐結構的延伸方向不同。具體而言,背光模組12的導光板100F的多個第二支撐結構120D的延伸方向是平行於基板101的入光面101is。由於此處的多個第二支撐結構120D的排列距離以及細部構形相似於前述實施例的第二支撐結構120,因此細部的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再重述。
圖7是本發明的第四實施例的背光模組的下視示意圖。請參照圖7,本實施例的背光模組13與圖3的背光模組10的差異在於:背光模組13的多個第二支撐結構120E於基板101的底面101bs上的垂直投影呈網格狀。具體而言,在本實施例中,導光板100G的多個第二支撐結構120E包括多個第二縱支撐結構120v與多個第二橫支撐結構120h,這些第二縱支撐結構120v的延伸方向垂直於基板101的入光面101is,而這些第二橫支撐結構120h的延伸方向平行於基板101的入光面101is。據此,可進一步降低外來物因外力擠壓或劇烈震動而磨傷導光板100G的風險,有助於提升背光模組13的生產良率以及後續在可靠度(reliability)測試時的耐受性。
圖8是本發明的第五實施例的背光模組的下視示意圖。請參照圖8,本實施例的背光模組14與圖5的背光模組11的主要差異在於:第二支撐結構的構型不同。具體而言,背光模組14的導光板100H的第二支撐結構120F具有第一部分120P1與第二部分120P2,第一部分120P1在底面101bs的法線方向(例如方向Z)上重疊於無效區IA,而第二部分120P2在底面101bs的法線方向(例如方向Z)上重疊於有效出光區EA。
在本實施例中,第二支撐結構120F的第一部分120P1連接第二部分120P2而具有轉折點TP,第一部分120P1在平行於入光面101is的方向(例如方向X)上的寬度朝遠離轉折點TP的方向(例如方向Y)遞增,而第二部分120P2在平行於入光面101is的方向上的寬度朝遠離轉折點TP的方向(例如方向Y的反向)遞增。據此,可進一步降低第二支撐結構120F在光源LS發出的光線照射下而發亮。亦即,可有效降低第二支撐結構120F在視線方向(例如方向Z的反向)上的可視性。然而,本發明不限於此,在其他實施例中,第二支撐結構120F的第一部分120P1與第二部分120P也可在具有相同的寬度變化下不相互連接。
綜上所述,在本發明的一實施例的背光模組中,導光板的底面上設有多個光學微結構與多個第一支撐結構。這些光學微結構位於導光板的有效出光區。透過在圍繞有效出光區的無效區內設置這些第一支撐結構,可有效阻絕外來物(例如粉塵、毛屑)進入導光板與反射片之間的空隙。另一方面,這些第一支撐結構在導光板的底面與反射片之間形成的額外空間,可降低外來物因外力擠壓或劇烈震動而磨傷導光板的風險,有助於提升背光模組的生產良率。
惟以上所述者,僅為本發明的較佳實施例而已,當不能以此限定本發明實施的範圍,即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作的簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露的全部目的或優點或特點。此外,摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用,並非用來限制本發明的權利範圍。此外,本說明書或申請專利範圍中提及的“第一”、“第二”等用語僅用以命名元件(element)的名稱或區別不同實施例或範圍,而並非用來限制元件數量上的上限或下限。
10、10A、10B、10C、10D、11、12、13、14:背光模組
100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H:導光板
101:基板
101bs:底面
101es:出光面
101is:入光面
101s1:第一側面
101s2:第二側面
101s3:第三側面
110、110A、110D:第一支撐結構
110Ac:弧線段
110B:第一後支撐結構
110S1、110S2、110C-S1、110C-S2:第一側支撐結構
120、120A、120B、120D、120E、120F:第二支撐結構
120c:弧線段
120h:第二橫支撐結構
120v:第二縱支撐結構
120P1:第一部分
120P2:第二部分
150:反射片
BF:背框
d:距離
EA:有效出光區
H1、H2、h、T:厚度
FF:前框
FFa:開口
IA:無效區
LE:發光元件
LS:光源L1、L2:長度
MF:膠框
MS:光學微結構
R:區域
S:容置空間
T:厚度
TP:轉折點
W1、W2、W3:寬度
X、Y、Z:方向。
圖1是本發明的第一實施例的背光模組的剖視示意圖。
圖2是圖1的導光板的示意圖。
圖3是圖1的背光模組的下視示意圖。
圖4A至圖4D是本發明的另一些實施例的背光模組的剖視示意圖。
圖5是本發明的第二實施例的背光模組的下視示意圖。
圖6是本發明的第三實施例的背光模組的下視示意圖。
圖7是本發明的第四實施例的背光模組的下視示意圖。
圖8是本發明的第五實施例的背光模組的下視示意圖。
10:背光模組
100:導光板
101:基板
101bs:底面
101is:入光面
101s1:第一側面
101s2:第二側面
101s3:第三側面
110:第一支撐結構
110B:第一後支撐結構
110S1、110S2:第一側支撐結構
120:第二支撐結構
EA:有效出光區
IA:無效區
LE:發光元件
LS:光源
MS:光學微結構
R:區域
W1、W2、W3:寬度
X、Y、Z:方向
Claims (25)
- 一種導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面,該些第一支撐結構重疊於該無效區,該些第一支撐結構直接連接該基板的該底面。
- 如請求項1所述的導光板,其中該些第一支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度與該基板沿著該底面的法線方向的厚度的百分比值介於4%至20%之間。
- 如請求項1所述的導光板,其中該些第一支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度從較靠近該有效出光區的一側往該底面的一邊緣遞增。
- 如請求項1所述的導光板,其中該些第一支撐結構的橫截面輪廓具有背離該底面的一弧線段。
- 如請求項1所述的導光板,其中該些第一支撐結構在垂直該些第一支撐結構的延伸方向的一方向上的寬度小於該出光面的該無效區在該方向上的寬度。
- 一種導光板,包括: 一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面,該些第一支撐結構重疊於該無效區,其中該基板還具有一第一側面、一第二側面與一第三側面,該第一側面與該第二側面彼此相對且連接該入光面,該第三側面與該入光面彼此相對,該些第一支撐結構包括兩第一側支撐結構,該兩第一側支撐結構分別位於該底面鄰近該第一側面的邊緣與鄰近該第二側面的邊緣,該兩第一側支撐結構的延伸方向垂直於該入光面,各該第一側支撐結構的長度等於該第一側面的長度或該第二側面的長度。
- 如請求項6所述的導光板,其中該些第一支撐結構更包括一第一後支撐結構,該第一後支撐結構的延伸方向平行於該入光面,該第一後支撐結構連接該兩第一側支撐結構,且位於該底面鄰近該第三側面的邊緣。
- 一種導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於 該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面,該些第一支撐結構重疊於該無效區,其中該些第一支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度大於該些光學微結構沿著該底面的法線方向的厚度。
- 一種導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面,該些第一支撐結構重疊於該無效區;以及至少一第二支撐結構,設置於該基板的該底面上,且位於該些第一支撐結構之間。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構的延伸方向垂直於該入光面。
- 如請求項10所述的導光板,其中該第二支撐結構具有一第一部分與一第二部分,重疊於該無效區的該第一部分連接重疊於該有效出光區的該第二部分而具有一轉折點,該第一部分在平行於該入光面的一方向上的寬度朝遠離該轉折點的方向遞增,且該第二部分在該方向上的寬度朝遠離該轉折點的方向遞增。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構的延伸方向平行於該入光面。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構包括至少一第二縱支撐結構與至少一第二橫支撐結構,該至少一第二縱支撐結構的延伸方向垂直於該入光面,該至少一第二橫支撐結構的延伸方向平行於該入光面。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構為多個第二支撐結構,該些第二支撐結構依一距離間隔排列,且該距離大於5毫米。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度小於該些第一支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度且大於該些光學微結構沿著該底面的法線方向的厚度。
- 如請求項9所述的導光板,其中該至少一第二支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度與該基板沿著該底面的法線方向的厚度的百分比值介於2%至10%之間。
- 一種背光模組,包括:一導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重 疊於該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面上,該些第一支撐結構重疊於該無效區,該些第一支撐結構直接連接該基板的該底面;一光源,設置在該導光板的該入光面的一側;以及一反射片,設置在該導光板的該底面的一側,其中該導光板透過該第一支撐結構抵靠在該反射片上。
- 如請求項17所述的背光模組,其中該些第一支撐結構在垂直該些第一支撐結構的延伸方向的一方向上的寬度小於該出光面的該無效區在該方向上的寬度。
- 一種背光模組,包括:一導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面上,該些第一支撐結構重疊於該無效區;一光源,設置在該導光板的該入光面的一側;以及一反射片,設置在該導光板的該底面的一側,其中該導光板透過該第一支撐結構抵靠在該反射片上,其中該基板還具有一第 一側面、一第二側面與一第三側面,該第一側面與該第二側面彼此相對且連接該入光面,該第三側面與該入光面彼此相對,該些第一支撐結構包括兩第一側支撐結構,該兩第一側支撐結構分別位於該底面鄰近該第一側面的邊緣與鄰近該第二側面的邊緣,該兩第一側支撐結構的延伸方向垂直於該入光面,各該第一側支撐結構的長度等於該第一側面的長度或該第二側面的長度。
- 如請求項19所述的背光模組,其中該些第一支撐結構更包括一第一後支撐結構,該第一後支撐結構的延伸方向平行於該入光面,該第一後支撐結構連接該兩第一側支撐結構,且位於該底面鄰近該第三側面的邊緣。
- 一種背光模組,包括:一導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;以及多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面上,該些第一支撐結構重疊於該無效區;一光源,設置在該導光板的該入光面的一側;以及一反射片,設置在該導光板的該底面的一側,其中該導光板透過該第一支撐結構抵靠在該反射片上,其中該第一支撐結構沿 著該底面的法線方向的厚度大於該些光學微結構沿著該底面的法線方向的厚度。
- 一種背光模組,包括:一導光板,包括:一基板,具有一入光面以及連接該入光面且彼此相對的一出光面與一底面,該出光面具有一有效出光區以及圍繞該有效出光區的一無效區;多個光學微結構,分散地設置於該基板的該底面,且重疊於該有效出光區;多個第一支撐結構,設置於該基板的該底面上,該些第一支撐結構重疊於該無效區;以及至少一第二支撐結構,設置於該基板的該底面上,且位於該些第一支撐結構之間;一光源,設置在該導光板的該入光面的一側;以及一反射片,設置在該導光板的該底面的一側,其中該導光板透過該第一支撐結構抵靠在該反射片上。
- 如請求項22所述的背光模組,其中該至少一第二支撐結構為多個第二支撐結構,該些第二支撐結構依一距離間隔排列,且該距離大於5毫米。
- 如請求項23所述的背光模組,其中該至少一第二支撐結構的延伸方向垂直於該入光面,該光源更包括多個發光元件,該些發光元件分別對應該些第二支撐結構之間的區域而設置。
- 如請求項22所述的背光模組,其中該至少一第二支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度小於該些第一支撐結構沿著該底面的法線方向的厚度且大於該些光學微結構沿著該底面的法線方向的厚度。
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