TWI759008B - 多頻帶天線 - Google Patents

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TWI759008B
TWI759008B TW109144222A TW109144222A TWI759008B TW I759008 B TWI759008 B TW I759008B TW 109144222 A TW109144222 A TW 109144222A TW 109144222 A TW109144222 A TW 109144222A TW I759008 B TWI759008 B TW I759008B
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日商日本航空電子工業股份有限公司
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Abstract

[課題] 提供一種從與專利文獻1相異之觀點被複共振化的多頻帶天線。 [解決手段] 多頻帶天線100係包括槽孔天線200與放射元件600。槽孔天線200係具有導體板300。在導體板300,係形成開放部310與槽孔400。槽孔400係經由開放部310局部地被開放。槽孔400係在第1方向具有長邊。放射元件600係具有第1部位610與第2部位650。第1部位610係從導體板300延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔400。第1部位610係在第2方向具有第1長度L1。第2部位650係從第1部位610在第1方向延伸。第2部位650係在該第1方向具有第2長度L2。第2長度L2係比第1長度L1長。

Description

多頻帶天線
本發明係有關於一種具有放射元件之多頻帶天線。
參照圖16,專利文獻1之多頻帶天線900係所謂的槽孔天線。具體而言,多頻帶天線900係具有導體板910與短柱950。在導體板910,係形成開放部912與槽孔914。槽孔914係經由開放部912局部地被開放。槽孔914係在Y方向具有長邊。槽孔914係包含第1槽孔9142與第2槽孔9146。短柱950係被設置成跨第1槽孔9142。
在專利文獻1之多頻帶天線900,係藉由調整短柱950的位置,可調整在第1槽孔9142所產生之第2共振等之高階共振的頻率。藉此,專利文獻1之多頻帶天線900係在複數個通訊頻率可動作。 [先行專利文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 特開2012-85262號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明係目的在於提供一種從與專利文獻1相異之觀點被複共振化的多頻帶天線。 [解決課題之手段]
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第1天線,是包括槽孔天線與放射元件之多頻帶天線,其係: 該槽孔天線係具有導體板; 在該導體板,係形成開放部與槽孔; 該槽孔係經由該開放部局部地被開放; 該槽孔係在第1方向具有長邊; 該放射元件係具有第1部位與第2部位; 該第1部位係從該導體板延伸成在與該第1方向正交之第2方向遠離該槽孔; 該第1部位係在該第2方向具有第1長度; 該第2部位係從該第1部位在該第1方向延伸; 該第2部位係在該第1方向具有第2長度; 該第2長度係比該第1長度長。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第2多頻帶天線,是第1多頻帶天線, 該開放部係在該第2方向連接該槽孔與該導體板之外側; 該開放部係在該第2方向位於該放射元件與該槽孔之間。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第3多頻帶天線,是第2多頻帶天線,該開放部係在沿著該第2方向觀察的情況,與該第2部位重疊。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第4多頻帶天線,是第2或第3多頻帶天線, 該槽孔係包含第1槽孔與第2槽孔; 第1槽孔與第2槽孔係在該第1方向位於隔著該開放部之位置; 該槽孔天線係具有供電點; 該供電點係被連接成跨該第1槽孔。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第5多頻帶天線,是第4之任一種多頻帶天線,該第1部位係比該第2槽孔更接近該第1槽孔。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第6多頻帶天線,是第4或第5多頻帶天線, 該多頻帶天線係更具有以對應於該第1槽孔之方式所設置的第1短柱;該導體板係具有第1連接部與第1相對向部; 該第1連接部與該第1相對向部係在該第2方向位於隔著該第1槽孔之位置; 該第1短柱之一端係與該第1連接部連接; 該第1短柱之另一端係位於遠離該第1相對向部之位置且與該第1相對向部相對向。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第7多頻帶天線,是第4至第6之任一種的多頻帶天線, 該多頻帶天線係更具有以對應於該第2槽孔之方式所設置的第2短柱; 該導體板係具有第2連接部與第2相對向部; 該第2連接部與該第2相對向部係在該第2方向位於隔著該第2槽孔之位置; 該第2短柱之一端係與該第2連接部連接; 該第2短柱之另一端係位於遠離該第2相對向部之位置且與該第2相對向部相對向。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第8多頻帶天線,是第1多頻帶天線, 該槽孔天線係具有供電點; 該供電點係被連接成跨該槽孔; 該開放部係在該第1方向連接該槽孔與該導體板之外側。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第9多頻帶天線,是第8多頻帶天線,該第1部位係比該槽孔之在該第1方向的中心更接近該開放部。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第10多頻帶天線,是第8或第9多頻帶天線, 該多頻帶天線係更具有短柱; 該導體板係具有連接部與相對向部; 該連接部與該相對向部係在該第2方向位於隔著該槽孔之位置; 該短柱之一端係與該連接部連接; 該短柱之另一端係位於遠離該相對向部之位置且與該相對向部相對向。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第11多頻帶天線,是第1至第10之任一種的多頻帶天線, 該多頻帶天線係具有複數個動作頻率; 該槽孔係在該第2方向的尺寸是該複數個動作頻率的任一個之波長的1/10以下。
本發明係提供一種多頻帶天線,其係作為第12多頻帶天線,是第1至第11之任一種的多頻帶天線, 該多頻帶天線係更具有附加性放射元件; 該附加性放射元件係具有第3部位與第4部位; 該第3部位係從該導體板延伸成在該第2方向遠離該槽孔; 該第3部位係在該第2方向具有第3長度; 該第4部位係從該第3部位在該第1方向延伸; 該第4部位係在該第1方向具有第4長度; 該第4長度係比該第3長度長。 [發明之效果]
本發明之多頻帶天線係包括槽孔天線與放射元件。藉此,本發明之多頻帶天線係藉由具有槽孔天線之共振頻率與放射元件之共振頻率的2個共振頻率,圖謀複共振化。
又,在本發明之多頻帶天線,槽孔天線之槽孔係在第1方向具有長邊,放射元件之第2部位係從第1部位在第1方向延伸。藉此,圖謀槽孔天線之共振頻率的低頻化。又,槽孔天線之共振頻率被低頻化,這意指在特定之共振頻率可比不具有放射元件之槽孔天線更縮短槽孔的長度。即,本發明之多頻帶天線係可比不具有放射元件之槽孔天線小形化。
(第1實施形態)
參照圖1,本發明之第1實施形態的多頻帶天線100係由在上面具有導電層120之一片電介質基板110所構成。以下,將與電介質基板110正交之方向稱為正交方向。在本實施形態,正交方向係Z方向。又,上方係+Z方向,下方係-Z方向。
參照圖1,本實施形態的多頻帶天線100係具有複數個動作頻率。多頻帶天線100係包括槽孔天線200與放射元件600。
如圖1所示,本實施形態之槽孔天線200係具有導體板300。導體板300係電介質基板110之導電層120的一部分。
如圖1所示,在本實施形態之導體板300,係形成槽孔400與開放部310。
如圖1所示,本實施形態之槽孔400係經由開放部310局部地被開放。槽孔400係在與正交方向正交之第1方向具有長邊。在本實施形態,第1方向係Y方向。又,第1方向係亦是左右方向。此處,將右方當作+Y方向,將左方當作-Y方向。在與正交方向及第1方向之雙方正交的第2方向之槽孔400的尺寸S係多頻帶天線100之複數個動作頻率的任一個之波長的1/10以下。在本實施形態,第2方向係X方向。又,第2方向係亦是前後方向。此處,將前方當作+X方向,將後方當作-X方向。
如圖1所示,槽孔400係包含第1槽孔410與第2槽孔430。
如圖1所示,本實施形態之第1槽孔410係在第1方向,即左右方向延伸。第1槽孔410係在左右方向位於開放部310的右方。
如圖1所示,本實施形態之第2槽孔430係在第1方向,即左右方向延伸。第2槽孔430係在左右方向位於開放部310的左方。第1槽孔410與第2槽孔430係在第1方向,即左右方向位於隔著開放部310的位置。
如圖1所示,本實施形態之開放部310係在第2方向,即前後方向開口。
如圖1所示,開放部310係在第2方向,即前後方向,連接槽孔400與導體板300之外側。開放部310係在第2方向,即前後方向,位於放射元件600與槽孔400之間。開放部310係在前後方向,位於放射元件600的後方。開放部310係在前後方向,位於槽孔400的前方。
如圖1所示,本實施形態之放射元件600係電介質基板110之導電層120的一部分。放射元件600之電性長度係以多頻帶天線100之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件600之電性長度係對應於多頻帶天線100之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件600係具有第1部位610與第2部位650。
如圖1所示,本實施形態之第1部位610係從導體板300延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔400。即,第1部位610係從導體板300向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第1部位610係比第2槽孔430更接近第1槽孔410。第1部位610係在左右方向位於開放部310的右方。第1部位610係在第2方向,即前後方向,具有第1長度L1。
如圖1所示,本實施形態之第2部位650係從第1部位610在第1方向,即左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位650係從第1部位610向在左右方向的左方延伸。第2部位650係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位650係在第1方向,即左右方向具有第2長度L2。第2長度L2係比第1長度L1長。開放部310係在沿著第2方向,即前後方向觀察的情況,與第2部位650重疊。
如圖1所示,在第2方向,即前後方向的第2部位650與開放部310之間,係具有空間550。空間550係在前後方向位於開放部310的前方。空間550係在前後方向位於第2部位650的後方。空間550與開放部310係在第2方向,即前後方向連通。空間550係位於第1部位610之在左右方向的左方。
如圖1所示,本實施形態之槽孔天線200係具有供電點500。供電點500係在左右方向位於開放部310的右方。供電點500係被連接成跨第1槽孔410。從高頻源510經由供電線520向供電點500供給高頻電力。供電點500與供電線520之間的電性連接方法係無特別地限定。例如,亦可供電線520係根據焊接等的方法,與供電點500直接連接。或者,亦可供電點500係在與供電線520的一部分之間隔著間隔靠近地被配置,並藉電容性耦合或電磁耦合以電磁性連接。不論如何,只要將供電點500與供電線520以電性連接成供電點500可接受來自供電線520之供電即可。
如上述所示,供電點500係被連接成跨第1槽孔410。藉此,第1槽孔410係構成供電天線。又,在第2槽孔430之最近及放射元件600之最近,供電點500係未被設置,但是因為間接地被供電,所以各個第2槽孔430及放射元件600係構成無供電天線。
至此為止,說明了本發明之第1實施形態,但是亦可本實施形態係如以下所示被進行變形。 (第1變形例)
如圖2所示,第1變形例之多頻帶天線100A係包括槽孔天線200A與放射元件600。
如圖2所示,本變形例之槽孔天線200A係具有導體板300A。本變形例之導體板300A係與上述之實施形態的導體板300相異,在第2方向,突出至放射元件600之第2部位650的位置。又,本變形例之導體板300A係與上述之實施形態的導體板300相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。 (第2變形例)
參照圖3,第2變形例之多頻帶天線100B係由具有導電層(未圖示)與通孔(未圖示)之一片電介質基板(未圖示)所構成,該導電層係被設置於上下雙面,該通孔係將導電層彼此連接。
如圖3所示,本變形例之多頻帶天線100B係包括槽孔天線200B、放射元件600以及第1短柱810。
如圖3所示,本變形例之槽孔天線200B係具有導體板300B。導體板300B係電介質基板的下面之導電層的一部分。導體板300B係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
如圖3所示,本變形例之導體板300B係具有第1連接部322與第1相對向部332。
如圖3所示,第1連接部322係在第2方向,即前後方向,比第1相對向部332更遠離放射元件600。第1連接部322係在前後方向位於第1相對向部332的後方。第1連接部322與第1相對向部332係在第2方向,即前後方向,位於隔著第1槽孔410的位置。
參照圖3,本變形例之放射元件600係電介質基板的下面之導電層的一部分。
參照圖3,本變形例之第1短柱810係電介質基板的上面之導電層的一部分。第1短柱810係所謂的開放短柱。第1短柱810係對應於第1槽孔410。即,多頻帶天線100B係更具有以對應於第1槽孔410之方式所設置的第1短柱810。第1短柱810係位於在第1方向遠離開放部310的位置。即,第1短柱810係位於向在左右方向之右方遠離開放部310的位置。第1短柱810之電性長度係未滿多頻帶天線100B之動作頻率的任一個之波長的1/4。第1短柱810係具有在第2方向,即前後方向延伸之平板形狀。此外,本發明係不限定為此。亦可第1短柱810的形狀係彎曲形、螺旋形、或者不規則地蛇行的形狀。第1短柱810係在第2方向,即前後方向,具有一端812及另一端816。一端812係在前後方向位於另一端816的後方。第1短柱810之一端812係與第1連接部322連接。更詳細地說明之,第1短柱810之一端812係經由通孔與第1連接部322連接。第1短柱810之另一端816係位於遠離第1相對向部332的位置且與第1相對向部332相對向。即,第1短柱810之另一端816係位於遠離第1相對向部332的位置,且在包含第2方向,即前後方向之面內與第1相對向部332相對向。更詳細地說明之,第1短柱810之另一端816係位於遠離第1相對向部332的位置且在正交方向與第1相對向部332相對向。即,第1短柱810之另一端816係開放端。
參照圖3,在本變形例之多頻帶天線100B,係藉由調整第1短柱810之在第1方向,即左右方向之對第1槽孔410的相對位置,可調整在第1槽孔410所產生之第2共振等之高階共振的頻率。此外,如上述所示,因為第1短柱810位於在第1方向遠離開放部310的位置,所以第1短柱810係對在第1槽孔410所產生之第1共振的共振頻率幾乎不會給與影響。
在本變形例,第1短柱810之一端812係與第1連接部322連接,第1短柱810之另一端816係位於遠離第1相對向部332的位置且與第1相對向部332相對向,但是,本發明係不限定為此。即,亦可第1短柱810之一端812係位於遠離第1連接部322的位置且與第1連接部322相對向,而且,第1短柱810之另一端816與第1相對向部332連接。 (第3變形例)
參照圖4,第3變形例之多頻帶天線100C係與第2變形例之多頻帶天線100B一樣,由具有導電層(未圖示)與通孔(未圖示)之一片電介質基板(未圖示)所構成,該導電層係被設置於上下雙面,該通孔係將導電層彼此連接。
如圖4所示,本變形例之多頻帶天線100C係包括槽孔天線200C、放射元件600、第1短柱810以及第2短柱830。
如圖4所示,本變形例之槽孔天線200C係具有導體板300C。導體板300C係電介質基板的下面之導電層的一部分。導體板300C係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
如圖4所示,本變形例之導體板300C係具有第1連接部322、第2連接部326、第1相對向部332以及第2相對向部336。
如圖4所示,第2連接部326係在第2方向,即前後方向,比第2相對向部336更遠離放射元件600。第2連接部326係在前後方向位於第2相對向部336的後方。第2連接部326與第2相對向部336係在第2方向,即前後方向,位於隔著第2槽孔430的位置。
如圖4所示,本變形例之放射元件600係與第2變形例之多頻帶天線100B一樣,是電介質基板的下面之導電層的一部分。
參照圖4,本變形例之第2短柱830係電介質基板的上面之導電層的一部分。第2短柱830係所謂的開放短柱。第2短柱830係對應於第2槽孔430。即,多頻帶天線100C係更具有以對應於第2槽孔430之方式所設置的第2短柱830。第2短柱830係位於在第1方向遠離開放部310的位置。即,第2短柱830係位於向在左右方向之左方遠離開放部310的位置。第2短柱830之電性長度係未滿多頻帶天線100C之動作頻率的任一個之波長的1/4。第2短柱830係具有在第2方向,即前後方向延伸之平板形狀。此外,本發明係不限定為此。亦可第2短柱830的形狀係彎曲形、螺旋形、或者不規則地蛇行的形狀。第2短柱830係在第2方向,即前後方向,具有一端832及另一端836。一端832係在前後方向位於另一端836的後方。第2短柱830之一端832係與第2連接部326連接。更詳細地說明之,第2短柱830之一端832係經由通孔與第2連接部326連接。第2短柱830之另一端836係位於遠離第2相對向部336的位置且與第2相對向部336相對向。即,第2短柱830之另一端836係位於遠離第2相對向部336的位置,且在包含第2方向,即前後方向之面內與第2相對向部336相對向。更詳細地說明之,第2短柱830之另一端836係位於遠離第2相對向部336的位置且在正交方向與第2相對向部336相對向。即,第2短柱830之另一端836係開放端。
參照圖4,在本變形例之多頻帶天線100C,係藉由調整第2短柱830之在第1方向,即左右方向之對第2槽孔430的相對位置,可調整在第2槽孔430所產生之第2共振等之高階共振的頻率。此外,如上述所示,因為第2短柱830位於在第1方向遠離開放部310的位置,所以第2短柱830係對在第2槽孔430所產生之第1共振的共振頻率幾乎不會給與影響。
在本變形例,第2短柱830之一端832係與第2連接部326連接,第2短柱830之另一端836係位於遠離第2相對向部336的位置且與第2相對向部336相對向,但是,本發明係不限定為此。即,亦可第2短柱830之一端832位於遠離第2連接部326的位置且與第2連接部326相對向,而且,第2短柱830之另一端836與第2相對向部336連接。 (第4變形例)
如圖5所示,第4變形例之多頻帶天線100D係包括槽孔天線200D與放射元件600D。
如圖5所示,本變形例之槽孔天線200D係具有導體板300D。導體板300D係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
參照圖5,本變形例之放射元件600D的電性長度係以多頻帶天線100D之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件600D之電性長度係對應於多頻帶天線100D之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件600D係具有第1部位610D與第2部位650D。
如圖5所示,本變形例之第1部位610D係從導體板300D延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔400。即,第1部位610D係從導體板300D向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第1部位610D係比第1槽孔410更接近第2槽孔430。第1部位610D係在左右方向位於開放部310的左方。
如圖5所示,本變形例之第2部位650D係從第1部位610D在第1方向延伸。即,第2部位650D係從第1部位610D在左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位650D係從第1部位610D向在左右方向的左方延伸。第2部位650D係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位650D之在第1方向的第2長度係比第1部位610D之在第2方向的第1長度長。開放部310係在沿著第2方向,即前後方向觀察的情況,與第2部位650D未重疊。
如圖5所示,在第2方向,即前後方向的第2部位650D與導體板300D之間,係具有空間550D。空間550D係在前後方向位於導體板300D的前方。空間550D係在前後方向位於第2部位650D的後方。空間550D係位於第1部位610D之在左右方向的左方。 (第5變形例)
參照圖6,第5變形例之多頻帶天線100E係包括槽孔天線200E、放射元件600以及附加性放射元件700。
如圖6所示,本變形例槽孔天線200E係具有導體板300E。導體板300E係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
參照圖6,本變形例之附加性放射元件700係電介質基板(未圖示)之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件700之電性長度係以多頻帶天線100E之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件700之電性長度係對應於多頻帶天線100E之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件700係位於在左右方向之放射元件600的右方。附加性放射元件700係具有第3部位710與第4部位750。
如圖6所示,本變形例之第3部位710係從導體板300E延伸成在第2方向遠離槽孔400。即,第3部位710係從導體板300E向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第3部位710係比第2槽孔430更接近第1槽孔410。第3部位710係在左右方向位於開放部310的右方。第3部位710係在第1方向,即左右方向,位於第1部位610與供電點500之間。第3部位710係在第2方向,即前後方向,具有第3長度L3。
如圖6所示,本變形例之第4部位750係從第3部位710在第1方向延伸。即,第4部位750係從第3部位710在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位750係從第3部位710向在左右方向的左方延伸。第4部位750係在第1方向,即左右方向,具有第4長度L4。第4長度L4係比第3長度L3長。 (第6變形例)
如圖7所示,第6變形例之多頻帶天線100F係包括槽孔天線200F、放射元件600以及2個附加性放射元件700、700F。
如圖7所示,本變形例槽孔天線200F係具有導體板300F。導體板300F係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
參照圖7,本變形例之附加性放射元件700F係電介質基板(未圖示)之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件700F之電性長度係以多頻帶天線100F之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件700F之電性長度係對應於多頻帶天線100F之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件700F係位於在左右方向之附加性放射元件700的右方。附加性放射元件700F係具有第3部位710F與第4部位750F。
如圖7所示,本變形例之第3部位710F係從導體板300F延伸成在第2方向遠離槽孔400。即,第3部位710F係從導體板300F向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第3部位710F係比第2槽孔430更接近第1槽孔410。第3部位710F係在左右方向位於開放部310的右方。第3部位710F係在左右方向位於第3部位710的右方。第3部位710F係在第1方向,即左右方向,位於第3部位710與供電點500之間。
如圖7所示,本變形例之第4部位750F係從第3部位710F在第1方向延伸。即,第4部位750F係從第3部位710F在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位750F係從第3部位710F在左右方向向右方延伸。第4部位750F之在第1方向的第4長度係比第3部位710F之在第2方向的第3長度長。 (第7變形例)
如圖8所示,第7變形例之多頻帶天線100G係包括槽孔天線200G、放射元件600以及附加性放射元件700G。
如圖8所示,本變形例槽孔天線200G係具有導體板300G。導體板300G係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
參照圖8,本變形例之附加性放射元件700G係電介質基板(未圖示)之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件700G之電性長度係以多頻帶天線100G之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件700G之電性長度係對應於多頻帶天線100G之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件700G係位於在左右方向之放射元件600的右方。附加性放射元件700G係具有第3部位710G與第4部位750G。
如圖8所示,本變形例之第3部位710G係從導體板300G延伸成在第2方向遠離槽孔400。即,第3部位710G係從導體板300G向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第3部位710G係比第2槽孔430更接近第1槽孔410。第3部位710G係在左右方向位於開放部310的右方。第3部位710G係與第1部位610共同之部位。
如圖8所示,本變形例之第4部位750G係從第3部位710G在第1方向延伸。即,第4部位750G係從第3部位710G在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位750G係從第3部位710G在左右方向向右方延伸。第4部位750G之在第1方向的第4長度係比第3部位710G之在第2方向的第3長度長。 (第8變形例)
如圖9所示,第8變形例之多頻帶天線100H係包括槽孔天線200H、放射元件600以及附加性放射元件700H。
如圖9所示,本變形例槽孔天線200H係具有導體板300H。導體板300H係與上述之實施形態的導體板300(參照圖1)相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
參照圖9,本變形例之附加性放射元件700H係電介質基板(未圖示)之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件700H之電性長度係以多頻帶天線100H之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件700H之電性長度係對應於多頻帶天線100H之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件700H係具有第3部位710H與第4部位750H。
如圖9所示,本變形例之第3部位710H係從導體板300H延伸成在第2方向遠離槽孔400。即,第3部位710H係從導體板300H向前方延伸成在前後方向遠離槽孔400。第3部位710H係比第2槽孔430更接近第1槽孔410。第3部位710H係在左右方向位於開放部310的右方。第3部位710H係與第1部位610之一部分共同的部位。
如圖9所示,本變形例之第4部位750H係從第3部位710H在第1方向延伸。即,第4部位750H係從第3部位710H在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位750H係從第3部位710H在左右方向向左方延伸。第4部位750H之在第1方向的第4長度係比第3部位710H之在第2方向的第3長度長。開放部310係在沿著第2方向觀察的情況,與第4部位750H重疊。即,開放部310係在沿著前後方向觀察的情況,與第4部位750H重疊。
如圖9所示,在第2方向,即前後方向的第4部位750H與導體板300H之間,係具有空間550H。空間550H係在前後方向位於導體板300H的前方。空間550H係在前後方向位於第4部位750H的後方。空間550H係在左右方向位於第3部位710H的左方。
參照圖1至圖9,上述之變形例的導體板300A、300B、300C、300D、300E、300F、300G、300H係與上述之實施形態的導體板300相比,第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度,但是,本發明係不限定為此。即,亦可導體板300A、300B、300C、300D、300E、300F、300G、300H係與上述之實施形態的導體板300一樣,構成為將第1槽孔410及第2槽孔430之周圍的導體部分擴張。
參照圖1至圖9,上述之實施形態及變形例的多頻帶天線100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H係未具有短柱,該短柱係位於開放部310之左方的短柱,並跨空間550、550D、550H,但是,本發明係不限定為此。即,亦可多頻帶天線100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H係具有短柱,該短柱係位於開放部310之左方的短柱,並跨空間550、550D、550H。 (第2實施形態)
參照圖10,本發明之第2實施形態的多頻帶天線1000係由具有導電層1200與通孔(未圖示)之一片電介質基板1100所構成,該導電層1200係被設置於上下雙面,該通孔係將導電層1200彼此連接。
參照圖10,多頻帶天線1000係具有複數個動作頻率。多頻帶天線1000係包括槽孔天線2000與放射元件6000。在本實施形態之方位及方向係在以下使用與第1實施形態者相同的表達。
如圖10所示,本實施形態之槽孔天線2000係具有導體板3000。導體板3000係電介質基板1100的下面之導電層1200的一部分。此外,本實施形態之導體板3000係與第1實施形態之導體板300相比,槽孔4000之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
如圖10所示,本實施形態之導體板3000係具有第1連接部(連接部)3220與第1相對向部(相對向部)3320。
如圖10所示,本實施形態之第1連接部3220係在第2方向,即前後方向,比第1相對向部3320更遠離放射元件6000。第1連接部3220係在前後方向位於第1相對向部3320的後方。第1連接部3220與第1相對向部3320係在第2方向,即前後方向,位於隔著槽孔4000的位置。
如圖10所示,在本實施形態之導體板3000,係形成槽孔4000與開放部3100。
如圖10所示,本實施形態之槽孔4000係經由開放部3100局部地被開放。槽孔4000係在第1方向,即左右方向具有長邊。槽孔4000係在第2方向的尺寸S是複數個動作頻率的任一個之波長的1/10以下。
如圖10所示,本實施形態之開放部3100係在第1方向開口。即,開放部3100係在左右方向向左方開口。
如圖10所示,開放部3100係在第1方向,即左右方向,連接槽孔4000與導體板3000之外側。開放部3100係在前後方向,位於放射元件6000的後方。開放部3100係在左右方向位於槽孔4000的左端。
參照圖10,本實施形態之放射元件6000係電介質基板1100的下面之導電層1200的一部分。放射元件6000之電性長度係以多頻帶天線1000之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件6000之電性長度係對應於多頻帶天線1000之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件6000係具有第1部位6100與第2部位6500。
如圖10所示,本實施形態之第1部位6100係從導體板3000延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔4000。即,第1部位6100係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第1部位6100係在第2方向,即前後方向,具有第1長度L1。第1部位6100係比槽孔4000之在第1方向的中心MP更接近開放部3100。更詳細地說明之,第1部位6100係在第1方向,即左右方向,位於開放部3100的附近。
如圖10所示,本實施形態之第2部位6500係從第1部位6100在第1方向延伸。即,第2部位6500係從第1部位6100在左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位6500係從第1部位6100向在左右方向的右方延伸。第2部位6500係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位6500係在第1方向,即左右方向具有第2長度L2。第2長度L2係比第1長度L1長。
如圖10所示,在第2方向,即前後方向的第2部位6500與導體板3000之間,係具有空間5500。空間5500係在前後方向位於導體板3000的前方。空間5500係在前後方向位於第2部位6500的後方。空間5500係位於第1部位6100之在左右方向的右方。
如圖10所示,本實施形態之槽孔天線2000係具有供電點5000。供電點5000係在左右方向位於比中心MP更右方。供電點5000係被連接成跨槽孔4000。從高頻源5100經由供電線5200向供電點5000供給高頻電力。供電點5000與供電線5200之間的電性連接方法係無特別地限定。例如,亦可供電線5200係根據焊接等的方法,與供電點5000直接連接。或者,亦可供電點5000係在與供電線5200的一部分之間隔著間隔靠近地被配置,並藉電容性耦合或電磁耦合以電磁性連接。不論如何,只要將供電點5000與供電線5200以電性連接成供電點5000可接受來自供電線5200之供電即可。
如上述所示,供電點5000係被連接成跨槽孔4000。藉此,槽孔4000係構成供電天線。又,在放射元件6000之最近,供電點5000係未被設置,但是因為間接地被供電,所以放射元件6000係構成無供電天線。
如圖10所示,本實施形態之多頻帶天線1000係更具有短柱8100。
參照圖10,本實施形態之短柱8100係電介質基板1100的上面之導電層1200的一部分。短柱8100係所謂的開放短柱。短柱8100係對應於槽孔4000。即,多頻帶天線1000係更具有以對應於槽孔4000之方式所設置的短柱8100。短柱8100係位於在第1方向遠離開放部3100的位置。即,短柱8100係位於在左右方向向右方遠離開放部3100的位置。短柱8100之電性長度係未滿多頻帶天線1000之動作頻率的任一個之波長的1/4。短柱8100係具有在第2方向,即前後方向延伸之平板形狀。此外,本發明係不限定為此。亦可短柱8100的形狀係彎曲形、螺旋形、或者不規則地蛇行的形狀。短柱8100係在第2方向,即前後方向,具有一端8120及另一端8160。一端8120係在前後方向位於另一端8160的後方。短柱8100之一端8120係與第1連接部(連接部)3220連接。更詳細地說明之,短柱8100之一端8120係經由通孔與第1連接部3220連接。短柱8100之另一端8160係位於遠離第1相對向部(相對向部)3320的位置且與第1相對向部(相對向部)3320相對向。即,短柱8100之另一端8160係位於遠離第1相對向部3320的位置,且在包含第2方向,即前後方向之面內與第1相對向部3320相對向。更詳細地說明之,短柱8100之另一端8160係位於遠離第1相對向部3320的位置且在正交方向與第1相對向部3320相對向。即,短柱8100之另一端8160係開放端。
參照圖10,在本實施形態之多頻帶天線1000,係藉由調整短柱8100之在第1方向,即左右方向之對槽孔4000的相對位置,可調整在槽孔4000所產生之第2共振等之高階共振的頻率。此外,如上述所示,因為短柱8100位於在第1方向遠離開放部3100的位置,所以短柱8100係對在槽孔4000所產生之第1共振的共振頻率幾乎不會給與影響。
在本實施形態,短柱8100之一端8120係與第1連接部3220連接,短柱8100之另一端8160係位於遠離第1相對向部3320的位置且與第1相對向部3320相對向,但是,本發明係不限定為此。即,亦可短柱8100之一端8120係位於遠離第1連接部3220的位置且與第1連接部3220相對向,而且,短柱8100之另一端8160與第1相對向部3320連接。
至此為止,說明了本發明之第2實施形態,但是亦可本實施形態係如以下所示被進行變形。 (第1變形例)
如圖11所示,第1變形例之多頻帶天線1000A係包括槽孔天線2000、放射元件6000A以及短柱8100。
參照圖11,本變形例之放射元件6000A係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。放射元件6000A之電性長度係以多頻帶天線1000A之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件6000A之電性長度係對應於多頻帶天線1000A之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件6000A係具有第1部位6100A與第2部位6500A。
如圖11示,本變形例之第1部位6100A係從導體板3000延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔4000。即,第1部位6100A係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第1部位6100A係在第1方向,即左右方向,位於供電點5000與短柱8100之間。
如圖11所示,本變形例之第2部位6500A係從第1部位6100A在第1方向延伸。第2部位6500A係從第1部位6100A在左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位6500A係從第1部位6100A向在左右方向的左方延伸。第2部位6500A係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位6500A之在第1方向的第2長度係比第1部位6100A之在第2方向的第1長度長。 (第2變形例)
如圖12所示,第2變形例之多頻帶天線1000B係包括槽孔天線2000B、放射元件6000B、第1短柱(短柱)8100以及第2短柱8300。
如圖12所示,本變形例之槽孔天線2000B係具有導體板3000B。導體板3000B係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。此外,本變形例之導體板3000B係與上述之實施形態的導體板3000一樣,槽孔4000之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度。
如圖12所示,本變形例之導體板3000B係具有第1連接部3220、第2連接部3260以及第1相對向部3320。第1連接部3220與第1相對向部3320係在第2方向,即前後方向,位於隔著槽孔4000之位置。
參照圖12,本變形例之放射元件6000B係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。放射元件6000B係具有第2相對向部6560。第2相對向部6560係在左右方向位於放射元件6000B之右端的附近。第2連接部3260與第2相對向部6560係在第2方向,即前後方向,位於隔著空間5500之位置。
參照圖12,本變形例之第2短柱8300係電介質基板(未圖示)的上面之導電層(未圖示)的一部分。第2短柱8300係所謂的開放短柱。第2短柱8300係對應於空間5500。即,多頻帶天線1000B係更具有以對應於空間5500之方式所設置的第2短柱8300。第2短柱8300之電性長度係未滿多頻帶天線1000B之動作頻率的任一個之波長的1/4。第2短柱8300係具有在第2方向,即前後方向延伸之平板形狀。此外,本發明係不限定為此。亦可第2短柱8300的形狀係彎曲形、螺旋形、或者不規則地蛇行的形狀。第2短柱8300係在第2方向,即前後方向,具有一端8320及另一端8360。一端8320係在前後方向位於另一端8360的後方。第2短柱8300之一端8320係與第2連接部3260連接。更詳細地說明之,第2短柱8300之一端8320係經由通孔與第2連接部3260連接。第2短柱8300之另一端8360係位於遠離第2相對向部6560的位置且與第2相對向部6560相對向。即,第2短柱8300之另一端8360係位於遠離第2相對向部6560的位置,且在包含第2方向,即前後方向之面內與第2相對向部6560相對向。更詳細地說明之,第2短柱8300之另一端8360係位於遠離第2相對向部6560的位置且在正交方向與第2相對向部6560相對向。即,第2短柱8300之另一端8360係開放端。
在本變形例,第2短柱8300之一端8320係與第2連接部3260連接,第2短柱8300之另一端8360係位於遠離第2相對向部6560之位置且與第2相對向部6560相對向,但是,本發明係不限定為此。即,亦可第2短柱8300之一端8320位於遠離第2連接部3260之位置且與第2連接部3260相對向,而且,第2短柱8300之另一端8360與第2相對向部6560連接。 (第3變形例)
如圖13所示,第3變形例之多頻帶天線1000C係包括槽孔天線2000、放射元件6000C、短柱8100以及附加性放射元件7000。
參照圖13,本變形例之放射元件6000C係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。放射元件6000C之電性長度係以多頻帶天線1000C之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件6000C之電性長度係對應於多頻帶天線1000C之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件6000C係在左右方向位於附加性放射元件7000的左方。放射元件6000C係位於短柱8100之在左右方向的左方。放射元件6000C係具有第1部位6100C與第2部位6500C。
如圖13所示,本變形例之第1部位6100C係從導體板3000延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔4000。即,第1部位6100C係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第1部位6100C係比槽孔4000之在第1方向的中心更接近開放部3100。更詳細地說明之,第1部位6100C係在第1方向,即左右方向,位於開放部3100的附近。
如圖13所示,本變形例之第2部位6500C係從第1部位6100C在第1方向延伸。即,第2部位6500C係從第1部位6100C在左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位6500C係從第1部位6100C向在左右方向的右方延伸。第2部位6500C係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位6500C之在第1方向的第2長度係比第1部位6100C之在第2方向的第1長度長。
參照圖13,本變形例之附加性放射元件7000係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件7000之電性長度係以多頻帶天線1000C之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件7000之電性長度係對應於多頻帶天線1000C之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件7000係在左右方向位於放射元件6000C的右方。附加性放射元件7000係位於短柱8100之在左右方向的右方。附加性放射元件7000係具有第3部位7100與第4部位7500。
如圖13所示,本變形例之第3部位7100係從導體板3000延伸成在第2方向遠離槽孔4000。即,第3部位7100係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第3部位7100係在第2方向具有第3長度L3。
如圖13所示,本變形例之第4部位7500係從第3部位7100在第1方向延伸。即,第4部位7500係從第3部位7100在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位7500係從第3部位7100向在左右方向的右方延伸。第4部位7500係在第1方向具有第4長度L4。第4長度L4係比第3長度L3長。 (第4變形例)
如圖14所示,本變形例之第4變形例之多頻帶天線1000D係包括槽孔天線2000、放射元件6000D、短柱8100以及附加性放射元件7000D。
參照圖14,本變形例之放射元件6000D係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。放射元件6000D之電性長度係以多頻帶天線1000D之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,放射元件6000D之電性長度係對應於多頻帶天線1000D之動作頻率的任一個之波長的1/4。放射元件6000D係在左右方向位於附加性放射元件7000D的左方。放射元件6000D係具有第1部位6100D與第2部位6500D。
如圖14所示,本變形例之第1部位6100D係從導體板3000延伸成在與第1方向正交之第2方向遠離槽孔4000。即,第1部位6100D係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第1部位6100D係位於在第1方向之多頻帶天線1000D的中央附近。
如圖14所示,本變形例之第2部位6500D係從第1部位6100D在第1方向延伸。即,第2部位6500D係從第1部位6100D在左右方向延伸。更詳細地說明之,第2部位6500D係從第1部位6100D向在左右方向的左方延伸。第2部位6500D係具有在第1方向直線性地延伸的平板形狀。第2部位6500D之在第1方向的第2長度係比第1部位6100D之在第2方向的第1長度長。
參照圖14,本變形例之附加性放射元件7000D係電介質基板(未圖示)的下面之導電層(未圖示)的一部分。附加性放射元件7000D之電性長度係以多頻帶天線1000D之動作頻率的任一個之波長的1/4為基準所決定。換言之,附加性放射元件7000D之電性長度係對應於多頻帶天線1000D之動作頻率的任一個之波長的1/4。附加性放射元件7000D係位於在左右方向之放射元件6000D的右方。附加性放射元件7000D係具有第3部位7100D與第4部位7500D。
如圖14所示,本變形例之第3部位7100D係從導體板3000延伸成在第2方向遠離槽孔4000。即,第3部位7100D係從導體板3000向前方延伸成在前後方向遠離槽孔4000。第3部位7100D係與第1部位6100D共同的部位。
如圖14所示,本變形例之第4部位7500D係從第3部位7100D在第1方向延伸。即,第4部位7500D係從第3部位7100D在左右方向延伸。更詳細地說明之,第4部位7500D係從第3部位7100D在左右方向向右方延伸。第4部位7500D之在第1方向的第4長度係比第3部位7100D之在第2方向的第3長度長。
參照圖10至圖14,上述之實施形態及變形例的導體板3000、3000B係與第1實施形態的導體板300相比,槽孔4000之周圍的導體部分被縮小至可用作多頻帶天線的程度,但是,本發明係不限定為此。即,亦可導體板3000、3000B係與第1實施形態的導體板300一樣,構成為將槽孔4000之周圍的導體部分擴張。
以上,揭示實施形態,具體地說明了本發明,但是,本發明係不是被限定為此。可進行各種的變形。又,亦可將複數個以上之實施形態及變形例組合。
上述之實施形態及變形例的多頻帶天線100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H、1000、1000A、1000B、1000C、1000D係由一片電介質基板110、1100所構成,但是,本發明係不限定為此,亦可由將複數片電介質基板積層的多層基板所構成,又,亦可由個別元件所構成,該個別元件係由被衝壓之金屬板所構成。
上述之實施形態及變形例的第2部位650、650D、6500、6500A、6500C、6500D係具有在第1方向直線性地延伸之平板形狀,但是,本發明係不限定為此,亦可具有在第1方向延伸之彎曲形狀。
上述之第1實施形態之第2變形例的多頻帶天線100B(參照圖3)係具有第1短柱810,該第1短柱810係電介質基板的上面之導電層的一部分,但是,本發明係不限定為此。參照圖15,亦可多頻帶天線係替代第1短柱810,具有第1短柱810X,該第1短柱810X係電介質基板的下面之導電層的一部分,而該電介質基板係設置導體板及放射元件600。即,亦可第1短柱810X與第1連接部322X被設置於電介質基板之同一導電層,第1短柱810X之一端812X未經由通孔,而與第1連接部322X直接連接。又,亦可關於上述之第2實施形態的短柱8100(參照圖10~圖14),亦與第1短柱810X一樣地構成。此外,亦可關於上述之第1實施形態之第3變形例的第2短柱830(參照圖4)及第2實施形態之第2變形例的第2短柱8300(參照圖12),亦與第1短柱810X一樣地構成。
100,100A,100B,100C,100D,100E,100F,100G,100H:多頻帶天線 110:電介質基板 120:導電層 200,200A,200B,200C,200D,200E,200F,200G,200H:槽孔天線 300,300A,300B,300C,300D,300E,300F,300G,300H:導體板 310:開放部 322,322X:第1連接部 326:第2連接部 332:第1相對向部 336:第2相對向部 400:槽孔 410:第1槽孔 430:第2槽孔 500:供電點 510:高頻源 520:供電線 550,550D,550H:空間 600,600D:放射元件 610,610D:第1部位 650,650D:第2部位 700,700F,700G,700H:附加性放射元件 710,710F,710G,710H:第3部位 750,750F,750G,750H:第4部位 810,810X:第1短柱 812,812X:一端 816:另一端 830:第2短柱 832:一端 836:另一端 1000,1000A,1000B,1000C,1000D:多頻帶天線 1100:電介質基板 1200:導電層 2000,2000B:槽孔天線 3000,3000B:導體板 3100:開放部 3220:第1連接部(連接部) 3260:第2連接部 3320:第1相對向部(相對向部) 4000:槽孔 5000:供電點 5100:高頻源 5200:供電線 5500:空間 6000,6000A,6000B,6000C,6000D:放射元件 6100,6100A,6100C,6100D:第1部位 6500,6500A,6500C,6500D:第2部位 6560:第2相對向部 7000,7000D:附加性放射元件 7100,7100D:第3部位 7500,7500D:第4部位 8100:第1短柱(短柱) 8120:一端 8160:另一端 8300:第2短柱 8320:一端 8360:另一端 MP:中心 L1:第1長度 L2:第2長度 L3:第3長度 L4:第4長度 S:尺寸
[圖1] 係表示本發明之第1實施形態之多頻帶天線的上視圖。 [圖2] 係表示圖1之多頻帶天線的第1變形例之示意構成的上視圖。 [圖3] 係表示圖1之多頻帶天線的第2變形例之示意構成的上視圖。 [圖4] 係表示圖1之多頻帶天線的第3變形例之示意構成的上視圖。 [圖5] 係表示圖1之多頻帶天線的第4變形例之示意構成的上視圖。 [圖6] 係表示圖1之多頻帶天線的第5變形例之示意構成的上視圖。 [圖7] 係表示圖1之多頻帶天線的第6變形例之示意構成的上視圖。 [圖8] 係表示圖1之多頻帶天線的第7變形例之示意構成的上視圖。 [圖9] 係表示圖1之多頻帶天線的第8變形例之示意構成的上視圖。 [圖10] 係表示本發明之第2實施形態之多頻帶天線的上視圖。在圖10,電介質層及通孔係被省略。 [圖11] 係表示圖10之多頻帶天線的第1變形例之示意構成的上視圖。 [圖12] 係表示圖10之多頻帶天線的第2變形例之示意構成的上視圖。 [圖13] 係表示圖10之多頻帶天線的第3變形例之示意構成的上視圖。 [圖14] 係表示圖10之多頻帶天線的第4變形例之示意構成的上視圖。 [圖15] 係表示第1短柱之變形例的圖。 [圖16] 係表示專利文獻1之多頻帶天線的上視圖。
100:多頻帶天線 110:電介質基板 120:導電層 200:槽孔天線 300:導體板 310:開放部 400:槽孔 410:第1槽孔 430:第2槽孔 500:供電點 510:高頻源 520:供電線 550:空間 600:放射元件 610:第1部位 650:第2部位 L1:第1長度 L2:第2長度 S:尺寸

Claims (6)

  1. 一種多頻帶天線,係包括槽孔天線與放射元件之多頻帶天線,其係:該槽孔天線係具有導體板;在該導體板,係形成開放部與槽孔;該槽孔係經由該開放部局部地被開放;該槽孔係在第1方向具有長邊;該放射元件係具有第1部位與第2部位;該第1部位係從該導體板延伸成在與該第1方向正交之第2方向遠離該槽孔;該第1部位係在該第2方向具有第1長度;該第2部位係從該第1部位在該第1方向延伸;該第2部位係在該第1方向具有第2長度;該第2長度係比該第1長度長;該開放部係在該第2方向連接該槽孔與該導體板之外側;該開放部係在該第2方向位於該放射元件與該槽孔之間;該槽孔係包含第1槽孔與第2槽孔;該第1槽孔與該第2槽孔係在該第1方向位於隔著該開放部之位置;該槽孔天線係具有供電點;該供電點係被連接成跨該第1槽孔;該多頻帶天線係更具有以對應於該第1槽孔之方式所設置的第1短柱;該導體板係具有第1連接部與第1相對向部;該第1連接部與該第1相對向部係在該第2方向位於隔著該第1槽孔之位置; 該第1短柱之一端係與該第1連接部連接;該第1短柱之另一端係位於遠離該第1相對向部之位置且與該第1相對向部相對向。
  2. 如請求項1之多頻帶天線,其中該開放部係在沿著該第2方向觀察的情況,與該第2部位重疊。
  3. 如請求項1之多頻帶天線,其中該第1部位係比該第2槽孔更接近該第1槽孔。
  4. 如請求項1之多頻帶天線,其中該多頻帶天線係更具有以對應於該第2槽孔之方式所設置的第2短柱;該導體板係具有第2連接部與第2相對向部;該第2連接部與該第2相對向部係在該第2方向位於隔著該第2槽孔之位置;該第2短柱之一端係與該第2連接部連接;該第2短柱之另一端係位於遠離該第2相對向部之位置且與該第2相對向部相對向。
  5. 請求項1之多頻帶天線,其中該多頻帶天線係具有複數個動作頻率;該槽孔係在該第2方向的尺寸是該複數個動作頻率的任一個之波長的1/10以下。
  6. 如請求項1之多頻帶天線,其中該多頻帶天線係更具有附加性放射元件;該附加性放射元件係具有第3部位與第4部位;該第3部位係從該導體板延伸成在該第2方向遠離該槽孔; 該第3部位係在該第2方向具有第3長度;該第4部位係從該第3部位在該第1方向延伸;該第4部位係在該第1方向具有第4長度;該第4長度係比該第3長度長。
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