TWI777499B - 成像鏡頭模組、成像鏡頭驅動模組、相機模組與電子裝置 - Google Patents

Abstract

一種成像鏡頭驅動模組，包含鏡頭載體、第一模造結構、第二模造結構、驅動機構以及力學機構。鏡頭載體定義光軸。第一模造結構與鏡頭載體對應設置，並包含第一遮光結構。第二模造結構耦合第一模造結構以形成內部空間，鏡頭載體容置於內部空間，且第二模造結構包含第二遮光結構。驅動機構用以驅動鏡頭載體沿光軸移動。力學機構用以將鏡頭載體與第一模造結構互相連接。第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第一遮光結構與第二遮光結構互相對應設置，進而形成通光孔。藉由通光孔可避免非成像光線進入成像鏡頭或成像面，有利於提升成像品質。

Description

成像鏡頭模組、成像鏡頭驅動模組、相機模組與電子裝置

本揭示內容係關於一種成像鏡頭模組與成像鏡頭驅動模組，且特別是一種設置於應用在可攜式電子裝置上相機模組的成像鏡頭模組與成像鏡頭驅動模組。

近年來，可攜式電子裝置發展快速，例如智慧型電子裝置、平板電腦等，已充斥在現代人的生活中，而裝載在應用於可攜式電子裝置上相機模組的成像鏡頭模組及成像鏡頭驅動模組也隨之蓬勃發展。但隨著科技愈來愈進步，使用者對於成像鏡頭驅動模組的品質要求也愈來愈高。因此，發展一種可降低產生雜散光的機率且可維持較佳的成像品質的成像鏡頭驅動模組遂成為產業上重要且急欲解決的問題。

本揭示內容提供一種成像鏡頭模組、成像鏡頭驅動模組、相機模組與電子裝置，藉由成像鏡頭模組與成像鏡頭驅動模組的模造結構形成的通光孔可避免非成像光線進入成像鏡頭或成像面。藉此，有利於提升成像品質。

依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭驅動模組，包含一鏡頭載體、一第一模造結構、一第二模造結構、一驅動機構以及一力學機構。鏡頭載體定義一光軸。第一模造結構與鏡頭載體對應設置，並包含一第一遮光結構。第二模造結構耦合於第一模造結構以形成一內部空間，鏡頭載體容置於內部空間，且第二模造結構包含一第二遮光結構。驅動機構用以驅動鏡頭載體沿光軸移動。力學機構用以將鏡頭載體與第一模造結構互相連接。第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第一遮光結構與第二遮光結構互相對應設置，進而形成一通光孔，其中通光孔通過光軸的一剖面包含一谷點、一第一峰點以及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，且第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其滿足下列條件： 0.1 ＜ d1/D ＜ 0.95；以及0.1 ＜ d2/D ＜ 0.95。再者，其可滿足下列條件： 0.5 ＜ d1/D ＜ 0.91；以及0.5 ＜ d2/D ＜ 0.91。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中光軸可通過通光孔，使得鏡頭載體與通光孔同軸配置。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中通光孔可環繞光軸且為一封閉環狀。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中力學機構可包含至少一鐵磁性元件，且鐵磁性元件對應於驅動機構。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中谷點與第一峰點的連線及谷點與第二峰點的連線可形成一夾角θ，谷點與第一峰點的連線及平行於光軸的一直線可形成一夾角θ1，谷點與第二峰點的連線及平行於光軸的直線可形成一夾角θ2。再者，其可滿足下列條件： θ+θ1+θ2 = 180度。另外，其可滿足下列條件： 5度 ＜ θ1 ＜ 157度；以及5度 ＜ θ2 ＜ 157度。

依據本揭示內容一實施方式提供一種相機模組，包含前述實施方式之成像鏡頭驅動模組。

依據本揭示內容一實施方式提供一種電子裝置，包含前述實施方式之相機模組及一電子感光元件，其設置於相機模組的一成像面。

依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭驅動模組，包含一鏡頭載體、一第一模造結構、一第二模造結構、一驅動機構以及一力學機構。鏡頭載體定義一光軸。第一模造結構與鏡頭載體對應設置。第二模造結構耦合於第一模造結構以形成一內部空間，且鏡頭載體容置於內部空間。驅動機構用以驅動鏡頭載體沿光軸移動。力學機構用以將鏡頭載體與第一模造結構互相連接。第一模造結構與第二模造結構中至少一者形成一通光孔，通光孔包含一遮光結構。通光孔通過光軸的一剖面包含一谷點、一第一峰點以及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，且第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其滿足下列條件： 0.1 ＜ d1/D ＜ d2/D；以及0.90 ＜ d2/D ＜ 1.0。再者，其可滿足下列條件： 0.5 ＜ d1/D ＜ d2/D；以及0.94 ＜ d2/D ＜ 1.0。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中光軸可通過通光孔，使得鏡頭載體與通光孔同軸配置。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中通光孔可環繞光軸且為一封閉環狀。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，通光孔的剖面定義一彈性離型比例EDR，其可滿足下列條件： EDR=[(D-d1)/D]×100%；以及0% ＜ EDR ＜ 15%。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，可更包含至少一光線轉折元件。光線轉折元件用以將一成像光線從光線轉折元件的一入光光路轉折至光線轉折元件的一出光光路，並定義另一光軸。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中第一模造結構可形成一內部空間，且至少一光線轉折元件容置於內部空間。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中力學機構可包含至少一鐵磁性元件，且鐵磁性元件對應於驅動機構。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭驅動模組，其中谷點與第一峰點的連線及谷點與第二峰點的連線形成一夾角θ，谷點與第一峰點的連線及平行於光軸的一直線形成一夾角θ1，谷點與第二峰點的連線及平行於光軸的直線形成一夾角θ2。再者，其可滿足下列條件： θ+θ1+θ2 = 180度。另外，其可滿足下列條件：5度 ＜ θ1 ＜ 157度；以及5度 ＜ θ2 ＜ 157度。

依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭模組，包含一鏡頭載體。鏡頭載體包含一成像透鏡組、一光線轉折元件、一第一模造結構以及一第二模造結構。成像透鏡組定義一光軸。光線轉折元件用以將一成像光線從光線轉折元件的一入光光路轉折至光線轉折元件的一出光光路。第一模造結構與光線轉折元件對應設置，並包含一第一遮光結構。第二模造結構耦合於第一模造結構以形成一內部空間，且成像透鏡組與光線轉折元件中至少一者容置於內部空間，第二模造結構包含一第二遮光結構。第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第一遮光結構與第二遮光結構互相對應設置，進而形成一第一通光孔。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭模組，其中第一模造結構可更包含一第三遮光結構，第二模造結構可更包含一第四遮光結構，且第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第三遮光結構與第四遮光結構互相對應設置，進而形成一第二通光孔。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭模組，其中光線轉折元件的入光光路可通過第一通光孔。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭模組，其中光線轉折元件的出光光路可通過第二通光孔。

依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭模組，包含一鏡頭載體。鏡頭載體包含一成像透鏡組、一光線轉折元件、一第一模造結構、一第二模造結構以及一第三模造結構。成像透鏡組定義一光軸。光線轉折元件用以將一成像光線從光線轉折元件的一入光光路轉折至光線轉折元件的一出光光路。第一模造結構與成像透鏡組對應設置，並包含一第一遮光結構。第二模造結構與成像透鏡組對應設置，並包含一第二遮光結構。第三模造結構耦合於第一模造結構及第二模造結構以形成一內部空間，且成像透鏡組與光線轉折元件中至少一者容置於內部空間，第三模造結構包含一第三遮光結構。第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構耦合後，使得第一遮光結構、第二遮光結構及第三遮光結構互相對應設置，進而形成一第三通光孔。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭模組，其中第三通光孔通過光軸的一剖面包含一谷點、一第一峰點以及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其可滿足下列條件： 0.94 ＜ d1/D ＜ 1.0；以及0.94 ＜ d2/D ＜ 1.0。

依據前段所述實施方式的成像鏡頭模組，其中光線轉折元件的入光光路通過第三通光孔。

本揭示內容提供一種相機模組，其包含一成像鏡頭模組或一成像鏡頭驅動模組。相機模組可更包含一鏡頭載體、一第一模造結構、一第二模造結構。鏡頭載體可用以定義一光軸。第一模造結構及第二模造結構可相互耦合形成一內部空間或是其中至少一者形成一內部空間，藉以供鏡頭載體或其他元件對應設置於其中。第一模造結構可與鏡頭載體或其他元件對應設置。第一模造結構及第二模造結構耦合後形成一具有遮光結構的通光孔。藉由通光孔的設計，當大角度的非成像光線進入通光孔時，具有遮光結構之通光孔可改變非成像光線的原有路徑，避免非成像光線進入成像鏡頭或成像面。藉此，有利於提升成像品質。

成像鏡頭驅動模組可包含前述之鏡頭載體、第一模造結構、第二模造結構、一驅動機構及一力學機構。第二模造結構可耦合於第一模造結構以形成一內部空間，且鏡頭載體可容置於內部空間。驅動機構用以驅動鏡頭載體沿光軸移動。力學機構用以將鏡頭載體與第一模造結構互相連接。耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。

模造結構的數量可大於二，可以是三、四、五等，且模造結構的標號，例如第一模造結構，僅只是描述不同的模造結構，本揭示內容不以其數量及標號為限。

第一模造結構與第二模造結構可分別包含一第一遮光結構與一第二遮光結構。第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第一遮光結構與第二遮光結構可互相對應設置，進而形成一通光孔。通光孔通過光軸的一剖面，且包含一谷點、一第一峰點以及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，且第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其可滿足下列條件： 0.1 ＜ d1/D ＜ 0.95；以及0.1 ＜ d2/D ＜ 0.95。藉由第一模造結構與第二模造結構的配置，可提供可分拆式的模造製品，使得更多樣且複雜的遮光結構構形可透過模具設計達成，並且可同時形成內部空間與通光孔，進而降低生產成本。再者，透過第一模造結構與第二模造結構耦合後形成的通光孔，可提供額外的光學設計裕度在遮光結構上。

第一模造結構與第二模造結構中至少一者可形成一通光孔且通光孔包含一遮光結構。通光孔通過光軸的一剖面，且包含一谷點、一第一峰點以及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其可滿足下列條件： 0.1 ＜ d1/D ＜ d2/D；以及0.90 ＜ d2/D ＜ 1.0。藉由彈性離型製成，第一模造結構與第二模造結構中至少一者可未經耦合而形成封閉環狀的通光孔，且通光孔具有的遮光結構可為一種凹凸相間的遮光結構。在模造製品成型階段，透過塑料本身的彈性，可更容易透過模具設計成型較為複雜的模造製品。透過凹凸相間的遮光結構，可將非成像光線反射，進而減弱非成像光線的強度。

谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其可滿足下列條件： 0.5 ＜ d1/D ＜ 0.91；以及0.5 ＜ d2/D ＜ 0.91。透過第一峰點與第二峰點較佳的配置比例，使得谷點的深度更理想。藉此，可提升雜散光的遮蔽機率。再者，其可滿足下列條件： 0.5 ＜ d1/D ＜ d2/D；以及0.94 ＜ d2/D ＜ 1.0。透過谷點、第一峰點與第二峰點較佳的配置比例，使遮光結構可更適用於彈性離型，以節省模具設計的製造成本。進一步來說，通光孔的剖面可定義一彈性離型比例EDR，其可滿足下列條件： EDR=[(D-d1)/D]×100%；以及0% ＜ EDR ＜ 15%。藉此，通光孔可透過彈性離型形成。

光軸可通過通光孔，使得鏡頭載體與通光孔同軸配置。透過鏡頭載體與通光孔的配置，可維持鏡頭載體與通光孔之間的同軸度，防止通光孔遮蔽非成像光線以外的光線。藉此，可提升成像品質。

通光孔可環繞光軸且為一封閉環狀。藉此可確保第一遮光結構與第二遮光結構互相對應設置的連續性，進而維持較高的遮光效率。

力學機構可藉由磁力、重力或勞倫茲力等，將鏡頭載體與第一模造結構互相連接，但本揭示內容不以此為限。換句話說，透過力學機構與鏡頭載體互相連接的模造結構，被定義為第一模造結構。

力學機構可包含一鐵磁性元件，且鐵磁性元件對應於驅動機構。透過鐵磁性元件的配置，力學機構可藉由磁力連接鏡頭載體與第一模造結構，進而穩定鏡頭載體、第一模造結構及驅動機構的連接性，避免成像鏡頭驅動模組在運行過程中元件有不當的位移，且讓磁吸力的驅動效率最佳化。藉此，可提升對焦的穩定度。

成像鏡頭驅動模組可更包含一光線轉折元件。光線轉折元件用以將一成像光線從光線轉折元件的一入光光路轉折至光線轉折元件的一出光光路，並定義另一光軸。藉由光線轉折元件使成像鏡頭驅動模組達到更理想的空間運用，可以較小的內部空間容納長焦距所經過的光路。藉此，可提供微型鏡頭的可行性。

第一模造結構可形成一內部空間，且光線轉折元件容置於內部空間。透過通光孔配置在光線轉折元件的物側及像側中至少一者，可有效遮蔽非成像光線。藉此，可保持影像的清晰度。

谷點與第一峰點的連線及谷點與第二峰點的連線形成一夾角θ，谷點與第一峰點的連線及平行於光軸的一直線形成一夾角θ1，谷點與第二峰點的連線及平行於光軸的直線形成一夾角θ2，以此定義出第一遮光結構與第二遮光結構互相對應設置而形成的通光孔之輪廓。再者，其可滿足下列條件：θ+θ1+θ2 = 180度。可提供較佳的夾角設定範圍，藉以使非成像光線於夾角θ內反射。進一步來說，其可滿足下列條件： 5度 ＜ θ1 ＜ 157度；以及5度＜ θ2 ＜ 157度。透過夾角θ1與夾角θ2的配置，谷點、第一峰點與第二峰點形成的開口可朝光軸漸擴。藉此，有利於改變非成像光線的原有路徑。

成像鏡頭模組可包含前述之鏡頭載體。鏡頭載體包含一成像透鏡組、一光線轉折元件、一第一模造結構以及一第二模造結構。成像透鏡組可定義光軸。光線轉折元件用以將一成像光線從光線轉折元件的一入光光路轉折至光線轉折元件的一出光光路。第一模造結構可與光線轉折元件或成像透鏡組對應設置，並包含一第一遮光結構。第二模造結構可與成像透鏡組對應設置，且耦合於第一模造結構以形成一內部空間，成像透鏡組與光線轉折元件中至少一者容置於內部空間，且第二模造結構包含一第二遮光結構。第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第一遮光結構與第二遮光結構可互相對應設置，進而形成一第一通光孔。

第一模造結構可更包含一第三遮光結構，第二模造結構可更包含一第四遮光結構，且第一模造結構與第二模造結構耦合後，使得第三遮光結構與第四遮光結構可互相對應設置，進而形成一第二通光孔。藉此，同一鏡頭載體可包含兩個以上的通光孔，以對應更複雜的光學設計並減少組裝公差。

具體而言，光線轉折元件可為稜鏡或者鏡子，但本揭示內容不以此為限。光線轉折元件可藉由內部的至少一反射面將成像光線的光路轉折，轉折次數隨反射面數量增加。透過光線轉折元件的配置，可製造出潛望式成像鏡頭模組。藉此，可滿足長焦距光路需求。

光線轉折元件的入光光路可通過第一通光孔，藉以滿足入光光路的遮光需求；光線轉折元件的出光光路可通過第二通光孔，藉以滿足出光光路的遮光需求。藉此，可減少雜散光的產生。

鏡頭載體可更包含一第三模造結構。第三模造結構耦合於第一模造結構與第二模造結構，其中第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構形成內部空間，且成像透鏡組與光線轉折元件中至少一者容置於內部空間。透過第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的配置，鏡頭載體可為可分拆式的模造製品，進而降低製品離型的困難度。藉此，可提升良品率。

第三模造結構可包含一第三遮光結構，且第一模造結構、第二模造結構與第三模造結構耦合後，使得第一遮光結構、第二遮光結構與第三遮光結構互相對應設置，進而形成一第三通光孔。透過多個模造結構耦合的模造結構，可對應更複雜的遮光結構設計需求。

第三通光孔可通過光軸的一剖面，且包含一谷點、一第一峰點及一第二峰點。谷點為剖面中最遠離光軸者，第一峰點為剖面中最靠近光軸之一者，且第二峰點為以谷點垂直光軸的一直線為基準，相對於第一峰點的另一側之中最靠近光軸者。谷點與光軸的距離為D，第一峰點與光軸的距離為d1，第二峰點與光軸的距離為d2，其可滿足下列條件： 0.94 ＜ d1/D ＜ 1.0；以及0.94 ＜ d2/D ＜ 1.0。透過谷點、第一峰點與第二峰點較佳的配置比例，第一遮光結構、第二遮光結構與第三遮光結構對應形成的第三通光孔可適用於不同構形。藉此，可符合不同的光學設計需求。

光線轉折元件的入光光路可通過第三通光孔，藉以滿足入光光路的遮光需求。藉此，可減少雜散光的產生。

上述本揭示內容的相機模組中的各技術特徵皆可組合配置，而達到對應之功效。

本揭示內容提供一種電子裝置包含前述之相機模組及一電子感光元件。電子感光元件設置於相機模組的一的一成像面。

根據上述實施方式，以下提出具體實施方式及實施例並配合圖式予以詳細說明。

＜第一實施方式＞

請參照第1A圖、第1B圖及第1C圖，其中第1A圖繪示依照本揭示內容第一實施方式中成像鏡頭驅動模組100的立體示意圖，第1B圖繪示依照第1A圖第一實施方式中成像鏡頭驅動模組100的爆炸圖，第1C圖繪示依照第1A圖第一實施方式中成像鏡頭驅動模組100的另一視角的爆炸圖。由第1A圖、第1B圖及第1C圖可知，成像鏡頭驅動模組100包含一鏡頭載體110、一第一模造結構120、一第二模造結構130、一驅動機構(圖未標示)、一力學機構(圖未標示)、一軟性電路板160及一上蓋170。

鏡頭載體110定義一光軸X。第一模造結構120與鏡頭載體110對應設置，並包含一第一遮光結構121。第二模造結構130耦合於第一模造結構120以形成一內部空間122(標示於第1D圖)，鏡頭載體110容置於內部空間122，且第二模造結構130包含一第二遮光結構131。驅動機構用以驅動鏡頭載體110沿光軸X移動。力學機構用以將鏡頭載體110與第一模造結構120互相連接。上蓋170蓋設於軟性電路板160，並將鏡頭載體110、第一模造結構120、第二模造結構130、驅動機構及力學機構容納於其中。

具體而言，驅動機構可包含至少一驅動磁石141及至少一驅動線圈142；第一實施方式中，驅動磁石141與驅動線圈142的數量分別為二，驅動磁石141分別設置於鏡頭載體110的二外側，驅動線圈142分別設置於軟性電路板160的二內側，且二驅動磁石141分別對應二驅動線圈142，但本揭示內容不以此為限。藉此，可透過驅動磁石141與驅動線圈142的相對感應而帶動鏡頭載體110位移進行對焦。

如第1B圖及第1C圖所示，力學機構可包含至少一鐵磁性元件151，且鐵磁性元件151對應於驅動機構。第一實施方式中，鐵磁性元件151的數量為二，其設置於第一模造結構120並分別對應驅動機構的二驅動磁石141，但本揭示內容不以此為限。由於驅動磁石141設置於鏡頭載體110，透過鐵磁性元件151的配置，力學機構可藉由磁力連接鏡頭載體110與第一模造結構120，提升成像鏡頭驅動模組100運行過程中的對焦穩定度。另外，力學機構可更包含複數滾珠152，其設置於鏡頭載體110與第一模造結構120之間；具體而言，第一實施方式中，滾珠152的數量為四，但本揭示內容不以此為限。滾珠152的配置可使鏡頭載體110更加穩定地沿光軸X移動，以提升對焦的穩定度。

請配合參照第1D圖及第1E圖，其中第1D圖繪示依照第1A圖第一實施方式中第一模造結構120與第二模造結構130耦合的示意圖，第1E圖繪示依照第1A圖第一實施方式中鏡頭載體110、第一模造結構120與第二模造結構130的組合示意圖。如第1B圖至第1E圖所示，第一模造結構120與第二模造結構130耦合後，使得第一遮光結構121與第二遮光結構131互相對應設置，進而形成通光孔123、124。詳細來說，第一模造結構120與第二模造結構130耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。藉由通光孔123、124的設計，當大角度的非成像光線進入由第一遮光結構121與第二遮光結構131形成之通光孔123、124時，其可改變非成像光線的路徑，避免非成像光線進入成像鏡頭或成像面。藉此，有利於提升成像品質。

如第1E圖所示，光軸X可通過通光孔123、124，使得鏡頭載體110與通光孔123、124同軸配置。藉此，可維持鏡頭載體110與通光孔123、124之間的同軸度，防止通光孔123、124遮蔽非成像光線以外的光線，以提升成像品質。再者，通光孔123、124可環繞光軸X且為一封閉環狀。透過通光孔123、124的設計，可確保第一遮光結構121與第二遮光結構131互相對應設置的連續性，而維持高遮光效率。具體而言，第一遮光結構121與第二遮光結構131互相對稱連接，使得通光孔123、124的形狀保持一連續且封閉的環狀孔。

請參照第1F圖及第1G圖，其中第1F圖繪示依照第1A圖第一實施方式中第一模造結構120與第二模造結構130耦合的側視圖，第1G圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第一實施例中第一模造結構120與第二模造結構130沿剖線1G-1G的剖視圖。必須說明的是，在第一實施方式中，第一遮光結構121與第二遮光結構131形成之通光孔123，依據不同的光學設計需求，可提供第一實施例、第二實施例及第三實施例三種不同結構的通光孔123，為簡化圖式起見，第一實施方式之第一實施例、第二實施例及第三實施例中的通光孔123以相同編號表示，而第一實施方式之第一實施例、第二實施例及第三實施例中其他元件與其配置關係皆相同，在此不另贅述。再者，第一實施方式中，第一遮光結構121與第二遮光結構131形成之通光孔124的結構可與通光孔123相同，也可與第二實施方式中通光孔223(標示於第2B圖)相同，但本揭示內容不以此為限。第二實施方式中通光孔223細部結構將在第二實施方式詳細說明，在此不另贅述。

如第1G圖所示，第一實施方式之第一實施例中，通光孔123通過光軸X的一剖面包含一谷點1231a、一第一峰點1232a以及一第二峰點1233a。具體而言，所述剖面為第一模造結構120與第二模造結構130耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點1231a為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點1232a為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點1233a為以谷點1231a垂直光軸X的一直線Y為基準，相對於第一峰點1232a的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點1231a、第一峰點1232a以及第二峰點1233a為位於第一遮光結構121與第二遮光結構131形成的遮光結構在第1G圖剖面中的點。

請配合參照第1H圖及第1I圖，其中第1H圖繪示依照第1G圖第一實施方式之第一實施例中通光孔123的參數示意圖，第1I圖繪示依照第1G圖第一實施方式之第一實施例中通光孔123的另一參數示意圖。如第1H圖及第1I圖所示，谷點1231a與光軸X的距離為D，第一峰點1232a與光軸X的距離為d1，第二峰點1233a與光軸X的距離為d2，谷點1231a與第一峰點1232a的連線及谷點1231a與第二峰點1233a的連線形成一夾角θ，谷點1231a與第一峰點1232a的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點1231a與第二峰點1233a的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔123的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表一的條件。

表一、第一實施方式之第一實施例
D (mm)	5.03	θ (度)	78.5
d1 (mm)	4.4	θ1 (度)	71.8
d2 (mm)	4.4	θ2 (度)	29.7
d1/D	0.875	EDR (%)	12.5
d2/D	0.875

請參照第1J圖，第1J圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第二實施例中第一模造結構120與第二模造結構130沿剖線1G-1G的剖視圖。如第1J圖所示，第一實施方式之第二實施例中，通光孔123通過光軸X的一剖面包含一谷點1231b、一第一峰點1232b以及一第二峰點1233b。谷點1231b為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點1232b為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點1233b為以谷點1231b垂直光軸X的一直線Y(標示於第1K圖)為基準，相對於第一峰點1232b的另一側之中最靠近光軸X者。

請配合參照第1K圖及第1L圖，其中第1K圖繪示依照第1J圖第一實施方式之第二實施例中通光孔123的參數示意圖，第1L圖繪示依照第1J圖第一實施方式之第二實施例中通光孔123的另一參數示意圖。如第1K圖及第1L圖所示，谷點1231b與光軸X的距離為D，第一峰點1232b與光軸X的距離為d1，第二峰點1233b與光軸X的距離為d2，谷點1231b與第一峰點1232b的連線及谷點1231b與第二峰點1233b的連線形成一夾角θ，谷點1231b與第一峰點1232b的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點1231b與第二峰點1233b的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔123的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表二的條件。

表二、第一實施方式之第二實施例
D (mm)	4.92	θ (度)	66.6
d1 (mm)	4.1	θ1 (度)	56.7
d2 (mm)	4.1	θ2 (度)	56.7
d1/D	0.833	EDR (%)	16.7
d2/D	0.833

請參照第1M圖，其中第1M圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第三實施例中第一模造結構120與第二模造結構130沿剖線1G-1G的剖視圖。如第1M圖所示，第一實施方式之第三實施例中，通光孔123通過光軸X的一剖面包含一谷點1231c、一第一峰點1232c以及一第二峰點1233c。具體而言，剖面為第一模造結構120與第二模造結構130耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點1231c為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點1232c為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點1233c為以谷點1231c垂直光軸X的一直線Y(標示於第1N圖)為基準，相對於第一峰點1232c的另一側之中最靠近光軸X者。

請配合參照第1N圖及第1O圖，其中第1N圖繪示依照第1M圖第一實施方式之第三實施例中通光孔123的參數示意圖，第1O圖繪示依照第1M圖第一實施方式之第三實施例中通光孔123的另一參數示意圖。如第1N圖及第1O圖所示，谷點1231c與光軸X的距離為D，第一峰點1232c與光軸X的距離為d1，第二峰點1233c與光軸X的距離為d2，谷點1231c與第一峰點1232c的連線及谷點1231c與第二峰點1233c的連線形成一夾角θ，谷點1231c與第一峰點1232c的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點1231c與第二峰點1233c的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔123的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表三的條件。

表三、第一實施方式之第三實施例
D (mm)	5.02	θ (度)	92.3
d1 (mm)	4.4	θ1 (度)	58.1
d2 (mm)	4.5	θ2 (度)	29.6
d1/D	0.876	EDR (%)	12.4
d2/D	0.896

＜第二實施方式＞

請參照第2A圖、第2B圖及第2C圖，其中第2A圖繪示依照本揭示內容第二實施方式中成像鏡頭驅動模組200的立體示意圖，第2B圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組200的爆炸圖，第2C圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組200的另一視角的爆炸圖。由第2A圖、第2B圖及第2C圖可知，成像鏡頭驅動模組200包含一鏡頭載體210、一第一模造結構220、一第二模造結構230、一驅動機構(圖未標示)、一力學機構(圖未標示)、一軟性電路板260及一上蓋270。

鏡頭載體210定義一光軸X。第一模造結構220與鏡頭載體210對應設置。第二模造結構230耦合於第一模造結構220以形成一內部空間222(標示於第2G圖)，鏡頭載體210容置於內部空間222。驅動機構用以驅動鏡頭載體210沿光軸X移動。力學機構用以將鏡頭載體210與第一模造結構220互相連接。上蓋270蓋設於軟性電路板260，並將鏡頭載體210、第一模造結構220、第二模造結構230、驅動機構及力學機構容納於其中。

具體而言，驅動機構可包含至少一驅動磁石241及至少一驅動線圈242；第二實施方式中驅動磁石241與驅動線圈242的數量分別為二，驅動磁石241分別設置於鏡頭載體210的二外側，驅動線圈242分別設置於軟性電路板260的二內側，且二驅動磁石241分別對應二驅動線圈242，但本揭示內容不以此為限。藉此，可透過驅動磁石241與驅動線圈242的相對感應而帶動鏡頭載體210位移進行對焦。

如第2B圖至第2C圖所示，力學機構可包含至少一鐵磁性元件251，且鐵磁性元件251對應於驅動機構。第二實施方式中，鐵磁性元件251的數量為二，其設置於第一模造結構220並分別對應驅動機構的二驅動磁石241，但本揭示內容不以此為限。由於驅動磁石241設置於鏡頭載體210，透過鐵磁性元件251的配置，力學機構可藉由磁力連接鏡頭載體210與第一模造結構220，提升成像鏡頭驅動模組200運行過程中的對焦穩定度。另外，力學機構可更包含複數滾珠252，其設置於鏡頭載體210與第一模造結構220之間；具體而言，第二實施方式中，滾珠252的數量為四，但本揭示內容不以此為限。滾珠252的配置可使鏡頭載體210更加穩定地沿光軸X移動，以提升對焦的穩定度。

請配合參照第2D圖及第2E圖，其中第2D圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組200的部分剖視圖，第2E圖繪示依照第2D圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組200的部分剖視平面圖。如第2D圖及第2E圖所示，鐵磁性元件251與驅動機構的驅動磁石241對應設置。詳細來說，鏡頭載體210的二外側之一部份分別夾設於各二鐵磁性元件251與各二驅動磁石241之間。藉此，可提升鏡頭載體210移動的穩定度。

請參照第2F圖，其中第2F圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構220與一模具M的示意圖。本揭示內容之成像鏡頭驅動模組中，第一模造結構與第二模造結構中至少一者可形成一通光孔，其可包含一遮光結構，且通光孔對應於遮光結構；具體而言，第二實施方式中，第一模造結構220可形成一通光孔223且包含一遮光結構221，通光孔223對應於遮光結構221。在製程上，第一模造結構220可藉由模具M以彈性離型形成通光孔223，且模具M可沿一拆模方向M1由第一模造結構220拆除。再者，通光孔223對應的遮光結構221可為一種凹凸相間的遮光結構221，但本揭示內容不以此為限。模造製品成型階段，透過塑料本身的彈性，可更容易透過模具設計成型較為複雜的模造製品。透過凹凸相間的遮光結構，可將非成像光線反射，進而減弱非成像光線的強度。

請配合參照第2G圖及第2H圖，其中第2G圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構220與第二模造結構230耦合的示意圖，第2H圖繪示依照第2A圖第二實施方式中鏡頭載體210、第一模造結構220與第二模造結構230的組合示意圖。如第2B圖、第2C圖、第2F圖、第2G圖及第2H圖所示，第一模造結構220可更包含一第一遮光結構221a，且第二模造結構230可包含一第二遮光結構231。第一模造結構220與第二模造結構230耦合後，使得第一遮光結構221a與第二遮光結構231可互相對應設置，進而形成一通光孔224。詳細來說，第一模造結構220與第二模造結構230耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。具體而言，通光孔224的結構可與第一實施方式的通光孔123相同，在此不另贅述。光軸X可通過通光孔223、224使得鏡頭載體210與通光孔223、224同軸配置。藉此，可維持鏡頭載體210與通光孔223、224之間的同軸度，防止通光孔223、224遮蔽非成像光線以外的光線，以提升成像品質。再者，通光孔223、224可環繞光軸X且為一封閉環狀。藉此可確保第一遮光結構221a與第二遮光結構231互相對應設置的連續性，進而維持較高的遮光效率。

請參照第2I圖及第2J圖，其中第2I圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構220與第二模造結構230耦合的側視圖，第2J圖繪示依照第2I圖第二實施方式之第一實施例中第一模造結構220與第二模造結構230沿剖線2J-2J的剖視圖。必須說明的是，在第二實施方式中，第一遮光結構221對應之通光孔223，依據不同的光學設計需求，可提供第一實施例、第二實施例及第三實施例三種不同結構的通光孔，為簡化圖式起見，第二實施方式之第一實施例、第二實施例及第三實施例中的通光孔223以相同編號表示，而第二實施方式之第一實施例、第二實施例及第三實施例中其他元件與其配置關係皆相同，在此不另贅述。

如第2J圖所示，第二實施方式之第一實施例中，通光孔223通過光軸X的一剖面包含一谷點2231a、一第一峰點2232a以及一第二峰點2233a。具體而言，所述剖面為第一模造結構220沿剖線2J-2J的剖面，但本揭示內容不以此為限。谷點2231a為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點2232a為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點2233a為以谷點2231a垂直光軸X的一直線Y(標示於第2K圖)為基準，對於第一峰點2232a的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點2231a、第一峰點2232a以及第二峰點2233a為位於遮光結構221在第2J圖剖面中的點。

請配合參照第2K圖及第2L圖，其中第2K圖繪示依照第2J圖第二實施方式之第一實施例中通光孔223的參數示意圖，第2L圖繪示依照第2J圖第二實施方式之第一實施例中通光孔223的另一參數示意圖。如第2K圖及第2L圖所示，谷點2231a與光軸X的距離為D，第一峰點2232a與光軸X的距離為d1，第二峰點2233a與光軸X的距離為d2，谷點2231a與第一峰點2232a的連線及谷點2231a與第二峰點2233a的連線形成一夾角θ，谷點2231a與第一峰點2232a的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點2231a與第二峰點2233a的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔223的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表四的條件。

表四、第二實施方式之第一實施例
D (mm)	5.58	θ (度)	144.2
d1 (mm)	5.41	θ1 (度)	13.8
d2 (mm)	5.56	θ2 (度)	22
d1/D	0.970	EDR (%)	3.0
d2/D	0.996

請參照第2M圖，第2M圖繪示依照第2I圖第二實施方式之第二實施例中第一模造結構220與第二模造結構230沿剖線2J-2J的剖視圖。如第2M圖所示，第二實施方式之第二實施例中，通光孔223通過光軸X的一剖面包含一谷點2231b、一第一峰點2232b以及一第二峰點2233b。谷點2231b為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點2232b為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點2233b為以谷點2231b垂直光軸X的一直線Y(標示於第2N圖)為基準，相對於第一峰點2232b的另一側之中最靠近光軸X者。

請配合參照第2N圖及第2O圖，其中第2N圖繪示依照第2M圖第二實施方式之第二實施例中通光孔223的參數示意圖，第2O圖繪示依照第2M圖第二實施方式之第二實施例中通光孔223的另一參數示意圖。如第2N圖及第2O圖所示，谷點2231b與光軸X的距離為D，第一峰點2232b與光軸X的距離為d1，第二峰點2233b與光軸X的距離為d2，谷點2231b與第一峰點2232b的連線及谷點2231b與第二峰點2233b的連線形成一夾角θ，谷點2231b與第一峰點2232b的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點2231b與第二峰點2233b的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔223的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表五的條件。

表五、第二實施方式之第二實施例
D (mm)	5.58	θ (度)	141.3
d1 (mm)	5.5	θ1 (度)	8
d2 (mm)	5.53	θ2 (度)	30.7
d1/D	0.986	EDR (%)	1.4
d2/D	0.991

請參照第2P圖，第2P圖繪示依照第2I圖第二實施方式之第三實施例中第一模造結構220與第二模造結構230沿剖線2J-2J的剖視圖。如第2P圖所示，第二實施方式之第三實施例中，通光孔223通過光軸X的一剖面包含一谷點2231c、一第一峰點2232c以及一第二峰點2233c。谷點2231c為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點2232c為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點2233c為以谷點2231c垂直光軸X的一直線Y(標示於第2Q圖)為基準，相對於第一峰點2232c的另一側之中最靠近光軸X者。

請配合參照第2Q圖及第2R圖，其中第2Q圖繪示依照第2P圖第二實施方式之第三實施例中通光孔223的參數示意圖，第2R圖繪示依照第2P圖第二實施方式之第三實施例中通光孔223的另一參數示意圖。如第2Q圖及第2R圖所示，谷點2231c與光軸X的距離為D，第一峰點2232c與光軸X的距離為d1，第二峰點2233c與光軸X的距離為d2，谷點2231c與第一峰點2232c的連線及谷點2231c與第二峰點2233c的連線形成一夾角θ，谷點2231c與第一峰點2232c的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點2231c與第二峰點2233c的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔223的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表六的條件。

表六、第二實施方式之第三實施例
D (mm)	5.55	θ (度)	141.6
d1 (mm)	5.32	θ1 (度)	22.3
d2 (mm)	5.53	θ2 (度)	16.1
d1/D	0.959	EDR (%)	4.1
d2/D	0.996

＜第三實施方式＞

請參照第3A圖、第3B圖及第3C圖，其中第3A圖繪示依照本揭示內容第三實施方式中相機模組300的立體示意圖，第3B圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組300的爆炸圖，第3C圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組300的另一視角的爆炸圖。由第3A圖、第3B圖及第3C圖可知，相機模組300包含成像鏡頭驅動模組(圖未標示)以及一成像面380，其中成像面380位於成像鏡頭驅動模組的像側。成像鏡頭驅動模組包含一鏡頭載體311、一第一模造結構(圖未標示)、一第二模造結構(圖未標示)、一驅動機構(圖未標示)、一力學機構(圖未標示)、一上蓋360以及至少一光線轉折元件371、372。

鏡頭載體311定義一光軸X，其用以承載一成像鏡頭312，且成像鏡頭312包含一成像透鏡組312a，但本揭示內容不以此為限。第一模造結構與鏡頭載體311對應設置，第二模造結構耦合於第一模造結構，其中第一模造結構與第二模造結構形成一內部空間(圖未標示)，且鏡頭載體311以及光線轉折元件371、372分別設置於內部空間。驅動機構用以驅動鏡頭載體311沿光軸X移動。力學機構用以將鏡頭載體311與第一模造結構互相連接。上蓋360蓋設於部分的第一模造結構及部分的第二模造結構，並將鏡頭載體311、驅動機構、力學機構及光線轉折元件372容納於其中。

詳細來說，第一模造結構可包含三第一模造子結構320a、320b、320c，第二模造結構可包含二第二模造子結構330a、330b，但本揭示內容不以此為限。第一模造子結構320a與第二模造子結構330a耦合形成內部空間322(標示於第3G圖)，供光線轉折元件371設置於其中。第一模造子結構320b形成內部空間，供光線轉折元件372設置於其中。第一模造子結構320c與第二模造子結構330b耦合形成內部空間，供鏡頭載體311設置於其中。

具體而言，驅動機構可包含至少一驅動磁石341及至少一驅動線圈342；第三實施方式中驅動磁石341與驅動線圈342的數量分別為二與四，驅動磁石341分別設置於鏡頭載體311的二側中，各二驅動線圈342分別設置於上蓋360的二內側，且各驅動磁石341分別對應各二驅動線圈342，但本揭示內容不以此為限。藉此，可透過驅動磁石341與驅動線圈342的相對感應而帶動鏡頭載體311位移進行對焦。

如第3B圖及第3C圖所示，力學機構可包含至少一鐵磁性元件351，且鐵磁性元件351對應於驅動機構。第三實施方式中，鐵磁性元件351的數量為二，其設置於第一模造子結構320c並分別對應驅動機構的二驅動磁石341，但本揭示內容不以此為限。由於驅動磁石341設置於鏡頭載體311，透過鐵磁性元件351的配置，力學機構可藉由磁力連接鏡頭載體311與第一模造結構，提升成像鏡頭驅動模組運行過程中的對焦穩定度。

請配合參照第3D圖及第3E圖，其中第3D圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組300的部分剖視圖，第3E圖繪示依照第3D圖第三實施方式中相機模組300的另一部分剖視圖。如第3D圖及第3E圖所示，鐵磁性元件351與驅動機構的驅動磁石341對應設置。詳細來說，鏡頭載體311的二外側之一部份分別夾設於各二鐵磁性元件351與各二驅動磁石341之間。藉此，可提升鏡頭載體311移動的穩定度。

本揭示內容之成像鏡頭驅動模組中，第一模造結構與第二模造結構中至少一者形成一通光孔，通光孔包含一遮光結構。如第3B圖及第3C圖所示，第三實施方式中，第一模造結構之第一模造子結構320b形成通光孔323b且包含遮光結構321b。詳細而言，第一模造結構的第一模造子結構320b本身即形成一內部空間(圖未標示)，而光線轉折元件372設置於其中，第一模造子結構320b之通光孔323b為一彈性離型結構，其呈封閉環狀。再者，通光孔323b對應的遮光結構321b可為一種凹凸相間的遮光結構321b，但本揭示內容不以此為限。模造製品成型階段，透過塑料本身的彈性，可更容易透過模具設計成型較為複雜的模造製品。透過凹凸相間的遮光結構，可將非成像光線反射，進而減弱非成像光線的強度。必須說明的是，第三實施方式中，通光孔323b的結構可與第二實施方式中第一實施例至第三實施例的通光孔223的結構相同，在此不另贅述。

請配合參照第3F圖及第3G圖，其中第3F圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組300的另一爆炸圖，第3G圖繪示依照第3A圖第三實施方式中第一模造子結構320a與第二模造子結構330a的組合示意圖。如第3F圖及第3G圖所示，第一模造結構之第一模造子結構320a可包含一第一遮光結構321a，且第二模造結構之第二模造子結構330a可包含一第二遮光結構331。第二模造子結構330a可耦合於第一模造子結構320a以形成一內部空間322，第一模造子結構320a與第二模造子結構330a耦合後，使得第一遮光結構321a與第二遮光結構331可互相對應設置，進而形成一通光孔323a。詳細來說，第一模造子結構320a與第二模造子結構330a耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。

再配合參照第3F圖，光線轉折元件371、372可為稜鏡或者鏡子，但本揭示內容不以此為限。第三實施方式中，光線轉折元件371、372為稜鏡。光線轉折元件371、372用以將一成像光線從光線轉折元件371、372的一入光光路轉折至光線轉折元件371、372的一出光光路，並分別定義另二光軸X1、X2。具體而言，當成像光線的光路沿光軸X1入射至成像鏡頭驅動模組時，光線轉折元件371將成像光線的光路由光軸X1轉折至光軸X，成像光線通過成像鏡頭312後，光線轉折元件372再將成像光線的光路由光軸X轉折至光軸X2，藉以將成像光線的光路引導至成像面380。藉由光線轉折元件371、372使成像鏡頭驅動模組達到更理想的空間運用，可以較小的內部空間容納長焦距所經過的光路。藉此，可提供微型鏡頭的可行性。詳細來說，光線轉折元件371、372分別設置於內部空間322與第一模造子結構320b形成的內部空間中。透過將通光孔323a、323b配置在光線轉折元件371之物側及光線轉折元件372之像側，可有效遮蔽非成像光線，藉以可保持影像的清晰度。

再者，通光孔323a、323b可分別環繞光軸X1、X2且為一封閉環狀。藉此，可確保第一遮光結構321a與第二遮光結構331互相對應設置的連續性，進而維持較高的遮光效率。

請配合參照第3H圖及第3I圖，其中第3H圖繪示依照第3A圖第三實施方式中第一模造子結構320a的示意圖，第3I圖繪示依照第3H圖第三實施方式中第一模造子結構320a的側視圖。通光孔323a通過光軸X1的一剖面包含一谷點3231、一第一峰點3232以及一第二峰點3233。具體而言，所述剖面為第一模造子結構320a與第二模造子結構330a耦合的交界面，且所述剖面垂直於光軸X1與光軸X交接形成的平面，但本揭示內容不以此為限。谷點3231為剖面中最遠離光軸X1者，第一峰點3232為剖面中最靠近光軸X1之一者，且第二峰點3233為以谷點3231垂直光軸X1的一直線Y(標示於第3J圖)為基準，對於第一峰點3232的另一側之中最靠近光軸X1者。具體而言，谷點3231、第一峰點3232以及第二峰點3233為位於第一遮光結構321a在第3J圖中的點。

再者，第三實施方式中第一模造子結構320c與第二模造子結構330b的結構可與第四實施方式中第一模造子結構420c(標示於第4B圖)與第二模造子結構430b(標示於第4B圖)的結構相同，也可與第一實施方式中第一模造結構120與第二模造結構130、第二實施方式中第一模造結構220與第二模造結構230相同，但本揭示內容不以此為限。第四實施方式中第一模造子結構420c與第二模造子結構430b細部結構將在第四實施方式詳細說明，在此不另贅述。

請配合參照第3J圖及第3K圖，其中第3J圖繪示依照第3I圖第三實施方式中通光孔323a的參數示意圖，第3K圖繪示依照第3I圖第三實施方式中通光孔323a的另一參數示意圖。如第3J圖及第3K圖所示，谷點3231與光軸X1的距離為D，第一峰點3232與光軸X1的距離為d1，第二峰點3233與光軸X1的距離為d2，谷點3231與第一峰點3232的連線及谷點3231與第二峰點3233的連線形成一夾角θ，谷點3231與第一峰點3232的連線及平行於光軸X1的一直線P形成一夾角θ1，谷點3231與第二峰點3233的連線及平行於光軸X1的直線P形成一夾角θ2，通光孔323a的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表七的條件。

表七、第三實施方式
D (mm)	3.32	θ (度)	98.9
d1 (mm)	2.92	θ1 (度)	26.1
d2 (mm)	3.24	θ2 (度)	55
d1/D	0.880	EDR (%)	12.0
d2/D	0.976

＜第四實施方式＞

請參照第4A圖、第4B圖及第4C圖，其中第4A圖繪示依照本揭示內容第四實施方式中相機模組400的立體示意圖，第4B圖繪示依照第4A圖第四實施方式中相機模組400的爆炸圖，第4C圖繪示依照第4A圖第四實施方式中相機模組400的另一視角的爆炸圖。由第4A圖、第4B圖及第4C圖可知，相機模組400包含一成像鏡頭驅動模組(圖未標示)以及一成像面480，其中成像面480位於成像鏡頭驅動模組的像側。成像鏡頭驅動模組包含一鏡頭載體411、一第一模造結構(圖未標示)、一第二模造結構(圖未標示)、一驅動機構(圖未標示)、一力學機構(圖未標示)、一上蓋460及至少一光線轉折元件471、472。

鏡頭載體411定義一光軸X。其用以承載一成像鏡頭412，且成像鏡頭412包含一成像透鏡組412a，但本揭示內容不以此為限。第一模造結構與鏡頭載體411對應設置，第二模造結構耦合於第一模造結構，其中第一模造結構與第二模造結構形成一內部空間(圖未標示)，且鏡頭載體411以及光線轉折元件471、472分別設置於內部空間。驅動機構用以驅動鏡頭載體411沿光軸X移動。力學機構用以將鏡頭載體411與第一模造結構互相連接。上蓋460蓋設於部分的第一模造結構及部分的第二模造結構，並將鏡頭載體411、驅動機構、力學機構及光線轉折元件472容納於其中。

詳細來說，第一模造結構可包含三第一模造子結構420a、420b、420c，第二模造結構可包含二第二模造子結構430a、430b，但本揭示內容不以此為限。第一模造子結構420a與第二模造子結構430a耦合形成內部空間，供光線轉折元件471設置於其中。第一模造子結構420b形成內部空間，供光線轉折元件472設置於其中。第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合形成內部空間422(標示於第4D圖)，供鏡頭載體411設置於其中。

具體而言，驅動機構可包含至少一驅動磁石441及至少一驅動線圈442；第四實施方式中驅動磁石441與驅動線圈442的數量分別為二與四，驅動磁石441分別設置於鏡頭載體411的二側中，各二驅動線圈442分別設置於上蓋460的二內側，且各驅動磁石441分別對應各二驅動線圈442，但本揭示內容不以此為限。藉此，可透過驅動磁石441與驅動線圈442的相對感應而帶動鏡頭載體411位移進行對焦。

如第4B圖及第4C圖所示，力學機構可包含至少一鐵磁性元件451，且鐵磁性元件451對應於驅動機構。第四實施方式中，鐵磁性元件451的數量為二，其設置於第一模造子結構420c並分別對應驅動機構的二驅動磁石441，但本揭示內容不以此為限。由於驅動磁石441設置於鏡頭載體411，透過鐵磁性元件451的配置，力學機構可藉由磁力連接鏡頭載體411與第一模造結構，提升成像鏡頭驅動模組運行過程中的對焦穩定度。

第四實施方式中，第一模造子結構420a、420b、第二模造子結構430a及光線轉折元件471、472的結構及配置與第三實施方式中第一模造子結構320a、320b、第二模造子結構330a及光線轉折元件371、372的結構及配置相同，在此不另贅述。

請配合參照第4D圖及第4E圖，其中第4D圖繪示依照第4A圖第四實施方式中第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合的示意圖，第4E圖繪示依照第4A圖第四實施方式中鏡頭載體411、第一模造子結構420c與第二模造子結構430b的組合示意圖。第一模造結構之第一模造子結構420c可包含一第一遮光結構421，且第二模造結構之第二模造子結構430b可包含一第二遮光結構431。第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合後，使得第一遮光結構421與第二遮光結構431可互相對應設置，進而形成一通光孔423。光軸X可通過通光孔423使得鏡頭載體411與通光孔423同軸配置。藉此，可維持鏡頭載體與通光孔423之間的同軸度，防止通光孔423遮蔽非成像光線以外的光線，以提升成像品質。詳細來說，第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。再者，通光孔423可環繞光軸X且為一封閉環狀。藉此可確保第一遮光結構421與第二遮光結構431互相對應設置的連續性，進而維持較高的遮光效率。

請參照第4F圖，其繪示依照第4D圖第四實施方式之第一實施例中第一模造子結構420c與第二模造子結構430b沿剖線4F-4F的剖視圖。必須說明的是，在第四實施方式中，第一遮光結構421與第二遮光結構431形成 之通光孔423，依據不同的光學設計需求，可提供第一實施例及第二實施例兩種不同結構的通光孔，為簡化圖式起見，第四實施方式之第一實施例及第二實施例中的通光孔423以相同編號表示，而第四實施方式之第一實施例及第二實施例中其他元件與其配置關係皆相同，在此不另贅述。

如第4F圖所示，第四實施方式之第一實施例中，通光孔423通過光軸X的一剖面包含一谷點4231a、一第一峰點4232a以及一第二峰點4233a。具體而言，所述剖面為第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點4231a為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點4232a為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點4233a為以谷點4231a垂直光軸X的一直線Y(標示於第4G圖)為基準，相對於第一峰點4232a的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點4231a、第一峰點4232a以及第二峰點4233a為位於第一遮光結構421與第二遮光結構431形成的遮光結構在第4G圖剖面中的點。

請配合參照第4G圖及第4H圖，其中第4G圖繪示依照第4F圖第四實施方式之第一實施例中通光孔423的參數示意圖，第4H圖繪示依照第4F圖第四實施方式之第一實施例中通光孔423的另一參數示意圖。如第4G圖及第4H圖所示，谷點4231a與光軸X的距離為D，第一峰點4232a與光軸X的距離為d1，第二峰點4233a與 光軸X的距離為d2，谷點4231a與第一峰點4232a的連線及谷點4231a與第二峰點4233a的連線形成一夾角θ，谷點4231a與第一峰點4232a的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點4231a與第二峰點4233a的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔423的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表八的條件。

請參照第4I圖，其繪示依照第4D圖第四實施方式之第二實施例中第一模造子結構420c與第二模造子結構430b沿剖線4F-4F的剖視圖。如第4I圖所示，第四實施方式之第二實施例中，通光孔423通過光軸X的一剖面包含一谷點4231b、一第一峰點4232b以及一第二峰點4233b。具體而言，所述剖面為第一模造子結構420c與第二模造子結構430b耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點4231b為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點4232b為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點4233b為以谷點4231b垂直光軸X的一直線Y(標示於第 4J圖)為基準，相對於第一峰點4232b的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點4231b、第一峰點4232b以及第二峰點4233b為位於第一遮光結構421與第二遮光結構431形成的遮光結構在第4I圖剖面中的點。

請配合參照第4J圖及第4K圖，其中第4J圖繪示依照第4I圖第四實施方式之第二實施例中通光孔423的參數示意圖，第4K圖繪示依照第4I圖第四實施方式之第二實施例中通光孔423的另一參數示意圖。如第4J圖及第4K圖所示，谷點4231b與光軸X的距離為D，第一峰點4232b與光軸X的距離為d1，第二峰點4233b與光軸X的距離為d2，谷點4231b與第一峰點4232b的連線及谷點4231b與第二峰點4233b的連線形成一夾角θ，谷點4231b與第一峰點4232b的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點4231b與第二峰點4233b的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，通光孔423的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表九的條件。

<第五實施方式>

請參照第5A圖、第5B圖及第5C圖，其中第5A圖繪示依照本揭示內容第五實施方式中成像鏡頭模組500的立體示意圖，第5B圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組500的爆炸圖，第5C圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組500的另一視角的爆炸圖。由第5A圖、第5B圖及第5C圖可知，相機模組(圖未標示)包含一成像鏡頭模組500及一成像面560(標示於第5K圖)。成像鏡頭模組500包含一鏡頭載體(圖未標示)。鏡頭載體包含一成像透鏡組510、一光線轉折元件540、一第一模造結構520、一第二模造結構530及一固定座550。

成像透鏡組510定義一光軸X。光線轉折元件540用以將一成像光線從光線轉折元件540的一入光光路L1(標示於第5K圖)轉折至光線轉折元件540的一出光光路L2(標示於第5K圖)，且光線轉折元件540設置於固定座550。第一模造結構520與光線轉折元件540對應設置，並包含一第一遮光結構521。第二模造結構530可耦合於第一模造結構520以形成一內部空間(圖未標示)，成像透鏡組510與光線轉折元件540中至少一者可容置於內部空間，且第二模造結構530包含一第二遮光結構531。

請配合參照第5D圖、第5E圖及第5F圖，其中第5D圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構520與第二模造結構530耦合的示意圖，第5E圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組500的一側視圖，第5F圖繪示依照第5E圖第五實施方式中第一模造結構520與第二模造結構530沿剖線5F-5F的剖視圖。由第5D圖、第5E圖及第5F圖可知，第一模造結構520與第二模造結構530耦合後，使得第一遮光結構521與第二遮光結構531可互相對應設置，進而形成一通光孔，即第一通光孔523。在第五實施方式中，成像透鏡組510與光線轉折元件540皆容置於內部空間。詳細來說，第一模造結構520與第二模造結構530耦合的方式可以是使用點膠黏合、塑膠件嵌合設計等，但本揭示內容不以此為限。

請配合參照第5G圖、第5H圖及第5I圖，其中第5G圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構520與第二模造結構530的一側視圖，第5H圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構520與第二模造結構530的另一側視圖，第5I圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構520與第二模造結構530的又一側視圖。如第5A圖至第5G圖所示，第一模造結構520可更包含一第三遮光結構522，第二模造結構530可更包含一第四遮光結構532，且第一模造結構520與第二模造結構530耦合後，使得第三遮光結構522與第四遮光結構532可互相對應設置，進而形成另一通光孔，即第二通光孔524。第一通光孔523、第二通光孔524的結構可與第一實施方式至第四實施方式中通光孔123、223、224、323a、323b、423的結構相同，在此不另贅述。藉此，同一鏡頭載體可包含二個以上的通光孔，以對應更複雜的光學設計並減少組裝公差。

請配合參照第5J圖及第5K圖，其中第5J圖繪示依照第5E圖第五實施方式中成像鏡頭模組500沿剖線5F-5F的剖視圖，第5K圖繪示依照第5A圖第五實施方式中光線轉折元件540的入光光路L1與出光光路L2的路徑示意圖。如第5J圖及第5K圖所示，光線轉折元件540可為稜鏡或者鏡子，但本揭示內容不以此為限。光線轉折元件540可藉由內部的至少一反射面將成像光線的光路轉折，轉折次數隨反射面數量增加。具體而言，當成像光線的光路沿入光光路L1入射至成像鏡頭模組500時，光線轉折元件540將成像光線的光路由入光光路L1轉折至出光光路L2，藉以將成像光線的光路引導至一成像面560。透過光線轉折元件的配置，可製造出潛望式成像鏡頭模組。藉此，可滿足長焦距光路需求。第五實施方式中，光線轉折元件540為稜鏡，光線轉折元件540的入光光路L1通過第一通光孔523，藉以滿足入光光路L1的遮光需求；光線轉折元件540的出光光路L2通過第二通光孔524，藉以滿足出光光路L2的遮光需求。藉此，可減少雜散光的產生。

＜第六實施方式＞

請參照第6A圖、第6B圖、第6C圖及第6D圖，其中第6A圖繪示依照本揭示內容第六實施方式中相機模組600的立體示意圖，第6B圖繪示依照第6A圖第六實施方式中相機模組600沿剖線6B-6B的剖視圖，第6C圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構620、第二模造結構630、第三模造結構640與第四模造結構660沿剖線6B-6B的剖視圖，第6D圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構620、第二模造結構630、第三模造結構640與第四模造結構660沿剖線6B-6B的另一剖視圖。由第6A圖、第6B圖、第6C圖及第6D圖可知，相機模組600包含一成像鏡頭模組(圖未標示)及一成像面670。成像鏡頭模組包含一鏡頭載體(圖未標示)。鏡頭載體包含一成像透鏡組610、一光線轉折元件650、一第一模造結構620、一第二模造結構630、一第三模造結構640及一第四模造結構660。

成像透鏡組610定義一光軸X。光線轉折元件650設置於第四模造結構660，並用以將一成像光線從光線轉折元件650的一入光光路L1(標示於第6E圖)轉折至光線轉折元件650的一出光光路L2(標示於第6E圖)。第六實施方式中，第三模造結構640耦合於第一模造結構620與第二模造結構630，且第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640形成內部空間(圖未標示)，且成像透鏡組610容置於內部空間。

再者，第一模造結構620與成像透鏡組610對應設置並包含第一遮光結構621(標示於第6H圖)、621a，第二模造結構630與成像透鏡組610對應設置並包含第二遮光結構631、631a，第三模造結構640耦合於第一模造結構620及第二模造結構630以形成一內部空間(圖未標示)，且成像透鏡組610與光線轉折元件650中至少一者容置於內部空間，第六實施方式中，成像透鏡組610容置於內部空間，但本揭示內容不以此為限。第三模造結構640包含第三遮光結構641、641a。第一模造結構620與第二模造結構630及第三模造結構640耦合後，使得第一遮光結構621a與第二遮光結構631a及第三遮光結構641a互相對應設置，進而形成一通光孔，即第一通光孔622。第一通光孔622的結構可與第一實施方式至第五實施方式中通光孔123、223、224、323a、323b、423、523、524的結構相同，在此不另贅述。

具體而言，第四模造結構660可包含一第四遮光結構661，並形成一通光孔，即第二通光孔662，第二通光孔662與第四遮光結構661對應。第二通光孔662的結構可與第一實施方式至第五實施方式中通光孔123、223、224、323a、323b、423、523、524的結構相同，在此不另贅述。

請配合參照第6E圖，其中第6E圖繪示依照第6A圖第六實施方式中光線轉折元件650的入光光路L1與出光光路L2的路徑示意圖。如第6E圖所示，當一成像光線沿入光光路L1之方向入射至成像透鏡組610時，光線轉折元件650將成像光線的光路轉折至出光光路L2，使得成像光線可通過第二通光孔662並引導至成像面670，藉以滿足出光光路L2的遮光需求。藉此，可減少雜散光的產生。詳細來說，入光光路L1平行於光軸X。藉此，光線轉折元件650使成像鏡頭模組達到更理想的空間運用，可以較小的內部空間容納長焦距所經過的光路以提供微型鏡頭的可行性。

請配合參照第6F圖、第6G圖、第6H圖、第6I圖及第6J圖，其中第6F圖繪示依照第6A圖第六實施方式中成像透鏡組610、第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的爆炸側視圖，第6G圖繪示依照第6F圖第六實施方式中第一模造結構620與一模具M的示意圖，第6H圖繪示依照第6F圖第六實施方式中成像透鏡組610、第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的爆炸示意圖，第6I圖繪示依照第6F圖第六實施方式中成像透鏡組610、第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的另一爆炸示意圖，第6J圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的組合示意圖。如第6F圖及第6G圖所示，第一模造結構620可藉由一模具M以彈性離型製成，且模具M可沿一拆模方向M1由第一模造結構620拆除，第二模造結構630及第三模造結構640也可藉由模具M以彈性離型製成，但本揭示內容不以此為限。模造製品成型階段，透過塑料本身的彈性，可更容易透過模具設計成型較為複雜的模造製品。透過凹凸相間的遮光結構，可將非成像光線反射，進而減弱非成像光線的強度。透過第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的配置，鏡頭載體可為可分拆式的模造製品，進而降低製品離型的困難度。藉此，可提升良品率。

如第6H圖至第6J圖所示，第一模造結構620、第二模造結構630與第三模造結構640耦合後，使得第一遮光結構621、第二遮光結構631與第三遮光結構641互相對應設置，進而形成一通光孔，即第三通光孔623。換句話說，第六實施方式之第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640耦合後，第一遮光結構621a、第二遮光結構631a及第三遮光結構641a與第一遮光結構621、第二遮光結構631及第三遮光結構641分別對應形成第一通光孔622及第三通光孔623。透過多個模造結構耦合的模造結構，可對應更複雜的遮光結構設計需求。再者，光線轉折元件650的入光光路L1可通過第三通光孔623，藉以滿足入光光路L1的遮光需求。藉此，可減少雜散光的產生。

請參照第6K圖，其中第6K圖繪示依照第6J圖第六實施方式之第一實施例中成像透鏡組610、第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的部分剖視圖。必須說明的是，在第六實施方式中，第一遮光結構621、第二遮光結構631與第三遮光結構641形成之第三通光孔623，依據不同的光學設計需求，可提供第一實施例及第二實施例兩種不同結構的通光孔，為簡化圖式起見，第六實施方式之第一實施例及第二實施例中的第三通光孔623以相同編號表示，而第六實施方式之第一實施例及第二實施例中其他元件與其配置關係皆相同，在此不另贅述。

如第6K圖所示，第三通光孔623通過光軸X的一剖面包含一谷點6231a、一第一峰點6232a以及一第二峰點6233a。具體而言，所述剖面為第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點6231a為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點6232a為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點6233a為以谷點6231a垂直光軸X的一直線Y(標示於第6L圖)為基準，相對於第一峰點6232a的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點6231a、第一峰點6232a以及第二峰點6233a為位於第一遮光結構621、第二遮光結構631與第三遮光結構641形成的遮光結構在第6K圖剖面中的點。

請配合參照第6L圖及第6M圖，其中第6L圖繪示依照第6K圖第六實施方式之第一實施例中第三通光孔623的參數示意圖，第6M圖繪示依照第6K圖第六實施方式之第一實施例中第三通光孔623的另一參數示意圖。如第6L圖及第6M圖所示，谷點6231a與光軸X的距離為D，第一峰點6232a與光軸X的距離為d1，第二峰點6233a與光軸X的距離為d2，谷點6231a與第一峰點6232a的連線及谷點6231a與第二峰點6233a的連線形成一夾角θ，谷點6231a與第一峰點6232a的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點6231a與第二峰點6233a的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，第三通光孔623的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表十的條件。

表十、第六實施方式之第一實施例
D (mm)	2.83	θ (度)	90.8
d1 (mm)	2.75	θ1 (度)	44.5
d2 (mm)	2.75	θ2 (度)	44.7
d1/D	0.972	EDR (%)	2.8
d2/D	0.972

請參照第6N圖，其中第6N圖繪示依照第6J圖第六實施方式之第二實施例中成像透鏡組610、第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640的部分剖視圖。如第6N圖所示，第六實施方式之第二實施例中，第三通光孔623通過光軸X的一剖面包含一谷點6231b、一第一峰點6232b以及一第二峰點6233b。具體而言，所述剖面為第一模造結構620、第二模造結構630及第三模造結構640耦合的交界面，但本揭示內容不以此為限。谷點6231b為剖面中最遠離光軸X者，第一峰點6232b為剖面中最靠近光軸X之一者，且第二峰點6233b為以谷點6231b垂直光軸X的一直線Y(標示於第6O圖)為基準，相對於第一峰點6232b的另一側之中最靠近光軸X者。具體而言，谷點6231b、第一峰點6232b以及第二峰點6233b為位於第一遮光結構621、第二遮光結構631與第三遮光結構641形成的遮光結構在第6N圖剖面中的點。

請配合參照第6O圖及第6P圖，其中第6O圖繪示依照第6N圖第六實施方式之第二實施例中第三通光孔623的參數示意圖，第6P圖繪示依照第6N圖第六實施方式之第二實施例中第三通光孔623的另一參數示意圖。如第6O圖及第6P圖所示，谷點6231b與光軸X的距離為D，第一峰點6232b與光軸X的距離為d1，第二峰點6233b與光軸X的距離為d2，谷點6231b與第一峰點6232b的連線及谷點6231b與第二峰點6233b的連線形成一夾角θ，谷點6231b與第一峰點6232b的連線及平行於光軸X的一直線P形成一夾角θ1，谷點6231b與第二峰點6233a的連線及平行於光軸X的直線P形成一夾角θ2，第三通光孔623的剖面可定義一彈性離型比例EDR(EDR=[(D-d1)/D]×100%)，而所述參數滿足下列表十一的條件。

<第七實施方式>

請參照第7A圖及第7B圖，其中第7A圖繪示依照本揭示內容第七實施方式中電子裝置700的示意圖，第7B圖繪示第7A圖第七實施方式中電子裝置700的另一示意圖。由第7A圖與第7B圖可知，第七實施方式的電子裝置700係一智慧型手機，電子裝置700包含相機模組701(標示於第7C圖)，且相機模組701為超廣角相機模組702、高畫素相機模組703、攝遠相機模組704，其中電子感光元件(圖未繪示)設置於相機模組701的一成像面(圖未繪示)。進一步來說，相機模組701可為前述第一實施方式至第六實施方式中的任一者，但本揭示內容不以此為限。藉此，有助於滿足現今電子裝置市場對於搭載於其上的相機模組的量產及外觀要求。

進一步來說，使用者透過電子裝置700的使用者介面705進入拍攝模式，其中第七實施方式中使用者介面705可為觸控螢幕，其用以顯示畫面並具備觸控功能，且可用以手動調整拍攝視角以切換不同的相機模組701。此時相機模組701匯集成像光線在電子感光元件上，並輸出有關影像的電子訊號至成像訊號處理元件(Image Signal Processor，ISP)706。

請配合參照第7C圖，其中第7C圖繪示依照第7A圖第七實施方式中電子裝置700的方塊圖。由第7B圖與第7C圖可知，因應電子裝置700的相機規格，電子裝置700可更包含光學防手震組件707，進一步地，電子裝置700可更包含至少一個對焦輔助模組710及至少一個感測元件708。對焦輔助模組710可以是補償色溫的閃光燈模組709、紅外線測距元件、雷射對焦模組等，感測元件708可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置700中相機模組701配置的自動對焦功能及光學防手震組件707的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置700具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。此外，使用者可由使用者介面705直接目視到相機的拍攝畫面，並在使用者介面705上手動操作取景範圍，以達成所見即所得的自動對焦功能。

進一步來說，相機模組701、電子感光元件、光學防手震組件707、感測元件708及對焦輔助模組710可設置在一軟性電路板(Flexible Printed Circuitboard，FPC)(圖未標示)上，並透過一連接器(圖未繪示)電性連接成像訊號處理元件706等相關元件以執行拍攝流程。當前的電子裝置如智慧型手機具有輕薄的趨勢，將成像鏡頭模組與相關元件配置於軟性電路板上，再利用連接器將電路彙整至電子裝置的主板，可滿足電子裝置內部有限空間的機構設計及電路佈局需求並獲得更大的裕度，亦使得其成像鏡頭模組的自動對焦功能藉由電子裝置的觸控螢幕獲得更靈活的控制。在第七實施方式中，電子裝置700可包含複數感測元件708及複數對焦輔助模組710，感測元件708及對焦輔助模組710設置在軟性電路板及另外至少一個軟性電路板(圖未繪示)，並透過對應的連接器電性連接成像訊號處理元件706等相關元件以執行拍攝流程。在其他實施例中(圖未繪示)，感測元件及輔助光學元件亦可依機構設計及電路佈局需求設置於電子裝置的主板或是其他形式的載板上。

此外，電子裝置700可進一步包含但不限於顯示單元(Display)、控制單元(Control Unit)、儲存單元(Storage Unit)、暫儲存單元(RAM)、唯讀儲存單元(ROM)或其組合。

第7D圖繪示依照第7A圖第七實施方式中超廣角相機模組702拍攝的影像示意圖。由第7D圖可知，以超廣角相機模組702可拍攝到較大範圍的影像，具有容納更多景色的功能。

第7E圖繪示依照第7A圖第七實施方式中高畫素相機模組703拍攝的影像示意圖。由第7E圖可知，以高畫素相機模組703可拍攝一定範圍且兼具高畫素的影像，具有高解析低變形的功能。

第7F圖繪示依照第7A圖第七實施方式中攝遠相機模組704拍攝的影像示意圖。由第7F圖可知，以攝遠相機模組704具有高倍數的放大功能，可拍攝遠處的影像並放大至高倍。

由第7D圖至第7F圖可知，由具有不同焦距的相機模組701進行取景，並搭配影像處理的技術，可於電子裝置700實現變焦的功能。

雖然本揭示內容已以實施方式及實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭示內容的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本揭示內容的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100,200:成像鏡頭驅動模組 110,210,311,411:鏡頭載體 120,220,520,620:第一模造結構 121,221,321a,421,521,621:第一遮光結構 122,222,322,422:內部空間 123,124,223,224,323a,323b,423:通光孔 1231a,1231b,1231c,2231a,2231b,2231c,3231,4231a,4231b,6231a,6231b:谷點 1232a,1232b,1232c,2232a,2232b,2232c,3232,4232a,4232b,6232a,6232b:第一峰點 1233a,1233b,1233c,2233a,2233b,2233c,3233,4233a,4233b,6233a,6233b:第二峰點 130,230,530,630:第二模造結構 131,231,331,431,531,631:第二遮光結構 141,241,341,441:驅動磁石 142,242,342,442:驅動線圈 151,251,351,451:鐵磁性元件 152,252:滾珠 160,260:軟性電路板 550:固定座 170,270,360,460:上蓋 312,412:成像鏡頭 312a,412a,510,610:成像透鏡組 320a,320b,320c,420a,420b,420c:第一模造子結構 321b:遮光結構 330a,330b,430a,430b:第二模造子結構 371,372,471,472,540,650:光線轉折元件 380,480,560,670:成像面 500:成像鏡頭模組 522,641:第三遮光結構 523,622:第一通光孔 524、662:第二通光孔 532,661:第四遮光結構 623:第三通光孔 640:第三模造結構 660:第四模造結構 700:電子裝置 300,400,600,701:相機模組 702:超廣角相機模組 703:高畫素相機模組 704:攝遠相機模組 705:使用者介面 706:成像訊號處理元件 707:光學防手震組件 708:感測元件 709:閃光燈模組 710:對焦輔助模組 D:谷點與光軸的距離 d1:第一峰點與光軸的距離 d2:第二峰點與光軸的距離 P,Y:直線 M:模具 M1:拆模方向 X,X1,X2:光軸 θ,θ1,θ2:夾角

第1A圖繪示依照本揭示內容第一實施方式中成像鏡頭驅動模組的立體示意圖； 第1B圖繪示依照第1A圖第一實施方式中成像鏡頭驅動模組的爆炸圖； 第1C圖繪示依照第1A圖第一實施方式中成像鏡頭驅動模組的另一視角的爆炸圖； 第1D圖繪示依照第1A圖第一實施方式中第一模造結構與第二模造結構耦合的示意圖； 第1E圖繪示依照第1A圖第一實施方式中鏡頭載體、第一模造結構與第二模造結構的組合示意圖； 第1F圖繪示依照第1A圖第一實施方式中第一模造結構與第二模造結構耦合的側視圖； 第1G圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第一實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線1G-1G的剖視圖； 第1H圖繪示依照第1G圖第一實施方式之第一實施例中通光孔的參數示意圖； 第1I圖繪示依照第1G圖第一實施方式之第一實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第1J圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第二實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線1G-1G的剖視圖； 第1K圖繪示依照第1J圖第一實施方式之第二實施例中通光孔的參數示意圖； 第1L圖繪示依照第1J圖第一實施方式之第二實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第1M圖繪示依照第1F圖第一實施方式之第三實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線1G-1G的剖視圖； 第1N圖繪示依照第1M圖第一實施方式之第三實施例中通光孔的參數示意圖； 第1O圖繪示依照第1M圖第一實施方式之第三實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第2A圖繪示依照本揭示內容第二實施方式中成像鏡頭驅動模組的立體示意圖； 第2B圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組的爆炸圖； 第2C圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組的另一視角的爆炸圖； 第2D圖繪示依照第2A圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組的部分剖視圖； 第2E圖繪示依照第2D圖第二實施方式中成像鏡頭驅動模組的部分剖視平面圖； 第2F圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構與一模具的示意圖； 第2G圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構與第二模造結構耦合的示意圖； 第2H圖繪示依照第2A圖第二實施方式中鏡頭載體、第一模造結構與第二模造結構的組合示意圖； 第2I圖繪示依照第2A圖第二實施方式中第一模造結構與第二模造結構耦合的側視圖； 第2J圖繪示依照第第2I圖第二實施方式之第一實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線2J-2J的剖視圖； 第2K圖繪示依照第2J圖第二實施方式之第一實施例中通光孔的參數示意圖； 第2L圖繪示依照第2J圖第二實施方式之第一實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第2M圖繪示依照第2I圖第二實施方式之第二實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線2J-2J的剖視圖； 第2N圖繪示依照第2M圖第二實施方式之第二實施例中通光孔的參數示意圖； 第2O圖繪示依照第2M圖第二實施方式之第二實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第2P圖繪示依照第2I圖第二實施方式之第三實施例中第一模造結構與第二模造結構沿剖線2J-2J的剖視圖； 第2Q圖繪示依照第2P圖第二實施方式之第三實施例中通光孔的參數示意圖； 第2R圖繪示依照第2P圖第二實施方式之第三實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第3A圖繪示依照本揭示內容第三實施方式中相機模組的立體示意圖； 第3B圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組的爆炸圖； 第3C圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組的另一視角的爆炸圖； 第3D圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組的部分剖視圖； 第3E圖繪示依照第3D圖第三實施方式中相機模組的另一部分剖視圖； 第3F圖繪示依照第3A圖第三實施方式中相機模組的另一爆炸圖； 第3G圖繪示依照第3A圖第三實施方式中第一模造子結構與第二模造子結構的組合示意圖； 第3H圖繪示依照第3A圖第三實施方式中第一模造子結構的示意圖； 第3I圖繪示依照第3H圖第三實施方式中第一模造子結構的側視圖； 第3J圖繪示依照第3I圖第三實施方式中通光孔的參數示意圖； 第3K圖繪示依照第3I圖第三實施方式中通光孔的另一參數示意圖； 第4A圖繪示依照本揭示內容第四實施方式中相機模組的立體示意圖； 第4B圖繪示依照第4A圖第四實施方式中成像鏡頭驅動模組的爆炸圖； 第4C圖繪示依照第4A圖第四實施方式中成像鏡頭驅動模組的另一視角的爆炸圖； 第4D圖繪示依照第4A圖第四實施方式中第一模造子結構與第二模造子結構耦合的示意圖； 第4E圖繪示依照第4A圖第四實施方式中鏡頭載體、第一模造子結構與第二模造子結構的組合示意圖； 第4F圖繪示依照第4D圖第四實施方式之第一實施例中第一模造子結構與第二模造子結構沿剖線4F-4F的剖視圖； 第4G圖繪示依照第4F圖第四實施方式之第一實施例中通光孔的參數示意圖； 第4H圖繪示依照第4F圖第四實施方式之第一實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第4I圖繪示依照第4D圖第四實施方式之第二實施例中第一模造子結構與第二模造子結構沿剖線4F-4F的剖視圖； 第4J圖繪示依照第4I圖第四實施方式之第二實施例中通光孔的參數示意圖； 第4K圖繪示依照第4I圖第四實施方式之第二實施例中通光孔的另一參數示意圖； 第5A圖繪示依照本揭示內容第五實施方式中成像鏡頭模組的立體示意圖； 第5B圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組的爆炸圖； 第5C圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組的另一視角的爆炸圖； 第5D圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構與第二模造結構耦合的示意圖； 第5E圖繪示依照第5A圖第五實施方式中成像鏡頭模組的一側視圖； 第5F圖繪示依照第5E圖第五實施方式中第一模造結構與第二模造結構沿剖線5F-5F的剖視圖； 第5G圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構與第二模造結構的一側視圖； 第5H圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構與第二模造結構的另一側視圖； 第5I圖繪示依照第5A圖第五實施方式中第一模造結構與第二模造結構的又一側視圖； 第5J圖繪示依照第5E圖第五實施方式中成像鏡頭模組沿剖線5F-5F的剖視圖； 第5K圖繪示依照第5A圖第五實施方式中光線轉折元件的入光光路與出光光路的路徑示意圖； 第6A圖繪示依照本揭示內容第六實施方式中成像鏡頭模組的立體示意圖； 第6B圖繪示依照第6A圖第六實施方式中成像鏡頭模組沿剖線6B-6B的剖視圖； 第6C圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構、第二模造結構、第三模造結構與第四模造結構沿剖線6B-6B的剖視圖； 第6D圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構、第二模造結構、第三模造結構與第四模造結構沿剖線6B-6B的另一剖視圖； 第6E圖繪示依照第6A圖第六實施方式中光線轉折元件的入光光路與出光光路的路徑示意圖； 第6F圖繪示依照第6A圖第六實施方式中成像透鏡組、第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的爆炸側視圖； 第6G圖繪示依照第6F圖第六實施方式中第一模造結構與一模具的示意圖； 第6H圖繪示依照第6F圖第六實施方式中成像透鏡組、第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的爆炸示意圖； 第6I圖繪示依照第6F圖第六實施方式中成像透鏡組、第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的另一爆炸示意圖； 第6J圖繪示依照第6A圖第六實施方式中第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的組合示意圖； 第6K圖繪示依照第6J圖第六實施方式之第一實施例中成像透鏡組、第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的部分剖視圖； 第6L圖繪示依照第6K圖第六實施方式之第一實施例中第三通光孔的參數示意圖； 第6M圖繪示依照第6K圖第六實施方式之第一實施例中第三通光孔的另一參數示意圖； 第6N圖繪示依照第6J圖第六實施方式之第二實施例中成像透鏡組、第一模造結構、第二模造結構及第三模造結構的部分剖視圖； 第6O圖繪示依照第6N圖第六實施方式之第二實施例中第三通光孔的參數示意圖； 第6P圖繪示依照第6N圖第六實施方式之第二實施例中第三通光孔的另一參數示意圖； 第7A圖繪示依照本揭示內容第七實施方式中電子裝置的示意圖； 第7B圖繪示第7A圖第七實施方式中電子裝置的另一示意圖； 第7C圖繪示依照第7A圖第七實施方式中電子裝置的方塊圖； 第7D圖繪示依照第7A圖第七實施方式中超廣角相機模組拍攝的影像示意圖； 第7E圖繪示依照第7A圖第七實施方式中高畫素相機模組拍攝的影像示意圖；以及 第7F圖繪示依照第7A圖第七實施方式中攝遠相機模組拍攝的影像示意圖。

100:成像鏡頭驅動模組

110:鏡頭載體

120:第一模造結構

121:第一遮光結構

130:第二模造結構

131:第二遮光結構

141:驅動磁石

142:驅動線圈

151:鐵磁性元件

152:滾珠

160:軟性電路板

170:上蓋

X:光軸

Claims (28)

1. 一種成像鏡頭驅動模組，包含：一鏡頭載體，定義一光軸；一第一模造結構，其與該鏡頭載體對應設置，並包含一第一遮光結構；一第二模造結構，其耦合於該第一模造結構以形成一內部空間，且該鏡頭載體容置於該內部空間，該第二模造結構包含一第二遮光結構；一驅動機構，用以驅動該鏡頭載體沿該光軸移動；以及一力學機構，用以將該鏡頭載體與該第一模造結構互相連接；其中，該第一模造結構與該第二模造結構耦合後，使得該第一遮光結構與該第二遮光結構互相對應設置，進而形成一通光孔；其中，該通光孔通過該光軸的一剖面包含：一谷點，為該剖面中最遠離該光軸者；一第一峰點，為該剖面中最靠近該光軸之一者；以及一第二峰點，為以該谷點垂直該光軸的一直線為基準，相對於該第一峰點的另一側之中最靠近該光軸者；其中，該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該第二峰點與該光軸的距離為d2，其滿足下列條件：0.1<d1/D<0.95；以及0.1<d2/D<0.95。
2. 如請求項1所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該第二峰點與該光軸的距離為d2，其滿足下列條件：0.5<d1/D<0.91；以及0.5<d2/D<0.91。
3. 如請求項1所述之成像鏡頭驅動模組，其中該光軸通過該通光孔，使得該鏡頭載體與該通光孔同軸配置。
4. 如請求項3所述之成像鏡頭驅動模組，其中該通光孔環繞該光軸且為一封閉環狀。
5. 如請求項1所述之成像鏡頭驅動模組，其中該力學機構包含至少一鐵磁性元件，且該至少一鐵磁性元件對應於該驅動機構。
6. 如請求項1所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及該谷點與該第二峰點的連線形成一夾角θ，該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成一夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成一夾角θ2。
7. 如請求項6所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及該谷點與該第二峰點的連線形成該夾角θ，該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成該夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成該夾角θ2，其滿足下列條件：θ+θ1+θ2=180度。
8. 如請求項7所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成該夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成該夾角θ2，其滿足下列條件：5度<θ1<157度；以及5度<θ2<157度。
9. 一種相機模組，包含：如請求項1所述之成像鏡頭驅動模組。
10. 一種電子裝置，包含：如請求項9所述之相機模組；以及一電子感光元件，其設置於該相機模組的一成像面。
11. 一種成像鏡頭驅動模組，包含：一鏡頭載體，定義一光軸；一第一模造結構，與該鏡頭載體對應設置； 一第二模造結構，耦合於該第一模造結構，其中該第一模造結構與該第二模造結構形成一內部空間，且該鏡頭載體設置於該內部空間；一驅動機構，用以驅動該鏡頭載體沿該光軸移動；以及一力學機構，用以將該鏡頭載體與該第一模造結構互相連接；其中，該第一模造結構與該第二模造結構中至少一者形成一通光孔，該通光孔包含一遮光結構；其中，該通光孔通過該光軸的一剖面包含：一谷點，為該剖面中最遠離該光軸者；一第一峰點，為該剖面中最靠近該光軸之一者；以及一第二峰點，為以該谷點垂直該光軸的一直線為基準，相對於該第一峰點的另一側之中最靠近該光軸者；其中，該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該第二峰點與該光軸的距離為d2，其滿足下列條件：0.1<d1/D<d2/D；以及0.90<d2/D<1.0。
12. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該第二峰點與該光軸的距離為d2，其滿足下列條件：0.5<d1/D<d2/D；以及 0.94<d2/D<1.0。
13. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，其中該光軸通過該通光孔，使得該鏡頭載體與該通光孔同軸配置。
14. 如請求項13所述之成像鏡頭驅動模組，其中該通光孔環繞該光軸且為一封閉環狀。
15. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該通光孔的該剖面定義一彈性離型比例EDR，其滿足下列條件：EDR=[(D-d1)/D]×100%；以及0%<EDR<15%。
16. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，更包含：至少一光線轉折元件，用以將一成像光線從該至少一光線轉折元件的一入光光路轉折至該至少一光線轉折元件的一出光光路，並定義另一光軸。
17. 如請求項16所述之成像鏡頭驅動模組，其中該第一模造結構形成一內部空間，且該至少一光線轉折 元件容置於該內部空間。
18. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，其中該力學機構包含至少一鐵磁性元件，且該至少一鐵磁性元件對應於該驅動機構。
19. 如請求項11所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及該谷點與該第二峰點的連線形成一夾角θ，該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成一夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成一夾角θ2。
20. 如請求項19所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及該谷點與該第二峰點的連線形成該夾角θ，該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的一直線形成該夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成該夾角θ2，其滿足下列條件：θ+θ1+θ2=180度。
21. 如請求項20所述之成像鏡頭驅動模組，其中該谷點與該第一峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成該夾角θ1，該谷點與該第二峰點的連線及平行於該光軸的該直線形成該夾角θ2，其滿足下列條件： 5度<θ1<157度；以及5度<θ2<157度。
22. 一種成像鏡頭模組，包含：一鏡頭載體，包含：一成像透鏡組，定義一光軸；一光線轉折元件，用以將一成像光線從該光線轉折元件的一入光光路轉折至該光線轉折元件的一出光光路；一第一模造結構，其與該光線轉折元件對應設置，並包含一第一遮光結構；以及一第二模造結構，耦合於該第一模造結構以形成一內部空間，且該成像透鏡組與該光線轉折元件皆容置於該內部空間，該第二模造結構包含一第二遮光結構；其中，該第一模造結構與該第二模造結構耦合後，使得該第一遮光結構與該第二遮光結構互相對應設置，進而形成一第一通光孔。
23. 如請求項22所述之成像鏡頭模組，其中該第一模造結構更包含一第三遮光結構，該第二模造結構更包含一第四遮光結構，且該第一模造結構與該第二模造結構耦合後，使得該第三遮光結構與該第四遮光結構互相對應設置，進而形成一第二通光孔。
24. 如請求項23所述之成像鏡頭模組，其中該 光線轉折元件的該入光光路通過該第一通光孔。
25. 如請求項24所述之成像鏡頭模組，其中該光線轉折元件的該出光光路通過該第二通光孔。
26. 一種成像鏡頭模組，包含：一鏡頭載體，包含：一成像透鏡組，定義一光軸；一光線轉折元件，用以將一成像光線從該光線轉折元件的一入光光路轉折至該光線轉折元件的一出光光路；一第一模造結構，其與該成像透鏡組對應設置，並包含一第一遮光結構；一第二模造結構，其與該成像透鏡組對應設置，並包含一第二遮光結構；以及一第三模造結構，耦合於該第一模造結構及該第二模造結構以形成一內部空間，且該成像透鏡組容置於該內部空間，該第三模造結構包含一第三遮光結構；其中，該第一模造結構、該第二模造結構及該第三模造結構耦合後，使得該第一遮光結構、該第二遮光結構及該第三遮光結構互相對應設置，進而形成一第三通光孔。
27. 如請求項26所述之成像鏡頭模組，其中該第三通光孔通過該光軸的一剖面包含：一谷點，為該剖面中最遠離該光軸者； 一第一峰點，為該剖面中最靠近該光軸之一者；以及一第二峰點，為以該谷點垂直該光軸的一直線為基準，相對於該第一峰點的另一側之中最靠近該光軸者；其中，該谷點與該光軸的距離為D，該第一峰點與該光軸的距離為d1，該第二峰點與該光軸的距離為d2，其滿足下列條件：0.94<d1/D<1.0；以及0.94<d2/D<1.0。
28. 如請求項26所述之成像鏡頭模組，其中該光線轉折元件的該入光光路通過該第三通光孔。

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