TWI765015B - 熱射線反射透光性基材、熱射線反射窗 - Google Patents

熱射線反射透光性基材、熱射線反射窗 Download PDF

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Abstract

提供一種熱射線反射透光性基材，具有： 透光性基材； 表面硬化層，配置在該透光性基材的一個表面上；及 透明導電性氧化物層，配置在該表面硬化層上，並含有透明導電性氧化物。

Description

熱射線反射透光性基材、熱射線反射窗
本發明涉及熱射線反射透光性基材、熱射線反射窗。
先前熟知一種在玻璃、樹脂等的透光性基材上具有一具備熱射線(heat ray)反射功能的層的熱射線反射透光性基材。
作為熱射線反射透光性基材，先前研究了一種藉由對太陽光等的可視光的一部分和/或近紅外線進行反射，抑制近紅外線入射至室內和/或車內，並具備抑制溫度上昇的遮熱性的熱射線反射透光性基材。此外，近年還研究了一種藉由降低放射率而具備斷熱性的熱射線反射透光性基材。
例如，在專利文獻1中，以提供一種不僅遮熱性較高、演色性較高並且耐久性也較優的附有層疊膜的透明基板為目的，公開了一種具有透明基板、及在該透明基板上層疊了透明導電層和膜厚超過10nm的含氮的光吸收層的層疊膜的附有層疊膜的透明基板。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本國特表2016-79051號公報
然而，就熱射線反射透光性基材而言，從其功能來看，其作為 窗戶等的採光部的透光性基材、或以貼附在窗戶等的採光部的透光性基材上的方式而被使用，故與人的手和/或物體接觸的機會較多。為此，即使當人的手和/或物體等在向熱射線反射透光性基材的表面施加了壓力的狀態下一邊產生摩擦一邊進行移動時，也存在如下要求，即，防止構成熱射線反射透光性基材的透明導電層等的功能層產生剝離、瑕疪等導致功能下降、外觀受損。即，需要一種抗擦傷性較優的熱射線反射透光性基材。
然而，就專利文獻1中公開的附有層疊膜的透明基板而言，並沒有充分地對抗擦傷性進行研究。
因此，鑑於上述先前技術的問題，於本發明的一方面，以提供一種抗擦傷性較優的熱射線反射透光性基材為目的。
為了解決上述課題，於本發明的一方面，提供一種熱射線反射透光性基材，具有：透光性基材；表面硬化層，配置在該透光性基材的一個表面上；及透明導電性氧化物層，配置在該表面硬化層上，並含有透明導電性氧化物。
根據本發明的一方面，能夠提供一種抗擦傷性較優的熱射線反射透光性基材。
10、20、30、42:熱射線反射透光性基材
11:透光性基材
12:表面硬化層
13:透明導電性氧化物層
21:黏著劑層
31:表面保護層
40:熱射線反射窗
41:窗用透光性基材
〔圖1〕本發明的實施方式的一構成例的熱射線反射透光性基材 的斷面圖。
〔圖2〕本發明的實施方式的其他構成例的熱射線反射透光性基材的斷面圖。
〔圖3〕本發明的實施方式的其他構成例的熱射線反射透光性基材的斷面圖。
〔圖4〕本發明的實施方式的一構成例的熱射線反射窗的斷面圖。
以下，對本公開的一實施方式(以下記為「本實施方式」)進行詳細說明，但本實施方式並不限定於此。
〔熱射線反射透光性基材〕
以下對本實施方式的熱射線反射透光性基材的一構成例進行說明。
本實施方式的熱射線反射透光性基材具有透光性基材、配置在透光性基材的一個表面上的表面硬化(hard coat)層、及配置在表面硬化層上的含有透明導電性氧化物的透明導電性氧化物層。
本發明的發明人為了藉由降低放射率而使具備斷熱性的熱射線反射透光性基材為抗擦傷性較優的熱射線反射透光性基材，進行了銳意研究。
其結果為，首先獲得了如下見解，即，藉由具有包含透明導電性氧化物的透明導電性氧化物層，可為具備斷熱性的熱射線反射透光性基材。其原因可被認為是，藉由利用透明導電性氧化物層中包含的透明導電性氧化物所具有的載子(carrier)，可對遠紅外線進行反 射。
然而，在透光性基材上僅配置透明導電性氧化物層的情況下，例如當使手和/或物體在按壓透明導電性氧化物層的狀態下一邊產生摩擦一邊進行移動等時，存在透明導電性氧化物層會發生變形，導致透明導電性氧化物層出現剝離、瑕疪等的情況。一旦透明導電性氧化物層上出現瑕疪、剝離等，則存在透明導電性氧化物層的功能下降、外觀受損的情況。
故，發現了藉由在透光性基材上配置表面硬化層，即使在對透明導電性氧化物層進行按壓‧摩擦等的情況下，也可減少透明導電性氧化物層的變形，從而可對瑕疪、剝離等的發生進行抑制，即，可提高抗擦傷性，並完成了本發明。
這裡，圖1示出了本實施方式的熱射線反射透光性基材的構成例。圖1示出了本實施方式的熱射線反射透光性基材的、與透光性基材、表面硬化層、及透明導電性氧化物層的層疊方向平行的面的斷面模式圖。
如圖1所示，本實施方式的熱射線反射透光性基材10可具有在透光性基材11的一個表面上對表面硬化層12和表面硬化層12上所配置的透明導電性氧化物層13進行了層疊的結構。以下對各層進行說明。
作為透光性基材11，可優選使用能使可視光透過(透射)的各種透光性基材。作為透光性基材11，可較佳使用可視光透射率為10%以上的透光性基材。需要說明的是，本說明書中，按照JIS A5759-2008(建築窗玻璃膜)對可視光透射率進行測定。
作為透光性基材11，可優選使用玻璃板、透光性樹脂基材等。就 本實施方式的熱射線反射透光性基材而言，藉由設置表面硬化層，可抑制透明導電性氧化物層的變形，由此可提高抗擦傷性。此外，在透光性基材如透光性樹脂基材那樣尤其容易變形的情況下，尤其可發揮上述效果。為此，本實施方式的熱射線反射透光性基材的透光性基材較佳為透光性樹脂基材。
作為透光性樹脂基材的材料，如上所述，只要是能使可視光透射的材料即可優選使用之，但存在當在透光性基材11上形成各層時等進行加熱處理等的情況，故可優選使用具有耐熱性的樹脂。作為構成透光性樹脂基材的樹脂材料，例如可優選使用從聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)等中選出的1種以上。
就本實施方式的熱射線反射透光性基材而言，例如可作為窗戶等的採光部的透光性基材而嵌入窗框等內來使用，此外，還可藉由貼合在窗戶等的採光部的透光性基材上的方式而使用。為此，透光性基材11可根據用途等對其厚度和/或材料進行選擇。透光性基材11的厚度例如可為10μm以上且10mm以下。
例如，在將本實施方式的熱射線反射透光性基材作為窗戶等的採光部的透光性基材而使用的情況下，優選對透光性基材11的厚度和/或材料進行選擇，以使其具有足夠的強度。
此外，在將本實施方式的熱射線反射透光性基材貼合在窗戶等的採光部的透光性基材上進行使用的情況下，為了提高熱射線反射基板的生產性，並為了容易貼合在窗戶等的透光性基材上，優選對透光性基材11的厚度和/或材料進行選擇，以使其具有可撓性。在為具有 可撓性的透光性基材的情況下，作為透光性基材優選使用透光性樹脂基材。在作為具有可撓性的透光性基材而使用透光性樹脂基材的情況下，其厚度優選為10μm以上且300μm以下左右的範圍。
需要說明的是，透光性基材11盡管也可由1個透光性基材構成，但例如還可藉由貼合2個以上的透光性基材等進行組合使用。即使在藉由貼合2個以上的透光性基材等進行組合使用的情況下，合計厚度例如也較佳滿足上述透光性基材的優選厚度範圍。
表面硬化層12對透明導電性氧化物層13進行支撐(support)，在被按壓等的情況下，可抑制透明導電性氧化物層13變形。
表面硬化層12例如可使用樹脂而形成，可為樹脂表面硬化層。對表面硬化層的材料並無特別限定。例如可優選使用從丙烯類(acrylic)樹脂、矽利康(silicone)類樹脂、聚氨酯(urethane)類樹脂等中選出的1種以上的樹脂。
此外，藉由使表面硬化層含有無機顆粒，可提高表面硬化層和透明導電層之間的密著性。對無機顆粒的材料並無特別限定，但例如可優選使用從二氧化矽(silica)、氧化鋁(alumina)、氧化鋯(zirconia)等中選出的1種以上的無機顆粒。
表面硬化層12例如可藉由將樹脂塗敷在透光性基材11等的一個表面上並使其硬化而形成。
對表面硬化層12的厚度並無特別限定，可根據表面硬化層12的材料、所要求的可視光的透射率、抗擦傷性的程度等進行任意選擇。就表面硬化層12而言，例如厚度優選為0.5μm以上且10μm以下，較佳為0.7μm以上且5μm以下。
其原因在於，藉由使表面硬化層12的厚度為0.5μm以上，可為具有足夠強度的表面硬化層，尤其可抑制透明導電性氧化物層13的變形。還在於，藉由使表面硬化層12的厚度為10μm以下，可對由表面硬化層的收縮所引起的內部應力進行抑制。
透明導電性氧化物層13是含有透明導電性氧化物的層，也可為由透明導電性氧化物構成的層。根據本發明的發明人的研究可知，透明導電性氧化物中含有的載子可對遠紅外線進行反射。為此，藉由設置透明導電性氧化物層，本實施方式的熱射線反射透光性基材可為斷熱性較優的熱射線反射透光性基材。
作為透明導電性氧化物層中含有的透明導電性氧化物，對其並無特別限定，只要是能對遠紅外線進行反射的材料，可使用各種透明導電性氧化物。然而，如上所述，是藉由載子對遠紅外線進行反射的，故作為該透明導電性氧化物，例如優選含有從氧化銦、氧化錫、及氧化鋅中選出的一種以上，其中，該氧化銦中摻雜(dope)了從錫、鈦、鎢、鉬、鋅、及氫中選出的一種以上，該氧化錫中摻雜了從銻、銦、鉭、氯、及氟中選出的一種以上，該氧化鋅中摻雜了從銦、鋁、錫、鎵、氟、及硼中選出的一種以上。
作為透明導電性氧化物，較佳為其中摻雜了從錫、鈦、鎢、鉬、鋅、及氫中選出的一種以上的氧化銦，更佳為其中摻雜了從錫和鋅中選出的一種以上的氧化銦。
對透明導電性氧化物層的厚度並無特別限定，可根據所要求的斷熱性等進行任意選擇。例如，透明導電性氧化物層的厚度優選為30nm以上且500nm以下，較佳為35nm以上且400nm以下。
其原因在於，藉由使透明導電性氧化物層的厚度為30nm以上，尤其可對遠紅外線進行反射，由此可提高斷熱性能。還在於，藉由使透明導電性氧化物層的厚度為500nm以下，即使就可視光透射率而言，也可將其維持為足夠高。
對透明導電性氧化物層的成膜方法並無特別限定，但例如可優選採用基於從濺射法、真空蒸鍍法、CVD法、電子束蒸鍍法等中選出的任意1種以上的乾式處理的成膜方法。此外，優選在成膜後進行熱處理，以預先提高結晶性。
本實施方式的熱射線反射透光性基材不只限於至此說明的透光性基材、表面硬化層、及透明導電性氧化物層，還可具有任意的層。
例如，在表面硬化層和透明導電性氧化物層之間可具有光調整層、阻氣(gas barrier)層、密著改善層等的底層。藉由光調整層可改善顏色和/或透明性，藉由阻氣層可改善透明導電性氧化物的結晶化速度，藉由密著改善層可實現抗層間剝離、抗破壞(crack)等的耐久性的提高
對底層的具體構成並無特別限定，但作為密著改善層和/或阻氣層，例如可列舉出含有氧化鋁(Al2O3)的層。此外，作為光調整層，可列舉出含有氧化鋯(ZrO2)的層、含有中空顆粒的層等。
例如，就本實施方式的熱射線反射透光性基材而言，如圖2所示的熱射線反射透光性基材20，還可在透光性基材11的、與設置了表面硬化層12和透明導電性氧化物層13的一個表面11a相反對側的另一個表面11b上具有黏著劑層21。
本實施方式的熱射線反射透光性基材如上所述也可採用貼附在 窗戶等的採光部的透光性基材上的方式進行使用。為此，藉由如上所述設置黏著劑層21，可容易貼附在窗戶等的採光部的透光性基材上。
對黏著劑層的材料並無特別限定，但優選使用可視光透射率較高的材料。作為黏著劑層的材料，例如可使用丙烯類黏著劑、橡膠類黏著劑、矽利康(silicone)類黏著劑等。其中，就以丙烯類聚合物為主成分的丙烯類黏著劑而言，光學透明性較優，具有適當的濕潤性(wettability)、凝集性、及接著性，並且耐候性、耐熱性等也較優，故優選作為黏著劑層的材料。
就黏著劑層而言，優選可視光透射率較高，並且紫外線透射率較小。藉由使黏著劑層的紫外線透射率較小，可對起因於太陽光等的紫外線的透光性基材、表面硬化層、及透明導電性氧化物層的劣化進行抑制。從使黏著劑層的紫外線透射率較小的觀點來看，黏著劑層還可含有紫外線吸收劑。需要說明的是，藉由使用含有紫外線吸收劑的透光性基材等，還可對起因於來自室外的紫外線的透明導電性氧化物層的劣化進行抑制。就黏著劑層的露出表面而言，在至被提供於熱射線反射透光性基材的使用為止的期間，為了防止露出表面被污染等，優選暫時貼上離型紙以進行覆蓋。據此，可防止在通常的操作狀態下與黏著劑層的露出表面的外部的接觸而引起的污染。
需要說明的是，在將本實施方式的熱射線反射透光性基材嵌入窗框等作為窗戶等的採光部的透光性基材而使用的情況下，並不需要貼附在其他透光性基材上，故優選不具有黏著劑層。
此外，就本實施方式的熱射線反射透光性基材而言，如圖3所示的熱射線反射透光性基材30，還可在透明導電性氧化物層13上再具有 表面保護層31。需要說明的是，就熱射線反射透光性基材30而言，在透明導電性氧化物層13之下，如圖3所示，可具有表面硬化層12和透光性基材11。
藉由設置表面保護層31，可防止透明導電性氧化物層13與人的手等直接接觸，尤其可提高抗擦傷性。
表面保護層的厚度優選為5nm以上且1μm以下，較佳為5nm以上且500nm以下。其原因在於，藉由使表面保護層的厚度為5nm以上，可充分保護透明導電性氧化物層13，從而尤其可提高抗擦傷性。此外，即使將表面保護層的厚度增厚至大於1μm，在效果上也無較大差別，相反會存在遠紅外線的吸收導致放射率上昇的可能性，故優選為1μm以下。
作為表面保護層31的材料，優選可視光透射率較高，機械強度和化學強度都較優。從提高相對於透明導電性氧化物層的擦傷防止和/或化學保護作用的觀點來看，優選為有機材料和/或無機材料。作為有機材料，例如優選使用氟類、丙烯類、聚氨酯類、酯系、環氧類、矽利康類、烯(olefin)類等的活性光線硬化型或熱硬化型有機材料、和/或、有機成分和無機成分進行了化學鍵合(chemical bonding)的有機‧無機混合材料。
此外，作為無機材料，例如可列舉出含有從矽(silicon)、鋁、鋅、鈦、鋯、及錫中選出的至少1種作為主成分的透明氧化物等、及DLC(diamond-like carbon)等。
在作為表面保護層31而使用有機材料的情況下，該有機材料內優選導入交聯結構(cross-linked structure)。藉由形成交聯結構，可 提高表面保護層的機械強度和化學強度，並可提高相對於透明導電性氧化物層等的保護功能。其中，優選導入源自同一分子中具有酸性基和聚合性官能基的酯化合物的交聯結構。
作為同一分子中具有酸性基和聚合性官能基的酯化合物，可列舉出磷酸、硫酸、草酸、琥珀酸、酞酸(phthalic acid)、富馬酸、馬來酸等的多價酸與分子中具有乙烯(ethylene)性不飽和基、矽烷醇基(silanol group)、環氧基等的聚合性官能基和羥基的化合物的酯。需要說明的是，該酯化合物可為二酯、三酯等的多價酯，但優選為多價酸的至少1個酸性基未被酯化。
在表面保護層31具有來自上述酯化合物的交聯結構的情況下，可提高表面保護層的機械強度和化學強度，並可提高表面保護層31和透明導電性氧化物層13之間的密著性，尤其可提高透明導電性氧化物層的耐久性。上述酯化合物中，磷酸和具有聚合性官能基的有機酸的酯化合物(磷酸酯化合物)與透明導電性氧化物層之間的密著性較優。特別地，具有來自磷酸酯化合物的交聯結構的表面保護層與透明導電性氧化物層之間的密著性尤佳。
從提高表面保護層31的機械強度和化學強度的觀點來看，上述酯化合物優選含有(甲基)丙烯酰基((meth)acryloyl)作為聚合性官能基。此外，從容易導入交聯結構的觀點來看，上述酯化合物的分子中也可具有多個聚合性官能基。作為上述酯化合物，例如可優選使用由下述式(1)表示的磷酸單酯化合物或磷酸二酯化合物。需要說明的是，也可同時使用磷酸單酯和磷酸二酯。
〔化1〕
Figure 107110904-A0305-02-0013-1
 式中，X表示氫原子或甲基，(Y)表示-OCO(CH2)5-基。n為0或1，p為1或2。
表面保護層31中的來自上述酯化合物的結構的含有量優選為1質量%以上且20質量%以下，較佳為1.5質量%以上且17.5質量%以下，更佳為2質量%以上且15質量%以下，尤其優選為2.5質量%以上且12.5質量%以下。如果來自酯化合物的結構的含有量過少，則存在無法充分獲得提高強度和/或密著性的效果的情況。另一方面，如果來自酯化合物的結構的含有量過多，則存在形成表面保護層時的硬化速度變小會導致硬度降低、和/或、表面保護層表面的滑動性下降會引起抗擦傷性降低的情況。就表面保護層中的源自酯化合物的結構的含有量而言，形成表面保護層時，藉由調整組成物中的上述酯化合物的含有量，可使其位於預期的範圍。
對表面保護層31的形成方法並無特別限定。就表面保護層而言，例如優選藉由下述方法形成，即，將有機材料或有機材料的硬化性單體和/或寡聚物與上述酯化合物一起溶解於溶劑以調製溶液，並將該溶液塗敷在透明導電性氧化物層13上，接下來，對溶媒進行乾燥後，藉由進行紫外線和/或電子束等的照射和/或熱能量的賦予(施加)使其硬化的方法而形成。
此外，在作為表面保護層31的材料而使用無機材料的情況下，例如可藉由從濺射法、真空蒸鍍法、CVD法、電子束蒸鍍法等中選出 的任意的一種以上的乾式處理進行成膜。
需要說明的是，作為表面保護層31的材料，除了上述有機材料和/或無機材料之外，還可含有矽烷偶聯劑(silane coupling agent)、鈦偶聯劑(titanium coupling agent)等的偶聯劑、平整劑(leveling agent)、紫外線吸收劑、氧化防止劑、熱穩定劑、潤滑劑、可塑劑、著色防止劑、阻燃劑、帶電防止劑等的添加劑。
此外，表面保護層31還可藉由使無機材料和有機材料進行層疊等，由材料不同的多個層構成。
對本實施方式的熱射線反射透光性基材所要求的特性並無特別限定，但從透明導電性氧化物層的一側測定的放射率優選為0.60以下，較佳為0.50以下，更加為0.40以下。
其原因在於，藉由使放射率為0.60以下，可為具備足夠斷熱性的熱射線反射透光性基材，為優選。需要說明的是，對放射率的下限值並無特別限定，但較小為佳，例如可為大於0。
如上所述，本實施方式的熱射線反射透光性基材具有透光性基材、表面硬化層、及透明導電性氧化物層。此外，從透明導電性氧化物層的一側測定的放射率是指，藉由從熱射線反射透光性基材的表面中的、接近上述3個層中的透明導電性氧化物層的一側的表面向透明導電性氧化物層照射紅外線等而測定的放射率。
〔熱射線反射窗〕
接下來，對本實施方式的熱射線反射窗的一構成例進行說明。如圖4所示，本實施方式的熱射線反射窗40可具有窗用透光性基材41、及在窗用透光性基材41的一個表面41a上配置的上述熱射線反射 透光性基材42。
窗用透光性基材41例如為配置在窗戶的採光部等上的透光性基材，例如可使用玻璃板和/或透光性樹脂基材。
此外，在窗用透光性基材41的一個表面上可配置上述熱射線反射透光性基材42。對在窗用透光性基材41上固定熱射線反射透光性基材42的方法並無特別限定，但，例如可在熱射線反射透光性基材42的與窗用透光性基材41相對的表面42b側配置基於圖2所說明的黏著劑層等以進行固定。
當將熱射線反射透光性基材42固定在窗用透光性基材41上時，優選以透明導電性氧化物層位於室內和/或車內側的方式進行固定。即，就熱射線反射透光性基材42而言，優選以透明導電性氧化物層與熱射線反射透光性基材42所具有的透光性基材相比更位於室內和/或車內側的方式進行固定。
一般而言，熱射線反射透光性基材42配置在窗用透光性基材41的室內側。為此，在圖4所示的實例中，優選以透明導電性氧化物層位於熱射線反射透光性基材42中的、與窗用透光性基材41相對的一個表面42b的相反側的另一表面42a側的方式進行固定。
其理由為，透明導電性氧化物層具有對遠紅外線進行反射的功能，故藉由朝向室內等的方向進行配置，可對室內等所產生的遠紅外線的向外部的放射進行抑制
根據本實施方式的熱射線反射窗可知，其具有上述熱射線反射透光性基材。為此，可對遠紅外線進行反射，從而具有斷熱性的功能。此外，還可為抗擦傷性較優的熱射線反射窗。
〔實施例〕
以下參照具體實施例進行說明，但本發明並不限定於這些實施例。
(1)可視光透射率
可視光透射率使用分光光度計(“日立High Tech”製，產品名「U-4100」)並按照JIS A5759-2008(建築窗玻璃膜)而求得。
(2)放射率
就放射率而言，使用具備一角度可變反射附件(accessory)的傅立葉轉換型紅外分光(FT-IR)裝置(“Varian公司”製)，對從表面保護層側照射波長為5μm以上且25μm以下的範圍的紅外線的情況下的正反射率進行了測定，並按照JIS R3106-2008(板玻璃類的透射率‧反射率‧放射率‧日光輻射熱取得率的試驗方法)而求得。
(3)抗擦傷性
將切斷為15cm×5cm的熱射線反射透光性基材的透光性基材側的表面藉由厚度為25μm的黏著劑層貼合在1.5mm的玻璃上，並將該組合物為作為試料(樣品)使用。使用10聯式筆(pen)試驗機，一邊藉由鋼絲絨(steel wool)(Bonstar #0000)施加1kg的載荷，一邊在固定於玻璃上的熱射線反射透光性基材的露出表面的10cm的長度的範圍內進行了10個來回的摩擦。
需要說明的是，就熱射線反射透光性基材的露出表面而言，在實施例1~實施例9、實施例11~實施例13、比較例1、及比較例2中為表面保護層的表面，在實施例10中為透明導電性氧化物層的表面。
藉由目視，對試驗後的試料的透明導電性氧化物層的瑕疪和/或 剝離等的有無按照以下的評價基準進行了評價。
○：在透明導電性氧化物層上沒有確認到瑕疪和/或剝離
△：在透明導電性氧化物層的一部分上確認到了瑕疪和/或剝離
×：在透明導電性氧化物層上確認到了瑕疪和/或剝離
〔實施例1〕
製作了具有表1所示構成的熱射線反射透光性基材，並進行了評價。
如表1所示，製作了具有透光性基材、表面硬化層、透明導電性氧化物層、及表面保護層的熱射線反射透光性基材。
作為透光性基材，使用了厚度為50μm的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱樹脂株式會社”製，商品名：T602E50)。
在透光性基材的一個表面上藉由旋塗(spin coat)進行了樹脂溶液的塗敷並使其乾燥後，於氮雰圍氣(環境氣體)下藉由照射紫外線(UV)(300mJ/cm2)使其進行硬化，由此形成了具有表1所示厚度的表面硬化層。
就樹脂溶液而言，在UV硬化性聚氨酯丙烯酸酯(urethane acrylate)類表面硬化(hard coat)樹脂溶液(“DIC株式會社”製，商品名：ENS1068)中對光聚合引發劑(polymerization initiator)(“BASF公司”製，商品名：Irgacure184)以樹脂當量成為3wt%的方式進行了混合，由此進行了製作。
在表面硬化層上作為透明導電性氧化物層進行了ITO膜(Indium Tin Oxide膜、即、氧化銦錫膜)的成膜。具體而言，使用SnO2的含有量相對於IN2O3和SnO2的總量為10wt%的複合氧化物靶，並藉由 DC磁控濺射(magnetron sputtering)法，進行了表1所示厚度的成膜，之後，在150℃下實施了30分鐘的熱處理，由此進行了成膜。
需要說明的是，濺射氣體使用了氬氣和少量氧氣的混合氣體，並在0.2Pa的處理(process)壓力下進行了成膜。
在透明導電性氧化物層上進行了表面保護層的成膜。具體而言，調製了在丙烯類表面硬化樹脂溶液(“JSR株式會社”製，商品名：OPSTAR Z7535)中對光聚合引發劑(“BASF公司”製，商品名：Irgacure127)以樹脂當量成為3wt%的方式進行了混合的混合溶液。然後，將該混合溶液藉由旋塗法塗敷在透明導電性氧化物層上，以使乾燥後的厚度成為表1所示的厚度。乾燥後，在氮雰圍氣下藉由照射UV(300mJ/cm2)，使其進行了硬化。
對所獲得的熱射線反射透光性基材進行了上述評價。結果示於表1。
〔實施例2、3〕
除了使透明導電性氧化物層成為表1所示的厚度這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例4〕
除了使表面保護層成為表1所示的厚度這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例5〕
除了使表面保護層成為以下的構成這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
在透明導電性氧化物層上作為表面保護層進行了含有Si和Zr的氧化物膜(表1中記載為「SXO」)的成膜。具體而言，使用Zr的含有量相對於金屬Si和Zr的總量為30wt%的合金靶，並藉由DC磁控濺射法，進行了表1所示厚度的成膜。
濺射氣體使用了氬氣/氧氣=85/15(體積比)的混合氣體，並在0.2Pa的處理氣體壓力下進行了成膜。
評價結果示於表1。
〔實施例6〕
除了對表面保護層進行了表1所示厚度的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例7〕
作為透明導電性氧化物層，取代ITO膜，進行了IZO膜(Indium Zinc Oxide膜、即、氧化銦鋅膜)的厚度為400nm的成膜，除了這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
就IZO膜而言，使用ZnO的含有量相對於In2O3和ZnO的總量為10wt%的複合氧化物靶，並藉由DC磁控濺射法，進行了厚度為400nm的成膜。
需要說明的是，濺射氣體使用了氬氣和少量氧氣的混合氣體，並在0.2Pa的處理壓力下進行了成膜。
評價結果示於表1。
〔實施例8〕
除了對表面硬化層進行了表1所示厚度的成膜這點之外，與實施例3同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例9〕
除了對表面硬化層進行了表1所示厚度的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例10〕
作為透光性基材，使用了厚度為3mm的藍板玻璃(“松浪硝子株式會社”製)，並且沒有設置表面保護層，除了這些之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例11〕
除了對透明導電性氧化物層進行了表1所示厚度的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例12〕
除了對表面保護層進行了表1所示厚度的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔實施例13〕
除了在表面硬化層和透明導電性氧化物層之間進行了底層的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進 行了評價。
在表面硬化層上作為底層進行了密著改善層、即、Al氧化物膜、也即氧化鋁膜(表1中記載為「Al2O3」)的成膜。具體而言，在表面硬化層上使用金屬Al靶，並藉由DC磁控濺射法進行了表1所示厚度的底層的成膜。
濺射氣體使用了氬氣/氧氣=85/15(體積比)的混合氣體，並在0.2Pa的處理氣體壓力下進行了成膜。
底層成膜後，在底層上與實施例1同樣地進行了透明導電性氧化物層和表面保護層的成膜，由此獲得了熱射線反射透光性基材。
評價結果示於表1。
〔比較例1〕
除了沒有設置表面硬化層這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
〔比較例2〕
除了取代透明導電性氧化物層而進行了SiO2膜的成膜這點之外，與實施例1同樣地製作了熱射線反射透光性基材，並進行了評價。結果示於表1。
就SiO2層而言，使用金屬Si靶，並藉由DC磁控濺射法，進行了厚度為80nm的成膜。濺射氣體使用了氬氣/氧氣=85/15(體積比)的混合氣體，並在0.2Pa的處理壓力下進行了成膜。
評價結果示於表1。
Figure 107110904-A0305-02-0022-2
根據表1所示的結果對實施例1~實施例13和比較例1進行比較可確認到，藉由設置表面硬化層，可為抗擦傷性較優的熱射線反射透光性基材。其原因可被認為是，藉由設置表面硬化層，即使在透明導電性氧化物層被按壓等的情況下也可抑制變形，並可抑制摩擦所引起的瑕疪、剝離、裂紋等的產生。
此外，藉由對實施例1~實施例13和不具有透明導電性氧化物層的比較例2進行比較還可確認到，在實施例1~實施例13中，與比較例2相比，放射率大幅降低了，即，藉由設置透明導電性氧化物層，可發揮斷熱性。
以上基於實施方式和實施例等對熱射線反射透光性基材和熱射線反射窗進行了說明，但本發明並不限定於上述實施方式和實施例等。在申請專利範圍所記載的本發明的主旨的範圍內還可進行各種各樣的變形和變更。
本申請主張基於2017年3月31日向日本國專利廳申請的特願2017-073174號和2018年3月16日向日本國專利廳申請的特願2018-049516號的優先權，並將特願2017-073174號和特願2018-049516號的內容全部引用於本國際申請。
10‧‧‧熱射線反射透光性基材
11‧‧‧透光性基材
12‧‧‧表面硬化層
13‧‧‧透明導電性氧化物層

Claims (9)

  1. 一種熱射線反射透光性基材，具有：透光性基材；表面硬化層，配置在該透光性基材的一個表面上；透明導電性氧化物層，配置在該表面硬化層上，並含有透明導電性氧化物，該透明導電性氧化物層係於成膜後進行熱處理而提高結晶性所獲得之物。
  2. 根據請求項1之熱射線反射透光性基材，其中，該透明導電性氧化物層含有從摻雜了從錫、鈦、鎢、鉬、鋅、及氫中選出的一種以上的氧化銦、摻雜了從銻、銦、鉭、氯、及氟中選出的一種以上的氧化錫、及摻雜了從銦、鋁、錫、鎵、氟、及硼中選出的一種以上的氧化鋅中選出的一種以上，作為該透明導電性氧化物。
  3. 根據請求項1或2之熱射線反射透光性基材，其中，該透明導電性氧化物層的厚度為30nm以上且500nm以下。
  4. 根據請求項1或2之熱射線反射透光性基材，其中，該表面硬化層的厚度為0.5μm以上且10μm以下。
  5. 根據請求項1或2之熱射線反射透光性基材，其中，在該透明導電性氧化物層上還具有表面保護層。
  6. 根據請求項5之熱射線反射透光性基材，其中，該表面保護層的厚度為5nm以上且1μm以下。
  7. 根據請求項1或2之熱射線反射透光性基材，其中，在該透光性基材的與該一個表面相反側的表面上具有黏著劑層。
  8. 根據請求項5之熱射線反射透光性基材，其中，從該透明導電性氧化物層的一側測定的放射率為0.60以下，該放射率係使用具備一角度可變反射附件的傅立葉轉換型紅外分光(FT-IR)裝置，對從表面保護層側照射波長為5μm以上且25μm以下的範圍的紅外線的情況下的正反射率進行了測定，並按照JIS R3106-2008而求得。
  9. 一種熱射線反射窗，具有：窗用透光性基材；及配置在該窗用透光性基材的一個表面上的根據請求項1至8中任一項之熱射線反射透光性基材。
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