TWI749520B - Ｘ射線產生裝置及ｘ射線攝影裝置 - Google Patents

Ｘ射線產生裝置及ｘ射線攝影裝置 Download PDF

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TWI749520B TW109112339A TW109112339A TWI749520B TW I749520 B TWI749520 B TW I749520B TW 109112339 A TW109112339 A TW 109112339A TW 109112339 A TW109112339 A TW 109112339A TW I749520 B TWI749520 B TW I749520B
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Abstract

X射線產生裝置具備：X射線產生管，其具有陰極及陽極，前述陰極包含朝第1方向放出電子的電子放出部，前述陽極包含從前述電子放出部放射的電子發生衝撞從而產生X射線的靶材；電壓供應部，其經由導電線對前述X射線產生管供應電壓；收納容器，其具有第1部分、第2部分、和連結部，前述第1部分形成收納前述電壓供應部的第1空間，前述第2部分在與前述第1方向正交的第2方向上的寬度比前述第1空間小，形成收納前述X射線產生管的第2空間，前述連結部將前述第1部分及前述第2部分相互連結為前述第1空間與前述第2空間連通；和絕緣性液體，其填充於前述第1空間與前述第2空間連通的內部空間；前述連結部具有朝前述內部空間突出的凸部，於前述第1方向，前述陰極配置於前述凸部與前述陽極之間，包圍前述導電線的至少一部分，同時以遮斷前述導電線與前述凸部之間的至少直線路徑的方式配置絕緣構材。

Description

Ｘ射線產生裝置及Ｘ射線攝影裝置
本發明涉及X射線產生裝置及X射線攝影裝置。
X射線透射像的放大率是作為X射線產生部的靶材與被檢體的距離越近越可能增加。所以，已知一種X射線產生裝置，為了即使在被檢體位於最深處的位置的情況下仍可獲得充分的放大率，在收納容器的主體部設置從主體部予以細長地突出的突出部，在該突出部的頂端安裝X射線產生部。如此的X射線產生裝置記載於專利文獻1。
於如上述的X射線產生裝置，除在收納容器與X射線產生管的陰極之間產生大的電位差，於收納容器，在主體部與突出部的連接部分形成彎曲部。為此，容易在收納容器的彎曲部與X射線產生管的陰極之間發生放電。針對如此的課題，於專利文獻1，已記載在X射線產生管的管軸方向上的陰極與陽極之間配置彎曲部，同時使彎曲部與陰極的距離比陽極與陰極的距離長。此外，於專利文獻1，已記載在使彎曲部與陰極的距離比陽極與陰極的距離短的情況下，在管軸方向上的陰極與陽極之間配置彎曲部，以不會從陰極直視到彎曲部的方式配置絕緣構材。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2018-73625號公報
[發明所欲解決之問題]
無論為記載於專利文獻1的上述的兩個探討中的任一者，皆為了將收納容器的彎曲部與X射線產生管的陰極之間的放電予以減低，以在管軸方向上的陽極-絕緣管接合部(在X射線產生管的外側(油側)的陽極與絕緣管的接合部)與陰極-絕緣管接合部(在X射線產生管的外側(油側)的陰極與絕緣管的接合部)之間配置收納容器的彎曲部為要件。然而，要提升在就配置於更深處的位置的被檢體進行攝像之際的放大率，要求增長收納容器的突出部的長度。專利文獻1非提供對於如此的要求之解決方案者。
本發明人發現於管軸方向上在收納容器的彎曲部與陽極之間配置陰極的構成下，越增加彎曲部與陰極的距離，則X射線產生裝置的動作越不穩定，在解決其之過程創作出本發明。本發明提供在放大率的提升與X射線產生裝置的動作的穩定性的提升方面有利的技術。 [解決問題之技術手段]
本發明的1個方案涉及一種X射線產生裝置，其具備：X射線產生管，其具有陰極及陽極，前述陰極包含朝第1方向放出電子的電子放出部，前述陽極包含從前述電子放出部放射的電子發生衝撞從而產生X射線的靶材；電壓供應部，其經由導電線對前述X射線產生管供應電壓；收納容器，其具有第1部分、第2部分、和連結部，前述第1部分形成收納前述電壓供應部的第1空間，前述第2部分在與前述第1方向正交的第2方向上的寬度比前述第1空間小，形成收納前述X射線產生管的第2空間，前述連結部將前述第1部分及前述第2部分相互連結為前述第1空間與前述第2空間連通；和絕緣性液體，其填充於前述第1空間與前述第2空間連通的內部空間；前述連結部具有朝前述內部空間突出的凸部，於前述第1方向，前述陰極配置於前述凸部與前述陽極之間，包圍前述導電線的至少一部分，同時以遮斷前述導電線與前述凸部之間的至少最短路徑的方式配置絕緣構材。 [對照先前技術之功效]
依本發明時，提供有利於放大率的提升與X射線產生裝置的動作的穩定性的提升的技術。
以下，參照圖式詳細說明實施方式。另外，以下的實施方式非限定申請專利範圍的發明者。於實施方式雖記載複數個特徵，惟不限於此等複數個特徵的全部為發明必須者，此外複數個特徵亦可任意進行組合。再者，圖式中，對相同或同樣的構成標注相同的參考符號，重複之說明省略。
於圖1，示意性示出第1實施方式的X射線產生裝置100的構成。X射線產生裝置100可具備X射線產生管102、電壓供應部110、收納容器130、絕緣性液體108、和絕緣構材120。X射線產生管102可具有包含朝作為管軸方向的第1方向(Z方向)放出電子的電子放出部23的陰極104、及包含從電子放出部23放射的電子發生衝撞從而產生X射線的靶材1的陽極103。電壓供應部110經由導電線109對X射線產生管102，更詳細而言對陰極104供應電壓。導電線109雖可包含導電性構材和包覆該導電性構材的絕緣材，惟亦可不具有該絕緣材。
收納容器130可包含第1部分131、第2部分132及連結部133。第1部分131可收納電壓供應部110。第2部分132可收納X射線產生管102。連結部133可將第1部分131及第2部分132相互連結而形成第1部分131的內側的第1空間SP1與第2部分132的內側的第2空間SP2連通的內部空間ISP。第2部分132是與第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的寬度比第1部分131小。此外，第2空間SP2是與第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的寬度比第1空間SP1小。連結部133可具有朝收納容器130的內部空間ISP尖凸的凸部135。第2部分132例如可為圓筒狀等的管狀。於凸部135的剖面(例如，如圖1的剖面圖)，凸部135可具有90度的內角，可具有銳角的內角，亦可具有鈍角的內角。於第1方向(Z方向)，X射線產生管102的陰極104可位於連結部133的凸部135與X射線產生管102的陽極103之間。在示於圖1之例，第2部分132是第1方向(Z方向)上的長度比X射線產生管102長。
絕緣性液體108能以接觸於陰極104並包圍導電線109的方式填充於收納容器130的內部空間ISP。絕緣構材120能以包圍導電線109的至少一部分的方式配置於收納容器130的內部空間ISP。絕緣構材120可配置為將導電線109與連結部133的凸部135之間的至少最短路徑進行遮斷。絕緣構材120可配置為，於電壓供應部110與陰極104之間的導電線109的全路徑，將導電線109與連結部133的凸部135之間的直線路徑進行遮斷。絕緣構材120可為固體構材。收納於第2部分132的X射線產生管102的靶材1可位於第2部分132的頂端部(圖1中下端部)。靶材1為產生X射線的X射線產生處，故如上述的構成在為了使被檢體靠近X射線產生處方面，亦即在為了使攝影時的放大率提升方面有利。
X射線產生管102可為透射型X射線產生管。X射線產生管102可包含陽極103、陰極104及絕緣管4。陽極103、陰極104及絕緣管4構成真空氣密容器。絕緣管4為管狀如圓筒狀，將陽極103與陰極104一面相互絕緣一面連接。陽極103可包含靶材1與陽極構材2。靶材1可包含靶材層1a和支撐靶材層1a的支撐窗1b。陽極構材2可為環形。陽極構材2支撐靶材1。陽極構材2可與靶材層1a電連接。陽極構材2與支撐窗1b例如可透過焊料被結合。在示於圖1之例，靶材1與第2部分132的頂端部配置於相同平面上。然而，靶材1只要設為與第2部分132同電位(亦即，接地)，則可配置為從第2部分132的頂端部朝外側突出，亦可配置為從第2部分132的頂端部凹入。靶材1位於第2部分132的頂端部的方式亦可包含如此的方式。
靶材層1a例如含有鎢或鉭等的重金屬，被照射電子從而產生X射線。靶材層1a的厚度可根據有助於X射線的產生的電子侵入長、和在產生的X射線穿透支撐窗1b之際的自衰減量的平衡而決定。靶材層1a的厚度例如可為1μm～數十μm的範圍內。
支撐窗1b具有使在靶材層1a產生的X射線穿透而朝X射線產生管102之外放出的功能。支撐窗1b能以使X射線穿透的材料如鈹、鋁、氮化矽、或碳的同素異形體等而構成。支撐窗1b可為了有效將靶材層1a的發熱傳達至陽極構材2而例如以熱導性高的鑽石而構成。
絕緣管4能以具備真空氣密性與絕緣性的氧化鋁或氧化鋯等的陶瓷材料、鈉鈣、或石英等的玻璃材料而構成。陰極構材21及陽極構材2在從減低絕緣管4之間的熱應力的觀點而言，能以具有接近絕緣管4的線膨脹係數αi(ppm／℃)的線膨脹係數αc(ppm／℃)、αa(ppm／℃)的材料而構成。陰極構材21及陽極構材2例如能以科伐或蒙納等的合金而構成。
陰極104可包含電子放出部23、陰極構材21、和將電子放出部23相對於陰極構材21進行固定的固定部22。電子放出部23例如可相對於陰極構材21經由焊料被連接，亦可透過雷射焊接等被熱熔接，亦能以其他方法被電連接。電子放出部23可包含含浸型熱電子源、燈絲型熱電子源或冷陰極電子源等的電子源。電子放出部23可包含引出柵極電極、聚焦透鏡電極等的界定靜電場的未圖示的靜電透鏡電極。固定部22可為使電連接於電子源、靜電透鏡電極的導電線109通過的管狀。導電線109可包含互相絕緣的複數個導電構材。
X射線產生裝置100可被構成為陽極103被接地的陽極接地方式。在陽極接地方式，陽極103可被電連接於收納容器130。收納容器130可被電連接於接地端子105。陰極104可經由導電線109電連接於電壓供應部110。
電壓供應部110可包含電源電路111和接收從電源電路111經由電源線107被供應的電力而經由導電線109將X射線產生管102進行驅動的驅動電路112。驅動電路112可經由電源線107、電源電路111及接地線106而電連接於收納容器130。驅動電路112控制電子源、引出柵極電極、供應至聚焦透鏡電極等的電壓，從而可控制來自電子源的放出電子量、電子束徑。電源電路111的正極端子經由接地線106及收納容器130被接地，電源電路111的負極端子經由電源線107連接於驅動電路112，對驅動電路112供應負的電壓。對驅動電路112例如可從配置於收納容器130的外部的未圖示的控制部經由光纖電纜等的電纜供應控制信號。
構成收納容器130的第1部分131、第2部分132及連結部133能以具有導電性的材料而構成，被相互電連接，被接地。如此之構成在為了確保電安全性方面有利。第1部分131、第2部分132及連結部133能以金屬材料而構成。絕緣性液體108可相對於收納容器130被真空填充。此理由在於，在絕緣性液體108之中存在氣泡時，比起周圍的絕緣性液體108局部地形成低電容率的區域，此可能成為放電的因素。
絕緣性液體108亦具有抑制X射線產生管102與收納容器130之間的放電及電壓供應部110(電源電路111，驅動電路112)與收納容器130之間的放電的功能。絕緣性液體108方面，可使用在X射線產生裝置100的工作溫度範圍的耐熱性、流動性、電絕緣性優異的液體如矽油、氟樹脂系油等的化學合成油、礦油等。
X射線產生管102接合在設於收納容器130的第2部分132的頂端部(圖1中下端部)的開口部從而可固定於第2部分132。在X射線產生管102與第2部分132的內側面之間，能以絕緣性液體108填滿。電源電路111及驅動電路112可透過未圖示的固定構材而固定於收納容器130的第1部分131。電源電路111及驅動電路112可由絕緣性液體108包圍。導電線109可由絕緣性液體108包圍。
絕緣構材120可被配置為包圍陰極104的至少一部分如陰極構材21。陰極104的至少一部分如陰極構材21可被配置為隔著絕緣性液體108而與絕緣構材120面對。於與第1方向(Z方向)正交的某平面(中的剖面圖)，陰極104的至少一部分如陰極構材21可被配置為隔著絕緣性液體108而與絕緣構材120面對。於該平面(中的剖面圖)，絕緣構材120可隔著絕緣性液體108而與第2部分132面對。
收納容器130的連結部133具有朝與第1方向(Z方向)正交的方向擴展的板部，該板部具有導電線109通過的開口OP。該板部可相對於支撐X射線產生裝置100的構造體(例如，框體)的安裝面被抵接。或者，該板部可嵌入於支撐X射線產生裝置100的構造體的開口部。於收納容器130，該板部的開口OP之側面與第2部分132的內側側面可構成不具有階差的連續的面。於一例中，開口OP為圓形開口，第2部分132的內側側面可為圓筒面。凸部135能以開口OP的端部而構成。
絕緣構材120可具有筒狀部121和沿著連結部133的板部而延伸的凸緣部122，具有筒狀部121的一端與凸緣部122被連結的構成。凸緣部122例如可被配置為與連結部133的板部平行。筒狀部121可被配置為包圍X射線產生管102的絕緣管4的至少一部分。於此，筒狀部121能以包圍絕緣管4的整體的方式配置，亦可配置為僅包圍絕緣管4的一部分。凸緣部122可配置為凸緣部122的全部或一部分接觸於連結部133。此外，凸緣部122亦可配置為凸緣部122的全部或一部分接觸於第2部分132。
X射線產生管102的陰極104其整體可配置於第2空間SP2。其他觀點方面，X射線產生管102的陰極104可配置於X射線產生管102的陽極103與連結部133的開口OP之間。再其他觀點方面，X射線產生管102的陰極104之側方的整體可配置為由第2部分132包圍。
將導電線109的兩個端部之中電壓供應部110 (驅動電路112)之側的端部與凸部135連結的假想的直線(或錐面)可與絕緣構材120相交。將導電線109的兩個端部之中陰極104之側的端部與凸部135連結的假想的直線(或錐面)可與絕緣構材120相交。將導電線109的兩個端部之間的所有位置與凸部135連結的假想的直線可與絕緣構材120相交。將電壓供應部110與凸部135連結的假想的直線可與絕緣構材120相交。於物理的空間，驅動電路112配置於電源電路111與陰極104之間，將驅動電路112與凸部135連結的假想的直線可與絕緣構材120相交。
未以將導電線109與連結部133的凸部135之間的直線路徑進行遮斷的方式配置絕緣構材120的情況下，隨著第1方向上的第2部分132的長度的增加使得X射線產生裝置100的動作變不穩定。此原因方面，考量絕緣性液體108的流動所致的導電線109的震動。更具體而言，本發明人思考如下。首先，絕緣性液體以電場為驅動力而可流動已知為EHD現象。並且，隨著為接地電位之第2部分132的第1方向上的長度的增加，被施加相對於接地電位具有大的電位差的電壓(負電位)的導電線109的長度亦延長。換言之，在電場容易集中的凸部135附近之雙方的電極(第2部分132、導電線109)的表面積增加，絕緣性液體108與雙方的電極的接觸面積增加。與此雙方的電極的接觸面積的增大，使得EHD現象增強，絕緣性液體108的對流速度增加。再者，絕緣性液體108填充於互相連通且產生互相不同的電場的第1空間SP1及第2空間SP2的雙方，使絕緣性液體108對流的驅動力複雜化。此等使導電線109的震動增加。此震動使得導電線109與凸部135的距離變小，在導電線109與凸部135之間觸發放電。此外，導電線109的最小曲率半徑比陰極104的最小曲率半徑小的情況下，導電線109的長度的延長可更加觸發導電線109與凸部135之間的放電。
如此的不穩定的動作是以將導電線109與連結部133的凸部135之間的直線路徑進行遮斷的方式配置絕緣構材120從而被解決。其他解決方法方面，雖包含增加界定凸部135的開口OP的尺寸從而增加凸部135與導電線109的距離的方法，惟如此的方法造成X射線產生裝置100的大型化，故非優選。
以下，一面參照圖2一面就第2實施方式的X射線產生裝置100進行說明。在第2實施方式的X射線產生裝置100方面未言及的事項可遵照第1實施方式。第2實施方式的X射線產生裝置100具備限制導電線109的動作的限制構材150。限制構材150可配置為將導電線109的整體之中導電線109的兩個端部之間的部分的位置進行固定或限制。限制構材150例如可具有限制導電線109的位置的包圍構材151和固定包圍構材151的固定構材152。固定構材152可為將包圍構材151與絕緣構材120結合的結合構材。固定構材152可不經由收納容器130而直接結合於絕緣構材120。或者，固定構材152亦可直接連接於收納容器130。或者，固定構材152亦可經由其他構材而固定於絕緣構材120或收納容器130。限制構材150能以絕緣體而構成。包圍構材151及固定構材152能以絕緣體而構成。
第2實施方式具備限制導電線109的動作的限制構材150，從而抑制導電線109的震動所致的導電線109與連結部133的凸部135之間的放電，在為了使X射線產生裝置100的動作穩定方面有利。另外，第2實施方式的功效的至少一部分在無絕緣構材120的情況下亦可獲得。
以下，一面參照圖3一面就第3實施方式的X射線產生裝置100進行說明。在第3實施方式的X射線產生裝置100方面未言及的事項可遵照第1或第2實施方式。第3實施方式的X射線產生裝置100具備以包圍驅動電路112的方式配置於第1空間SP1的導電性構材160。導電性構材160可維持為固定電位。導電性構材160例如可連接於電壓供應部110的電源端子(維持於固定電位的端子)。導電性構材160可具有為了使導電線109、107貫通用的貫通孔。導電性構材160除驅動電路112外，亦可包圍電源電路111。亦即，導電性構材160亦可包圍電壓供應部110。絕緣性液體108可配置為包圍導電性構材160。
絕緣性液體108在收納容器130的內部空間ISP對流時，在絕緣性液體108與配置於內部空間ISP的各種的絕緣體之間發生摩擦，絕緣性液體108與絕緣體可互相反極性地帶電。將第1方向上的第2部132的長度予以增加使得絕緣性液體108的對流速度增加時，因摩擦而產生的帶電量亦增加，絕緣性液體108中的驅動電路112可能引起誤動作。導電性構材160在為了抑制如此的原因所致的驅動電路112的誤動作而使X射線產生裝置100的動作穩定方面有利。
於圖4，示出一實施方式的X射線攝像裝置200的構成。X射線攝像裝置200可具備X射線產生裝置100、和就從X射線產生裝置100放射的穿透物體191的X射線192進行檢測的X射線檢測裝置210。X射線攝像裝置200亦可進一步具備控制裝置220及顯示裝置230。X射線檢測裝置210可包含X射線檢測器212和信號處理部214。控制裝置220可控制X射線產生裝置100及X射線檢測裝置210。X射線檢測器212就從X射線產生裝置100放射並穿透物體191的X射線192進行檢測或攝像。信號處理部214可將從X射線檢測器212輸出的信號進行處理，將被處理的信號對控制裝置220供應。控制裝置220可根據從信號處理部214供應的信號，使圖像顯示於顯示裝置230。
發明不限於上述實施方式，在不從發明的精神及範圍脫離之下，可進行各種的變更及變形。因此，撰寫申請專利範圍以公開發明的範圍。
1:靶材 1a:靶材層 1b:支撐窗 2:陽極構材 4:絕緣管 21:陰極構材 22:固定部 23:電子放出部 100:X射線產生裝置 102:X射線產生管 103:陽極 104:陰極 105:接地端子 106:接地線 107:電源線 108:絕緣性液體 109:導電線 110:電壓供應部 111:電源電路 112:驅動電路 120:絕緣構材 121:筒狀部 122:凸緣部 130:收納容器 131:第1部分 132:第2部分 133:連結部 135:凸部 150:限制構材 151:包圍構材 152:固定構材 160:導電性構材 ISP:內部空間 OP:開口 SP1:第1空間 SP2:第2空間
[圖1]就第1實施方式的X射線產生裝置的構成進行繪示的圖。 [圖2]就第2實施方式的X射線產生裝置的構成進行繪示的圖。 [圖3]就第3實施方式的X射線產生裝置的構成進行繪示的圖。 [圖4]就一實施方式的X射線攝像裝置的構成進行繪示的圖。
1:靶材
1a:靶材層
1b:支撐窗
2:陽極構材
4:絕緣管
21:陰極構材
22:固定部
23:電子放出部
100:X射線產生裝置
102:X射線產生管
103:陽極
104:陰極
105:接地端子
106:接地線
107:電源線
108:絕緣性液體
109:導電線
110:電壓供應部
111:電源電路
112:驅動電路
120:絕緣構材
121:筒狀部
122:凸緣部
130:收納容器
131:第1部分
132:第2部分
133:連結部
135:凸部
ISP:內部空間
OP:開口
SP1:第1空間
SP2:第2空間

Claims (16)

  1. 一種X射線產生裝置，其具備：X射線產生管，其具有陰極及陽極，前述陰極包含朝第1方向放出電子的電子放出部，前述陽極包含從前述電子放出部放射的電子發生衝撞從而產生X射線的靶材；電壓供應部，其經由導電線對前述X射線產生管供應電壓；收納容器，其具有第1部分、第2部分及連結部，前述第1部分形成收納前述電壓供應部的第1空間，前述第2部分在與前述第1方向正交的第2方向上的寬度比前述第2方向上的前述第1空間的寬度小，形成收納前述X射線產生管的第2空間，前述連結部將前述第1部分及前述第2部分相互連結為前述第1空間與前述第2空間連通；和絕緣性液體，其填充於前述第1空間與前述第2空間連通的內部空間；前述連結部具有朝前述內部空間突出的凸部，於前述第1方向，前述陰極配置於前述凸部與前述陽極之間，且以包圍前述導電線的至少一部分並遮斷前述導電線與前述凸部之間的至少最短路徑的方式配置絕緣構材。
  2. 如請求項1的X射線產生裝置，其中，前述絕緣構材配置為包圍前述陰極的至少一部分。
  3. 如請求項1的X射線產生裝置，其中，前述陰極的至少一部分隔著前述絕緣性液體而與前述絕緣構 材面對。
  4. 如請求項3的X射線產生裝置，其中，於與前述第1方向正交的平面，前述陰極的至少一部分隔著前述絕緣性液體而與前述絕緣構材面對。
  5. 如請求項4的X射線產生裝置，其中，於前述平面，前述絕緣構材隔著前述絕緣性液體而與前述第2部分面對。
  6. 如請求項1的X射線產生裝置，其中，前述連結部具有朝與前述第1方向正交的方向擴展的板部，前述板部具有前述導電線通過的開口。
  7. 如請求項6的X射線產生裝置，其中，前述開口之側面與前述第2部分的內側側面構成不具有階差的連續的面。
  8. 如請求項6的X射線產生裝置，其中，前述絕緣構材具有筒狀部和具有與前述板部平行的面的凸緣部，前述筒狀部的一端與前述凸緣部被連結。
  9. 如請求項1的X射線產生裝置，其進一步具備固定或限制前述導電線的整體之中前述導電線的兩個端部之間的部分的位置的限制構材。
  10. 如請求項9的X射線產生裝置，其中，前述限制構材為絕緣體。
  11. 如請求項10的X射線產生裝置，其中，前述限制構材被結合於前述絕緣構材。
  12. 如請求項1的X射線產生裝置，其中，前 述絕緣性液體配置為包圍前述電壓供應部。
  13. 如請求項1的X射線產生裝置，其中，前述電壓供應部包含電源電路和接收從前述電源電路供應的電力而經由前述導電線將前述X射線產生管進行驅動的驅動電路。
  14. 如請求項13的X射線產生裝置，其進一步具備以包圍前述驅動電路的方式配置於前述第1空間的導電性構材。
  15. 如請求項14的X射線產生裝置，其中，前述絕緣性液體配置為包圍前述導電性構材。
  16. 一種X射線攝像裝置，其具備：如請求項1至15中任一項之X射線產生裝置、及就從前述X射線產生裝置放射並穿透物體的X射線進行檢測的X射線檢測裝置。
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