TWI764629B - 水處理裝置及水處理方法 - Google Patents

水處理裝置及水處理方法

Info

Publication number
TWI764629B
TWI764629B TW110109956A TW110109956A TWI764629B TW I764629 B TWI764629 B TW I764629B TW 110109956 A TW110109956 A TW 110109956A TW 110109956 A TW110109956 A TW 110109956A TW I764629 B TWI764629 B TW I764629B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
ozone water
membrane
pressure difference
water
value
Prior art date
Application number
TW110109956A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202140386A (zh
Inventor
今村英二
佐藤祐樹
林佳史
野田清治
Original Assignee
日商三菱電機股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商三菱電機股份有限公司 filed Critical 日商三菱電機股份有限公司
Publication of TW202140386A publication Critical patent/TW202140386A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI764629B publication Critical patent/TWI764629B/zh

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D65/00Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
    • B01D65/02Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
    • B01D65/06Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration with special washing compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

以臭氧水洗淨濾過膜的水處理裝置中,會有因為臭氧的不穩定的性質,臭氧水產生開始時間點、以及洗淨效果的管理困難,無法得到期待的洗淨效果的情況。為了解決這個問題,從測量的該濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值,當根據算出的膜間壓差值或根據這個膜間壓差值所算出的推估值等於基準值、或變得比基準值大時,指示臭氧水的產生開始。

Description

水處理裝置及水處理方法
本揭露係有關於水處理裝置及水處理方法。
供水和污水處理或排水處理中,以濾過膜濾過被處理水而得到清澈的濾過水的濾過膜方法被廣泛採用。在該方法中使用的濾過膜例如是表面具有細孔徑0.1微米左右的微細的無數的孔的有機材料膜、或無機材料膜。這個膜能夠除去被處理水中的懸濁物質。
濾過膜方法雖然藉由具有前述的精密構造的濾過膜得到高品質的濾過水來做為處理水,但卻會有懸濁物質等的物質使濾過膜的細孔閉塞的問題。對此,通常會進行「逆洗」的作業,使包含濾過水、臭氧、或次氯酸的藥品溶液朝向與被處理水的濾過方向相反的方向通過濾過膜,除去濾過膜細孔的閉塞。例如,專利文獻1及2中,揭露了利用溶解了臭氧的水(臭氧水)來逆洗濾過膜的方法。 先行技術文獻
專利文獻1:日本特開2001-300576號公報 專利文獻2:日本特開2014-128790號公報
例如,以臭氧水洗淨濾過膜的情況下,需要在每次洗淨都產生含有洗淨所需的臭氧濃度的臭氧水的必要。這起因於臭氧的不穩定。也就是,即使產生了目標臭氧濃度的臭氧水,當停止臭氧的供給,隨著時間經過,臭氧濃度會因為臭氧分解而下降,損害洗淨劑的效力。因此,與利用分解速度相對較慢且能夠保存的次氯酸鈉等的洗淨劑的濾過膜洗淨不同,即使濾過膜洗淨為必要的狀態,也無法立即開始洗淨,而在濾過膜上積垢(細孔的閉塞)。
又,溶解臭氧濃度容易受到成為臭氧的溶媒的液體性質的影響,臭氧的溶解速度、最終的溶解臭氧濃度在每次產生時發生變化。因此,洗淨效果不一致,在將臭氧水注入濾過膜的臭氧水洗淨程序中無法得到期待的洗淨效果,而恐怕必須立即再次的洗淨而造成洗淨頻率增大。
本揭露係為了解決上述的問題,目的是提供一種水處理裝置及水處理方法,消除臭氧水的產生及洗淨因為臭氧的特性造成的不確實,在適當的時間點開始產生臭氧水,穩定地獲得充分的臭氧水洗淨效果。
本揭露所揭露的水處理裝置,進行以濾過膜濾過被處理水來取得處理水的膜濾過步驟、以及以臭氧水洗淨濾過膜的臭氧水洗淨步驟,包括:計算部,從測量的濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值;控制部,當算出的膜間壓差值、或根據算出的膜間壓差值算出的推估值等於基準值或變得比基準值大時,指示開始臭氧水的產生。
根據本揭露的水處理裝置,能夠消除臭氧水的產生及洗淨因為臭氧的特性造成的不確實,在適當的時間點開始產生臭氧水,穩定地獲得充分的臭氧水洗淨效果。
以下,參照圖式來說明本揭露的水處理裝置的合適的實施型態。在這之中,相同內容及相當的部分會標示相同符號,而省略詳細的說明。以後的實施型態也同樣地,對於標示相同符號的元件會省略重複的說明。
[實施型態1] 圖1係說明實施型態1的水處理裝置的架構的一例的示意圖。圖1的水處理裝置具備收容濾過膜1的收容槽2。收容槽2中填充了被處理水4,濾過膜1受到被處理水4浸漬。又,收容槽2具備了供給被處理水4的被處理水配管19。濾過膜1連接了濾過水配管15。又,同配管上設置了壓力計9。壓力計9所得到的壓力資訊傳送到計算部10,換算成膜間壓差。
濾過泵13與濾過水配管15連接,能夠透過濾過膜1將獲得的濾過水送到過水槽14。又,濾過水配管15與臭氧水供給配管7連接。臭氧水供給配管7將從臭氧水產生裝置3透過臭氧水供給泵6排出的臭氧水供給到濾過膜1。臭氧水產生裝置3是由產生臭氧的臭氧產生器12、使產生的臭氧接觸儲存於內部的液體來產生臭氧水的臭氧水槽5、測量臭氧水槽5內的溶解臭氧濃度的臭氧水濃度計8所構成。
濾過水配管15及臭氧水供給配管7上設置了閥門16、17,藉由它們的開關來切換濾過水或臭氧水的供給,又,更具備控制部11,能夠接收設定部18所設定各裝置的運轉參數、計算部10所計算的計算結果、來自其他各機器的資訊,或者是對各機器發送指令。
接著,參照圖2的流程圖來說明圖1的水處理裝置的水處理的一連串動作。
[膜濾過步驟]
膜濾過步驟(步驟S1)中,將被處理水4放入收容槽2,並以濾過膜1進行被處理水4的濾過。由被處理水配管19供給的被處理水4儲存於收容槽2。打開閥門17(此時閥門16是關),使濾過泵13運作來進行吸引,藉此以濾過膜1進行被處理水4的濾過。濾過後得到的濾過水被搬運到濾過水槽14。
伴隨著濾過,濾過膜1發生積垢,也就是細孔的閉塞。當積垢越多,濾過膜1前後的壓力差(膜間壓差=Trans-membrance pressure:TMP)上升。過度的TMP上升是濾過膜1的破損等的裝置故障原因,因此會希望總是監視著TMP來把握積垢的程度。本實施型態的水處理裝置中,由壓力計9得到的壓力資訊,會以計算部10加上預定的處理換算成TMP,並將其儲存。在此所謂的預定的處理是求出施加於濾過膜1的一次側的壓力與施加於二次側的壓力的差的處理,在此,施加於濾過膜1的一次側的壓力會採用因為收容槽2的水位而產生的水壓,施加於二次側的壓力會採用因為壓力計9安裝的高度而產生的水壓以及壓力計9的測量值的和。
關於被處理水4,並沒有特別限定,例如可以是從河川、湖沼、海洋等採集的自然水,或者是污水、產業廢水等。做為膜分離生物反應器運用的情況下,也可以儲存活性污泥於收容槽2並將被處理水4導入其中,以濾過膜1濾過混合的液體。
又,濾過可以是連續的也可以是斷續的進行。例如,也可以每經過預定的時間就停止濾過,再使濾過水逆流等來實施逆洗,之後再開始濾過。又,濾過膜1的形狀是中空線型,或者是平膜型的任一者,濾過膜1的材料能夠利用陶瓷等的無機材料、例如聚偏二氟乙烯(PVDF)、或者是聚四氟乙烯(PTFE)等的氟樹脂類有機材料。無論是那一者,只要是能夠將被處理水4濾過成目的水質的細孔徑,有足夠臭氧耐性的構造、或材料的話,並不限定於濾過膜1。
[臭氧水產生步驟] 如上所述,隨著濾過進行,濾過膜1積垢,TMP上升。能夠給予濾過膜1的TMP有其限度,在限度以上的TMP下持續濾過的話,會有濾過膜1破損的風險。又,即使是限度以內的TMP,維持高TMP持續濾過的話,也會有因為洗淨造成TMP難以減低的狀況,因此當到達預先輸入設定部18的TMP的界限值Pmax 時,實施臭氧水的洗淨為佳。例如可以設定10~50kPa為Pmax
另外,以臭氧水洗淨濾過膜1的情況下,每次需要時都必須產生濾過所需的臭氧水。這是因為臭氧的特性所致。也就是因為半減期極短,所以無法長時間地預先保持一次所需要的臭氧水。或者是,想要保存的話,也必須在不需要臭氧水的期間持續地供給臭氧,造成效率不佳。因此,要在到達Pmax 的時間點開始洗淨的話,從效率的觀點來看,必須在到達設定的Pmax 的既定時間前就開始產生臭氧水。
本實施型態所示的水處理裝置為了解決相關問題而做了設計。也就是,以計算部10從膜濾過步驟進行中的壓力計9的測量值中逐次算出TMP,並傳送到控制部11。藉此持續監視施加於濾過膜1的TMP。又,控制部11逐次比較預先輸入設定部18的Pmax 、以及比Pmax 低一定值的TMP(即Psub )、TMP(步驟S2),當控制部11檢測出到達Psub 時,也就是檢測出TMP等於Psub 或者是更大時,開始產生臭氧水(步驟S3)。設定部18所設定的Psub ,要使得Psub 到為Pmax 為止的時間成為能夠完成產生臭氧水的時間以上為佳。產生臭氧水所需的時間為10~120分左右,因此例如設定Psub 在比Pmax 更低5~20kPa的值為佳。
如前所述,膜濾過步驟中,TMP到達Psub 的情況下開始臭氧水產生步驟,臭氧產生器12運轉,開始供給臭氧到臭氧水槽5。臭氧水槽5預先儲存了能夠成為臭氧的溶媒的液體,使臭氧接觸這個液體就會產生臭氧水。這個液體例如自來水、工業用水、純水、或者是超純水以外,也可以搬運儲存於濾過水槽14的濾過水的一部分來使用。又,要在臭氧水槽5中產生臭氧水時,也可以在供給臭氧的同時或早於供給臭氧之前,對臭氧水槽5內的液體注入鹽酸、硫酸等的酸性藥品、或者是自由基捕捉劑(例如碳酸氣體)。藉由這樣的操作能夠抑制臭氧的分解,能夠以更短的時間得到高濃度的臭氧水。
另外,一邊進行臭氧水產生步驟,一邊繼續膜濾過步驟。也就是膜濾過步驟中濾過泵13運轉,透過濾過膜1濾過被處理水4,但因為產生臭氧水的機器的動作與膜濾過的機器的動作獨立,所以除了當TMP到達Pmax 的情況下,也就是除了 TMP等於Pmax 或者是更大時,要產生臭氧水之前並不一定要將這些機器停止、暫停膜濾過步驟。這是本實施型態的效果之一,藉由在到達比洗淨所需要的膜間壓差的界限值Pmax 之前就開始產生臭氧水,能夠將濾過停止時間縮短到極致。在臭氧水的產生結束之前先到達Pmax 的情況下,如前所述,能夠停止濾過步驟,或者直到臭氧水的產生結束為止前減少過水量(濾過通量)進行運轉。
臭氧水產生中的臭氧水濃度會被臭氧水濃度計8不斷地監視,並傳送到計算部10。計算部10所接收的濃度資訊會被傳送到控制部11,當控制部11判斷監視時的臭氧水濃度到達預先由設定部18設定的既定濃度Ctarget 時,開始臭氧水洗淨步驟。
[臭氧水洗淨步驟] 控制部11中臭氧水中的溶存臭氧濃度到達預定的濃度Ctarget ,也就是判斷等於Ctarget 或更大後,停止膜濾過步驟(步驟S4)。同時,臭氧產生器12繼續對臭氧水槽5供給臭氧,且開始對濾過膜1供給臭氧水。也就是,控制部11傳送指令停止濾過泵13,關閉泵17,開啟泵16。又,臭氧水供給泵6運轉,儲存在臭氧水槽5內的臭氧水通過臭氧水供給配管7供給到濾過膜1。被供給的臭氧水從濾過膜的二次側透過到一次側的過程中,會化學地分解、或物理地剝離堵塞濾過膜細孔的積垢原因物質(生物膜等的有機成分等)。
水處理裝置的運用中必須穩定地獲得運轉管理者想要的洗淨效果。然而,使用臭氧水來洗淨水處理用濾過膜的機制還有很多沒有被了解的地方,洗淨效果的管理困難。而且,產生臭氧水所得的臭氧水濃度會因為做為臭氧的溶媒的液體的性質而變化,這點也使得洗淨效果的管理更加地困難。
對此,發明人們努力檢討的結果,發現了水處理濾過膜的臭氧水洗淨中,洗淨效果,也就是TMP的減低效果、與用於洗淨的臭氧水濃度和洗淨時間的乘積這個CT值之間,彼此有相關。也就是,對濾過溶解糖或蛋白質等的有機物的水而積垢到顯示既定的TMP為止的濾過膜,實施臭氧水洗淨,即使臭氧水濃度C每次變化,也透過調整臭氧水洗淨時間,使得臭氧水濃度C與臭氧水的洗淨時間T之間的乘積(CT值)成為一定,藉此臭氧水濃度C變化的任一洗淨後TMP的減低量都成為相同的程度。如此一來,可以想到藉由一邊掌握臭氧水產生所得的臭氧水濃度的變化一邊管理洗淨時間,就有可能管理臭氧水洗淨效果。
本實施型態所示的水處理裝置中,以臭氧水濃度計8量測臭氧水產生步驟中儲存於臭氧水槽5的臭氧水的濃度。將量測值逐次發送到計算部10,再將算出來的現在的臭氧水濃度資訊發送到控制部11。控制部11比較控制部發送而來的現在的臭氧水濃度、以及預先由設定部18設定的臭氧水濃度Ctarget 。如圖3所示,當判斷到達了Ctarget 時,開始臭氧水洗淨步驟(步驟S5)。
臭氧水洗淨步驟開始後的臭氧水濃度,如圖3所示,可以改變臭氧產生器12的輸出來調整供給臭氧水槽5的臭氧濃度或流量,以達成平均在Ctarget 左右的狀態下運轉。在這個情況下,經由計算部10接收臭氧水濃度8的測量值的控制部11,對應現在的臭氧水濃度以及目標值Ctarget 之間的分離程度,來增減臭氧產生器12所放出的臭氧濃度或流量。像這樣以控制部11控制臭氧產生器12,使得臭氧水洗淨步驟實行時的臭氧水濃度平均成為Ctarget 。更進一步地,控制部11從設定部18中預先設定的目標CT值CTtarget 與臭氧水濃度Ctarget ,算出必要洗淨時間α1,只在必要洗淨時間α1執行臭氧水洗淨步驟。
又,也可以不改變臭氧濃度、流量、其他條件,任臭氧水濃度自由變化。在這個情況下,控制部11逐次取得臭氧水濃度計8的測量值,經由計算部10,將其記錄做為臭氧水濃度。累積記錄的臭氧水濃度、臭氧水洗淨步驟的經過時間的乘積,當累積值到達CTtarget 時(步驟S6),也就是在等於CTtarget 或更大的時間點,可結束臭氧水洗淨步驟(步驟S7)。例如,此時將下述的式子導入計算部10,將算出結果與CTtarget 逐次比較並判定。
CTpresent = Σ(Cpresent × Δt) 在此,CTpresent 表示現在的累積CT值。Cpresent 表示現在的臭氧水濃度。Δt表示從前次的CTpresent 算出後經過的時間。
又,任由臭氧水洗淨步驟中的臭氧水濃度自由變化的情況下,如圖4所示,也可以從臭氧水洗淨步驟開始後逐次算出在各時間點的平均臭氧水濃度Cave ,比較這個算出值和同時間點的臭氧水洗淨步驟執行時間的積分∫Cave · dt值與CTtarget ,來判斷臭氧水洗淨步驟結束的時間點(步驟S6)。
又,本實施型態中將臭氧水洗淨步驟開始條件設定為臭氧水濃度。也就是,當到達預先設定的臭氧水濃度Ctarget 時開始臭氧水洗淨步驟。然而。也可以例如不設定Ctarget ,如圖5所示,當臭氧水產生步驟經過的預定的時間β時,強制地開始臭氧水洗淨步驟。此時,臭氧水洗淨步驟開始時的臭氧水濃度不一定會維持一定,但是因為使用臭氧水的洗淨效果本身能夠以CT值來管理,所以因應逐次測量的臭氧水濃度及CTtarget 來調整臭氧水洗淨步驟進行時間即可。
臭氧水洗淨步驟結束後,停止臭氧產生器12的臭氧供給以及臭氧水供給泵6的臭氧水供給,關閉閥門16,再開始濾過步驟(步驟S8)。
如以上所述,根據本實施型態,伴隨著臭氧水產生步驟開始,能夠以更短的時間獲得高濃度的臭氧水。又,一邊把握臭氧水濃度的變化一邊管理洗淨時間,藉此能夠管理臭氧水洗淨效果。因為這樣顯著的效果,能夠消除因為臭氧水產生及洗淨因為臭氧的特性而造成的不確實,在適當的時間點開始臭氧水的產生,獲得穩定且充分的臭氧水洗淨效果。
[實施型態2] 以濾過膜濾過被處理水4而獲得處理水的水處理裝置中,如前所述,濾過膜雖然會積垢,但積垢速度,也就是膜間差變化速度不一定維持一定,會因為各個時候的被處理水性狀等的濾過條件而變化。因此,對應膜間壓差變化速度來決定臭氧水產生開始時間點,能夠更有效率的運轉。
實施型態1所示的水處理裝置中,控制部11比較各時間點的TMP以及Psub 來決定臭氧水產生步驟開始時間點,但本實施型態中,如圖6所示,在控制部11追加膜間壓差變化速度算出手段110,藉此能夠更正確地決定臭氧水產生步驟開始時間點。
也就是,本實施型態中,在膜濾過步驟進行中計算部10從壓力計9的測量值算出TMP,逐次記錄於控制部11。也就是,控制部11逐次記錄現在的膜間壓差Pn 、設定部18所預先決定的比現在更早既定時間T1的膜間壓差Pn-1 ,從Pn 及Pn-1 的差、以及T1 ,算出從Pn-1 到Pn 為止的平均膜間壓差變化速度v。
再進一步,控制部11逐次算出設定部18預先決定的時間T2 與平均膜間壓差變化速度v的乘積ΔP、以及將這個ΔP加上Pn 的值Pn+x 。控制部11逐次比較這個值Pn+x 、以及設定部18預先設定的Pmax ,當判斷Pn+x 到達Pmax 時(步驟S9),開始臭氧水產生步驟(步驟S3)。
所謂Pn+x 是指以現在時刻為起點,時間T2 後的推估膜間壓差。T1 必須是從現在時刻附近的膜間壓差上升速度預測出從現在時刻開始的近將來的膜間壓差所適合的時間,設定在10分~240分之間為佳。如果T1 比10分短,會大幅受到濾過步驟中因為少許的濾過流量的變動造成的膜間壓差的變化的影響,v會被算出過大或過小。
另一方面,如果T1 比240分長,會受到Pn-1 至Pn 的過程中膜間壓差因為某些理由急上升,或者是急下降的情況的影響,v及Pn+x 的算出變得不適切。
T2 輸入從臭氧水產生開始到達必要的臭氧水濃度Ctarget 為止所需要的時間為佳,是10~120分。也就是,從以現在時刻為起點經過了臭氧水產生所需要的時間後,判斷出膜間壓差能夠到達設定成界限膜間壓差的Pmax 以上的情況下,立即開始臭氧水產生步驟。
如以上所述,膜間壓差變化速度時時刻刻變化的情況下,也逐次算出及記錄局部的膜間壓差變化速度,而能夠推估未來的膜間壓差,且將其利用來正確地決定臭氧水產生開始時間點。
另外,構成計算部10、控制部11、設定部18、以及膜間壓差變化速度算出手段110的硬體的一例顯示於圖8。由處理器100及儲存裝置200所構成,雖未圖示,但儲存裝置具備隨機存取記憶體等的揮發性儲存裝置、快閃記憶體等的非揮發性的補助儲存裝置。又,也可以具備硬碟這種補助儲存裝置來取代快閃記憶體。處理器100執行從儲存裝置200輸入的程式,藉此例如進行以圖2或圖7說明的各計算及各控制。在這個情況下,從補助儲存裝置透過揮發性儲存裝置輸入計算或控制用的程式到處理器100。又,處理器100也可以將計算結果等的資料輸出到儲存裝置200的揮發性儲存裝置,也可以透過揮發性儲存裝置將資料保存於補助儲存裝置。可以搭載複數的處理器100,也可以以1個處理器100構成計算部10、控制部11及設定部18。
本發明記載了各式各樣例示的實施型態及實施例,但1個或複數的實施型態中記載的各式各樣的特徵、態樣、及功能並不限定於特定的實施型態的使用,也能夠以單獨、或各種組合使用於實施型態。因此,未例示的無數的變形例會被設想在本發明說明書中揭露的技術範圍內。例如,也包含了變形、追加、或者是省略至少一個構成要素的情況,抽出至少1個構成要素並與其他的實施型態的構成要素組合的情況。
1:濾過膜 2:收容槽 3:臭氧水產生裝置 4:被處理水 5:臭氧水槽 6:臭氧水供給泵 7:臭氧水供給配管 8:臭氧水濃度計 9:壓力計 10:計算部 11:控制部 12:臭氧產生器 13:濾過泵 14:濾過水槽 15:濾過水配管 16,17:閥門 18:設定部 19:被處理水配管 100:處理部 110:膜間壓差變化速度算出手段 200:儲存裝置
圖1係說明實施型態1的水處理裝置的架構的一例的示意圖。 圖2係說明實施型態1的水處理裝置的動作的流程圖。 圖3係說明實施型態1的臭氧水洗淨程序的開始及結束的示意圖。 圖4係說明實施型態1的臭氧水洗淨程序的開始及結束的另一示意圖。 圖5係說明實施型態1的臭氧水洗淨程序的開始及結束的另一示意圖。 圖6係說明實施型態2的水處理裝置的架構的一例的示意圖。 圖7係說明實施型態2的水處理裝置的動作的流程圖。 圖8係顯示構成實施型態1及2所示的計算部、控制部、設定部、以及膜間壓差變化速度算出手段的硬體的一例的示意圖。
1:濾過膜
2:收容槽
3:臭氧水產生裝置
4:被處理水
5:臭氧水槽
6:臭氧水供給泵
7:臭氧水供給配管
8:臭氧水濃度計
9:壓力計
10:計算部
11:控制部
12:臭氧產生器
13:濾過泵
14:濾過水槽
15:濾過水配管
16,17:閥門
18:設定部
19:被處理水配管

Claims (8)

  1. 一種水處理裝置,進行以濾過膜濾過被處理水來取得處理水的膜濾過步驟、以及以臭氧水洗淨該濾過膜的臭氧水洗淨步驟,包括:計算部,從測量的該濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值;設定部,將比該濾過膜有可能破損、或者是透過該臭氧水洗淨步驟減低膜間壓差值變得困難之膜間壓差值的極限值低一定值的膜間壓差值,當作基準值而設定;以及控制部,當該算出的膜間壓差值等於該基準值或變得比基準值大時,指示開始該臭氧水的產生,在所產生的該臭氧水的濃度到達預先設定的濃度的時候停止膜濾過步驟,指示開始該臭氧水洗淨步驟;以所算出的膜間壓差值從該基準值至該膜間壓差值的極限值為止的時間係,是從該臭氧水的開始產生至完成產生的時間以上的方式,設定該基準值。
  2. 一種水處理裝置,進行以濾過膜濾過被處理水來取得處理水的膜濾過步驟、以及以臭氧水洗淨該濾過膜的臭氧水洗淨步驟,包括:第一計算部,從測量的該濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值;第二計算部,基於該膜間壓差值算出一定時間後的推估膜間壓差值;以及控制部,當算出的該膜間壓差值等於或大於該濾過膜有可能破損、或者是透過該臭氧水洗淨步驟減低膜間壓差值變得困難之膜間壓差值的極限值時,指示開始該臭氧水的產生。
  3. 如請求項2的水處理裝置,其中該推估膜間壓差值是,從該第一計算部算出的膜間壓差值、與比這個膜間壓差值更早預定的時間之前的膜間壓差值的差,算出膜間壓差變化速度,再根據這個膜間壓差變化速度算出的預定時間後的膜間壓差值。
  4. 如請求項1至3任一項的水處理裝置,其中產生的該臭氧水的濃 度到達預定的目標濃度後,開始該臭氧水的洗淨步驟。
  5. 如請求項4之水處理裝置,其中該臭氧水的濃度及該臭氧水洗淨步驟的經過時間的乘積值的累積值到達預先設定的值時,結束該臭氧水洗淨步驟。
  6. 如請求項4之水處理裝置,其中該控制部調整臭氧產生器的臭氧濃度及流量,使得該臭氧水洗淨步驟的臭氧水的濃度平均到達該目標濃度。
  7. 一種水處理方法,具有以濾過膜濾過被處理水來取得處理水的膜濾過步驟、以及以臭氧水洗淨該濾過膜的臭氧水洗淨步驟,包括:從測量的該濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值;當這個膜間壓差值等於被設定成比該濾過膜有可能破損、或透過該臭氧水洗淨步驟減低膜間壓差值變得困難的膜間壓差值的極限值低一定值的基準值,或者是變得比這個基準值大時,開始該臭氧水的產生;該基準值係,以所算出的膜間壓差值從該基準值至該膜間壓差值的極限值為止的時間係,是從該臭氧水的開始產生至完成產生的時間以上的方式設定;當產生的該臭氧水的濃度到達預定的目標濃度後,停止該膜濾過步驟,且開始該臭氧水洗淨步驟;對應該臭氧水的濃度而變化該臭氧水清洗步驟的經過時間,當該臭氧水的濃度與該臭氧水洗淨步驟的經過時間的乘積的累積值達到預先設定的值時,停止該臭氧水清洗步驟。
  8. 一種水處理方法,具有以濾過膜濾過被處理水來取得處理水的膜濾過步驟、以及以臭氧水洗淨該濾過膜的臭氧水洗淨步驟,包括:從測量的該濾過膜前後的壓力差算出膜間壓差值;當根據該膜間壓差值算出的一定時間後的推估膜間壓差值等於該濾過膜有可能破損的值或透過該臭氧水洗淨步驟減低膜間壓差值變得困難的值,或者是 變得更大時,開始該臭氧水的產生;當產生的該臭氧水的濃度到達預定的目標濃度後,停止該膜濾過步驟,且開始該臭氧水洗淨步驟;該臭氧水的濃度及該臭氧水洗淨步驟的經過時間的乘積值到達設定值時,停止該臭氧水洗淨步驟。
TW110109956A 2020-04-01 2021-03-19 水處理裝置及水處理方法 TWI764629B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2020/014984 WO2021199371A1 (ja) 2020-04-01 2020-04-01 水処理装置および水処理方法
WOPCT/JP2020/014984 2020-04-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202140386A TW202140386A (zh) 2021-11-01
TWI764629B true TWI764629B (zh) 2022-05-11

Family

ID=77929808

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110109956A TWI764629B (zh) 2020-04-01 2021-03-19 水處理裝置及水處理方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6952930B1 (zh)
CN (1) CN115335138B (zh)
TW (1) TWI764629B (zh)
WO (1) WO2021199371A1 (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004105876A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Isomura Housui Kiko Kk ろ過膜の洗浄方法
CN103739124A (zh) * 2014-01-24 2014-04-23 太平洋水处理工程有限公司 一种高效水处理装置及水处理方法
CN107531527A (zh) * 2015-05-18 2018-01-02 三菱电机株式会社 水处理系统及水处理方法
CN107922221A (zh) * 2015-08-27 2018-04-17 三菱电机株式会社 水处理方法及水处理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001327967A (ja) * 2000-05-19 2001-11-27 Toray Ind Inc 膜濾過プラントの運転方法および製造方法
JP2003053363A (ja) * 2001-08-09 2003-02-25 Kurita Water Ind Ltd 有機物含有水の処理方法及び処理装置
JP3826829B2 (ja) * 2002-04-11 2006-09-27 富士電機システムズ株式会社 膜ろ過を利用した水処理方法
JP5632779B2 (ja) * 2011-03-15 2014-11-26 水野ストレーナー工業株式会社 逆洗型ろ過装置
MY186114A (en) * 2016-03-04 2021-06-22 Mitsubishi Electric Corp Membrane filtration device, filtration membrane cleaning method, and method for manufacturing filtration membrane
WO2020255201A1 (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 三菱電機株式会社 ろ過膜洗浄装置、ろ過膜洗浄方法、および水処理システム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004105876A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Isomura Housui Kiko Kk ろ過膜の洗浄方法
CN103739124A (zh) * 2014-01-24 2014-04-23 太平洋水处理工程有限公司 一种高效水处理装置及水处理方法
CN107531527A (zh) * 2015-05-18 2018-01-02 三菱电机株式会社 水处理系统及水处理方法
CN107922221A (zh) * 2015-08-27 2018-04-17 三菱电机株式会社 水处理方法及水处理装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN115335138A (zh) 2022-11-11
JPWO2021199371A1 (zh) 2021-10-07
CN115335138B (zh) 2023-05-02
JP6952930B1 (ja) 2021-10-27
TW202140386A (zh) 2021-11-01
WO2021199371A1 (ja) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102329058B1 (ko) 분리막 모듈의 막힘 개소 특정 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체, 조수 시스템 및 조수 방법
JP6072994B1 (ja) 膜ろ過装置、ろ過膜洗浄方法、およびろ過膜の製造方法
JP5431493B2 (ja) 浸漬型分離膜装置の洗浄方法、及び浸漬型分離膜装置の洗浄システム
JPWO2019239515A1 (ja) オゾン水生成装置、水処理装置、オゾン水生成方法、および、洗浄方法
TWI764629B (zh) 水處理裝置及水處理方法
TWI717743B (zh) 膜洗淨裝置及膜洗淨方法
JP2013212497A (ja) 水処理方法
JP3514825B2 (ja) 水浄化システムの運転方法および水浄化装置
WO2021162093A1 (ja) ろ過特性予測による造水装置の制御方法、造水装置のトラブル判定方法、造水装置、造水装置の運転プログラム、造水装置のトラブル判定プログラム、および記録媒体
JP7103526B2 (ja) 造水装置の洗浄トラブル判定方法および洗浄トラブル判定プログラム
JP2006082027A (ja) ろ過膜を用いる水処理方法およびその装置
CN113993611B (zh) 水处理装置及水处理方法
JP6886265B2 (ja) 精製水の製造装置
JP7067678B1 (ja) 濾過膜の洗浄装置、水処理装置及び濾過膜の洗浄方法
JP7120496B1 (ja) 濾過膜洗浄装置、水処理装置及び濾過膜洗浄方法
JP6576591B1 (ja) 濾過膜処理装置、膜濾過装置、および、濾過膜処理方法
JP5548378B2 (ja) 水処理装置および水処理方法
JP2021016821A (ja) 膜分離装置の運転方法および膜分離装置
JP2016067967A (ja) 洗浄方法
JPH07328623A (ja) 水浄化システムの運転方法および水浄化装置
CN115297951A (zh) 膜清洗装置以及膜分离活性污泥系统和膜清洗方法
JP2001079365A (ja) 洗浄方法
JP2007098321A (ja) 膜ろ過装置ならびにその運転方法