TWI760804B - 輸送裝置及其供料方法 - Google Patents

Abstract

輸送裝置及其供料方法用以輸送複數處理元件。輸送裝置包括輸送帶、供料機構及複數偵測器。輸送帶包括第一工作位置及第二工作位置。輸送帶依據供料模式將處理元件由第一工作位置朝向第二工作位置依序移動。供料機構設置於輸送帶的前端，供料機構以供料速度提供處理元件至輸送帶。複數偵測器的第一偵測器以及第二偵測器設置於輸送帶的第一工作位置與第二工作位置之間。複數偵測器可以偵測輸送帶上特定位置是否存在處理元件。供料模式依據第一偵測器及第二偵測器的偵測結果被調整。

Description

輸送裝置及其供料方法

本發明關於一種輸送裝置，尤其是一種可以依據偵測結果調整供料模式的輸送裝置。

在工廠的製造流程中，經常藉由輸送帶將待組裝元件搭載到各個工作區進行組裝，但是當其中一個工作區的組裝進度延宕時，常會造成整條生產線的阻塞，嚴重影響整體生產進度。

尤其是應用於電子或機電領域的自流式（倍速鏈，Speed Chain）輸送系統，在有相同功能的工作區的情況下，輸送系統依工作區的數量分配待組裝元件，讓所有工作區能在同時間流入待組裝元件以進行作業。偶爾若異常狀況造成各工作區有不同的作業效率時，各個工作區無法同步，自流式輸送系統會因其中一工作區的完成速度不平衡而導致其他工作區塞料或缺料狀況，進而效率不佳速度變慢。

有鑑於此，本發明提供一種輸送裝置及其供料方法，可以基於不同工作台的各別作業效率下，隨時調整供給不同工作台的供料數量和速率以達到最佳的生產效能。

本發明一實施例提供一種輸送裝置用以輸送複數處理元件，輸送裝置包括輸送帶、供料機構及複數偵測器。輸送帶包括第一工作位置及第二工作位置，輸送帶依據供料模式將處理元件由第一工作位置朝向第二工作位置依序移動。供料機構設置於輸送帶的前端，供料機構以供料速度提供處理元件至輸送帶。複數偵測器的第一偵測器以及第二偵測器設置於輸送帶的第一工作位置與第二工作位置之間，複數偵測器可以偵測輸送帶上於第一偵測器及第二偵測器所對應之位置是否存在處理元件，第一偵測器能夠用以確認輸送帶上的處理元件是否過多，第二偵測器能夠用以確認輸送帶上的處理元件是否不足，並依據第一偵測器及第二偵測器的偵測結果調整供料模式。

在一實施例中，第一偵測器設置於第一工作位置及第二工作位置之間，第二偵測器設置於第二工作位置及第一偵測器之間，當偵測結果為第二偵測器偵測到存在處理元件並且第一偵測器偵測到不存在處理元件時，供料模式為常規模式。

在一實施例中，供料機構依據供料模式調整供料速度，當偵測結果為第一偵測器偵測到存在處理元件與第二偵測器偵測到存在處理元件時，供料模式為減速模式，常規模式的供料速度大於減速模式的供料速度。在一實施例中，當偵測結果為第一偵測器及第二偵測器皆偵測到不存在處理元件時，供料模式為加速模式，常規模式的供料速度小於加速模式的供料速度。

在一實施例中，偵測器更包括第三偵測器，設置於輸送帶的第一工作位置及第一偵測器之間。

在一實施例中，當第一偵測器、第二偵測器及第三偵測器皆偵測到存在處理元件時，供料模式為滿料模式，滿料模式的供料速度為零。

在一實施例中，輸送帶更包括調控單元，用以依據供料模式調控處理元件移動到第一工作位置或第二工作位置的供料比例。在一實施例中，供料模式為常規模式時調控單元供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:1。在一實施例中，供料模式為減速模式時調控單元供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:0。在一實施例中，供料模式為加速模式時調控單元供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:2。

本發明一實施例更提供一種輸送裝置的供料方法適用於輸送複數處理元件，供料方法包括：依據供料模式使處理元件由第一工作位置向第二工作位置依序移動、取得第一偵測器及第二偵測器偵測到是否存在處理元件的偵測結果，第一偵測器及第二偵測器對應偵測第一工作位置及第二工作位置之間，依據第二偵測器的偵測結果以確認處理元件是否不足，依據第一偵測器的偵測結果以確認處理元件是否過多、並且依據偵測結果調整供料模式。

在一實施例中，依據偵測結果調整供料模式的步驟中更包括：基於第二偵測器偵測到存在處理元件並且第一偵測器偵測到不存在處理元件，供料模式為常規模式、基於第一偵測器偵測到存在處理元件調整供料模式為減速模式或基於第一偵測器及第二偵測器偵測到皆不存在處理元件調整供料模式為加速模式。其中，第二偵測器對應偵測第一工作位置及第二工作位置之間，並且第一偵測器對應偵測第二工作位置及第二偵測器對應偵測的位置之間。

在一實施例中，依據供料模式使處理元件由第一工作位置向第二工作位置依序移動的步驟中更包括：依據供料模式調整供料速度，常規模式下的供料速度大於減速模式的供料速度，常規模式下的供料速度小於加速模式下的供料速度。

在一實施例中，依據供料模式使處理元件由第一工作位置向第二工作位置依序移動的步驟中更包括：依據供料模式調控處理元件移動到第一工作位置或第二工作位置的供料比例，供料模式為常規模式時供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:1，供料模式為減速模式時供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:0，供料模式為加速模式時供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:2。

在一實施例中，依據供料模式使處理元件由第一工作位置向第二工作位置依序移動的步驟中更包括：依據供料速度使處理元件由第一工作位置向第二工作位置依序移動，以及依據供料比例調控處理元件移動到第一工作位置或第二工作位置。

在一實施例中，依據偵測結果調整供料模式的步驟中更包括：依據偵測結果調整供料速度及供料比例。

在一實施例中，依據偵測結果調整供料速度及供料比例步驟中更包括：常規模式下不變動供料速度並調整供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:1，減速模式下減低供料速度並調整供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:0，加速模式下加快供料速度並調整供應到第一工作位置及第二工作位置的供料比例為1:2。

在一實施例中，取得第一偵測器及第二偵測器偵測到是否存在處理元件的偵測結果之步驟可以是取得第一偵測器、第二偵測器及第三偵測器偵測到是否存在處理元件的偵測結果。其中，第三偵測器偵測到存在處理元件係指處理元件數量等於或接近於第一工作位置及第二工作位置間可最多容設的處理元件數量。在一實施例中，依據偵測結果調整供料模式的步驟中更包括：當第一偵測器、第二偵測器及第三偵測器偵測到存在處理元件時調整供料模式的供料速度為零。

綜上所述，本發明一實施例的輸送裝置及其供料方法經由任二個工作區之間的複數偵測器的偵測結果，據以機動調整不同的各工作區之間的供料模式，達到最佳的生產效能。本發明一實施例的輸送裝置及其供料方法依據不同的供料模式調整供料速度及/或供料比例以達到最佳的生產效率。

以下述及之「第一」及「第二」等術語，其係用以區別所指之元件，而非用以排序或限定所指元件之差異性，且亦非用以限制本創作之範圍。

參考圖1及圖2。本發明一實施例提供一種輸送裝置1，輸送裝置1包括輸送帶10、供料機構20及複數偵測器30。輸送帶10的前端設置有供料機構20。輸送裝置1沿著輸送帶10的側邊依序設置有第一工作區T1及第二工作區T2。供料機構20將處理元件提供至輸送帶10，再由輸送帶10將處理元件延方向A運送到第一工作區T1及第二工作區T2。於此，方向A係由第一工作區T1朝向第二工作區T2的方向。

輸送帶10上設置有第一工作位置S1及第二工作位置S2，第一工作位置S1對應於第一工作區T1，第二工作位置S2對應於第二工作區T2。在一些實施例中，輸送裝置1包括複數工作區，輸送帶10上設置有對應複數工作區的工作位置。

在一些實施例中，第一工作區T1包括至少一移動裝置，例如：機械手臂（圖未示）用以將處理元件由輸送帶10的第一工作位置S1移動至第一工作區T1以便進行後續處理。

以其中一個處理元件的移動狀態來說，當輸送帶10將處理元件由供料機構20輸送到第一工作位置S1及/或第二工作位置S2時，移動裝置將處理元件移動至第一工作區T1及/或第二工作區T2進行處理，待處理完畢之後再將上述已處理完的處理元件由第一工作區T1及/或第二工作區T2移回輸送帶10上，使已處理完的處理元件可以繼續由輸送帶10往方向A運送以進行下一個處理。舉例而言，當處理元件為晶片時，第一工作區T1及第二工作區T2處理晶片檢測工作。

續參考圖1。輸送帶10上設置有複數偵測器30。在一實施例中，複數偵測器30至少包括有第二偵測器31以及第一偵測器32，第二偵測器31以及第一偵測器32對應設置於輸送帶10的第一工作位置S1與第二工作位置S2之間。意即複數偵測器30用以偵測輸送帶10上第一工作位置S1與第二工作位置S2之間的其他位置所存在的處理元件的狀態，也就上述其他位置是否存在處理元件。

在一些實施例中，偵測器30可以直接設置在輸送帶10的某一個承載位置上以偵測到該承載位置是否存在處理元件。舉例而言，偵測器30可以是紅外線偵測器、重量偵測器等等，並不以此舉例為限。

在另一些實施例中，偵測器30也可以不用直接設置在輸送帶10上，只要能對應偵測到該承載位置是否存在處理元件即可。舉例來說，偵測器30也可以由攝影鏡頭及影像判讀器來實現。意即，偵測結果可以由影像判讀技術來取得。換言之，複數偵測器30也可以由單一的攝影鏡頭拍攝輸送帶10上的複數承載位置來實現。

在一些實施例中，複數偵測器30可以基於輸送帶10上對應的承載位置是否存在處理元件來取得偵測結果。圖2中的第二偵測器31以及第一偵測器32為示意位置。

輸送帶10及供料機構20依據供料模式將複數的處理元件輸送到第一工作位置S1、第二工作位置S2或輸送帶10上的其他承載位置，並且會依據第二偵測器31及第一偵測器32的偵測結果調整上述供料模式。也就是說，複數偵測器30偵測二個工作區之間處理元件的供料狀態，如在輸送帶10上的排列狀況，並據此供料狀態回饋調整供料模式，以避免供料不足、供料過多或供料阻塞的情況。

在此，水位係用以表示在輸送帶10上處理元件的數量狀況。低水位係表示在輸送帶10上的處理元件數量低於第一工作區T1或第二工作區T2可處理的處理元件數量，也就是在輸送帶10上承載的處理元件數量低於第一工作位置S1及第二工作位置S2間預設的處理元件數量。預設的處理元件數量可以視第一工作區T1或第二工作區T2可處理的元件數量進行調整。例如：在圖1實施例中預設的處理元件數量係以4個為例示，因此第二偵測器31設置在對應於圖1中第四承載位置C4的位置（詳於後述），若是預設的處理元件數量係以5個為例示，則可調整第二偵測器31設置在對應於圖1中第五承載位置C5的位置。此時，低水位以下係形容輸送帶10供料不足的狀態，致使第一工作位置S1及/或第二工作位置S2不存在或過少處理元件，而造成第一工作區T1及/或第二工作區T2空轉或沒有達到預期可處理的數量。

高水位係表示在輸送帶10上的處理元件數量高於第一工作區T1或第二工作區T2可處理的處理元件數量，也就是在輸送帶10上承載的處理元件數量高於第一工作位置S1及第二工作位置S2間另一預設的處理元件數量。另一預設的處理元件數量可以視第一工作區T1或第二工作區T2預定進行初步警示或調整的處理的元件數量進行調整。例如：在圖1實施例中另一預設的處理元件數量係以7個為例示，因此第一偵測器32設置在對應於圖1中第七承載位置C7的位置（詳於後述），若是預設的處理元件數量係以8個為例示，則可調整第一偵測器32設置在對應於圖1中第八承載位置C8的位置。此時，高水位以上係形容輸送帶10產生供料過多而可能開始阻塞的狀況。

參考圖3。在一實施例中，輸送裝置1的供料方法包括，步驟S100：依據供料模式使處理元件由第一工作位置S1向第二工作位置S2依序移動，步驟S110：取得第一偵測器及第二偵測器是否存在處理元件的偵測結果，以及步驟S120：依據偵測結果調整供料模式。

續參考圖2。在一實施例中，輸送裝置1利用軌道12以及其上承托處理元件的多個承載台11形成輸送帶10，各別承載台11可以依需求的速度在軌道12上運行，並且通過調控單元40停止在軌道12上設定的承載位置。在一實施例中，複數偵測器30設置在軌道12上，用以檢測在相應的承載位置是否有承載台11或承載台11上是否承托有處理元件。

在一實施例中，輸送帶10上的複數承載位置中包括低水位位置及高水位位置。低水位位置是位於第二工作位置S2及高水位位置之間，並且高水位位置是位於第一工作位置S1及低水位位置之間。其中，第一偵測器32的設置對應於高水位位置，第二偵測器31的設置對應於低水位位置，以偵測上述位置是否存在處理元件。

參考圖4。在步驟S110的一個示範例中，步驟S110包括步驟S111：第一偵測器32偵測是否存在處理元件、步驟S112：第二偵測器31偵測是否存在處理元件以取得偵測結果。

當步驟S111為否，而步驟S112為是，則執行步驟S113：判斷為常規模式，並且接續步驟S120以調整後續的供料模式。也就是說，當偵測結果為低水位位置（即第二偵測器31處）存在處理元件並且高水位位置（即第一偵測器32處）不存在處理元件時，供料模式為常規模式。舉例來說，當輸送帶10上於第一工作位置S1及第二工作位置S2之間的處理元件數量符合預期數量，第一工作區T1及第二工作區T2依據設定的處理速度在處理處理元件，則供料模式即為常規模式。於此，由於高水位位置不存在處理元件，而低水位位置存在處理元件，故判斷目前供料狀態仍屬於低水位以上，但在高水位以下，因此可以依常規模式持續供料。

當步驟S111為是，則執行步驟S114：判斷供料模式為減速模式，並且接續步驟S120以調整後續的供料模式。也就是說，當偵測結果為高水位位置（即第一偵測器32處）存在處理元件時，供料模式為減速模式。舉例來說，當輸送帶10上於第一工作位置S1及第二工作位置S2之間已累積過多的處理元件，而使得在高水位位置處的第一偵測器32偵測到有處理元件，則表示第二工作區T2無法及時消化處理元件或第一工作區T1處理處理元件的速度過快，而需要降低供應至第二工作位置S2的處理元件速度，即調整供料模式為減速模式。於此，由於第一偵測器32偵測到高水位位置已存在處理元件，故判斷目前供料狀態屬於高水位以上，應當降低供料速度。

當步驟S111為否，而步驟S112亦為否，則執行步驟S115：判斷供料模式為加速模式，並且接續步驟S120以調整後續的供料模式。也就是說，當偵測結果為低水位位置（即第二偵測器31處）及高水位位置（即第一偵測器32處）都不存在處理元件時，供料模式為加速模式。舉例來說，當輸送帶10上於第一工作位置S1及第二工作位置S2之間的處理元件數量少於預期數量，即低水位位置不存在處理元件，第二工作區T2處理處理元件的速度較快或第一工作區T1處理速度有所降低，而需要加快供應至第二工作區T2的處理元件速度，即調整供料模式為加速模式。於此，由於高水位位置及低水位位置皆不存在處理元件，故判斷目前供料狀態屬於低水位以下，應當提升供料速度。

如圖1所示，在一實施例中，複數偵測器30更包括第三偵測器33，第三偵測器33對應設置於可以偵測到輸送帶10上的滿水位位置是否存在處理元件處，滿水位位置於第一工作位置S1及高水位位置（即第一偵測器32處）之間。於此實施例中，輸送裝置1依據第二偵測器31、第一偵測器32及第三偵測器33的偵測結果調整供料模式。在此，第三偵測器33即是用以確認輸送帶10上的處理元件是否阻塞。滿水位係指輸送帶10上的處理元件數量等於或略小於第一工作位置S1及第二工作位置S2間可容設的處理元件數量，即將無法再容設更多的處理元件。舉例來說，如圖1所示，本實施例中在第一工作位置S1及第二工作位置S2間可容設12個處理元件，即有12個承載位置，則第三偵測器33可設於第十一承載位置C11或第十二承載位置C12處。

參考圖5。在步驟S110的另一個示範例中，步驟S110包括步驟S116：第三偵測器33偵測是否存在處理元件，步驟S111：第一偵測器32偵測是否存在處理元件以及步驟S112：第二偵測器31偵測是否存在處理元件以取得偵測結果。當步驟S116的偵測結果為是，則執行步驟S117：供料模式為滿料模式，並且接續步驟S120以調整後續的供料模式。也就是說，當偵測結果為滿水位位置存在處理元件時，供料模式為滿料模式。當步驟S116為否，則接續進行步驟S111及步驟S112。舉例來說，當輸送帶10上於第一工作位置S1及第二工作位置S2之間的處理元件數量過多，可能因第二工作區T2故障，或第一工作區T1與第二工作區T2間的處理速度差異過大，而無法再傳送更多處理元件時，將調整供料模式為滿料模式。

需注意的是，本發明說明書中所描述的各步驟雖有順序，但此順序並非本發明之限制，熟習相關技藝者應可瞭解在合理情況下部分步驟的執行順序可同時進行或先後對調。

續參考圖1及圖2。在一示範例中，藉由輸送帶10上複數個不同的位置所設置的調控單元40可以將各個承載台11限位在不同的承載位置，以利直流式的輸送裝置1可以針對複數個工作區同時供料。舉例而言，由圖1可以見，輸送帶10的第一工作位置S1與第二工作位置S2之間具備有十二個承載位置，由連接於第二工作位置S2旁邊的第一承載位置C1開始依序為第二承載位置C2、第三承載位置C3、第四承載位置C4、第五承載位置C5、第六承載位置C6、第七承載位置C7、第八承載位置C8、第九承載位置C9、第十承載位置C10、第十一承載位置C11，以及連接於第一工作位置S1的第十二承載位置C12。

於此，第一承載位置C1到第十二承載位置C12屬於一種緩衝區域，可以停放待提供第二工作區T2的處理元件，或是停放第一工作區T1已處理完畢的處理元件。以下依據上述示範例的位置說明輸送裝置及供料方法中的供料模式如何調控。

在一些實施例中，第一偵測器32設置於第七承載位置C7，第二偵測器31設置於第四承載位置C4。換言之，第二偵測器31對應偵測的承載位置定義為低水位位置，例如第四承載位置C4，低水位位置設置於第二工作位置S2及第一偵測器32對應偵測的承載位置之間，第一偵測器32對應偵測的承載位置定義為高水位位置，並且第一偵測器32設置於第一工作位置S1及第二工作位置S2之間。

在一些實施例中，不同的供料模式可以由調整承載台11（亦可稱為承載位置）的行進速率、供料機構20的供料速度、不同工作區之間的供料比例等等其中至少一種來達成。

在一實施例中，供料機構20依據供料模式調整供料速度。也就是說，在步驟S110中是依據供料模式以調整供料速度。舉例而言，常規模式下的供料速度大於減速模式的供料速度，常規模式下的供料速度小於加速模式下的供料速度。

在另一些實施例中，輸送帶10依據供料模式調整供料比例。於此，供料比例是指輸送帶10利用調控單元40依據供料模式控制複數的處理元件移動到第一工作位置S1的數量或第二工作位置S2的數量之間的比例。也就是說，在步驟S110中是依據供料模式調控處理元件移動到第一工作位置S1或第二工作位置S2的供料比例。

在又一些實施例中，步驟S110中是依據供料速度使處理元件由第一工作位置S1向第二工作位置S2依序移動，並且依據供料比例調控處理元件移動到第一工作位置S1或第二工作位置S2。也就是說，供料模式會同時調整供料速度及供料比例。

下面以部分實際偵測結果與供料模試調整方式來舉例說明：

舉例而言，在原來為常規模式的情況下，假定供料機構20的供料速度為每5分鐘提供第一工作位置S1及第二工作位置S2各一個處理元件，當偵測結果為低水位位置（C4）及高水位位置（C7）都不存在處理元件時，代表第二工作區T2都能在時間內順利或提早完成所分配到的處理元件，故而可以將常規模式調整為加速模式，例如將供料機構20的供料速度提升為每3分鐘提供第一工作位置S1及第二工作位置S2各一個處理元件。或者是於每5分鐘，提供第一工作位置S1一個處理元件，且提供第二工作位置S2二個處理元件。

再舉例而言，當偵測結果為高水位位置（C7）存在處理元件時，代表第二工作區T2可能無法在時間內順利完成所分配到的處理元件，或是代表第一工作區T1的處理速度較快而使得緩衝區域暫停過多第一工作區T1已處理完畢的處理元件，故而可以將常規模式調整為減速模式，例如將供料機構20的供料速度降低為每7分鐘提供第一工作位置S1及第二工作位置S2各一個處理元件。或者是調整為每7分鐘先提供第一工作位置S1一個處理元件，而不提供第二工作位置S2任何處理元件。

在一實施例中，第三偵測器33對應偵測的承載位置定義為滿水位位置（即第十一承載位置C11）於第一工作位置S1及第一偵測器32（即高水位位置C7）之間。在一實施例中，步驟S110可以是第一偵測器32、第二偵測器31及第三偵測器33偵測到高水位位置、低水位位置及滿水位位置是否存在處理元件的偵測結果。

參考圖1，在一示範例中，第三偵測器33設置於第十一承載位置C11。舉例而言，在原來為常規模式的情況下，假定供料機構20的供料速度每5分鐘提供第一工作位置S1及第二工作位置S2各一個處理元件，當偵測結果為滿水位位置（C11）存在處理元件時，代表緩衝區域已被暫時停放的處理元件或處理完畢的處理元件塞滿，故而可以將常規模式調整為滿料模式。滿料模式下供料機構20的供料速度降低到零，不再供料。在一實施例中，滿料模式亦可觸發一警示訊息，通知相關人員處理塞料的狀況，並檢查工作區可能產生的異常狀況。

參考圖6。舉例而言，當供料比例為3:4是指供料機構20依序提供處理元件51到處理元件57共七個處理元件，各處理元件沿輸送帶10依序向方向A前進，第一工作位置S1的調控單元40將處理元件51到處理元件54放行，使處理元件51到處理元件54沿軌道12前進抵達並暫停在第二工作位置S2到第三承載位置C3之上，以待被移動到第二工作區T2進行處理，而其餘處理元件55到處理元件57沿軌道12暫停在第一工作位置S1之後，以待被移動到第一工作區T1進行處理。

進一步，由於此時第二偵測器31將偵測到低水位位置沒有處理元件，故在下一個供料時間到達時，將會調整為加速模式，以提供較多的處理元件至第二工作位置S2。當下一個供料時間提供處理元件至第二工作位置S2後，第二偵測器31有偵測到處理元件，而第一偵測器32沒有偵測到處理元件，則調整回常規模式。若是當下一個供料時間提供處理元件至第二工作位置S2後，第二偵測器31有偵測到處理元件，且第一偵測器32亦偵測到處理元件時，則調整為減速模式。如此，以自動依據數個工作台的各別作業效率下，隨時調整供料的數量和速率以達到最佳的生產效能。

在一些實施例中，步驟S120可以是依據偵測結果調整供料速度及供料比例。舉例而言，當偵測結果判斷為常規模式時，不變動供料速度並調整供料比例為1:1。當偵測結果判斷為減速模式時，減低供料速度並調整供料比例為1:0。偵測結果判斷為加速模式時，加快供料速度並調整供料比例為1:2。

本發明中的輸送帶10的長度與工作區的數量及對應位置可以依需求或地形設置，不以上述舉例為限。也就是說，輸送帶10可以依需求任意延長，並且延著輸送帶10側邊設置的工作區可以隨之增加，而任意二個工作區之間可以對應設置至少二個偵測器，並藉所有偵測器取得的偵測結果，調整上述二個工作區之間的供料模式。藉以使得輸送帶10能達到最順暢不阻塞的供料狀態。

以下新增第三工作區T3來舉例說明。

參考圖7。在一實施例中，輸送裝置1更包括有第三工作位置，第三工作位置設置在輸送帶10的側邊。也就是說，輸送裝置1沿著輸送帶10的側邊朝向方向A依序設置有第一工作區T1、第二工作區T2及第三工作區T3。

供料機構20將處理元件提供至輸送帶10，輸送帶10依據供料模式將處理元件由第一工作位置S1經過第二工作位置S2朝向對應於第三工作區T3的第三工作位置依序移動。

於此，輸送帶10更包括第二高水位位置及第二低水位位置，第二高水位位置及第二低水位位置位於第二工作位置S2與第三工作位置S3之間，複數偵測器更包括第四偵測器35設置於可偵測第二高水位位置是否存在處理元件的位置，第五偵測器34設置於可偵測到第二低水位位置是否存在處理元件處，其中依據第四偵測器35及第五偵測器34二者所得到的另一偵測結果及第一偵測器32及第二偵測器31的偵測結果共同調整供料模式。

也就是說，複數偵測器偵測輸送帶10上針對三個工作區（T1、T2及T3）彼此之間處理元件的供料狀態（亦可說是複數處理元件在輸送帶10上的排列狀況），並據此供料狀態回饋調整供料模式，以避免輸送帶10上產生供料不足或供料阻塞的情況。於此，供料比例是指輸送帶10利用調控單元40依據供料模式控制複數的處理元件移動到第一工作位置S1的數量、第二工作位置S2的數量或第三工作位置S3的數量之間的比例。

在一實施例中，常規模式下供料比例可以是1:1:1。也就是說，供料機構20的每隔一段固定時間提供第一工作位置S1、第二工作位置S2及第三工作位置數量相同的處理元件。舉例而言，供料機構20的每3分鐘提供第一工作位置S1、第二工作位置S2及第三工作位置S3各2個處理元件。

在一實施例中，當高水位位置存在處理元件，而第二高水位位置不存在處理元件，第二低水位位置存在處理元件時，供料比例可以調整為2:1:2。舉例而言，當處理元件為晶片時，第一偵測器32偵測到晶片的存在，表示第二工作區T2的待檢測晶片有阻塞的狀況，而第四偵測器35偵測不到晶片的存在並且第五偵測器34偵測到晶片的存在，表示第三工作區T3的待檢測晶片維持正常的狀況，故而調降提供到第二工作位置S2的晶片數量，供應到第一工作位置S1及第三工作位置S3的晶片數量維持原數量。

如圖7所示，在一實施例中，複數偵測器30更包括第六偵測器36，第六偵測器36對應設置於可以偵測到輸送帶10上的第一二工作位置S2及第三工作位置之間的第二滿水位位置是否存在處理元件處，第二滿水位位置於第二工作位置S2及第二高水位位置（即第四偵測器35處）之間。

雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技術者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。

1:輸送裝置 10:輸送帶 11:承載台 12:軌道 20:供料機構 30:偵測器 31:第二偵測器 32:第一偵測器 33:第三偵測器 34:第五偵測器 35:第四偵測器 36:第六偵測器 40:調控單元 51-57:處理元件 S1:第一工作位置 S2:第二工作位置 S3:第三工作位置 T1:第一工作區 T2:第二工作區 T3:第三工作區 A:方向 C1:第一承載位置 C2:第二承載位置 C3:第三承載位置 C4:第四承載位置 C5:第五承載位置 C6:第六承載位置 C7:第七承載位置 C8:第八承載位置 C9:第九承載位置 C10:第十承載位置 C11:第十一承載位置 C12:第十二承載位置 S100、S110、S120、S111、S112、S113、S114、S115、S116、S117:步驟

[圖1] 係本發明一實施例的輸送裝置各部件相對位置示意圖。 [圖2] 係本發明一實施例的輸送裝置。 [圖3] 係本發明一實施例的供料方法流程圖。 [圖4] 係圖2中步驟S110的一示範例的細部流程圖。 [圖5] 係圖2中步驟S110的另一示範例的細部流程圖。 [圖6] 係本發明一實施例的輸送裝置處理元件輸送狀態示意圖。 [圖7] 係本發明另一實施例的輸送裝置各部件相對位置示意圖。

10:輸送帶

20:供料機構

31:第二偵測器

32:第一偵測器

33:第三偵測器

S1:第一工作位置

S2:第二工作位置

T1:第一工作區

T2:第二工作區

A:方向

C1:第一承載位置

C2:第二承載位置

C3:第三承載位置

C4:第四承載位置

C5:第五承載位置

C6:第六承載位置

C7:第七承載位置

C8:第八承載位置

C9:第九承載位置

C10:第十承載位置

C11:第十一承載位置

C12:第十二承載位置

Claims (21)

1. 一種輸送裝置，用以輸送複數處理元件，包括： 一輸送帶，包括一第一工作位置以及一第二工作位置，用以依據一供料模式將該些處理元件由該第一工作位置朝向該第二工作位置依序移動； 一供料機構，設置於該輸送帶的前端，以一供料速度提供該些處理元件至該輸送帶；以及 複數偵測器，包括一第一偵測器以及一第二偵測器，設置於該輸送帶的該第一工作位置與該第二工作位置之間，以偵測該輸送帶上於該第一偵測器及該第二偵測器所對應之位置是否存在該些處理元件，該第一偵測器用以確認該輸送帶上的該些處理元件是否過多，該第二偵測器用以確認該輸送帶上的該些處理元件是否不足，該供料模式依據該第一偵測器及該第二偵測器的一偵測結果被調整。
2. 如請求項1所述的輸送裝置，其中該第一偵測器設置於該第一工作位置及該第二工作位置之間，該第二偵測器設置於該第二工作位置及該第一偵測器之間，其中當該偵測結果為該第二偵測器偵測到存在該處理元件並且該第一偵測器偵測到不存在該處理元件時，該供料模式為一常規模式。
3. 如請求項2所述的輸送裝置，其中當該偵測結果為該第一偵測器偵測到存在該處理元件與該第二偵測器偵測到存在該處理元件時，該供料模式為一減速模式，該常規模式的該供料速度大於該減速模式的該供料速度。
4. 如請求項3所述的輸送裝置，其中當該偵測結果為該第一偵測器及該第二偵測器偵測到皆不存在該處理元件時，該供料模式為一加速模式，該常規模式的該供料速度小於該加速模式的該供料速度。
5. 如請求項4所述的輸送裝置，其中該些偵測器更包括一第三偵測器，設置於該輸送帶的該第一工作位置及該第一偵測器之間。
6. 如請求項5所述的輸送裝置，其中當該偵測結果為該第一偵測器、該第二偵測器及該第三偵測器皆偵測到存在該處理元件時，該供料模式為一滿料模式，該滿料模式的該供料速度為零。
7. 如請求項4所述的輸送裝置，其中該輸送帶更包括一調控單元，用以依據該供料模式調控該些處理元件移動到該第一工作位置或該第二工作位置的一供料比例。
8. 如請求項7所述的輸送裝置，其中該供料模式為該常規模式時，該調控單元供應該處理元件移動到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:1。
9. 如請求項7所述的輸送裝置，其中該供料模式為該減速模式時，該調控單元供應該處理元件移動到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:0。
10. 如請求項7所述的輸送裝置，其中該供料模式為該加速模式時，該調控單元供應該處理元件移動到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:2。
11. 一種輸送裝置的供料方法，適用於輸送複數處理元件，包括： 依據一供料模式使該些處理元件由一第一工作位置向一第二工作位置依序移動； 取得一第一偵測器及一第二偵測器所偵測是否存在該些處理元件的一偵測結果，其中該第一偵測器及該第二偵測器對應偵測該第一工作位置及該第二工作位置之間，依據該第二偵測器的該偵測結果以確認該些處理元件是否不足，依據該第一偵測器的該偵測結果以確認該些處理元件是否過多；以及 依據該偵測結果調整該供料模式。
12. 如請求項11所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料模式步驟中更包括： 基於該第二偵測器偵測到存在該處理元件並且該第一偵測器偵測到不存在該處理元件，該供料模式為一常規模式，其中該第一偵測器設置於該第一工作位置及該第二工作位置之間，並且該第二偵測器對應偵測該第二工作位置及該第一偵測器之間。
13. 如請求項12所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料模式步驟中更包括： 基於該第一偵測器偵測到存在該處理元件與該第二偵測器偵測到存在該處理元件時，調整該供料模式為一減速模式。
14. 如請求項13所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料模式步驟中更包括： 基於該第一偵測器及該第二偵測器皆偵測到不存在該處理元件，調整該供料模式為一加速模式。
15. 如請求項14所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該供料模式使該些處理元件由該第一工作位置向該第二工作位置依序移動的步驟中更包括： 依據該供料模式調整一供料速度，該常規模式下的該供料速度大於該減速模式的該供料速度，該常規模式下的該供料速度小於該加速模式下的該供料速度。
16. 如請求項14所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該供料模式使該些處理元件由該第一工作位置向該第二工作位置依序移動的步驟中更包括： 依據該供料模式調控該些處理元件移動到該第一工作位置或該第二工作位置的一供料比例，該供料模式為該常規模式時供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:1，該供料模式為該減速模式時供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:0，該供料模式為該加速模式時供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:2。
17. 如請求項14所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該供料模式使該些處理元件由該第一工作位置向該第二工作位置依序移動的步驟中更包括： 依據一供料速度使該些處理元件由該第一工作位置向該第二工作位置依序移動；以及 依據一供料比例調控該些處理元件移動到該第一工作位置或該第二工作位置。
18. 如請求項17所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料模式的步驟中更包括： 依據該偵測結果調整該供料速度及該供料比例。
19. 如請求項18所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料速度及該供料比例的步驟中更包括： 該常規模式下不變動該供料速度並調整供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:1； 該減速模式下減低該供料速度並調整供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:0；以及 該加速模式下加快該供料速度並調整供應到該第一工作位置及該第二工作位置的該供料比例為1:2。
20. 如請求項14所述的輸送裝置的供料方法，其中該取得該第一偵測器及該第二偵測器所偵測是否存在該些處理元件的該偵測結果的步驟可以是： 取得該第一偵測器、該第二偵測器及一第三偵測器所偵測是否存在該些處理元件的該偵測結果，其中該第三偵測器於該第一工作位置及該第一偵測器之間。
21. 如請求項20所述的輸送裝置的供料方法，其中該依據該偵測結果調整該供料模式的步驟中更包括： 基於該第一偵測器、該第二偵測器及該第三偵測器偵測到皆存在該處理元件，調整該供料模式的一供料速度為零。

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