TWI759439B - 具有反嵌套特徵之載帶 - Google Patents
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Abstract
揭示一種可撓性載帶。該載帶包括沿著該載帶之縱軸形成在可撓性基材中的複數個間隔開之凹穴。各凹穴包括界定一主凹穴腔的一主凹穴,該主凹穴腔經定形狀並定尺寸以接收並儲存組件。該等凹穴之至少一者進一步包括與主凹穴腔相連的至少一個側凹穴。該側凹穴具有一底部外表面,該底部外表面在該基材下方延伸至少與對應之主凹穴腔之底部外表面一樣遠。該側凹穴腔經定形狀並定尺寸以不接收亦不儲存該預定組件。
Description
本揭露大致上關於用於電子組件包裝應用之載帶。
載帶係用於將組件(例如,諸如電阻器、電容器、或積體電路之電性組件)自一組件製造商運送至一將裝載在載帶內的組件組裝成一完成之產品的不同製造商。載帶包括以規則之間隔形成在載帶內並具有一幾何形狀的多個凹穴,該幾何形狀係與所裝載之組件相容。凹穴一般由多個壁部分所界定,該等壁部分自載帶之頂部延伸至凹穴之底部。依此方式,由載帶所裝載的組件安置於所界定之凹穴內。
一般而言,載帶是在一第一製造地點所製造,經捲繞在一捲盤(reel)上,並且運送至其意欲運送至的組件供應商。組件供應商自捲盤解開載帶、沿著載帶將組件填入凹穴、沿著載帶黏附一可移除覆蓋條帶在填有組件之凹穴上方、將帶有經黏附覆蓋條帶之填有組件之載帶捲繞在一捲盤上、並將其送至使用者,該使用者將其自該捲盤饋送至取出該等組件的組裝設備上。
與依此方式捲繞在捲盤上的載帶相關聯的一常見問題在於,在載帶之第一繞圈(wrap)上之凹穴傾向於安置或嵌套(nest)在該載
帶之一相鄰纏繞部分的凹穴中。一個凹穴嵌套在另一凹穴中造成該等凹穴之壁部分摩擦性地相互接合,因此使得需要一較大的力量才能解開該載帶。此可導致載帶之變形,使得自動化設備無法可靠地自載帶取出組件。
在一個態樣中,本發明係一種用以運送複數個預定組件(諸如電子組件)的可撓性載帶。該載帶包括沿著該載帶之一縱軸延伸的一可撓性基材、及沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性基材中的複數個間隔開之凹穴。各凹穴包括界定一主凹穴腔的一主凹穴,該主凹穴腔經定形狀並定尺寸以接收並儲存該組件。該主凹穴腔具有一底部內表面及一底部外表面,其中該凹穴之該底部外表面在該基材下方延伸。該複數個凹穴之至少一者進一步包括至少一個側凹穴,各側凹穴界定與一對應之主凹穴腔相連的一側凹穴腔。該側凹穴腔具有一底部內表面及一底部外表面,該側凹穴腔之該底部外表面在該基材下方延伸至少與該對應之主凹穴腔之該底部外表面一樣遠。該至少一個側凹穴腔經定形狀並定尺寸以不接收或儲存該預定組件。
在本發明之另一態樣中,該至少一個側凹穴腔之該底部外表面比該對應之主凹穴腔之該底部外表面在該基材更下方延伸。
在本發明之其他態樣中,各側凹穴可具有一對實質上平行之較長側壁及實質上垂直於該等側壁的一較短端壁而為伸長的。該側凹穴可沿著該載帶之該縱軸而為伸長的,或替代地,沿著相對於該縱軸之一第一傾斜方向而為伸長的。
在一個實施例中,該側凹穴腔及該主凹穴腔界定在其兩者之間的一開口介面,該開口介面經定形狀並定尺寸,使得當接收並儲存一預定之組件於該主凹穴中時,該組件係至多僅能自該主凹穴部分地移動至該側凹穴。替代地,該開口介面可經定形狀並定尺寸,使得該組件甚至無法部分地移動至一側凹穴中。
在另一實施例中,包括一主凹穴與至少一個側凹穴的該凹穴,進一步包括自該主凹穴之一第一側自該主凹穴延伸的一第一側凹穴、及自該主凹穴之一相對第二側自該主凹穴延伸的一第二側凹穴。
在其他實施例中,該至少一個側凹穴可進一步包括沿著一第一方向延伸的一第一縱向側凹穴部分、及沿著一不同之第二方向延伸的一第二縱向側凹穴部分。此構形可採用一T字形或一Y字形之型式,其中該T字形或Y字形之基部自該主凹穴延伸。
在另一實施例中,在該主凹穴之一側上可有多於一個的側凹穴。例如,可有自該主凹穴之一第一側延伸的至少一第一側凹穴、及自該主凹穴的一相對之第二側自該主凹穴延伸的第二側凹穴及第三側凹穴。
在另一實施例中,該載帶可包括:(1)在該複數個凹穴中的至少一第一凹穴,其包括(a)一主凹穴、(b)自該主凹穴之一第一側自該主凹穴延伸的一第一側凹穴、及(c)自該主凹穴之一相對第二側自該主凹穴延伸的一第二側凹穴;以及(2)在該複數個凹穴中的至少一不同之第二凹穴,其包括(d)一主凹穴、(e)自該主凹穴之一第一側自該主
凹穴延伸的一第一側凹穴、及(f)自該主凹穴之一相對之第二側自該主凹穴延伸的第二側凹穴及第三側凹穴。
在另一實施例中,當考慮在該複數個凹穴中的至少一第一凹穴及一第二凹穴,各凹穴可具有一主凹穴及自該主凹穴之相對側延伸的兩個側凹穴,該兩個側凹穴彼此對準並沿著該載帶之該縱軸而為伸長的,其中該第一凹穴之該兩個側凹穴,相對於該第二凹穴之該兩個側凹穴,沿著該載帶之一橫向方向(意即,垂直於該縱軸)而偏位。
本揭露亦包括一種用於運送複數個預定組件的可撓性載帶,其包括(1)沿著該載帶之一縱軸延伸的一可撓性基材、(2)沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性載帶中、並以一最大第一距離D1在該基材下方延伸的複數個間隔開之凹穴,其中各凹穴經構形以接收並儲存一預定組件、及(3)沿著該載體之該縱軸形成在該可撓性基材中、並以一第二距離D2在該基材下方延伸的複數個間隔開之特徵。第二距離D2可大於或等於第一距離D1(即D2>=D1),使得當在該複數個凹穴中的一第一凹穴接收並儲存一預定組件、且該複數個凹穴中的一第二凹穴相對於該第一凹穴定中心並放置在該第一凹穴上時,該等特徵減少介於該第二凹穴之一底部與儲存在該第一凹穴中的該組件之間的接觸。
依據先前之段落,較佳實施例可進一步包括下列:(1)第二距離D2可較佳地大於第一距離D1(D2>D1)。(2)該等特徵可防止該第二凹穴之該底部接觸儲存在該第一凹穴中的該組件。(3)該複數
個特徵中的各特徵可直接地附接至該複數個凹穴中的一對應凹穴。(4)各特徵可界定一特徵腔,且對應於該特徵的該凹穴界定與該特徵腔相連的一凹穴腔。
本揭露亦包括一種用於運送複數個預定組件的可撓性載帶,其包括沿著該載帶之一縱軸延伸的一可撓性基材、及沿著該縱軸形成在該可撓性基材中的複數個間隔開之凹穴。各凹穴界定包括一主凹穴腔部分的一連續凹穴腔,該主凹穴腔部分與至少一個輔凹穴腔部分相連,其中該至少一個輔凹穴腔部分在該基材下方且在該主凹穴腔部分上方延伸。該主凹穴腔部分與該至少一個輔凹穴腔部分共同界定在該基材之一頂部表面處的一連續開口及在其之間的一開口介面,其中該開口介面經定形狀並定尺寸,使得當接收並儲存一預定組件在該主凹穴腔部分中時,該組件組件甚至無法部分地移動至該至少一個輔凹穴腔部分中。
100:可撓性載帶、載帶
101:預定組件
102:縱軸
103:方向
104:方向
110:可撓性基材、基材、載帶
111:鏈齒孔
112:頂部表面
120:凹穴
120a:第一凹穴
120b:第二凹穴
121:真空孔洞、底部
130:主凹穴
130a:主凹穴
130b:主凹穴
130c:主凹穴、主孔
131:主凹穴腔
132a:底部內表面
132b:底部外表面
133:側、第一側
134:側、第二側
140:側凹穴
140a:第一側凹穴、側凹穴
140b:第二側凹穴、側凹穴
140c:側凹穴、T型側凹穴
140d:側凹穴
140e:側凹穴
140f:側凹穴
140g:側凹穴、第一側凹穴
140h:側凹穴、第三側凹穴
140i:側凹穴、第二側凹穴
141:側凹穴腔
142a:底部內表面
142b:底部外表面
143:側壁
144:端壁
145:第一長條側部分
146:第二長條側部分
150:開口介面
155:連續凹穴孔、孔
156:連續開口
160:特徵
161:特徵腔
240:側凹穴
SPD:間距
MPD:間距
D1:第一距離
D2:第二距離
圖1係根據本揭露之一個實施例的一載帶100的示意透視圖。
圖2係根據本揭露之一個實施例的一凹穴120的示意透視圖。
圖3係根據本揭露之一個實施例,穿過凹穴120沿縱軸102之方向所取的載帶100的示意透視截面圖。
圖4係根據本揭露之一個實施例,穿過凹穴120沿縱軸102之方向所取、並顯示預定組件101的載帶100的示意側視截面圖。
圖5係根據本揭露之另一實施例的載帶100的示意透視圖。
圖6係根據本揭露之額外實施例的載帶100的示意透視圖。
圖7係根據本揭露之另一實施例的一凹穴的示意透視圖。
圖8與圖9係繪示根據本揭露之額外實施例之例示性側凹穴形狀的示意透視圖。
圖10與圖11係根據本揭露之其他實施例之凹穴120的示意俯視圖。
圖12係根據本揭露之一個實施例的載帶100之一堆疊的示意側視截面圖。
圖式非必然按比例繪製。在圖式中所使用的類似數字指稱類似組件。但是,將明白,在給定圖式中使用元件符號指稱組件,並非意圖限制在另一圖式中具有相同元件符號之組件。
根據本揭露之載帶通常與電子組件及一覆蓋帶組合使用。參考圖1,一可撓性載帶100經設計以運送複數個預定(一般係電子)組件,並包括沿著該載帶之一縱軸102延伸的一可撓性基材110。複數個用於接收並儲存組件的間隔開之凹穴120係沿著載帶100之縱軸102形成在可撓性基材110中。在載帶100中提供一系列之可選的鏈齒孔111以促進該載帶之機械性操作。
參考圖2至圖4,凹穴120包括在基材110下方延伸的一主凹穴130,其包括經定形狀並定尺寸以接收並儲存一預定組件101的一主凹穴腔131。如圖2至圖4所示,主凹穴腔131之底部由一
底部內表面132a所界定,其界定該主凹穴腔之內底面。底部內表面132a之相對側係一底部外表面132b。
再次參考圖2,除了主凹穴130外,凹穴120之一或多者進一步包括至少一個側凹穴140,並可包括兩個側凹穴(如繪示在圖2中)或更多側凹穴。各側凹穴140包括一側凹穴腔141,其與對應的主凹穴腔131相連。如主凹穴腔131之情況,側凹穴腔141之底部由一底部內表面142a所界定,其界定該側凹穴腔之內底面。底部內表面142a之相對側係一底部外表面142b。
如圖3與圖4中進一步所繪示,側凹穴140中至少一者之底部外表面142b,可在基材110之底部表面下延伸至少與主凹穴之底部外表面132b一樣遠(若未延伸更遠)。換句話說,如圖4中所示的距離SPD可等於或大於距離MPD。較佳地,SPD係比MPD長約1%至約50%,且更佳的是,約5%至約40%。一般而言,距離MPD係在約0.2mm至約10mm之範圍內,且取決於預定預定組件101之尺寸及厚度,可係在彼範圍外。
凹穴120之主凹穴130之主凹穴腔131係經定形狀並定尺寸以接收並儲存諸如電子組件的預定組件,其可具有約0.6mm乘約0.3mm的尺寸或更小的尺寸。主凹穴130亦可包括在凹穴之底部中的一可選的真空孔121,其可經使用來施加真空至凹穴,以允許更有效率地將預定組件101裝載入凹穴。此外,真空孔121亦可使用於目視檢查以確認預定組件101存在於凹穴120中。
在一些情況中,凹穴120之主凹穴130之主凹穴腔131經定形狀並定尺寸以接收並儲存預定組件101,而至少一個側凹穴140可經定形狀並定尺寸以不能接收也不能儲存此等組件。因此,應注意的是,在此情況中,在側凹穴140之底部中可能不需要具有一真空孔,因為不會有預定組件101儲存在該處。
如圖示中所示並進一步在本文中描述,並非所有凹穴120可具有側凹穴140。例如,如圖1中所示,具有側凹穴140的凹穴120可在每六個凹穴出現一次,其中具有此(等)側凹穴140的各凹穴120係由不具有側凹穴的五個凹穴120所隔開。具有(該等)側凹穴140的凹穴120可以較短規律區間(諸如每第五個凹穴、每第四個凹穴、每第三個凹穴、每隔一個凹穴、或甚至每一凹穴)出現。具有(該等)側凹穴140的凹穴120亦可在較長之區間(諸如每第七個凹穴、每第八個凹穴、等)出現。或者,具有(該等)側凹穴140的凹穴120可以非規律區間出現。
在一些情況中,諸如繪示在圖4與圖5之例示性實施例中,側凹穴140之側凹穴腔141與主凹穴130之主凹穴腔131,界定在其兩者之間的一開口介面150,該開口介面經定形狀並定尺寸,使得當預定組件101經接收並儲存於該主凹穴中時,該組件可係至多能自該主凹穴部分地移動至該側凹穴。在一些情況中,開口介面150可經定形狀並定尺寸,使得預定組件101可能甚至無法部分地移動至側凹穴140中。
在一些情況中,諸如繪示在圖4之例示性實施例中,各凹穴120可經考慮以界定包括一主凹穴腔131的一連續凹穴腔155,該主凹穴腔與至少一個側凹穴腔141(例如,輔凹穴腔)相連,該至少一個輔凹穴腔在基材110下方延伸,且比該主凹穴腔在該基材更下方延伸。主凹穴腔131與側凹穴腔141共同界定在基材110之頂部表面112的一連續開口156。
側凹穴140可經設計成各種形狀與尺寸。圖2與圖5中繪示了一個此形狀,並進一步在圖3與圖4中顯示截面圖。各側凹穴140可具有經由一對實質上平行之較長側壁143與較短之端壁144界定的一伸長形狀,該端壁實質上垂直於該等側壁。如圖2至圖5中所示,此伸長物可係平行於載帶100之縱軸102,且因此側壁143可係實質上平行於該縱軸。
側凹穴140之其他形狀與定向可係所欲,其一些例示性實施例係繪示於圖6中。如圖6中所示,一側凹穴240係在相對於縱軸102傾斜的一方向103上而為伸長的。如在本文中所使用,傾斜(oblique)意指對於縱軸102而言既非平行亦非垂直的任何方向。例如,方向103可與縱軸102成一角度,該角度在自約5度至約85度、或約20度至約70度、或約30度至約60度之範圍中。在一些情況中,介於方向103與軸102之間的角度可係約45度。
一般而言,一凹穴可具有在一應用中可係所欲的任何數目之側凹穴,在該應用中,該等側凹穴可自主凹穴周圍在該應用中任何所欲之位置延伸。例如,如圖7中所示,一凹穴120可包括在主凹
穴之一第一側133上自主凹穴130延伸的一第一側凹穴140a、及自該主凹穴之一相對之第二側134自該主凹穴延伸的一第二側凹穴140b。或者,可能希望具有側凹穴140a與側凹穴140b之任一者,而非兩者。側凹穴140a與側凹穴140b可各自在相對方向上自主凹穴130縱向延伸。側凹穴140a與側凹穴140b可各自沿著相同軸而為伸長的且可平行於縱軸102,或其等可平行該縱軸,但在垂直於該縱軸的一方向彼此移位(如圖6中所繪示)。
替代地,側凹穴140a與側凹穴140b可為伸長的並彼此平行但不平行於縱軸102,如圖6所繪示。替代地,該兩個側凹穴可彼此不平行,且該等側凹穴中可有一者平行於縱軸102或兩者皆不平行於縱軸102。
在一些情況中,諸如繪示在圖8中之例示性實施例,至少一個側凹穴140c可係T字形,其中T字形之基部自主凹穴130之一側延伸。T字形側凹穴140c可具有一第一伸長側凹穴部分145,第一伸長側凹穴部分在縱向方向102上自主凹穴130之一側延伸至T字形側凹穴140c之一第二伸長側凹穴部分146。第二伸長側凹穴部分146界定T字之頂部並經定向在垂直於縱軸102的方向104上。在一些情況中,在主凹穴130之相對側上可存在著如圖8中所示之一第二T字形側凹穴,或者替代地在主凹穴之相對側上可存在著一第二不同形狀之側凹穴,或可存在著僅一個側凹穴。
在一些情況中,諸如圖9中所示之例示性實施例,一側凹穴140d可係Y字形,其中Y字之基部自主凹穴130之一側垂直地
延伸。在主凹穴130之相對側上可存在著如圖9中所示之一第二Y字形側凹穴,或者替代地在主凹穴之相對側上可存在著一第二不同形狀之凹穴,或可存在著僅一個側凹穴。
在一些情況中,可能希望在載帶100上具有擁有不同側凹穴形狀的凹穴120。例如,在載帶100上的一或多個凹穴可具有各別自側133與側134延伸的側凹穴140a與140b,如圖7中所示,而一或多個其他凹穴可具有自主凹穴之側133與側134延伸的側凹穴140c及/或側凹穴140d。例如,請參看圖6至圖9。
現參考圖10,一凹穴120包括主凹穴130及側凹穴140e與側凹穴140f,該等側凹穴自該主凹穴之頂側與底側延伸(如圖10中所示)。因此,這些側凹穴140e與側凹穴140f在垂直於縱軸102之方向104上延伸。側凹穴140e與側凹穴140f可以其他方式具有在本文中描述之關於側凹穴140a至側凹穴140d與側凹穴140g至側凹穴140i的特點。
圖11中顯示凹穴120之數種其他排列,其等經由主凹穴130a、主凹穴130b、及主凹穴130c所繪示。如圖11中所示,具有主凹穴130a的凹穴120類似於圖7中所示之具有側凹穴140a與側凹穴140b之該凹穴。展示關於主凹穴130c之側凹穴140之幾個排列。主凹穴130c具有自主凹穴130c之第一側133延伸的一第一側凹穴140g、及在主凹穴之相對之第二側134上的一第二側凹穴140i。側凹穴140g與側凹穴140i兩者沿著縱軸102之方向而為伸長的並延伸。然而,與亦在圖11中所示之具有側凹穴140a與側凹穴140b的主凹穴
130a不同的是,側凹穴140g與側凹穴140i並非自主凹穴130c之中間延伸,而是沿著載帶100之寬度(在橫向方向104上)移位。如圖11中所示,側凹穴140g與側凹穴140i可自主凹穴130c之靠近主腔130c之頂側的該側在縱軸方向102上延伸。替代地,如關於圖11中之主凹穴130b所繪示,這些側凹穴可替代地自主凹穴130b之側,沿著該主凹穴之底部(相對)側,在縱軸方向上102延伸。或者,這些側凹穴可替代地沿著主凹穴130之側133與側134在主凹穴130b與主凹穴130c中所繪示的兩個極端之間的其他地方定位。在一些情況中,主凹穴130a、主凹穴130b、或主凹穴130c之相對之側133與側134可各自具有相對之頂端與底端。在一些情況中,諸如如圖11中所示之例示性左邊的凹穴,該等側凹穴可自主凹穴130b之該等相對側之底端延伸。在一些情況中,諸如如圖11中所示之例示性右邊的凹穴,側凹穴140i與側凹穴140g可自主凹穴130c之該等相對側之頂端延伸。
如圖11中所示,當比較主凹穴130a與主凹穴130c時,顯然的是,與主凹穴130a相關聯的側凹穴140a與側凹穴140b,跟與主凹穴130c相關聯的側凹穴140g與側凹穴140i比較下,是沿著載帶100之寬度橫向地偏移。類似地,與主凹穴130b相關聯的該等側凹穴,各別跟與主凹穴130a相關聯的側凹穴140a與側凹穴140b、及與主凹穴130c相關聯的側凹穴140i與側凹穴140g比較下,是跨越載帶110之寬度橫向地偏移。
在一些情況中,諸如關於圖11中之主凹穴130c所繪示的實施例,在該主凹穴之一側上可存在著多於一個側凹穴140。例如,除了上述討論的側凹穴140g與側凹穴140i,凹穴可包括一第三側凹穴140h。如圖11中所示,第三側凹穴140h可平行於側凹穴140i並橫向地跨越載帶120之寬度與其間隔開來而定位在主腔130c之側134上。雖然側凹穴140h係顯示為伸長的,並沿著側134之底部自主凹穴130之彼側延伸,如圖11中所示,但可明白的是,側凹穴140h可沿著該主凹穴之側134定位在別處。雖然未顯示在圖11中,可選地,一第四側凹穴可增加至主凹穴130c之側133上以形成自主凹穴130c之四個隅角延伸的四個側凹穴。
雖然側凹穴140a與側凹穴140b顯示為在主凹穴130a之相對側上直接彼此相對,且側凹穴140i與側凹穴140g類似地顯示為在主凹穴130c之相對側上直接彼此相對(換句話說,沿著縱向方向102共對準),但可明白的是此定向係一例示性實施例,且視需要在不同應用中可為不同。例如,側凹穴140a與側凹穴140b可在橫向方向104上彼此偏移,使得該兩個側凹穴不共對準。可針對側凹穴140i與側凹穴140g做相同的敘述。
圖12中顯示本揭露之一進一步實施例。參考彼圖式,繪示可撓性載帶100之兩個部分,其可經由繞一載帶捲盤(或其他方式)纏繞該載帶而達成。如上所述,複數個間隔開之凹穴120係沿著縱軸102在可撓性基材110下方一第一距離D1處延伸而形成在該基材中,各凹穴經組態以接收及儲存一預定組件101。複數個間隔開之
特徵160係沿著縱軸102在基材110下方一第二距離D2處延伸而形成在該基材中,該第二距離係等於或大於D1(D2D1),使得當該複數個凹穴中的一第一凹穴(120a)接收並儲存一預定組件101,且該複數個凹穴中的一第二凹穴120b相對於該第一凹穴定中心並放置在該第一凹穴上時,特徵160減少該第二凹穴之一底部121與儲存在該第一凹穴中的該組件之間的接觸。
在一些情況中,可係較佳的是D2大於D1(D2>D1),以進一步減少該第二凹穴之底部與儲存在該第一凹穴中的該組件之間的接觸。在此情況中,D2可較佳地係比D1長約1%至約50%,且更佳的是長約5%至約40%。在一些情況中,D1一般可係在約0.2mm至約10mm之範圍內,且取決於預定預定組件101之尺寸及厚度,可係在彼範圍之外。
在一實施例中,特徵160不僅足以減少第二凹穴120b之底部121與儲存在第一凹穴120a中的預定組件101之間的接觸,亦防止該第二凹穴之底部與儲存在該第一凹穴中的該組件接觸。
如在圖12中所繪示,該複數個特徵中的各特徵160可直接與該複數個凹穴中的一對應凹穴120相關聯。各特徵160可界定一特徵腔161。一連續凹穴腔155可包括與至少一個特徵腔161相連的一主凹穴腔131。腔155之頂部可界定在基材110之一頂部表面112處的一連續開口156。
用於實施本揭露之載帶100可由任何適合之材料製成,包括例如熱塑性聚合材料、紙板、及/或金屬箔。此外,可用於載帶
100之材料可係尺寸穩定、耐用、且容易成形為所欲構形的。較佳地,材料包括具有足夠厚度及可撓性之熱塑性聚合材料以允許其可捲繞於儲存捲盤之輪轂。適合的熱塑性聚合材料包括,但不限於,聚酯(例如乙二醇改質之聚對苯二甲酸乙二酯、或聚對苯二甲酸丁二酯)、聚碳酸酯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯、非晶質聚對苯二甲酸乙二酯、聚醯胺、聚烯烴(例如聚乙烯、聚丁烯、或聚異丁烯)、改質聚(苯醚)、聚胺甲酸酯、聚二甲基矽氧烷、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂、及聚烯烴共聚物。在一些實施例中,該材料可具有在約400℉(204℃)至約630℉(332℃)之範圍之熔融溫度。載帶100可以係光學清透的、著色的或經改質以係散電性(electrically dissipative)的。在後者情況中,載帶可包括電傳導材料(例如碳黑或五氧化二釩),該電傳導材料係分散於樹脂材料內或塗布於所形成之載帶之(多個)表面上。電傳導材料可幫助耗散放電,該放電可能發生於覆蓋膜移除時或自儲存卷軸解開載帶總成時,因此幫助預防損壞含有在載帶之凹穴內之電子組件。此外染料、著色劑、顏料、UV穩定劑、或其他添加物可於形成載帶前添加至樹脂材料。
根據本揭露之載帶可具有適合用於特定所欲之電子組件的任何尺寸,且該等凹穴可經間隔以適合於特定應用。例如,凹穴120之中心可相距1.6cm。
以越來越小的尺寸設計並製造諸如積體電路(IC)晶片的電子組件可係所欲的。當用於載帶100之晶片尺寸減小,該等晶片會變得更難自凹穴120移除,導致跳過凹穴(skipping pocket)(從而未移
除該等晶片)、減慢晶片移除程序(且也許讓移除程序與其他程序不同步)、並增加移除晶片所需之力(增加損壞晶片或讓晶片掉落的可能性)。當在一捲盤上纏繞載帶100且該載帶之若干相鄰層彼此施加擠壓力時,這些影響將加劇,從而迫使該等晶片更深入至主凹穴130中。本揭露提供側凹穴、輔凹穴、及經設計以減小這些力的特徵而減緩這些力,從而促進在所欲時自該載帶移除該等晶片。
除非另有所指,本說明書及申請專利範圍中用以表達特徵之尺寸、數量、以及物理性質的所有數字,皆應理解為在所有情況下以用語「約(about)」修飾之。因此,除非另有相反指示,否則在前述說明書以及隨附申請專利範圍中所提出的數值參數係近似值,其可依據所屬技術領域中具有通常知識者運用本文所揭示之教示所欲獲得的所欲特性而有所不同。使用端點來敘述之數字範圍包括所有歸於該範圍內的數字(例如,1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4及5)以及該範圍內的任何範圍。
本發明之各種修改及變更對於所屬技術領域中具有通常知識者而言當為顯而易見,且應理解本揭露之此範疇不受限於本文中所提出的說明性實施例。例如,除非另有指示,讀者應假設一個所揭示實施例的特徵亦可應用於全部其他所揭示之實施例。
100‧‧‧可撓性載帶、載帶
102‧‧‧縱軸
110‧‧‧可撓性基材、基材、載帶
111‧‧‧鏈齒孔
112‧‧‧頂部表面
120‧‧‧凹穴
Claims (17)
- 一種用於運送複數個預定組件的可撓性載帶,其包含:一可撓性基材,其沿著該載帶之一縱軸延伸;及複數個間隔開之凹穴,其等沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性基材中,各凹穴包含界定一主凹穴腔的一主凹穴,該主凹穴腔經定形狀並定尺寸以接收並儲存一預定組件,該主凹穴腔具有一底部內表面與一底部外表面,該凹穴之該底部外表面在該基材下方延伸;其中該複數個凹穴中之至少一者進一步包含至少一個側凹穴,各側凹穴界定與一對應之主凹穴腔相連的一側凹穴腔,該側凹穴腔具有一底部內表面與一底部外表面,該側凹穴腔之該底部外表面在該基材下方延伸至少與該對應之主凹穴腔之該底部外表面一樣遠,其中該至少一個側凹穴腔經定形狀並定尺寸以不接收亦不儲存該預定組件;且其中各側凹穴係具有一對平行之較長側壁及垂直於該等側壁的一較短端壁而沿著該縱軸為伸長的。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中該至少一個側凹穴腔之該底部外表面比該對應之主凹穴腔之該底部外表面在該基材更下方延伸。
- 如請求項2之可撓性載帶,其中至少一個側凹穴係沿著相對於該載帶之該縱軸的一第一傾斜方向而為伸長的。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中對於包含一主凹穴與至少一個側凹穴的各凹穴,該至少一個側凹穴之該側凹穴腔與該主凹穴之該主凹穴腔界定在其兩者之間的一開口介面,該開口介面經定形狀並定尺寸,使得當一預定組件經接收並儲存於該主凹穴中時,該預定組件係至多能自該主凹穴部分地移動至該至少一個側凹穴。
- 如請求項4之可撓性載帶,其中該開口介面經定形狀並定尺寸,使 得當一預定組件經接收並儲存於該主凹穴中時,該預定組件甚至無法部分地移動至該至少一個側凹穴中。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中包含一主凹穴與至少一個側凹穴的各凹穴包含自該主凹穴之一第一側自該主凹穴延伸的一第一側凹穴、及自該主凹穴之一相對的第二側自該主凹穴延伸的一第二側凹穴。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中至少一個側凹穴包含沿著一第一方向延伸的一第一縱向側凹穴部分、及沿著一不同之第二方向延伸的一第二縱向側凹穴部分。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中至少一個側凹穴係T字形,其中該T字形之基部自該主凹穴延伸。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中至少一個側凹穴係Y字形,其中該Y字形之基部自該主凹穴延伸。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中:該複數個凹穴中之至少一第一凹穴包含一主凹穴、自該主凹穴之一第一側自該主凹穴延伸的一第一側凹穴、及自該主凹穴之一相對的第二側自該主凹穴延伸的一第二側凹穴;且該複數個凹穴中之至少一不同之第二凹穴包含一主凹穴、自該主凹穴之一第一側自該主凹穴延伸的一第一側凹穴、及自該主凹穴之一相對的第二側自該主凹穴延伸的第二側凹穴及第三側凹穴。
- 如請求項1之可撓性載帶,其中該複數個凹穴中的至少一第一凹穴及一第二凹穴各自具有一主凹穴及自該主凹穴之相對側延伸的兩個側凹穴,該兩個側凹穴彼此對準並沿著該載帶之該縱軸而為伸長的,該第一凹穴之該兩個側凹穴沿著該載帶之一橫向方向相對於該第二凹穴之該兩個側凹穴而偏位。
- 一種用於運送複數個預定組件的可撓性載帶,其包含: 一可撓性基材,其沿著該載帶之一縱軸延伸;複數個間隔開之凹穴,其等沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性基材中,並在該基材下方一最大第一距離D1處延伸,各凹穴經組態以接收並儲存一預定組件;複數個間隔開之特徵,其等沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性基材中,並在該基材下方一第二距離D2處延伸,其中D2D1,使得當該複數個凹穴中的一第一凹穴接收並儲存一預定組件,且該複數個凹穴中的一第二凹穴相對於該第一凹穴定中心並放置在該第一凹穴上時,該等特徵減少該第二凹穴之一底部與儲存在該第一凹穴中的該預定組件之間的接觸;及其中該第一凹穴及該第二凹穴各自具有一主凹穴及自該主凹穴之相對側延伸的兩個側凹穴,該兩個側凹穴彼此對準並沿著該載帶之該縱軸而為伸長的。
- 如請求項12之可撓性載帶,其中D2>D1。
- 如請求項12之可撓性載帶,其中該等特徵防止該第二凹穴之該底部接觸儲存在該第一凹穴中的該預定組件。
- 如請求項12之可撓性載帶,其中該複數個特徵中的各特徵直接地附接至該複數個凹穴中的一對應之凹穴。
- 如請求項15之可撓性載帶,其中各特徵界定一特徵腔且對應於該特徵的該凹穴界定與該特徵腔相連的一凹穴腔。
- 一種用於運送複數個預定組件的可撓性載帶,其包含:一可撓性基材,其沿著該載帶之一縱軸延伸;及複數個間隔開之凹穴,其等沿著該載帶之該縱軸形成在該可撓性基材中,各凹穴界定一連續凹穴腔,該連續凹穴腔包含一主凹穴腔部分,該主凹穴腔部分與至少一個輔凹穴腔部分相連,該至少一個輔凹穴腔部分在該基材下方延伸且在該主凹穴腔部分上方延伸,該主凹穴腔部分與該至少一個輔凹 穴腔部分共同界定在該基材之一頂部表面處的一連續開口及介於兩者之間的一開口介面,該開口介面經定形狀並定尺寸,使得當一預定組件經接收並儲存於該主凹穴腔部分中時,該預定組件甚至無法部分地移動至該至少一個輔凹穴腔部分中;且其中各輔凹穴腔部分係具有一對平行之較長側壁及垂直於該等側壁的一較短端壁而沿著該縱軸為伸長的。
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