TWI783482B

TWI783482B - 觸控顯示裝置及其形成方法

Info

Publication number: TWI783482B
Application number: TW110117318A
Authority: TW
Inventors: 張羽; 張振炘; 許良珍
Original assignee: 大陸商宸美（廈門）光電有限公司
Priority date: 2021-05-13
Filing date: 2021-05-13
Publication date: 2022-11-11
Also published as: TW202244705A

Abstract

本揭示內容之一些實施方式提供一種觸控顯示裝置，包含透明蓋板、圖案化觸控感測膜層、遮光層以及紫外光阻擋層。圖案化觸控感測膜層覆蓋於透明蓋板的第一表面上。遮光層位於透明蓋板以及圖案化觸控感測膜層之間。紫外光阻擋層阻隔紫外光照射遮光層，其中紫外光阻擋層位於遮光層以及圖案化觸控感測膜層之間，覆蓋遮光層。還提供一種形成觸控顯示裝置的方法。本揭示內容的一些實施方式中提供的觸控顯示裝置及其形成方法，可在單面電極結構中，透過紫外光阻擋層的設置，避免鐳射損傷遮光層，取代濕式蝕刻步驟，降低蝕刻的成本。

Description

觸控顯示裝置及其形成方法

本揭示內容涉及觸控顯示裝置及其形成方法。

近年來隨著觸控顯示裝置技術的蓬勃發展，觸控顯示裝置已被廣泛地運用於各類電子裝置中。電極線路主要是以黃光製程，透過濕式蝕刻處理，圖案化電極線路。

然而，濕式蝕刻處理過程中，需要大量的光罩，並且需使用多種反應溶劑(例如顯影液以及蝕刻液等)，步驟複雜，成本高，現有技術實有待改善的必要。

TW I521417B號專利，教示在雙面電極結構，可以將透明阻擋層設置於透明基板的第一表面上，再於透明阻擋層以及透明基板的另一表面上形成導電膜，透明阻擋層的設置，可以避免鐳射蝕刻任一表面上的導電膜時，損傷另一表面上導電膜。

CN 105073334B號專利，教示將鐳射脈衝長度以及波長調整於適當範圍，使導電材料可吸收鐳射的能量，以避免利用鐳射蝕刻導電材料形成電極線路時，損傷電極線路。

如何提供一種適用於單面電極結構的觸控顯示裝置及其形成方法，可以鐳射蝕刻取代濕式蝕刻電極線路，無須限制鐳射脈衝長度以及波長，即可避免鐳射損傷單面電極結構中的元件，是所欲解決的問題。

本揭示內容之一些實施方式提供一種觸控顯示裝置，包含透明蓋板、圖案化觸控感測膜層、遮光層以及紫外光阻擋層。透明蓋板包含第一表面以及相對於第一表面的第二表面。圖案化觸控感測膜層覆蓋於透明蓋板的第一表面上。遮光層設置於透明蓋板的部分第一表面上，並且位於透明蓋板以及圖案化觸控感測膜層之間，其中遮光層沿垂直方向投影於透明蓋板上的區域，定義出周邊區，並且將透明蓋板上相鄰於周邊區的其他區域，定義為可視區。紫外光阻擋層阻隔紫外光照射遮光層，其中紫外光阻擋層位於遮光層以及圖案化觸控感測膜層之間，並且覆蓋遮光層。

在一些實施方式中，紫外光阻擋層的材料為油墨或光阻。

在一些實施方式中，紫外光阻擋層覆蓋於遮光層上，延伸覆蓋可視區中的第一表面，並且紫外光阻擋層為透明材料。

在一些實施方式中，紫外光阻擋層僅覆蓋於遮光層上。

在一些實施方式中，更包含周邊走線，設置於圖案化觸控感測膜層上，其中周邊走線沿垂直方向上投影於透明蓋板的位置，是位於周邊區中。

在一些實施方式中，更包含透明絕緣層，其中透明絕緣層的第一部份設置於周邊走線上，透明絕緣層的第二部份設置於可視區上的圖案化觸控感測膜層上。

在一些實施方式中，更包含橋接線，設置於透明絕緣層的第二部份上。

在一些實施方式中，更包含橋接線，設置於透明蓋板上的可視區中，並且紫外光阻擋層包覆橋接線，其中紫外光阻擋層為透明絕緣層。

在一些實施方式中，圖案化觸控感測膜層覆蓋紫外光阻擋層，並且延伸覆蓋部分第一表面，以分隔橋接線上的紫外光阻擋層與遮光層上的紫外光阻擋層。

在一些實施方式中，更包含周邊走線，設置於圖案化觸控感測膜層上，其中周邊走線在垂直方向上投影於透明蓋板的位置，是位於周邊區中。

在一些實施方式中，更包含保護層，設置於圖案化觸控感測膜層上。

本揭示內容之一些實施方式提供一種形成觸控顯示裝置的方法，包含：提供透明蓋板，包含第一表面以及相對於第一表面的第二表面；覆蓋遮光層於透明蓋板的部分第一表面上，其中遮光層沿垂直方向投影於透明蓋板上的區域，定義出周邊區，並且將透明蓋板上相鄰於周邊區的其他區域，定義為可視區；覆蓋紫外光阻擋層於遮光層上；形成觸控感測膜層於該紫外光阻擋層上；以及使用鐳射，蝕刻觸控感測膜層為圖案化觸控感測膜層。

在一些實施方式中，覆蓋紫外光阻擋層於遮光層上的步驟中，紫外光阻擋層覆蓋於遮光層上，並且延伸覆蓋可視區中的第一表面，並且紫外光阻擋層為透明材料。

在一些實施方式中，覆蓋紫外光阻擋層於遮光層上的步驟中，紫外光阻擋層僅覆蓋於遮光層上。

在一些實施方式中，在覆蓋遮光層於透明蓋板的第一表面上的步驟之後，更包含設置橋接線於透明蓋板上的該可視區中；以及在覆蓋紫外光阻擋層於遮光層上的步驟中，更包含將紫外光阻擋層包覆橋接線，其中紫外光阻擋層為透明絕緣材料。

可以理解的是，下述內容提供的不同實施方式或實施例可實施本揭露之標的不同特徵。特定構件與排列的實施例係用以簡化本揭露而非侷限本揭露。當然，這些僅是實施例，並且不旨在限制。舉例來說，以下所述之第一特徵形成於第二特徵上的敘述包含兩者直接接觸，或兩者之間隔有其他額外特徵而非直接接觸。此外，本揭露在複數個實施例中可重複參考數字及/或符號。這樣的重複是為了簡化和清楚，而並不代表所討論的各實施例及/或配置之間的關係。

本說明書中所用之術語一般在本領域以及所使用之上下文中具有通常性的意義。本說明書中所使用的實施例，包括本文中所討論的任何術語的例子僅是說明性的，而不限制本揭示內容或任何示例性術語的範圍和意義。同樣地，本揭示內容不限於本說明書中所提供的一些實施方式。

另外，空間相對用語，如「下」、「上」等，是用以方便描述一元件或特徵與其他元件或特徵在圖式中的相對關係。這些空間相對用語旨在包含除了圖式中所示之方位以外，裝置在使用或操作時的不同方位。裝置可被另外定位(例如旋轉90度或其他方位)，而本文所使用的空間相對敘述亦可相對應地進行解釋。

於本文中，除非內文中對於冠詞有所特別限定，否則『一』與『該』可泛指單一個或多個。將進一步理解的是，本文中所使用之『包含』、『包括』、『具有』及相似詞彙，指明其所記載的特徵、區域、整數、步驟、操作、元件與/或組件，但不排除其它的特徵、區域、整數、步驟、操作、元件、組件，與/或其中之群組。

將理解的是，儘管本文可以使用術語第一、第二等來描述各種元件，但是這些元件不應受到這些術語的限制。這些術語用於區分一個元件和另一個元件。舉例來說，在不脫離本實施方式的範圍的情況下，第一元件可以被稱為第二元件，並且類似地，第二元件可以被稱為第一元件。

於本文中，術語“和/或”包含一個或複數個相關聯的所列項目的任何和所有組合。

以下列舉數個實施方式以更詳盡闡述本發明之觸碰裝置，然其僅為例示說明之用，並非用以限定本發明，本發明之保護範圍當以後附之申請專利範圍所界定者為準。

第1A圖至第1H圖示例性地描述根據本揭示內容的一些實施方式中製造觸控顯示裝置100的各製程階段的剖面示意圖。

首先，請見第1A圖，提供透明蓋板110，包含第一表面112以及相對於第一表面112的第二表面114。

在一些實施方式中，透明蓋板110可以為透明無機基材(舉例而言玻璃基材)或是透明有機基材。透明有機基材可以是塑膠基材，例如聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methylmethacrylate)；PMMA)、聚乙烯(polyethylene；PE)、聚氯乙烯(polyvinyl Chloride；PVC)、聚丙烯(polypropylene；PP)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、聚苯乙烯(polystyrene；PS)、聚醯亞胺(polyimide；PI)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymers；COP)等透明材料。

在一些實施方式中，透明蓋板110的厚度小於2毫米，例如0.3毫米至1.1毫米之間，舉例而言可以為0.3毫米、0.4毫米、0.5毫米、0.6毫米、0.7毫米、0.8毫米、0.9毫米、1.0毫米、或1.1毫米。

接著，請見第1B圖，設置遮光層120於透明蓋板110的部分第一表面112上，其中遮光層120沿Z軸方向(垂直方向)投影於透明蓋板110上的區域，定義出周邊區PA，並且將透明蓋板110上相鄰於周邊區PA的其他區域，定義為可視區VA。在一些實施方式中，遮光層120可以由塗佈或是印刷不透光油墨(例如黑色油墨或白色油墨等)所形成，或是可以為不透光光阻。

在一些實施方式中，遮光層120的厚度小於30微米，例如1微米至20微米之間，舉例而言可以為1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、9微米、10微米、11微米、12微米、13微米、14微米、15微米、16微米、17微米、18微米、19微米、20微米、及前述任意區間中的數值。

接著，請見第1C圖，覆蓋紫外光阻擋層130於遮光層120上，並且延伸覆蓋可視區VA中的第一表面112。也就是，紫外光阻擋層130沿Z軸方向(垂直方向)上投影於透明蓋板110的位置，覆蓋遮光層120與透明蓋板110的第一表面112。需注意的是，紫外光阻擋層130需為透明材料，並且可以阻隔紫外光(波長為355奈米至365奈米)，避免紫外光損傷紫外光阻擋層130所覆蓋的元件(例如遮光層120)。在一些實施方式中，紫外光阻擋層130可以阻隔90%以上的紫外光，例如91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、99%、或100%的紫外光。在一些實施方式中，可以透過塗佈或是印刷透明油墨或是透明光阻(例如聚醯亞胺)，形成紫外光阻擋層130。

在一些實施方式中，紫外光阻擋層130可以完全覆蓋可視區VA中的第一表面112，也可以部份覆蓋可視區VA中第一表面112。

在一些實施方式中，紫外光阻擋層130的厚度小於30微米，例如0.1微米至8微米之間，舉例而言可以為0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、及前述任意區間中的數值。

接著，請見第1D圖，形成圖案化觸控感測膜層140於紫外光阻擋層130上。在一些實施方式中，形成圖案化觸控感測膜層140於紫外光阻擋層130上的步驟，是先將觸控感測膜層印刷或塗布(例如網版印刷、噴頭塗布、滾輪塗布等工藝)於紫外光阻擋層130上；接著，使用波長為355奈米至365奈米的紫外光鐳射，將觸控感測膜層蝕刻為圖案化觸控感測膜層140。在一些實施方式中，觸控感測膜層由透明導電材料製成，例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、奈米碳管(Carbon Nanotube；CNT)、奈米銀(Nano Silver)等。

在一些實施方式中，圖案化觸控感測膜層140包含由透明導電材料形成的金屬奈米線。以下說明由金屬奈米線形成觸控感測膜層的具體作法，包含：將具有金屬奈米線的分散液或漿料(ink)以塗布方法形成於紫外光阻擋層130上，並加以乾燥成型。在分散液或漿料中的溶劑等物質被揮發後，金屬奈米線以隨機的方式分佈並固著於紫外光阻擋層130表面，形成觸控感測膜層，並且金屬奈米線彼此接觸，提供連續電流路徑，進而形成一導電網路(conductive network)。在一些實施方式中，分散液可為水、醇、酮、醚、烴或芳族溶劑(苯、甲苯、二甲苯等等)。在一實施方式中，分散液亦可包含添加劑、介面活性劑或黏合劑，例如羧甲基纖維素(carboxymethyl cellulose；CMC)、2-羥乙基纖維素(hydroxyethyl Cellulose；HEC)、羥基丙基甲基纖維素(hydroxypropyl methylcellulose；HPMC)、磺酸酯、硫酸酯、二磺酸鹽、磺基琥珀酸酯、磷酸酯或含氟介面活性劑等。

應注意的是，本文所用的「金屬奈米線(metal nanowires)」係為一集合名詞，其指包含多個元素金屬、金屬合金或金屬化合物(包括金屬氧化物)的金屬線的集合。且單一金屬奈米線的至少一個截面尺寸(即截面的直徑)小於約500奈米，較佳小於約100奈米，且更佳小於約50奈米。在一些實施方式中，「線(wire)」的金屬奈米結構，主要具有高的縱橫比，例如介於約10至100,000之間。詳細而言，金屬奈米線的縱橫比(長度：截面的直徑)可大於約10，例如大於約50、或大於約100，但不限於此。在一些實施方式中，金屬奈米線可以為任何金屬，包括(但不限於)銀、金、銅、鎳及鍍金的銀。而其他用語，諸如絲(silk)、纖維(fiber)、管(tube)等若同樣具有上述的尺寸及高縱橫比，亦為本揭示內容的實施方式中所涵蓋的範疇。

在一些實施方式中，圖案化觸控感測膜層140的厚度小於3微米，例如0.1微米至1微米之間，舉例而言可以為0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、或1.0微米。

接著，請見第1E圖，在周邊區PA的圖案化觸控感測膜層140上，形成周邊走線150。即，周邊走線150沿Z軸方向(垂直方向)上投影於透明蓋板110的位置，位於周邊區PA中。

在一些實施方式中，可以使用類似於圖案化觸控感測膜層140的材料或是形成方法(例如網版印刷、噴頭塗布、滾輪塗布等工藝)，形成周邊走線150。

在一些實施方式中，也可以透過無電鍍的方式，經由催化層的催化，形成周邊走線層，接著，再鐳射周邊走線層為周邊走線150。具體而言，先在周邊區PA的圖案化觸控感測膜層140上，形成催化層；接著，在無外加電流的情況下藉助合適的還原劑，施加鍍液於催化層上，使鍍液中的金屬離子在催化層的金屬觸媒催化下，經過還原反應，還原成金屬並鍍覆(或稱沉積)於催化層表面，此過程也稱為無電鍍(electroless plating)或自身催化鍍(autocatalytic plating)。舉例而言，若欲以銅構成周邊走線150，則鍍液的主成分可選擇硫酸銅溶液，其組成可包含但不限於：濃度為5克/公升的硫酸銅(copper sulfate)，濃度為12克/公升的乙二胺四乙酸(ethylenediaminetetraacetic acid)，濃度為5克/公升的甲醛(formaldehyde)，無電鍍銅鍍液的pH以氫氧化鈉(sodium hydroxide)調整為約11至13，鍍浴溫度為約30°C至50°C，浸泡的反應時間為5至15分鐘。在反應過程中，鍍液中的銅可在具有催化/活化能力的催化層上成核，而後靠銅的自我催化繼續成長為銅膜(即，周邊走線150)。本領域技術人員可依所欲取得的周邊走線150的材質，選擇搭配適當的鍍液以及催化層材料。在一些實施方式中，周邊走線150以導電性較佳的金屬所構成，例如單層金屬結構，例如銀層、銅層等；或為多層合金形態的導電結構，例如鉬/鋁/鉬、銅/鎳、鈦/鋁/鈦、鉬/鉻等。在另一實施例中，為了提高周邊走線150的厚度，可加入一增厚步驟，如電鍍製程，其電鍍液組成可包含但不限於：濃度為200克/公升之硫酸銅(copper sulfate)，濃度為80g/L之硫酸(sulfuric acid)，濃度為50毫克/公升之氯離子(chloride ion)，pH調整為約3至5，電流密度為約1~10A/dm2，鍍浴溫度為約25至45°C。而上述無電鍍製程與電鍍製程的順序可依實際的需求調整，並不以本文為限，例如先電鍍製程，再接著無電鍍製程，或是先無電鍍製程，再接著電鍍，當然亦可僅使用電鍍製程或是無電鍍製程。在另一些實施例中，增厚步驟可為另一個無電鍍製程，例如利用組成不同於上述鍍液的其他鍍液進行無電鍍銅製程，以提高周邊走線150之厚度。

在一些實施方式中，也可以依序先形成觸控感測膜層以及周邊走線層，再透過鐳射蝕刻，同時形成圖案化觸控感測膜層140以及周邊走線150。

在一些實施方式中，周邊走線150的厚度小於20微米，例如0.01微米至1微米之間，舉例而言可以為0.01微米、0.05微米、0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1.0微米、或1.1微米。

值得注意的是，透過將紫外光阻擋層130覆蓋於遮光層120上，可以在鐳射蝕刻形成圖案化觸控感測膜層140(及周邊走線150)時，避免紫外光損傷遮光層120，解決鐳射蝕刻電極線路(圖案化觸控感測膜層140)時損傷遮光層120的問題。因此，透過紫外光阻擋層130的設置，可以在單面電極結構中，實現以鐳射蝕刻取代濕式蝕刻的步驟改良，簡化圖案化觸控感測膜層140(及周邊走線150)的形成步驟、節省反應溶劑的使用，並且降低成本。

接著，請見第1F圖，形成透明絕緣層160於圖案化觸控感測膜層140上，其中透明絕緣層160的第一部份162設置於周邊走線150上，並且延伸覆蓋周邊走線150的側面，透明絕緣層160的第二部份164設置於可視區VA中透明蓋板110的第一表面112上。在一些實施方式中，透明絕緣層160可以由二氧化矽或光阻(例如聚醯亞胺)等絕緣材料所組成。在一些實施方式中，透明絕緣層160為光阻，可經由曝光處理，對應周邊走線150以及後續的橋接線170(請參第1G圖以及第1H圖)的位置，形成特定的圖案。

在一些實施方式中，透明絕緣層160的厚度小於15微米，例如0.5微米至8微米之間，舉例而言可以為0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、及前述任意區間中的數值。

接著，請見第1G圖，形成橋接線170(jumper)於透明絕緣層160的第二部份164上(關於橋接線170之功能以及位置，請輔助參閱第11圖)。

在一些實施方式中，橋接線170可以使用與圖案化觸控感測膜層140相同或是相似的材料形成，於此不另贅述。然而，需注意的是，在形成橋接線170的步驟中，需避免使用鐳射處理，原因在於，在形成橋接線170時，圖案化觸控感測膜層140的部分為裸露狀態，若嘗試使用鐳射，將橋接線材料鐳射為橋接線170，則存在著損傷下方圖案化觸控感測膜層140的風險。

在一些實施方式中，橋接線170的厚度小於15微米，例如0.01微米至1微米之間。舉例而言可以為0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、及前述任意區間中的數值。

接著，請見第1H圖，設置保護層180於透明絕緣層160、橋接線170以及圖案化觸控感測膜層140上，形成觸控顯示裝置100。

在一些實施方式中，保護層180為絕緣材料，可以透過印刷的方法形成。

在一些實施方式中，保護層180的厚度小於15微米，例如0.5微米至10微米之間。舉例而言可以為0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、9微米、10微米及前述任意區間中的數值。

第1I圖示例性地描述根據本揭示內容的一些實施方式中的觸控顯示裝置100的上視圖。第1I圖例示觸控顯示裝置100中的圖案化觸控感測膜層140、周邊走線150、以及橋接線170的相對位置。圖案化觸控感測膜層140包含複數條橫向電極線142(往X軸方向延伸)與複數條縱向電極線144(往Y軸方向延伸)，每一條橫向電極線142與每一條縱向電極線144皆分別由複數個電極單元連接而成。橋接線170，連接橫向電極線142，並且使用透明絕緣層(圖未示)來防止橫向電極線142與縱向電極線144接觸。

第2A圖至第2F圖示例性地描述根據本揭示內容的另一些實施方式中製造觸控顯示裝置200的各製程階段的剖面示意圖。第2A圖至第2F圖與第1C圖至第1H圖的步驟以及材料大致上相似，差異在於，第2A圖中的紫外光阻擋層230僅覆蓋於遮光層220上，並且紫外光阻擋層230不限於透明材料。

請見第2A圖。首先，經由與前述第1A圖以及第1B圖相同或相似的材料以及步驟，包含依序形成透明蓋板210以及設置於透明蓋板210的第一表面212上的遮光層220，其中遮光層220定義出可視區VA以及周邊區PA。接著，設置紫外光阻擋層230於遮光層220上，其中紫外光阻擋層230僅覆蓋於遮光層220上，不會延伸至可視區VA。也就是，紫外光阻擋層230沿Z軸方向(垂直方向)上投影於透明蓋板210的位置，覆蓋遮光層220，並且紫外光阻擋層230的投影區域均位於周邊區PA中。可以了解的是，由於紫外光阻擋層230並不會暴露於可視區VA中，因此紫外光阻擋層230可以使用透明或是不透明的材料，例如透明油墨、灰色油墨、透明光阻(例如聚醯亞胺)、或是不透明光阻。

接著，請見第2B圖，形成圖案化觸控感測膜層240於紫外光阻擋層230以及可視區VA的透明蓋板210的第一表面212上。也就是，相對於第1D圖的圖案化觸控感測膜層140，其中圖案化觸控感測膜層140覆蓋並直接接觸可視區VA以及周邊區PA的紫外光阻擋層130，第2B圖的圖案化觸控感測膜層240則是覆蓋並直接接觸紫外光阻擋層230(周邊區PA)以及透明蓋板210的第一表面212(可視區VA)。

第2C圖、第2D圖、第2E圖、以及第2F圖中的步驟以及材料，可以分別與第1E圖、第1F圖、第1G圖、以及第1H圖相同或是類似，最後，在第2F圖中形成觸控顯示裝置200。

第3A圖至第3F圖示例性地描述根據本揭示內容的另一些實施方式中製造觸控顯示裝置300的各製程階段的剖面示意圖。第3A圖至第3F圖與第1B圖至第1H圖的材料以及元件相對位置大致上相似，差異在於，第3A圖至第3F圖是先在可視區VA的透明蓋板310的第一表面312上形成橋接線370，接著使用透明絕緣材料所製成的紫外光阻擋層330，包覆橋接線370以及遮光層320(即，覆蓋橋接線370以及遮光層320上方，並且延伸覆蓋至橋接線370以及遮光層320的側面)，再接續形成圖案化觸控感測膜層340。第1B圖至第1H圖的設置則是先形成圖案化觸控感測膜層140，再於圖案化觸控感測膜層140上依序形成透明絕緣層160以及橋接線170，並透過透明絕緣層160隔絕圖案化觸控感測膜層140以及橋接線170的相交。

也就是，第3A圖至第3F圖所形成的觸控顯示裝置300中，紫外光阻擋層330不僅可用於阻隔紫外光，並且同時具有第1H圖中的透明絕緣層160的隔離圖案化觸控感測膜層140以及橋接線170的功效，並且橋接線370在Z軸方向(垂直方向)上，位於圖案化觸控感測膜層340的下方或與圖案化觸控感測膜層340共平面，而非如第1H圖中的觸控顯示裝置100的橋接線170，位於圖案化觸控感測膜層140的上方。

請見第3A圖，經由與前述第1A圖以及第1B圖相同或相似的材料以及步驟，依序形成透明蓋板310以及設置於透明蓋板310的第一表面312上的遮光層320，遮光層320定義出可視區VA以及周邊區PA。

接著，請見第3B圖，設置橋接線370於透明蓋板310上的可視區VA中。

接著，請見第3C圖，設置紫外光阻擋層330於遮光層320上，並且紫外光阻擋層330包覆橋接線370(即，覆蓋橋接線370以及遮光層320上方，並且延伸覆蓋至橋接線370以及遮光層320的側面)，其中紫外光阻擋層330為透明絕緣材料。在一些實施方式中，基於紫外光阻擋層330需對應橋接線370的位置以及圖案，形成以包覆橋接線370，因此，紫外光阻擋層330可以為光阻，並透過光罩的設計，調整紫外光阻擋層330的位置以及所形成之圖案。在一實施方式中，可以先將光阻液塗佈於遮光層320以及橋接線370上；接著，使用波長大於400奈米的光線(例如波長為405奈米或436奈米)中，曝光光阻液，使光阻液硬化，形成紫外光阻擋層330，阻擋紫外光的照射。可以了解的是，紫外光阻擋層330的材料，不僅是一般的光阻材料，並且具有曝光硬化後，可阻擋紫外光照射的性質。在一實施方式中，紫外光阻擋層330可以包含聚醯亞胺。

接著，請見第3D圖，形成圖案化觸控感測膜層340於紫外光阻擋層330以及透明蓋板310的第一表面312上，其中圖案化觸控感測膜層340覆蓋紫外光阻擋層330，並且延伸覆蓋部分第一表面312，以分隔橋接線370上的紫外光阻擋層330與遮光層320上的紫外光阻擋層330。

接著，請見第3E圖，與第1E圖的步驟相似，在周邊區PA的圖案化觸控感測膜層340上，形成周邊走線350。

接著，請見第3F圖，設置保護層380於周邊走線350以及圖案化觸控感測膜層340上，形成觸控顯示裝置300。

在一些實施方式中，觸控顯示裝置可以進一步與其他電子元件組裝形成電子裝置，包含但不限於行動裝置(手機、平板電腦、或筆記型電腦)、裝戴式裝置(智慧手錶、智慧眼鏡、智慧衣服、或智慧鞋)，以及車用裝置(儀表板、行車紀錄器、後視鏡、車窗、車門)。

綜上所述，本揭示內容的一些實施方式提供的觸控顯示裝置及其形成方法，可在單面電極結構中，透過紫外光阻擋層的設置，避免鐳射損傷遮光層，實現以鐳射蝕刻取代習知的濕式蝕刻步驟的步驟改良，簡化圖案化觸控感測膜層(即，電極線路(例如橫向電極線以及縱向電極線))的形成步驟、節省反應溶劑的使用，並且降低成本。

儘管本揭示內容已根據某些實施方式具體描述細節，其他實施方式也是可行的。因此，所附請求項的精神和範圍不應限於本文所記載的實施方式。

100、200、300:觸控顯示裝置

110、210、310:透明蓋板

112、212、312:第一表面

114、214、314:第二表面

120、220、320:遮光層

130、230、330:紫外光阻擋層

140、240、340:圖案化觸控感測膜層

142:橫向電極線

144:縱向電極線

150、250、350:周邊走線

160、260:透明絕緣層

162、262:第一部分

164、264:第二部分

170、270、370:橋接線

180、280、380:保護層

VA:可視區

PA:周邊區

X:X軸

Y:Y軸

Z:Z軸

通過閱讀以下參考附圖對實施方式的詳細描述，可以更完整地理解本揭示內容。第1A圖至第1H圖示例性地描述根據本揭示內容的一些實施方式中製造觸控顯示裝置的各製程階段的剖面示意圖；第1I圖示例性地描述根據本揭示內容的一些實施方式中的觸控顯示裝置的上視圖。第2A圖至第2F圖示例性地描述根據本揭示內容的另一些實施方式中製造觸控顯示裝置的各製程階段的剖面示意圖；以及第3A圖至第3F圖示例性地描述根據本揭示內容的另一些實施方式中製造觸控顯示裝置的各製程階段的剖面示意圖。

100:觸控顯示裝置

110:透明蓋板

112:第一表面

120:遮光層

130:紫外光阻擋層

140:圖案化觸控感測膜層

150:周邊走線

160:透明絕緣層

162:第一部分

164:第二部分

170:橋接線

180:保護層

VA:可視區

PA:周邊區

X:X軸

Z:Z軸

Claims

一種觸控顯示裝置，包含：一透明蓋板，包含一第一表面以及相對於該第一表面的一第二表面；一圖案化觸控感測膜層，覆蓋於該透明蓋板的該第一表面上；一遮光層，設置於該透明蓋板的一部分該第一表面上，並且位於該透明蓋板以及該圖案化觸控感測膜層之間，其中該遮光層沿一垂直方向投影於該透明蓋板上的區域，定義出一周邊區，並且將該透明蓋板上相鄰於該周邊區的其他區域，定義為一可視區；以及一紫外光阻擋層，阻隔紫外光照射該遮光層，其中該紫外光阻擋層位於該遮光層以及該圖案化觸控感測膜層之間，並且覆蓋該遮光層。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，其中該紫外光阻擋層覆蓋於該遮光層上，延伸覆蓋該可視區中的該第一表面，並且該紫外光阻擋層為透明材料。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，其中該紫外光阻擋層僅覆蓋於該遮光層上。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，更包含一周邊走線，設置於該圖案化觸控感測膜層上，其中該周邊走線沿該垂直方向上投影於該透明蓋板的位置，是位於該周邊區中。
如請求項4所述的觸控顯示裝置，更包含一透明絕緣層，其中該透明絕緣層的一第一部份設置於該周邊走線上，該透明絕緣層的一第二部份設置於該可視區上的該圖案化觸控感測膜層上。
如請求項5所述的觸控顯示裝置，更包含一橋接線，設置於該透明絕緣層的該第二部份上。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，更包含一橋接線，設置於該透明蓋板上的該可視區中，並且該紫外光阻擋層包覆該橋接線，其中該紫外光阻擋層為一透明絕緣層。
如請求項7所述的觸控顯示裝置，其中該圖案化觸控感測膜層覆蓋該紫外光阻擋層，並且延伸覆蓋該部分該第一表面，以分隔該橋接線上的該紫外光阻擋層與該遮光層上的該紫外光阻擋層。
如請求項7所述的觸控顯示裝置，更包含一周邊走線，設置於該圖案化觸控感測膜層上，其中該周邊走線在該垂直方向上投影於該透明蓋板的位置，是位於該周邊區中。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，更包含一保護層，設置於該圖案化觸控感測膜層上。
如請求項1所述的觸控顯示裝置，其中該紫外光阻擋層的材料為一油墨或一光阻。
一種形成觸控顯示裝置的方法，包含：提供一透明蓋板，包含一第一表面以及相對於該第一表面的一第二表面；覆蓋一遮光層於該透明蓋板的一部分該第一表面上，其中該遮光層沿一垂直方向投影於該透明蓋板上的區域，定義出一周邊區，並且將該透明蓋板上相鄰於該周邊區的其他區域，定義為一可視區；覆蓋一紫外光阻擋層於該遮光層上；形成一觸控感測膜層於該紫外光阻擋層上；以及使用一鐳射，蝕刻該觸控感測膜層為一圖案化觸控感測膜層。
如請求項12所述的方法，其中覆蓋該紫外光阻擋層於該遮光層上的步驟中，該紫外光阻擋層覆蓋於該遮光層上，並且延伸覆蓋該可視區中的該第一表面，並且該紫外光阻擋層為透明材料。
如請求項12所述的方法，其中覆蓋該紫外光阻擋層於該遮光層上的步驟中，該紫外光阻擋層僅覆蓋於該遮光層上。
如請求項12所述的方法，其中在覆蓋該遮光層於該透明蓋板的該第一表面上的步驟之後，更包含設置一橋接線於該透明蓋板上的該可視區中；以及在覆蓋一紫外光阻擋層於該遮光層上的步驟中，更包含將該紫外光阻擋層包覆該橋接線，其中該紫外光阻擋層為一透明絕緣材料。