TWI736863B - 成型裝置及製造物品的方法 - Google Patents

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6762853B2 (ja) * 2016-11-11 2020-09-30 キヤノン株式会社 装置、方法、及び物品製造方法
WO2019188932A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 富士フイルム株式会社 経皮吸収シート製造用のモールド、針状凸部を有する経皮吸収シートの製造装置及び方法
JP7507641B2 (ja) * 2020-09-08 2024-06-28 キヤノン株式会社 成形装置及び物品の製造方法
US11567417B2 (en) * 2021-01-20 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Anti-slippery stamp landing ring
JP7620495B2 (ja) * 2021-05-07 2025-01-23 キヤノン株式会社 成形装置、および物品製造方法
US12282251B2 (en) * 2021-09-24 2025-04-22 Canon Kabushiki Kaisha Method of shaping a surface, shaping system, and method of manufacturing an article

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100059904A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-11 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101293059B1 (ko) 2005-12-08 2013-08-05 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 기판과 몰드 사이에 위치되는 기체를 축출하기 위한 방법
JP4845564B2 (ja) 2006-03-31 2011-12-28 株式会社東芝 パターン転写方法
US8394282B2 (en) 2008-06-09 2013-03-12 Board Of Regents, The University Of Texas System Adaptive nanotopography sculpting
NL2003380A (en) * 2008-10-17 2010-04-20 Asml Netherlands Bv Imprint lithography apparatus and method.
JP5833636B2 (ja) * 2010-04-27 2015-12-16 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド ナノインプリント・リソグラフィのテンプレート製作方法およびそのシステム
JP5744423B2 (ja) 2010-06-18 2015-07-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及びデバイスの製造方法
JP6004738B2 (ja) 2011-09-07 2016-10-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6029494B2 (ja) 2012-03-12 2016-11-24 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6120677B2 (ja) 2013-05-27 2017-04-26 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6495283B2 (ja) 2013-08-19 2019-04-03 ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム ナノメータスケール精度を有するユーザ定義プロファイルのプログラム可能な薄膜蒸着
JP5745129B2 (ja) 2014-04-02 2015-07-08 キヤノン株式会社 インプリント装置及びインプリント方法
JP6333031B2 (ja) * 2014-04-09 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP2015220299A (ja) * 2014-05-16 2015-12-07 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6659104B2 (ja) * 2014-11-11 2020-03-04 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法
JP6437387B2 (ja) 2015-05-25 2018-12-12 東芝メモリ株式会社 基板平坦化方法
JP6647027B2 (ja) 2015-12-03 2020-02-14 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
US11104057B2 (en) * 2015-12-11 2021-08-31 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of imprinting a partial field
JP2017139268A (ja) 2016-02-01 2017-08-10 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100059904A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-11 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus

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