TWI778696B - 流體刀 - Google Patents

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王志賢
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達威應材有限公司
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Abstract

本發明係與一種流體刀有關,包含有:一本體,底部設置有一排出單元;該本體並於該排出單元側邊斜向貫設置少有一排出口;一導流部,設置於該排出單元頂端,該導流部之頂部具有至少一斜面,該斜面之底部位置連接有各該排出口,各該排出口與該斜面之間具有一夾角,角度為120∘~180∘;一蓋板,其蓋合於該本體上,該蓋板上並貫設有至少一導出孔,該導出孔之直徑係大於該排出口之直徑,且該導出孔之位置概設於該斜面與該排出口之交會處;透過該導流部將該本體內流體的雜質導流至該排出口,避免堵塞該排出單元,以及透過該導出口,形成較大的異物排出通道,可降低拆解維修的時間。

Description

流體刀
本發明係與一種流體噴刀有關,特別是指一種易於排出異物,維持流體導出效果之流體刀。
按,一般在LCD彩色濾光片、印刷電路板等製程中,為了要進行表面的化學溶液的清洗,會使用有一濕洗機,該濕洗機上會設置有液刀及風刀的設備;將清洗液體或氣體,灌入至該液刀或風刀內,並透過該液體或氣體的壓力,使該液刀或風刀可以產生一全面且均勻的沖洗或吹拭效果。
惟,因為液刀及風刀的排出口間隙很小,並且需要全面且均勻的沖洗或吹拭效果。如果有清洗液體或氣體內有微小的異物進入液刀或風刀內,則很容易會讓液刀及風刀的排出口產生堵塞,進而造成清洗或吹拭不完全的情況,而使生產的良率降低。所以,當液刀或風刀排出口形成堵塞的狀況時,就需要將該液刀或風刀進行拆解及清潔。使內部的異物得以被排除,而維持清潔的效果。但是,因為液刀或風刀的排出口極小,零件也相對繁瑣,每次拆解、清潔及校正排出口間隙,往往需要耗費相當的時間,造成效率的低落。
本發明之主要目的係在於提供一種不需拆解即可將異物排出之流體刀。
本發明之另一目的係在於,提供一種方便維護,可降低維修時間的流體刀。
為達上述目的,本發明係提供一種流體刀,包含有: 一本體,其中央係凹設有一容置空間,該容置空間頂部設置有至少一注入單元與該容置空間連通;該容置空間底部設置有一排出單元;該本體並於該排出單元側邊斜向貫設置少有一排出口; 一導流部,設置於該容置空間與該排出單元之間,該導流部之頂部具有至少一斜面,該斜面之底部位置連接有各該排出口,各該排出口與該斜面之間具有一夾角,角度為120∘~180∘; 一蓋板,其蓋合於該本體上,該蓋板上並貫設有至少一導出孔,該導出孔之直徑係大於該排出口之直徑,且該導出孔之位置概設於該斜面與該排出口之交會處;該導出孔可選擇性封閉。
本發明所提供之一種流體刀,其可透過該導流部的斜面產生一集中導流的效果。將異物以流動的壓力導引至該排出口位置排出,並且,該排出口與該斜面之間的夾角平坦,可使異物容易排出不易聚集。另外,較大型的異物也可透過該蓋板之導出孔進行移除,可降低拆解流體刀之機會及次數,相對可以降低維修的時間及成本。
10:本體
11:容置空間
111:緩和間隔區
112:飽和區
12:注入單元
121:注入口
122:緩衝部
13:排出單元
131:彈片部
132:排出槽
133:基座
134:調整桿
14:排出口
15:匯流槽
20:導流部
21:斜面
30:蓋板
31:導出孔
G:間隙
θ:角度
為使 貴審查委員能進一步瞭解本發明之目的、特徵以及所達成之功效,以下茲舉二較佳實施例,並配合圖式詳細說明於後,其中:圖1為本發明較佳實施例之立體外觀圖。
圖2為本發明較佳實施例之立體分解圖。
圖3為本發明較佳實施例之本體前視圖。
圖4為圖1中4-4剖線位置之剖面示意圖。
圖5為本發明較佳實施例之流體流動示意圖。
圖6為本發明較佳實施例之流體於導流部之斜面位置流動示意圖。
圖7為本發明較佳實施例之排出單元與蓋板間之間隙位置調整動作示意圖。
圖8為本發明第二較佳實施例之本體前視圖。
圖9為本發明第二較佳實施例圖8之局部放大圖。
請配合參閱圖1至4所示,其係為本發明所提供之一流體刀之較佳實施例,其係包含有:一本體10,其中央係凹設有一容置空間11,該容置空間11頂部設置有三注入單元12與該容置空間11連通;該 容置空間11底部設置有一排出單元13;該本體10並於該排出單元13之二側邊斜向朝遠離容置空間11的方向貫設有二排出口14,該排出口14可與該容置空間11相連通;該容置空間11之上方為一緩和間隔區111,下方為一飽和區112,該緩和間隔區111係與該注入單元12相連接;該飽和區112係與該排出單元13相連接;該等注入單元12係分別包含有一注入口121及一緩衝部122,該等注入口121係設於該本體10之最頂端,該緩衝部122設於該注入口121之下方與該容置空間11之緩和間隔區111相連通,且該緩衝部122之截面積大於該注入口121之截面積;該排出單元13係為一彈片部131、一排出槽132及一調整部所構成,該彈片部131唯一片狀結構具有彈性,該排出槽132係凹設於該彈片部131上,該排出槽132與該容置空間11之下方飽和區112位置相連通;該調整部可以調整該彈片部131之位置,該調整部13係為一基座133及數調整桿134所構成,該基座133係與該彈片部131間隔設置,該等調整桿134於本實施例中係為螺桿螺設於該基座133上,該等調整桿134係可於該基座133上往復移動,該等調整桿134之末端係抵持於該彈片部131上,以調整該彈片部131之位置;該等排出口14也是設置於該彈片部131上;該排出口14的直徑為120μm。
一導流部20,設置於該本體10之容置空間11與該排出單元13之間,也就是位在該容置空間11之飽和區112之下方與排出槽132之上方,該導流部20為一體成形方式設置於該本體10上,其亦可為獨立加工後,裝設於該本體10內,或其他方式所構成;該導流部20之頂部具有二斜面21,由該導流部20之中央往兩側傾斜,該二斜面21之底部位置連接有該二排出口14,該二排出口14與該二斜面21之間具有一夾角θ,角度為120°~180°;本實施例中,其夾角θ係為150°,使該二排出口14與該二斜面21間之交會處不會形成有太大的轉折;該斜面21除了有一個由上朝下的傾斜外。
一蓋板30,其蓋合於該本體10上,該蓋板30上並貫設有二導出孔31,該導出孔31之直徑為4mm,係大於該二排出口14之直徑,且該二導出孔31之位置概設於該導流部20之斜面21底部與該排出口14之交會處位置;該導出孔31可以一塞體或螺栓選擇性封閉及開啟,通常狀態為封閉狀態;另外,該蓋板30與該彈片部131前端之該排出槽132之間形成有一可調整的間隙G,透過該調整桿134移動該彈片131部之位置,以調整該排出槽與該蓋板30之間的間隙,而可控制其排出量的大小。
使用時,請參閱圖5所示,流體刀在使用時,先將清潔液或是氣體等流體由該本體10上方之注入單元12之 注入口121位置注入至該本體10內,流體會因重力作用而由上往下流動,先經由該注入口121流動至該緩衝部122,該緩衝部122之截面積大於該注入口121之截面積,所以流入該注入口121內的流體會先留入至該緩衝部122內,透過該緩衝部122之截面積大於該注入口121,使該緩衝部122可將內部的流體均勻的分布,避免集中於單一位置;接著,緩衝部122內的流體由該緩和間隔區111流至該飽和區112位置,飽和區112內的流體會匯集並均勻地由該排出單元13的排出槽132與蓋板20之間形成的間隙G排出,並均勻地進行塗佈、清潔或是吹乾等不同的作用。
請配合參閱圖6所示,當流體由該容置空間11的飽和區112要流入至該排出單元13之排出槽132時,該流體會先流經該導流部20位置,該導流部20之斜面21,因流體的壓力以及重力的影響,會使異物沿著斜面21落下至斜面21之底部,並隨著該排出口14排出,因為該排出口14的孔徑大於該蓋板30與該排出槽132間之間隙,相對可以產生一個較大的出口;異物可以直接透過該排出口14隨著流體排出,使該排出單元13的排出槽132與蓋板30之間的間隙G可以保持通暢,不易形成異物阻塞的情況,如此,可使該流體刀的塗佈順暢,維持良率並降低維修時間;同時,因為該排出口14與該斜面21之間保持一個較平緩的交角之 角度θ,可讓流體的流動順暢,讓雜質可以順利排除,不易滯留在該容置空間11或排出單元13位置。
另外,當遇到大於該排出口14的孔徑(大於120μm)的異物,使該排出口14無法排出,或是要進行內部的清潔維護動作時,可以將該蓋板30之導出孔31打開,如取下塞體或螺栓等物,使用者可透過該排出口14進入該容置空間11內,對於較大型的異物或是雜質進行清理。清理完成再將該排出口14封閉即可。
請參閱圖7所示,該彈片部131受到該等調整桿134的頂撐作用而可以調整與該蓋板30間之間隙G的大小,如此,會使該排出槽132與蓋板30之間為平整的平面,沒有任何障礙,使該排出槽132所排出的流體不會受到干擾而產生分流或流動不平均的狀態。
請參閱圖8及9所示,其係為本發明所提供之第二較佳實施例,其主要結構係與前一較佳實施例相同,相同結構以相同符號表示,不另贅述,其中: 該導流部20僅具有一該斜面21,該斜面21由一側往另一側傾斜,相對於該導流部20的斜面21底緣設置有該排出口14。透過單一方向的流動。讓流體可以往同一方向傾斜流動。另外,該本體10於相對該蓋板30之導出孔31位置處設置有一匯流槽15,該匯流槽15會與該飽和區112連通,當異物未即時由該排出口14排出時,可以積存在該匯流槽 15內,並且,當該蓋板30之導出孔31開啟後,該匯流槽15正對於該導出孔31,可以集中清潔,提升清潔的效率。
本發明之流體刀,其透過排出口以及導出孔可以產生良好的排除異物效果,可維持長時間操作而不需要拆解維修,可降低維修成本;透過該操作口與換向件設置於距離握持部之該底部一單手握持長度之距離,讓使用者可以單手握持並進行換向的操作,讓該換向組於遠離該驅動裝置之位置進行換向的動作,與習知之換向結構相比,其換向動作可以不需要將該動力工具自操作位置取下,或是使用者需要將手脫離握持部後再進行換向動作,或是需要同時使用雙手進行操作。
上揭實施例僅係說明本發明之技術手段而非限制,舉凡由本發明之等效修改,均應視為本發明之保護範圍。本發明之流體刀於此領域中首創之結構,並具實用功效之增進,依法提出申請。
10:本體
11:容置空間
111:緩和間隔區
112:飽和區
12:注入單元
121:注入口
122:緩衝部
13:排出單元
131:彈片部
132:排出槽
133:基座
134:調整桿
14:排出口
20:導流部
21:斜面
30:蓋板
31:導出孔

Claims (8)

  1. 一種流體刀,係包含有:一本體,其中央係凹設有一容置空間,該容置空間頂部設置有至少一注入單元與該容置空間連通;該容置空間底部設置有一排出單元;該本體並於該排出單元側邊斜向貫設置少有一排出口;一導流部,設置於該容置空間與該排出單元之間,該導流部之頂部具有至少一斜面,該斜面之底部位置連接有各該排出口,各該排出口與該斜面之間具有一夾角,角度為120°~180°;一蓋板,其蓋合於該本體上,該蓋板上並貫設有至少一導出孔,該導出孔之直徑係大於該排出口之直徑,且該導出孔之位置概設於該斜面與該排出口之交會處;該導出孔可選擇性封閉;該排出單元係為一彈片部、一排出槽及一調整部所構成,該排出槽係凹設於該彈片部上,該排出槽與該容置空間相連通;該調整部可以調整該彈片部與該蓋板間之距離,該調整部係為一基座及數調整桿所構成,該等調整桿係可於該基座上往復移動,該等調整桿之末端係可抵持於該彈片部上,以調整該彈片部與該蓋板間之距離。
  2. 如請求項1所述之流體刀,其中:該導流部係一體成形於該本體上。
  3. 如請求項1所述之流體刀,其中:該導流部之斜面係為兩面,由中央朝兩側向下傾斜,該本體係相對於該排出單元之兩側分別設置有一該排出口。
  4. 如請求項1至3任一項所述之流體刀,其中:該斜面係有一由上朝下及由後朝前的傾斜。
  5. 如請求項1所述之流體刀,其中;各該注入單元係包含有一注入口及一緩衝部,該注入口係設於該本體之最頂端,該緩衝部設於該注入口之下方,且該緩衝部之截面積大於該注入口之截面積。
  6. 如請求項1所述之流體刀,其中:該容置空間上方為一緩和間隔區,下方為一飽和區,該緩和間隔區係與該注入單元相連接;該飽和區係與該導流部相連接。
  7. 如請求項1所述之流體刀,其中:該排出口的直徑為120μm;該導出孔的直徑為4mm。
  8. 如請求項1所述之流體刀,其中:該本體之容置空間內設置有一匯流槽,該匯流槽之位置係與該導出孔重疊。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWM430321U (en) * 2011-10-21 2012-06-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Liquid knife
TWM465969U (zh) * 2013-05-21 2013-11-21 Chih Chong V Entpr Co Ltd 風刀結構

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWM430321U (en) * 2011-10-21 2012-06-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Liquid knife
TWM465969U (zh) * 2013-05-21 2013-11-21 Chih Chong V Entpr Co Ltd 風刀結構

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