TWI752195B - 含有至少一底填膜的多層物件之工作壽命之改良及其製造方法與用途 - Google Patents

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Abstract

本發明提供含有至少一底填膜層的多層物件。在某些態樣中,亦提供用於改良該等物件之工作壽命穩定性之方法。在某些態樣中,亦提供用於改良該等物件之儲存穩定性之方法。在某些態樣中,亦提供用於製備該等物件之方法。在某些態樣中,亦提供藉由本文所描述之方法產生之穩定物件。

Description

含有至少一底填膜的多層物件之工作壽命之改良及其製造方法與用途
本發明係關於含有至少一底填膜層之多層物件。在某些態樣中,本發明係關於用於改良該等物件之工作壽命穩定性之方法。在某些態樣中,本發明係關於用於改良該等物件之儲存穩定性之方法。在某些態樣中,本發明係關於用於製備該等物件之方法。在某些態樣中,本發明係關於所得穩定物件。
根據本發明,提供含有至少一底填膜層之多層物件。在某些態樣中,亦提供用於改良該等物件之工作壽命穩定性之方法。在某些態樣中,亦提供用於改良該等物件之儲存穩定性之方法。在某些態樣中,亦提供用於製備該等物件之方法。在某些態樣中,亦提供藉由本文所描述之方法產生之穩定物件。 在一個態樣中,預期用於本文中之底填膜層含有至少以下之組合: (1)成膜黏合劑樹脂, (2)順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺(nadimide)或衣康醯胺, (3)丙烯酸酯樹脂及 (4)填充劑。 在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜層組合物亦視情況含有環氧樹脂。 在某些態樣中,提供藉由本文所描述之方法產生之穩定物件。 在某些態樣中,提供含有本文所描述之底填膜之物件。 在某些態樣中,提供含有藉由如本文所描述之調配物之固化等分試樣來永久地黏著至第二物件之第一物件的總成。
根據本發明,提供含有複數個層之物件,其中: 其至少一個層含有具有可遷移組分於其中之底填膜,及 其餘層中之一或多者但非所有具有包括於其中之可遷移組分。 如本文所使用,術語「可遷移組分」包括起始劑、抑制劑、低分子量分子、寡聚物及其類似者。 在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約10 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約9 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約8 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約7 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約6 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約5 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約4 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約3 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約2 wt%可遷移組分於其中;在某些實施例中,預期用於本文中之底填膜具有至多約1 wt%可遷移組分於其中。 在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約100 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約80 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約60 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約40 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約20 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約10 ppm範圍內。 在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約100 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約80 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約60 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約40 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約20 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約1 ppm至約10 ppm範圍內。 在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約100 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約80 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約60 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約40 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約20 ppm範圍內;在某些實施例中,當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約5 ppm至約10 ppm範圍內。 根據本發明之另一實施例,提供含有以下之物件: 第一層, 第二層及 第三層 其中: 該第一層含有離型襯墊, 該第二層含有具有至多約10 wt%可遷移組分於其中之底填膜,及 該第三層含有具有百萬分之0.1至100可遷移組分於其中之覆蓋膜。 在某些實施例中,預期用於本文中之剝離襯墊含有實質上不經歷與底填膜層之化學相互作用且用於防止底填膜表面黏附之材料。例示性剝離襯墊包括基於紙或塑膠之膜片,基於塑膠之材料諸如PET、聚烯烴、聚矽氧及其類似者。 在某些實施例中,本文涵蓋之覆蓋膜含有: 具有至多百萬分之100可遷移組分於其中之壓敏黏著劑層及 具有至多百萬分之100可遷移組分於其中之襯帶。 預期用於本文中之例示性壓敏黏著劑層包括基於丙烯酸聚合物、橡膠、乙烯-乙酸乙烯酯、腈、苯乙烯嵌段共聚物及其類似者之彈性體。在某些實施例中,預期用於本文中之襯帶係選自聚烯烴、聚醯亞胺、聚酯、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、含氟聚合物或其類似物。 根據本發明之又另一實施例,提供含有以下之物件: 第一層, 第二層及 第三層, 其中該等層中之一或多者具有可遷移組分於其中, 其中: 該第一層含有離型襯墊, 該第二層含有具有至多約10 wt %可遷移組分於其中之底填膜,及 該第三層含有包含以下兩個層之覆蓋膜: 壓敏黏著劑層及 襯帶, 其中當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1 ppm至約100 ppm範圍內。 根據本發明之再一實施例,提供製備本文所描述之物件中之任一者之方法,該等方法包含在該第三層中添加有效量的一或多種可遷移組分以在其中達成在約百萬分之0.1至100範圍內之數量。 根據本發明之再一實施例,提供改良本文所描述之物件中之任一者之穩定性的方法,該等方法包含在該第三層中添加有效量的一或多種可遷移組分以在使此覆蓋膜覆蓋有底填膜之前達成在約百萬分之0.1至100範圍內之一定量的一或多種可遷移組分於其中。 根據本發明之某些實施例,該物件之儲存穩定性得到改良。 根據本發明之其他實施例,該物件之工作壽命穩定性得到改良。 在一些實施例中,上述方法進一步含有使該物件暴露於高溫老化處理,其中溫度在20℃至100℃範圍內,持續在約0.1小時至4週範圍內之時間。 預期用於本文中之例示性底填膜包括含有以下之組合物: (i)黏合劑樹脂, (ii)順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺或衣康醯亞胺, (iii)丙烯酸酯樹脂及 (iv)填充劑, 及視情況選用之環氧樹脂; 其中: 該黏合劑樹脂為可溶解於溶劑中且在自其移除溶劑之後形成薄膜之成膜高分子量聚合物樹脂,該順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺或衣康醯亞胺為單體或寡聚物且可進行自由基固化以形成聚合物網路; 該丙烯酸酯樹脂為可固化成三維聚合物網路之熱固性樹脂; 該填充劑調變所得組合物之熱膨脹係數(CTE),及 該視情況選用之環氧樹脂(或環氧官能化樹脂)包括基於雙酚A之液體型環氧樹脂、基於雙酚A之固體型環氧樹脂、基於雙酚F之液體型環氧樹脂、基於苯酚-酚醛清漆樹脂之多官能環氧樹脂、二環戊二烯型環氧樹脂、萘型環氧樹脂及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之混合物, 其中在B階段之該組合物具有: 100℃至200℃之差示掃描熱量測定(DSC)起始; 在100 Pa sec至10,000 Pa sec範圍內之熔融黏度及 如藉由TA DHR2變流儀在10N軸向力剖面下所量測之100℃至200℃之膠凝溫度。 預期用於本文中之黏合劑樹脂包括一或多種(甲基)丙烯酸酯、一或多種環氧樹脂、乙烯基醚、乙烯酯、乙烯酮、乙烯芳族物、乙烯基環烷基、烯丙基醯胺及其類似者。 預期用於本文中之順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺或衣康醯亞胺為分別具有以下結構之化合物:
Figure 02_image001
, 其中: m為1至15, P為0至15, 各R2 獨立地選自氫或低碳數烷基(諸如C1-5 ),及 J為含有有機或有機矽氧烷基團及 其兩者或超過兩者之組合之單價或多價基團。 在本發明之一些實施例中,J為選自以下之單價或多價自由基團: - 通常具有在約6個至約500個範圍內之碳原子之烴基或經取代烴基物種,其中烴基物種係選自烷基、烯基、炔基、環烷基、環烯基、芳基、烷芳基、芳基烷基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基或炔基芳基,然而其條件為僅當J含有兩種或超過兩種不同物種之組合時,J可為芳基; - 通常具有在約6個至約500個範圍內之碳原子之伸烴基或經取代伸烴基物種,其中伸烴基物種係選自伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸環烷基、伸環烯基、伸芳基、烷基伸芳基、芳基伸烷基、芳基伸烯基、烯基伸芳基、芳基伸炔基或炔基伸芳基; - 通常具有在約6個至約500個範圍內之碳原子的雜環或經取代雜環物種、 - 聚矽氧烷或 - 聚矽氧烷-聚胺基甲酸酯嵌段共聚物以及 上述物中之一或多者與選自以下之連接子的組合:共價鍵、-O-、-S-、-NR-、-NR-C(O)-、-NR-C(O)-O-、-NR-C(O)-NR-、-S-C(O)-、-S-C(O)-O-、-S-C(O)-NR-、-O-S(O)2 -、-O-S(O)2 -O-、-O-S(O)2 -NR-、-O-S(O)-、-O-S(O)-O-、-O-S(O)-NR-、-O-NR-C(O)-、-O-NR-C(O)-O-、-O-NR-C(O)-NR-、-NR-O-C(O)-、-NR-O-C(O)-O-、-NR-O-C(O)-NR-、-O-NR-C(S)-、-O-NR-C(S)-O-、-O-NR-C(S)-NR-、-NR-O-C(S)-、-NR-O-C(S)-O-、-NR-O-C(S)-NR-、-O-C(S)-、-O-C(S)-O-、-O-C(S)-NR-、-NR-C(S)-、-NR-C(S)-O-、-NR-C(S)-NR-、-S-S(O)2 -、-S-S(O)2- O-、-S-S(O)2 -NR-、-NR-O-S(O)-、-NR-O-S(O)-O-、-NR-O-S(O)-NR-、-NR-O-S(O)2 -、-NR-O-S(O)2 -O-、-NR-O-S(O)2 -NR-、-O-NR-S(O)-、-O-NR-S(O)-O-、-O-NR-S(O)-NR-、-O-NR-S(O)2 -O-、-O-NR-S(O)2 -NR-、-O-NR-S(O)2 -、-O-P(O)R2 -、-S-P(O)R2 -或-NR-P(O)R2 -;其中各R獨立地為氫、烷基或經取代烷基。 例示性組合物包括彼等組合物,其中J為氧基烷基、硫基烷基、胺基烷基、羧基烷基、氧基烯基、硫基烯基、胺基烯基、羧基烯基、氧基炔基、硫基炔基、胺基炔基、羧基炔基、氧基環烷基、硫基環烷基、胺基環烷基、羧基環烷基、氧基環烯基、硫基環烯基、胺基環烯基、羧基環烯基、雜環基、氧基雜環基、硫基雜環基、胺基雜環基、羧基雜環基、氧基芳基、硫基芳基、胺基芳基、羧基芳基、雜芳基、氧基雜芳基、硫基雜芳基、胺基雜芳基、羧基雜芳基、氧基烷基芳基、硫基烷基芳基、胺基烷基芳基、羧基烷基芳基、氧基芳基烷基、硫基芳基烷基、胺基芳基烷基、羧基芳基烷基、氧基芳基烯基、硫基芳基烯基、胺基芳基烯基、羧基芳基烯基、氧基烯基芳基、硫基烯基芳基、胺基烯基芳基、羧基烯基芳基、氧基芳基炔基、硫基芳基炔基、胺基芳基炔基、羧基芳基炔基、氧基炔基芳基、硫基炔基芳基、胺基炔基芳基或羧基炔基芳基、氧基伸烷基、硫基伸烷基、胺基伸烷基、羧基伸烷基、氧基伸烯基、硫基伸烯基、胺基伸烯基、羧基伸烯基、氧基伸炔基、硫基伸炔基、胺基伸炔基、羧基伸炔基、氧基伸環烷基、硫基伸環烷基、胺基伸環烷基、羧基伸環烷基、氧基伸環烯基、硫基伸環烯基、胺基伸環烯基、羧基伸環烯基、氧基伸芳基、硫基伸芳基、胺基伸芳基、羧基伸芳基、氧基烷基伸芳基、硫基烷基伸芳基、胺基烷基伸芳基、羧基烷基伸芳基、氧基芳基伸烷基、硫基芳基伸烷基、胺基芳基伸烷基、羧基芳基伸烷基、氧基芳基伸烯基、硫基芳基伸烯基、胺基芳基伸烯基、羧基芳基伸烯基、氧基烯基伸芳基、硫基烯基伸芳基、胺基烯基伸芳基、羧基烯基伸芳基、氧基芳基伸炔基、硫基芳基伸炔基、胺基芳基伸炔基、羧基芳基伸炔基、氧基炔基伸芳基、硫基炔基伸芳基、胺基炔基伸芳基、羧基炔基伸芳基、伸雜芳基、氧基伸雜芳基、硫基伸雜芳基、胺基伸雜芳基、羧基伸雜芳基、含雜原子之二價或多價環狀部分、含氧基雜原子之二價或多價環狀部分、含硫基雜原子之二價或多價環狀部分、含胺基雜原子之二價或多價環狀部分或含羧基雜原子之二價或多價環狀部分。 預期用於本文中之環氧樹脂包括具有一或多個環氧基於其上之聚合主鏈。廣泛多種的環氧官能化樹脂預期係用於本文中,例如基於雙酚A之液體型環氧樹脂、基於雙酚A之固體型環氧樹脂、基於雙酚F之液體型環氧樹脂(例如Epiclon EXA-835LV)、酚醛清漆環氧樹脂、基於苯酚-酚醛清漆樹脂之多官能環氧樹脂、二環戊二烯型環氧樹脂(例如Epiclon HP-7200L)、萘型環氧樹脂、經矽氧烷改質之環氧樹脂、環脂族環氧樹脂、聯苯環氧樹脂、經改質環氧樹脂及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之組合。 預期用於本文中之例示性環氧官能化樹脂包括環脂族醇之二環氧化物、氫化雙酚A (市售為Epalloy 5000)、六氫鄰苯二甲酸酐之雙官能性環脂族縮水甘油酯(市售為Epalloy 5200)、Epiclon EXA-835LV、Epiclon HP-7200L及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之混合物。 在某些實施例中,環氧樹脂組分可包括兩種或超過兩種不同的基於雙酚之環氧樹脂的組合。此等基於雙酚之環氧樹脂可選自雙酚A環氧樹脂、雙酚F環氧樹脂或雙酚S環氧樹脂或其組合。另外,可使用相同類型之樹脂內的兩種或超過兩種不同的雙酚環氧樹脂 (諸如A、F或S)。 預期用於本文中之雙酚環氧樹脂之市售實例包括雙酚F型環氧樹脂(諸如來自Nippon Kayaku,Japan之RE-404-S;及來自Dai Nippon Ink & Chemicals公司之EPICLON 830 (RE1801)、830S (RE1815)、830A (RE1826)及830W;及來自Resolution之RSL 1738及YL-983U)及雙酚A型環氧樹脂(諸如來自Resolution之YL-979及980)。 可購自Dai Nippon且在上文提及之雙酚環氧樹脂經升級為黏度比基於雙酚A環氧樹脂之習知環氧樹脂黏度低得多之液體的未經稀釋表氯醇-雙酚F環氧樹脂且具有類似於液體雙酚A環氧樹脂之物理特性。相較於雙酚A環氧樹脂,雙酚F環氧樹脂具有更低的黏度,兩種類型之環氧樹脂之間的所有其他物理特性皆相同,這提供較低的黏度且由此提供快速流動的底填密封劑材料。此等四種雙酚F環氧樹脂之EEW在165與180之間。25℃下之黏度在3,000與4,500 cps之間(除了黏度上限值為4,000 cps之RE1801)。RE1815及830W之可水解氯化物含量經報導為200 ppm,且RE1826之可水解氯化物含量為100 ppm。 可購自Resolution且在上文提及之雙酚環氧樹脂經升級為含有低氯化物之液體環氧樹脂。雙酚A環氧樹脂之EEW (g/eq)在180與195之間且25℃下之黏度在100與250 cps之間。YL-979之總氯化物含量經報導在500與700 ppm之間,且YL-980之總氯化物含量在100與300 ppm之間。雙酚F環氧樹脂之EEW (g/eq)在165與180之間且25℃下之黏度在30與60之間。RSL-1738之總氯化物含量經報導在500與700 ppm之間,且YL-983U之總氯化物含量在150與350 ppm之間。 除雙酚環氧樹脂外,預期將其他環氧化合物用作本發明調配物之環氧樹脂組分。舉例而言,可使用環脂族環氧樹脂,諸如3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己基碳酸酯。亦可使用單官能、雙官能或多官能反應性稀釋劑來調節黏度及/或降低所得樹脂材料之Tg。例示性反應性稀釋劑包括丁基縮水甘油醚、甲苯基縮水甘油醚、聚乙二醇縮水甘油醚、聚丙二醇縮水甘油醚及其類似者。適用於本文中之環氧樹脂包括酚化合物之聚縮水甘油衍生物,諸如以商標EPON出售之彼等者,諸如來自Resolution之EPON 828、EPON 1001、EPON 1009及EPON 1031;來自Dow Chemical Co.之DER 331、DER 332、DER 334及DER 542;及來自Nippon Kayaku之BREN-S。其他合適的環氧樹脂包括由聚醇及其類似者製備之聚環氧化物及苯酚-甲醛酚醛清漆之聚縮水甘油衍生物製備之聚環氧化物,後者諸如為來自Dow Chemical之DEN 431、DEN 438及DEN 439。亦可以商標ARALDITE出售之甲酚類似物,諸如來自Ciba Specialty Chemicals Corporation之ARALDITE ECN 1235、ARALDITE ECN 1273及ARALDITE ECN 1299。SU-8為可購自Resolution之雙酚A型環氧樹脂酚醛清漆。胺、胺基醇及聚羧酸之聚縮水甘油加成物亦可用於本發明,其市售樹脂包括來自F.I.C. Corporation之GLYAMINE 135、GLYAMINE 125及GLYAMINE 115;來自Ciba Specialty Chemicals之ARALDITE MY-720、ARALDITE 0500及ARALDITE 0510,及來自Sherwin-Williams Co.之PGA-X及PGA-C。 本文中視情況使用之適當的單官能環氧樹脂共反應物稀釋劑包括黏度低於環氧樹脂組分黏度且通常低於約250 cps之彼等者。 單官能環氧樹脂共反應物稀釋劑應具有有約6個至約28個碳原子之烷基的環氧基,其實例包括C6-28 烷基縮水甘油醚、C6-28 脂肪酸縮水甘油酯、C6-28 烷基苯酚縮水甘油醚及其類似者。 在包括此類單功能環氧樹脂共反應物稀釋劑之情況下,此類共反應物稀釋劑以組合物之總重量計應以約0.5重量%至約10重量%之量採用;在一些實施例中,此類共反應物稀釋劑以組合物之總重量計應以約0.25重量%至約5重量%之量採用。 環氧樹脂組分應以在約1重量%至約20重量%範圍內之量存在於組合物中;在一些實施例中,本發明調配物含有約2重量%至約18重量%環氧樹脂;在一些實施例中,本發明調配物含有約5重量%至約15重量%環氧樹脂。 在一些實施例中,本文所採用之環氧樹脂組分為經矽烷改質之環氧樹脂,例如包括以下之物質的組合物: (A)由以下結構涵蓋之環氧樹脂組分:
Figure 02_image003
其中: Y可存在或可不存在,且當Y存在時為直接鍵、CH2 、CH(CH3 )2 、C=O或S, 此處R1 為烷基、烯基、羥基、羧基及鹵素,及 此處x為1至4; (B)由以下結構涵蓋之環氧官能化烷氧基矽烷:
Figure 02_image005
其中 R1 為含環氧乙烷之部分,及 R2 為具有一至十個碳原子之烷基或經烷氧基取代之烷基、芳基或芳烷基;且 (C)組分(A)及(B)之反應產物。 一種此類經矽烷改質之環氧樹脂的實例形成為諸如雙酚A、E、F或S環氧樹脂或聯苯環氧樹脂之芳族環氧樹脂與環氧矽烷之反應產物,其中環氧矽烷由以下結構涵蓋:
Figure 02_image007
其中 R1 為含環氧乙烷之部分,其實例包括2-(乙氧基甲基)環氧乙烷、2-(丙氧基甲基)環氧乙烷、2-(甲氧基甲基)環氧乙烷及2-(3-甲氧基丙基)環氧乙烷,及 R2 為具有一至十個碳原子之烷基或經烷氧基取代之烷基、芳基或芳烷基。 在一個實施例中,R1 為2-(乙氧基甲基)環氧乙烷且R2 為甲基。 用於製造經矽烷改質之環氧樹脂的芳族環氧樹脂之理想化結構包括
Figure 02_image009
其中 Y可存在或可不存在,且當Y存在時其為直接鍵、CH2 、CH(CH3 )2 、C=O或S, R1 為烷基、烯基、羥基、羧基或鹵素,及 x為1至4。 當然,當x為2至4時,鏈增長形式之芳族環氧樹脂亦預期為由此結構涵蓋。 舉例而言,鏈增長形式之芳族環氧樹脂可由以下結構涵蓋
Figure 02_image011
在一些實施例中,經矽氧烷改質之環氧樹脂具有以下結構: -(O-Si(Me)2 -O-Si(Me)(Z)-O-Si(Me)2 -O-Si(Me)2 )n - 其中: Z為-O-(CH2 )3 -O-Ph-CH2 -Ph-O-(CH2 -CH(OH)-CH2 -O-Ph-CH2 -Ph-O-)n -CH2 -環氧乙烷,及 n在約1至4範圍內。 在一些實施例中,經矽氧烷改質之環氧樹脂係藉由使以下組分之組合在適合於促進其反應之條件下接觸來產生: Me2 Si(OMe)2 + (MeO)3 Si-(CH2 )3 -O-CH2 -環氧乙烷 + 環氧乙烷-CH2 -O-Ph-CH2 -Ph-O-(CH2 -CH(OH)-CH2 -O-Ph-CH2 -Ph-O-)n -CH2 -環氧乙烷, 其中「n」在約1至4範圍內。 經矽烷改質之環氧樹脂亦可為芳族環氧樹脂、環氧矽烷及芳族環氧樹脂與環氧矽烷之反應產物的組合。反應產物可由芳族環氧樹脂及環氧矽烷以1:100至100:1之重量比(諸如1:10至10:1之重量比)製備。 預期用於本發明組合物中之一或多種環氧單體的量為足夠的而使得所得調配物含有在約1至40 wt%範圍內之該環氧樹脂。在某些實施例中,所得調配物含有在約2至30 wt%範圍內之該環氧樹脂。在某些實施例中,所得調配物含有在約5至20 wt%範圍內之該環氧樹脂。 環氧樹脂固化劑視情況與一或多種環氧單體組合採用。例示性環氧樹脂固化劑包括脲、脂族胺及芳族胺、胺硬化劑、聚醯胺、咪唑、二氰二胺、醯肼、脲-胺混合固化系統、自由基起始劑(例如過氧化酯、過氧化碳酸酯、氫過氧化物、烷基過氧化物、芳基過氧化物、偶氮化合物及其類似者)、有機鹼、過渡金屬催化劑、苯酚、酸酐、路易斯酸(Lewis acid)、路易斯鹼(Lewis base)及其類似者。 當存在環氧樹脂固化劑時,本發明組合物含有在約0.1至2 wt%範圍內之環氧樹脂固化劑。在某些實施例中,本發明組合物含有在約0.5 -5 wt%範圍內之環氧樹脂固化劑。 視情況,一或多種額外的單體或自其衍生之樹脂可存在於本發明調配物中,諸如(例如)氰酸酯、聚矽氧、氧環丁烷、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯亞胺、三聚氰胺、脲-甲醛、苯酚-甲醛及其類似者。當存在時,該等材料以最終調配物之總重量計可以約0.1至約60 wt%之範圍存在。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之氰酸酯單體含有兩個或超過兩個成環氰酸酯(-O-C≡N)基團,其在加熱後進行環三聚以形成經取代三嗪環。因為在氰酸酯單體固化期間未形成脫離基或揮發性副產物,所以固化反應稱為加成聚合。可用於本發明之實踐中之合適的聚氰酸酯單體包括例如1,1-雙(4-氰酸酯基苯基)甲烷、1,1-雙(4-氰酸酯基苯基)乙烷、2,2-雙(4-氰酸酯基苯基)丙烷、雙(4-氰酸酯基苯基)-2,2-丁烷、1,3-雙[2-(4-氰酸酯基苯基)丙基]苯、雙(4-氰酸酯基苯基)醚、4,4'-二氰酸酯基二苯、雙(4-氰酸酯基-3,5-二甲基苯基)甲烷、參(4-氰酸酯基苯基)乙烷、氰化酚醛清漆、1,3-雙[4-氰酸酯基苯基-1-(1-甲基亞乙基)]苯、氰化苯酚-雙環戊二烯線性加成物及其類似者。根據本發明使用之聚氰酸酯單體可易於藉由在酸受體存在下使適當的二羥基或多羥基苯酚與鹵化氰反應來製造。 可視情況與本發明之一或多種聚氰酸酯單體組合之單體係選自彼等進行加成聚合之單體。該等單體包括乙烯基醚、二乙烯基醚、二烯丙基醚、二甲基丙烯酸酯、二炔丙基醚、混合炔丙基烯丙基醚、單順丁烯二醯亞胺、雙順丁烯二醯亞胺及其類似者。該等單體之實例包括環己烷二甲醇單乙烯基醚、參烯丙基氰脲酸酯、1,1-雙(4-烯丙氧基苯基)乙烷、1,1-雙(4-炔丙氧基苯基)乙烷、1,1-雙(4-烯丙氧基苯基-4'-炔丙氧基苯基)乙烷、3-(2,2-二甲基三亞甲基縮醛)-1-順丁烯二醯亞胺苯、2,2,4-三甲基六亞甲基-1,6-雙順丁烯二醯亞胺、2,2-雙[4-(4-順丁烯二醯亞胺苯氧基)苯基]丙烷及其類似者。 預期用於本發明之實踐中之額外氰酸酯為此項技術中熟知的。參見例如美國專利第5,718,941號,其全部內容在此以引用之方式併入本文中。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之聚矽氧為此項技術中熟知的。參見例如美國專利第5,717,034號,其全部內容在此以引用之方式併入本文中。 當存在時,氧環丁烷(亦即1,3-環氧丙烷)為具有分子式C3 H6 O之雜環有機化合物,其具有有三個碳原子及一個氧原子之四員環。術語氧環丁烷亦通常指任何含有氧環丁烷環之有機化合物。參見例如Burkhard 等人, Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 9052 - 9067中,其全部內容在此以引用之方式併入本文中。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之聚酯係指藉由使聚醇(亦稱為多元醇)與飽和或不飽和二元酸反應形成之縮合聚合物。所用之典型聚醇為諸如乙二醇之二醇;常用酸為鄰苯二甲酸及順丁烯二酸。不斷移除作為酯化反應之副產物的水,促使反應完成。使用不飽和聚酯及諸如苯乙烯之添加劑降低樹脂之黏度。藉由使鏈交聯將初始呈液體之樹脂轉化為固體。此過程係藉由在不飽和鍵處產生自由基來完成,該等自由基在鏈反應中延伸至相鄰分子中之其他不飽和鍵,在該過程中連接相鄰鏈。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之聚胺基甲酸酯係指由藉由胺基甲酸酯(carbamate/urethane)鍵聯接合之有機單元之鏈組成的聚合物。聚胺基甲酸酯聚合物係藉由使異氰酸酯與聚醇反應來形成。用於製備聚胺基甲酸酯之異氰酸酯及聚醇每分子均含有平均兩個或超過兩個官能基。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之聚醯亞胺係指由藉由醯亞胺鍵(亦即-C(O)-N(R)-C(O)-)接合之有機單元之鏈組成的聚合物。聚醯亞胺聚合物可藉由各種反應形成,亦即藉由使二酐與二胺反應、藉由二酐與二異氰酸酯之間的反應及其類似者。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之三聚氰胺係指藉由聚合由三聚氰胺(亦即,1,3,5-三嗪-2,4,6-三胺)及甲醛製備之硬性熱固性塑膠材料。其丁基化形式可溶解於正丁醇及/或二甲苯中。其可用於與諸如醇酸樹脂、環氧樹脂、丙烯酸樹脂及聚酯樹脂之其他樹脂進行交聯。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之脲-甲醛係指在諸如氨或吡啶之弱鹼存在下由加熱脲及甲醛製備之不透明熱固性樹脂或塑膠。 當存在時,預期用於本發明之實踐中之苯酚-甲醛係指藉由使苯酚或經取代苯酚與甲醛反應來獲得的合成聚合物。 預期用於本文中之韌化劑為增強引入其之調配物之抗衝擊性的添加劑。例示性韌化劑包括表氯醇及雙酚A之高分子量熱塑性聚合物之介質,例如具有聚羥基醚之結構且具有封端羥基以及沿其主鏈重複羥基之苯氧基樹脂。一種該韌化劑為具有以下結構之苯氧基樹脂:
Figure 02_image013
其中n在約50至約150範圍內。 預期用於本發明之實踐中之粒狀填充劑包括二氧化矽、矽酸鈣、氫氧化鋁、氫氧化鎂、碳酸鈣、碳酸鎂、氧化鋁(Al2 O3 )、氧化鋅(ZnO)、氧化鎂(MgO)、氮化鋁(AIN)、氮化硼(BN)、碳奈米管、金剛石、黏土、鋁矽酸鹽及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之混合物。在一些實施例中,粒狀填充劑為二氧化矽。 通常,本發明調配物中所採用之填充劑之粒度在約0.005 µm (亦即5 nm)至約20 µm範圍內。在某些實施例中,本文中所採用之填充劑之粒度在約0.1 µm至約5 µm範圍內。 本發明之組合物含有在約30至75 wt%範圍內之該粒狀填充劑。在一些實施例中,本發明之組合物含有在約40至60 wt%範圍內之該粒狀填充劑。 本發明組合物可視情況進一步含有在約0.2至2 wt%範圍內之自由基聚合起始劑。在某些實施例中,本發明組合物可進一步含有在約0.2至1 wt%範圍內之自由基聚合起始劑。 例示性自由基起始劑包括過氧化酯、過氧化碳酸酯、氫過氧化物、烷基過氧化物、芳基過氧化物、偶氮化合物及其類似者。 本發明組合物視情況進一步含有一或多種流動添加劑、助黏劑、流變改質劑、助熔劑、膜增韌劑、環氧樹脂固化之催化劑(例如咪唑)、固化劑(例如諸如過氧化二異丙苯之自由基起始劑)、自由基聚合調節劑(例如8-羥基喹啉)及/或自由基穩定劑以及其任何兩者或超過兩者之混合物。 如本文所使用,術語「流動添加劑」係指修改引入其之調配物之黏度的化合物。賦予該等特性之例示性化合物包括矽聚合物、丙烯酸乙酯/丙烯酸2-乙基己酯共聚物、酮肟之磷酸酯的醇銨鹽及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之組合。 如本文所使用,術語「助黏劑」係指增強引入其之調配物之黏著特性的化合物。 如本文所使用,術語「流變改質劑」係指修改引入其之調配物之一或多種物理特性的添加劑。 如本文所使用,術語「助熔劑」係指防止在熔融金屬表面上形成氧化物之還原劑。通常,助熔劑: - 與金屬表面上之氧化物反應,促進潤濕熔融金屬,及 - 藉由塗佈熱表面來充當氧氣屏障,預防其氧化。 例示性助熔劑包括羧酸、醇、聚醇、羥基酸、羥基鹼及其類似者。 例示性羧酸包括松脂膠、十二烷二酸(市售為來自Aldrich之Corfree M2)、己二酸、癸二酸、聚癸二酸聚酸酐、順丁烯二酸、酒石酸、檸檬酸及其類似者。助熔劑亦可包括醇、羥基酸及羥基鹼。例示性助熔材料包括聚醇(例如乙二醇、甘油、3-[雙(縮水甘油基氧基甲基)甲氧基]-1,2-丙二醇、D-核糖、D-纖維二糖、纖維素、3-環己烯-1,1-二甲醇及其類似者。 在一些實施例中,預期用於本文中之助熔劑為聚醇。 在一些實施例中,預期用於本文中之助熔劑為羥喹啉或羥喹啉衍生物。一般而言,本發明調配物具有足夠的酸性以作為助熔劑較好地起作用,但不具有可造成提前膠凝或腐蝕之酸性。組合物亦證實比不含有羥喹啉或羥喹啉衍生物之類似組合物具有更高的Tg值。 如本文所使用,術語「自由基穩定劑」係指諸如氫醌、苯醌、受阻苯酚、受阻胺(例如基於硫基羰硫基之化合物) 基於苯并三唑之紫外線吸收劑、基於三嗪之紫外線吸收劑、基於二苯基酮之紫外線吸收劑、基於苯甲酸酯之紫外線吸收劑、基於受阻胺之紫外線吸收劑、基於氮氧化物自由基之化合物及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之組合的化合物。 當存在時,本發明組合物含有在約0.1至1 wt%範圍內之該自由基穩定劑。在一些實施例中,本發明組合物含有在約0.1至0.6 wt%範圍內之該自由基穩定劑。 本發明組合物亦可視情況含有一或多種稀釋劑。當稀釋劑存在時,本發明組合物含有相對於總組合物在約10至80 wt%範圍內之稀釋劑。在某些實施例中,本發明組合物含有在約20至70 wt%範圍內之稀釋劑。 當存在預期用於本文中之例示性稀釋劑時,其包括芳族烴(例如苯、甲苯、二甲苯及其類似者)、飽和烴(例如己烷、環己烷、庚烷、十四烷)、氯化烴(例如二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、三氯乙烯及其類似者)、醚(例如乙醚、四氫呋喃、二噁烷、二醇醚、乙二醇之單烷基醚或二烷基醚及其類似者)、聚醇(例如聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇及其類似者)、酯(例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲氧基丙基乙酸酯及其類似者);二元酯、α-松香醇、β-松香醇、煤油、鄰苯二甲酸二丁酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇乙酸酯、卡必醇乙酸酯、乙基卡必醇乙酸酯、己二醇、高沸點醇及其酯、二醇醚、酮(例如丙酮、甲基乙基酮及其類似者)、醯胺(例如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺及其類似者)、雜芳族化合物(例如N-甲基吡咯啶酮及其類似者)及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之混合物。 預期用於本文中之含有羥基之稀釋劑包括具有C1 至約C10 主鏈之含有水及羥基之化合物。例示性含有羥基之稀釋劑包括水、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇、甘油、松香醇及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之混合物。 預期根據本發明使用之含有羥基之稀釋劑之量可廣泛地變化,通常在約5至約80重量%組合物範圍內。在某些實施例中,含有羥基之稀釋劑之量在約10至60重量%總組合物範圍內。在一些實施例中,含有羥基之稀釋劑之量在約20至約50重量%總組合物範圍內。 視情況,本文所描述之組合物可包括流動添加劑及其類似者。預期視情況用於本文中之流動添加劑包括矽聚合物、丙烯酸乙酯/丙烯酸2-乙基己酯共聚物、酮肟之磷酸酯之醇銨鹽及其類似者以及其任何兩者或超過兩者之組合。 預期用於本文中之例示性底填膜層通常含有: 至少5 wt%該黏合劑樹脂, 至少5 wt%該順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺或衣康醯亞胺, 至少1 wt%該丙烯酸酯樹脂及 至少10 wt%該填充劑。 在一些實施例中,底填膜層可進一步含有: 至多40 wt%環氧樹脂, 至少0.1 wt%助熔劑及/或 至少0.1 wt%助黏劑。 在一些實施例中,底填膜層含有: 約5至40 wt%範圍內之該黏合劑樹脂, 約5至25 wt%範圍內之該順丁烯二醯亞胺、耐地醯亞胺或衣康醯亞胺, 約1至40 wt%範圍內之該丙烯酸酯樹脂及 約10至80 wt%範圍內之該填充劑。 該等組合物可進一步含有: 至多40 wt%環氧樹脂, 至少0.1至約10 wt%助熔劑及/或 至少0.1至約5 wt%助黏劑。 根據本發明之另一實施例,提供含有固化本發明之組合物之反應產物的底填膜。 本發明之底填膜當在85%相對濕度下暴露於85℃持續約2天時通常吸收小於2重量%濕氣;在一些實施例中,本發明之底填膜當在85%相對濕度下暴露於85℃持續約2天時通常吸收小於1.5重量%濕氣;在一些實施例中,本發明之底填膜當在85%相對濕度下暴露於85℃持續約2天時通常吸收小於1.2重量%濕氣;在一些實施例中,本發明之底填膜當在85%相對濕度下暴露於85℃持續約2天時通常吸收小於1.0重量%濕氣。 本發明之底填膜當處於B階段時固化之後如藉由熱機械分析(TMA)所測定的Tg大於約80℃。 本發明之底填膜可進一步表徵為在260℃下模具剪應力為至少2.5 N/mm2 (如經SiN模具/PI模具/SiO2 (尺寸:3×3×700 mm3 )測試),其中在120℃/1 kg力/5秒下使模具附接於BT基板上,隨後藉由歷經30分鐘將溫度自室溫緩慢升高至175℃,接著保持在175℃持續6小時來進行固化。 根據本發明之另一實施例,提供用於製造底填膜之方法,該等方法包含在將如本文所描述之組合物塗覆至合適基板之後對其進行固化。 根據本發明之又另一實施例,提供含有黏著至其對應的合適基板之如本文所描述之底填膜的物件。 預期用於本文中之合適的基板包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙稀酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、環氧樹脂、聚醯亞胺、聚醯胺、聚酯、玻璃、具有氮化矽鈍化之Si晶片、具有聚醯亞胺鈍化之Si晶片、BT基板、裸Si、SR4基板、SR5基板及其類似者。 本發明物件中之該底填膜對該基板之黏著力通常為至少2.5 N/mm2 ,如經SiN模具/PI模具/SiO2 (尺寸:3×3×700 mm3 )測試,其中在120℃/1 kg力/5秒下使模具附接於BT基板上,隨後藉由歷經30分鐘將溫度自室溫緩慢升高至175℃,接著保持在175℃持續6小時來進行固化。 可採用本發明材料製造各種物件,包括例如倒裝晶片封裝、堆疊式模具、混合記憶體立方體、TSV器件及其類似者。 本發明之各種態樣係藉由以下非限制性實例來說明。實例係出於說明之目的且不限制本發明之任何實踐。應理解在不脫離本發明之精神及範疇之情況下,可作出各種變化及修改。一般熟習此項技術者易於知曉如何合成或以商業方式獲得本文所描述之試劑及組分。 實例 製造本發明之數種物件,如表1中所概括,其展示代表性底填膜材料調配物,其中該調配物具有可遷移小分子,諸如調配物中之起始劑及抑制劑。 表1
Figure 107108948-A0304-0001
使上文所描述之物件中之各者經受效能測試,其結果闡述於表2中。 基於DSC起始溫度、峰值溫度、起始溫度與峰值溫度之間的△T及反應熱量之該等量測,除了顯示相對穩定的熔融黏度之外,表2展示實例#1中描述之底填膜的結果且顯示本發明物件獲得穩定的材料特性。 表2
Figure 107108948-A0304-0002
本發明之各種修改,除本文所示及所述之彼等修改外,對上文描述之熟習此項技術者而言將為顯而易見的。該等修改亦意欲處於所附申請專利範圍之範疇內。 本說明書中提及之專利及公開案指示熟習本發明所關於之技術者之水準。此等專利及公開案以引用之方式併入本文中,其程度如同每一個別申請案或公開案特定地且單獨地以引用之方式併入本文中一樣。 前述描述說明本發明之特定實施例但並不意欲限制其實踐。以下申請專利範圍,包括其所有等效物,意欲界定本發明之範疇。
1‧‧‧離型襯墊/層2‧‧‧底填膜/層3‧‧‧壓敏黏著劑/覆蓋膜層/層4‧‧‧襯帶/覆蓋膜層/層5‧‧‧覆蓋膜層6‧‧‧可遷移組分
圖1展示本發明之例示性物件之結構,其中層1 為離型襯墊,層2 為底填膜,層3 為用於覆蓋膜之壓敏黏著劑,且層4 為用於覆蓋膜之襯帶。在一些實施例中,連在一起之層3 及層4 含有覆蓋膜層(5)。 圖2說明在底填膜(2 )與覆蓋膜層(3 )及(4 )之中且在其之間的可遷移組分(6 )之遷移。一旦底填膜(2 )層壓有覆蓋膜層(3 )及(4 ),則可遷移組分(6 )開始遍及總成分佈,導致其不穩定性。初始階段(左圖)及最後階段(右圖)均顯示由於可遷移組分(6 )之遷移,所以底填膜具有不同的組合物。 圖3說明就可遷移組分(6 )之遷移而言當經受高溫老化時本發明之物件之穩定性。在希望不受任何理論束縛之情況下,當前咸信至少覆蓋膜層(3 )及(4 )中包括可遷移組分(6 )減小可遷移組分(6 )遍及物件不均勻地分佈之動力,且實質上更改物件之各層之化學物質含量。
1‧‧‧離型襯墊
2‧‧‧底填膜
3‧‧‧壓敏黏著劑
4‧‧‧襯帶
5‧‧‧覆蓋膜層

Claims (10)

  1. 一種改良物件之穩定性的方法,該物件含有:第一層,第二層及第三層其中:該第一層含有離型襯墊,該第二層含有具有至多約10wt%可遷移組分於其中之底填膜,及該第三層含有具有百萬分之0.1至100可遷移組分於其中之覆蓋膜,該方法包含在該第三層中添加有效量的一或多種可遷移組分以在使此覆蓋膜覆蓋有該底填膜之前達成在約百萬分之0.1至100範圍內之一定量的可遷移組分於其中。
  2. 如請求項1之方法,其中該等可遷移組分係選自起始劑或抑制劑。
  3. 如請求項1之方法,其中該覆蓋膜含有:具有在0.1ppm至100ppm範圍內之可遷移組分於其中之壓敏黏著劑層,及具有在0.1ppm至100ppm範圍內之可遷移組分於其中之襯帶。
  4. 如請求項3之方法,其中該襯帶係選自聚烯烴、聚醯亞胺、聚酯、聚 對苯二甲酸乙二酯(PET)或含氟聚合物。
  5. 如請求項1至4中任一項之方法,其進一步包含將該物件暴露於高溫老化處理,其中溫度在20℃至100℃範圍內,持續在約0.1小時至4週範圍內之時間。
  6. 一種改良物件之穩定性的方法,該物件含有:第一層,第二層及第三層,其中該等層中之一或多者具有可遷移組分於其中,其中:該第一層含有離型襯墊,該第二層含有具有至多約10wt%可遷移組分於其中之底填膜,及該第三層含有包含以下兩個層之覆蓋膜:壓敏黏著劑層及襯帶,其中當可遷移組分存在於任一個層中時,其量在約0.1ppm至約100ppm範圍內,該方法包含在該第三層中添加有效量的一或多種可遷移組分以在使此覆蓋膜覆蓋有該底填膜之前達成在約百萬分之0.1至100範圍內之一定量的可遷移組分於其中。
  7. 如請求項6之方法,其中該等可遷移組分係選自起始劑或抑制劑。
  8. 如請求項6或7之方法,其中該覆蓋膜含有:具有在0.1ppm至100ppm範圍內之可遷移組分於其中之壓敏黏著劑層及具有在0.1ppm至100ppm範圍內之可遷移組分於其中之襯帶。
  9. 如請求項6或7之方法,其中該襯帶係選自聚烯烴、聚醯亞胺、聚酯、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或含氟聚合物。
  10. 如請求項6或7之方法,其進一步包含將該物件暴露於高溫老化處理,其中溫度在20℃至100℃範圍內,持續在約0.1小時至4週範圍內之時間。
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