TWI728569B - 放電極化設備 - Google Patents

放電極化設備 Download PDF

Info

Publication number
TWI728569B
TWI728569B TW108142786A TW108142786A TWI728569B TW I728569 B TWI728569 B TW I728569B TW 108142786 A TW108142786 A TW 108142786A TW 108142786 A TW108142786 A TW 108142786A TW I728569 B TWI728569 B TW I728569B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
pole
discharge
dielectric
power supply
grounded
Prior art date
Application number
TW108142786A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202121932A (zh
Inventor
李志勇
陳安祿
Original Assignee
馗鼎奈米科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 馗鼎奈米科技股份有限公司 filed Critical 馗鼎奈米科技股份有限公司
Priority to TW108142786A priority Critical patent/TWI728569B/zh
Priority to CN202010085101.9A priority patent/CN112838159B/zh
Priority to US17/087,577 priority patent/US11363707B2/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI728569B publication Critical patent/TWI728569B/zh
Publication of TW202121932A publication Critical patent/TW202121932A/zh

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/04Treatments to modify a piezoelectric or electrostrictive property, e.g. polarisation characteristics, vibration characteristics or mode tuning
    • H10N30/045Treatments to modify a piezoelectric or electrostrictive property, e.g. polarisation characteristics, vibration characteristics or mode tuning by polarising
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2431Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes using cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2425Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the electrodes being flush with the dielectric

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

一種極化設備。此極化設備包含導電載台、介電質屏蔽放電電漿源、電網、介電質屏蔽放電電源供應器、以及直流電源供應器。導電載台具有承載面配置以承載工件,其中工件包含壓電材料薄膜,且導電載台接地。介電質屏蔽放電電漿源設於承載面之上方,且配置以朝壓電材料薄膜施加電漿。電網設於承載面與介電質屏蔽放電電漿源之間。介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。

Description

放電極化設備
本發明是有關於一種壓電材料之極化技術,且特別是有關於一種極化設備。
近年來,壓電材料的應用相當廣泛,這些應用包含例如電子產品觸控感測器、軍機迴聲定位、以及超音波蜂鳴器等。為了滿足特殊應用的需求,壓電材料有時須做成薄膜。一般而言,需經過壓電塗料製備、壓電塗料塗布、以及壓電塗膜的極化處理後,才能得到具有壓電特性的薄膜。
由於壓電材料裡的分子架構有不對稱的特性,因此帶正電和負電的物質分布不均勻,而造成分子架構裡有局部正極和局部負極。這樣的特性是壓電材料產生極性的來源,極性方向定義為從局部負極至局部正極的方向。晶格具有相同極性方向的區域叫做電域。
壓電材料中之電域的極性方向常常沒有規則性而互相抵消,易造成整塊壓電材料沒有極性,進而無法呈現材料本身的壓電特性。因此,通常需對壓電材料進行極化製程,方能使壓電材料的電域方向一致而呈現壓電特性。
非接觸式極化技術係以高電場進行極化,以將壓電薄膜裡的分子沿著電場分布整齊地排列,而使壓電薄膜呈現壓電特性。由於電暈放電(corona discharge)容易生成,且能提供進行極化製程所需之高電場環境,因此目前都使用電暈放電技術來提供電子來源。在一些採電暈放電技術之極化設備中,電子會先經過具有負性高電壓網(grid)才到待極化之表面。
然而,電暈放電極化技術有許多缺點。舉例而言,電暈放電時易產生電弧,而擊穿損壞待極化工件。為了避免電弧產生,電場就不能太強,如此會造成壓電材料的極化效果或速度有限。此外,由於電暈放電的特性是局部放電,例如單點放電或多點放電,且不均勻,因此處理大面積的壓電薄膜時,會有很多處理盲區或極化不均勻的問題。而為了提升壓電薄膜之極化製程的均勻性,一般使用傳動機構來移動及/或旋轉電極及/或待極化工件,以使待極化工件上之壓電薄膜的所有表面能充分地暴露在放電區之中。但,這樣的方式會拉長整個極化製程的時間,且在壓電薄膜尺寸大時,旋轉或移動機制需要更大的空間才能完成。
因此,本發明之一目的就是在提供一種極化設備,其以介電質屏蔽放電(dielectric barrier discharge,DBD)電漿源來取代習知電暈放電源,藉此可產生二維均勻 電漿,故可避免極化盲區與放電不均勻的問題,而可提升極化的均勻度。
本發明之另一目的是在提供一種極化設備,其可產生均勻電漿,因此可無需增設移動機構及/或旋轉機構,也不用拉長極化處理的時間,不僅可加快極化速度,更可降低設備成本與減少設備所需空間。而且,極化設備可應用於批量式(batch)極化製程、連續式(in-line)極化製程、連續式捲對捲(roll-to-roll)極化製程,應用性廣泛。
根據本發明之上述目的,提出一種極化設備。此極化設備包含導電載台、介電質屏蔽放電電漿源、電網、介電質屏蔽放電電源供應器或脈衝直流電源供應器(通稱「介電質屏蔽放電電源供應器」)、以及直流電源供應器。導電載台具有承載面配置以承載工件,其中工件包含壓電材料薄膜,且此導電載台接地。介電質屏蔽放電電漿源設於承載面之上方,且配置以朝壓電材料薄膜施加電漿。電網設於承載面與介電質屏蔽放電電漿源之間。介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之介電質屏蔽放電電漿源包含電極以及介電層。電極與第一極電性連接。介電層接合在電極之底面。
依據本發明之一實施例,上述之電網包含網格狀結構或數個排線,這些排線以一預設間距排列。
根據本發明之上述目的,另提出一種極化設備。此極化設備包含導電載台、介電質屏蔽放電電漿源、介電質屏蔽放電電源供應器、以及直流電偏壓電源供應器。導電載台具有承載面配置以承載工件,其中此工件包含壓電材料薄膜。介電質屏蔽放電電漿源設於承載面之上方,且配置以朝壓電材料薄膜施加電漿。介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。直流電偏壓電源供應器包含第五極與第六極,其中第五極電性連接導電載台,第六極接地,以提供導電載台一偏壓。
依據本發明之一實施例,上述之極化設備,更包含電網以及直流電源供應器。電網設於承載面與介電質屏蔽放電電漿源之間。直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之電網包含網格狀結構或數個排線,這些排線以一預設間距排列。
根據本發明之上述目的,又提出一種極化設備。此極化設備包含腔體、數個導電載台、數個介電質屏蔽放電電漿源、數個電網、至少一介電質屏蔽放電電源供應器、以及至少一直流電源供應器。腔體具有腔室。導電載台設於腔室內,其中每個導電載台具有承載面配置以承載工件,每個工件包含壓電材料薄膜,且這些導電載台接地。介電質屏蔽放電電漿源設於腔室內,且分別對應設於上述承載面之上方,其中這些介電質屏蔽放電電漿源配置以朝對應之 承載面上之壓電材料薄膜施加電漿。電網分別設於承載面與對應之介電質屏蔽放電電漿源之間。每個介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。每個直流電源供應器包含第三極與第四極,第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之每個電網包含網格狀結構或數個排線,這些排線以一預設間距排列。
根據本發明之上述目的,再提出一種極化設備。此極化設備包含腔體、數個導電載台、數個介電質屏蔽放電電漿源、至少一介電質屏蔽放電電源供應器、以及至少一直流電偏壓電源供應器。腔體具有腔室。導電載台設於腔室內,其中每個導電載台具有承載面配置以承載工件,每個工件包含壓電材料薄膜。介電質屏蔽放電電漿源設於腔室內,且分別對應設於承載面之上方,其中這些介電質屏蔽放電電漿源配置以朝對應之承載面上之壓電材料薄膜施加電漿。每個介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。每個直流電偏壓電源供應器包含第五極與第六極,第五極電性連接導電載台,第六極接地,以提供每個導電載台一偏壓。
依據本發明之一實施例,上述之極化設備更包含數個電網以及至少一直流電源供應器。電網設於承載面與介電質屏蔽放電電漿源之間。每個直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之每個電網包含網格狀結構或數個排線,這些排線以一預設間距排列。
根據本發明之上述目的,再提出一種極化設備。此極化設備包含至少一導電傳送機構、至少一介電質屏蔽放電電漿源、至少一電網、至少一介電質屏蔽放電電源供應器、以及至少一直流電源供應器。導電傳送機構配置以朝一方向載送連續式工件,其中此連續式工件包含壓電材料薄膜,且導電傳送機構接地。介電質屏蔽放電電漿源設於導電傳送機構之一預設區段的上方,且配置以朝通過預設區段之壓電材料薄膜施加電漿。電網設於導電傳送機構之預設區段與介電質屏蔽放電電漿源之間。每個介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。每個直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之導電傳送機構包含數個滾輪、輸送帶、或數個滾輪與設於這些滾輪上之輸送帶。
依據本發明之一實施例,上述之每個電網包含一網格狀結構或數個排線,這些排線以一預設間距排列。
根據本發明之上述目的,再提出一種極化設備。此極化設備包含至少一導電傳送機構、至少一介電質屏蔽放電電漿源、至少一介電質屏蔽放電電源供應器、以及至少一直流電偏壓電源供應器。導電傳送機構配置以朝一方向載送連續式工件,其中此連續式工件包含壓電材料薄膜。介 電質屏蔽放電電漿源設於導電傳送機構之一預設區段的上方,且配置以朝通過預設區段之壓電材料薄膜施加電漿。每個介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。每個直流電偏壓電源供應器包含第五極與第六極,第五極電性連接導電傳送機構,第六極接地,以提供導電傳送機構一偏壓。
依據本發明之一實施例,上述之導電傳送機構包含數個滾輪、輸送帶、或數個滾輪與設於這些滾輪上之輸送帶。
依據本發明之一實施例,上述之極化設備更包含至少一電網以及至少一直流電源供應器。電網設於導電傳送機構之預設區段與介電質屏蔽放電電漿源之間。每個直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
根據本發明之上述目的,再提出一種極化設備。此極化設備包含第一滾輪、介電質屏蔽放電電漿源、電網、第二滾輪、介電質屏蔽放電電源供應器、以及直流電源供應器。第一滾輪配置以捲載連續式工件,其中此連續式工件包含壓電材料薄膜,第一滾輪接地。介電質屏蔽放電電漿源設於第一滾輪之上方,且配置以朝壓電材料薄膜施加電漿。電網設於第一滾輪與介電質屏蔽放電電漿源之間。第二滾輪配置以捲收來自第一滾輪且通過電漿之連續式工件。介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。直流電源供 應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之連續式工件包含導電基材、以及壓電材料薄膜覆蓋導電基材之一表面上。
依據本發明之一實施例,上述之連續式工件由壓電材料薄膜所組成。
根據本發明之上述目的,再提出一種極化設備。此極化設備包含第一滾輪、介電質屏蔽放電電漿源、第二滾輪、介電質屏蔽放電電源供應器、以及直流電偏壓電源供應器。第一滾輪配置以捲載連續式工件,其中此連續式工件包含壓電材料薄膜。介電質屏蔽放電電漿源設於第一滾輪之上方,且配置以朝壓電材料薄膜施加電漿。第二滾輪配置以捲收來自第一滾輪且通過電漿之連續式工件。介電質屏蔽放電電源供應器包含第一極與第二極,其中第一極電性連接介電質屏蔽放電電漿源,第二極接地。直流電偏壓電源供應器包含第五極與第六極,其中第五極電性連接第一滾輪,第六極接地,以提供第一滾輪一偏壓。
依據本發明之一實施例,上述之極化設備更包含電網以及直流電源供應器。電網設於第一滾輪與介電質屏蔽放電電漿源之間。直流電源供應器包含第三極與第四極,其中第三極電性連接電網,第四極接地。
依據本發明之一實施例,上述之連續式工件包含導電基材以及壓電材料薄膜覆蓋導電基材之表面上。
依據本發明之一實施例,上述之連續式工件由壓電材料薄膜所組成。
100a~100c‧‧‧極化設備
110‧‧‧導電載台
112‧‧‧承載面
120‧‧‧電質屏蔽放電電漿源
122‧‧‧電極
122a‧‧‧底面
124‧‧‧介電層
130‧‧‧電網
132‧‧‧開孔
140‧‧‧介電質屏蔽放電電源供應器
142‧‧‧第一極
144‧‧‧第二極
150‧‧‧直流電源供應器
152‧‧‧第三極
154‧‧‧第四極
160‧‧‧工件
162‧‧‧基材
162a‧‧‧表面
164‧‧‧壓電材料薄膜
170‧‧‧直流電偏壓電源供應器
172‧‧‧第五極
174‧‧‧第六極
200a~200c‧‧‧極化設備
300a~300c‧‧‧極化設備
310‧‧‧導電傳送機構
312‧‧‧預設區段
320‧‧‧連續式工件
322‧‧‧基材
322a‧‧‧表面
324‧‧‧壓電材料薄膜
330‧‧‧方向
400a~400c‧‧‧極化設備
410‧‧‧第一滾輪
420‧‧‧第二滾輪
430‧‧‧連續式工件
432‧‧‧導電基材
432a‧‧‧表面
434‧‧‧壓電材料薄膜
440‧‧‧方向
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂,所附圖式之說明如下:
〔圖1〕係繪示依照本發明之第一實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖2〕係繪示依照本發明之第二實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖3〕係繪示依照本發明之第三實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖4〕係繪示依照本發明之第四實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖5〕係繪示依照本發明之第五實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖6〕係繪示依照本發明之第六實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖7〕係繪示依照本發明之第七實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖8〕係繪示依照本發明之第八實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖9〕係繪示依照本發明之第九實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖10〕係繪示依照本發明之第十實施方式的一種極化設備的示意圖;
〔圖11〕係繪示依照本發明之第十一實施方式的一種極化設備的示意圖;以及
〔圖12〕係繪示依照本發明之第十二實施方式的一種極化設備的示意圖。
以下的揭露提供了許多不同實施方式或例子,以實施所揭露之標的的不同特徵。以下描述之構件與安排的特定例子係用以簡化本發明之實施方式,當然這些僅為例子,並非用以限制本發明。舉例而言,於描述中,第一特徵形成於第二特徵之上方或之上,可能包含第一特徵與第二特徵以直接接觸的方式形成的實施方式,亦可能包含額外特徵可能形成在第一特徵與第二特徵之間的實施方式,如此第一特徵與第二特徵可能不會直接接觸。
此外,在說明書中可能會使用空間相對用語,例如「在下(beneath)」、「下方(below)」、「較低(lower)」、「上方(above)」、「較高(upper)」與類似用語,以方便描述如圖式所繪示之一構件或一特徵與另一(另一些)構件或特徵之間的關係。除了在圖中所繪示之方位外,這些空間相對用詞意欲含括元件在使用或操作中的不同方位。設備/ 元件可能以不同方式定位(旋轉90度或在其他方位上),因此可利用同樣的方式來解釋在此所使用之空間相對描述。
有鑑於習知電暈放電極化技術具有易產生電弧而造成待極化工件損壞,放電不均勻而造成壓電材料之極化不均勻,以及需額外透過傳動機構的移動或旋轉、或拉長極化製程時間等方式才能極化大面積的壓電薄膜等缺點,因此本發明在此提出一種極化設備。本發明之實施方式的極化設備以介電質屏蔽放電電漿源來取代習知電暈放電源,因此可產生二維均勻電漿,而可提升極化的均勻度。由於極化均勻度的提升,無需藉助傳動機構亦無需拉長極化處理的時間即可有效極化大面積的壓電薄膜,因此不僅可加快極化速度,更可降低設備成本與減少設備所需空間,具有極佳的應用性。
請參照圖1,其係繪示依照本發明之第一實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備100a可用以對壓電材料薄膜進行極化處理,以使壓電材料薄膜裡的分子沿著電場分布整齊地排列,藉此使壓電材料薄膜呈現壓電特性。在一些實施例中,極化設備100a主要包含導電載台110、介電質屏蔽放電電漿源120、電網130、介電質屏蔽放電電源供應器140、以及直流電源供應器150。
導電載台110之可例如由金屬所製成。在一些例子中,導電載台110可為平板狀結構。導電載台110具有承載面112。舉例而言,如圖1所示,導電載台110之承載面112可為導電載台110之上表面。在導電載台110為平板狀 結構之例子中,承載面112為平坦表面。導電載台110之承載面112配置以承載欲進行極化處理之工件160。在一些例子中,導電載台110接地。
工件160包含壓電材料薄膜164。舉例而言,壓電材料薄膜164可包含聚偏氟乙烯(PVDF)等高分子壓電材料,或鋯鈦酸鉛(PZT)等壓電陶瓷材料。在一些例子中,工件160更包含基材162,且壓電材料薄膜164覆蓋在基材162之表面162a上。基材162可例如由導電材料所製成。
介電質屏蔽放電電漿源120設於導電載台110之承載面112之上方,且與承載面112相面對。介電質屏蔽放電電漿源120配置以朝承載面112所承載之工件160的壓電材料薄膜164施加電漿。在一些例子中,介電質屏蔽放電電漿源120可包含電極122與介電層124。電極122由導電材料所製成。電極122可例如為平板狀結構。電極122具有底面122a。在電極122為平板狀結構的例子中,電極122之底面122a為平坦表面。介電層124覆蓋且接合在電極122之底面122a上,並與承載面112相面對。如此,從介電質屏蔽放電電漿源120之介電層124所產生之電漿可朝向導電載台110之承載面112。
請繼續參照圖1,電網130設置在導電載台110之承載面112與介電質屏蔽放電電漿源120之介電層124之間。在一些示範例子中,電網130鄰近導電載台110之承載面112。在一些例子中,電網130橫設於導電載台110之承載面112的上方。電網130之延伸方向可例如實質平行於導 電載台110之承載面112。電網130具有許多開孔132,其中這些開孔132可例如均勻穿設於電網130中。電網130可包含網格狀結構。在一些例子中,電網130可包含數個排線,其中這些排線以一預設間距排列。舉例而言,排線之間的預設間距為約1mm至約10mm。
介電質屏蔽放電電源供應器140配置以對介電質屏蔽放電電漿源120供應電力。介電質屏蔽放電電源供應器140可對介電質屏蔽放電電漿源120供應交流電或脈衝直流電。介電質屏蔽放電電源供應器140可包含第一極142與第二極144,其中第一極142與第二極144具有不同電位。介電質屏蔽放電電源供應器140之第一極142與介電質屏蔽放電電漿源120之電極122電性連接,第二極144則可接地。
直流電源供應器150配置以供應電力予電網130。直流電源供應器150可包含第三極152與第四極154,其中第三極152與第四極154具有不同電位。直流電源供應器150之第三極152電性連接電網130,第四極154可接地。
介電質屏蔽放電電漿源120朝導電載台110之承載面112噴射電漿時,電網130可過濾電漿中一種電性的電荷,而使電漿中另一種不同電性的電荷通過電網130之開孔132而抵達導電載台110之承載面112上方之工件160的壓電材料薄膜164上,來對此壓電材料薄膜164進行極化製程。舉例而言,電漿中之部分電子可通過電網130之開孔132來極化壓電材料薄膜164。
由於介電質屏蔽放電電漿源120可產生二維均勻電漿,因此可提升壓電材料薄膜164之極化的均勻度,進而無需藉助傳動機構亦無需拉長極化處理的時間即可有效極化大面積的壓電薄膜。故,極化設備100a的應用不僅可加快極化速度,更可降低設備成本與減少設備所需空間。
請參照圖2,其係繪示依照本發明之第二實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備100b之架構與上述實施方式之極化設備100a的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備100b之介電質屏蔽放電電漿源120與導電載台110之間並未設置電網,且極化設備100b另包含直流電偏壓電源供應器170來對導電載台110施加偏壓。
如圖2所示,直流電偏壓電源供應器170包含第五極172與第六極174,其中第五極172與第六極174具有不同電位。直流電偏壓電源供應器170之第五極172電性連接導電載台110,第六極174可接地,藉以提供導點載台110偏壓。因此,與極化設備100a所採過濾方式不同,極化設備100b係採對導電載台110施加偏壓以吸附與導電載台110不同電性的電荷方式來進行壓電材料薄膜164的極化製程。舉例而言,因直流電偏壓電源供應器170所施加之電力而帶正電之導電載台110可吸附電漿中之帶負電的電荷,藉此來極化承載於導電載台110上的壓電材料薄膜164。
請參照圖3,其係繪示依照本發明之第三實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備100c之架構與上述實施方式之極化設備100b的架構類似,二者之間的差異在 於,極化設備100c之介電質屏蔽放電電漿源120與導電載台110之間更設有電網130,且極化設備100c亦包含對電網130施加電力之直流電源供應器150。如同圖1之極化設備100a,直流電源供應器150之第三極152電性連接電網130,第四極154接地。
極化設備100c結合上述實施方式之極化設備100a之過濾電荷方式與極化設備100b之吸引電荷方式,可更有效率地使介電質屏蔽放電電漿源120所產生之電漿中帶一特定電性之電荷,例如帶負電的電荷,移動到承載於導電載台110上的壓電材料薄膜164,藉此來極化壓電材料薄膜164。
本發明之極化設備亦可進行批量式極化製程。請參照圖4,其係繪示依照本發明之第四實施方式的一種極化設備的示意圖。此極化設備200a包含腔體210、數個導電載台110、數個介電質屏蔽放電電漿源120、數個電網130、至少一介電質屏蔽放電電源供應器140、以及至少一直流電源供應器150。
在極化設備200a中,腔體210具有腔室212。腔室212可容置導電載台110、介電質屏蔽放電電漿源120、以及電網130,而介電質屏蔽放電電源供應器140以及直流電源供應器150設於腔體210之腔室212外。在一些例子中,介電質屏蔽放電電源供應器140以及直流電源供應器150亦可容置於腔室212中。腔體210可為密閉腔體或開放式腔體,因此腔室212可為密閉空間或開放空間。
導電載台110設於腔體210之腔室212內,每個導電載台110具有承載面112可承載工件160,藉此可在腔室212內進行工件160之壓電材料薄膜164的極化製程。導電載台110與工件160之架構已於上述實施方式說明,於此不再贅述。在此實施方式中,這些導電載台110可接地。這些導電載台110可以並聯方式與一組接地線連接。在另一些例子中,這些導電載台110可分別與多組接地線連接。這些導電載台110在極化製程期間可呈靜態、來回移動、或旋轉轉動。
介電質屏蔽放電電漿源120同樣設於腔體210之腔室212內,且分別與導電載台110對應,並分別位於對應之導電載台110之承載面112的上方。藉此,介電質屏蔽放電電漿源120可朝對應之導電載台110之承載面112上所承載之工件160的壓電材料薄膜164施加電漿。
電網130分別設於導電載台110之承載面112與對應之介電質屏蔽放電電漿源120之介電層124之間。在一些示範例子中,電網130、導電載台110、與介電質屏蔽放電電漿源120之數量相同。這些電網130橫設於導電載台110之承載面112的上方,且可分別鄰近於對應之導電載台110的承載面112。電網130具有許多開孔132均勻穿設於電網130中。電網130可例如包含網格狀結構、或以一預設間距排列之數個排線。電網130、導電載台110、與介電質屏蔽放電電漿源120之架構與安排類似於上述實施方式,於此不再贅述。
極化設備200a可包含一個或多個介電質屏蔽放電電源供應器140。舉例而言,如圖4所示,極化設備200a包含多個介電質屏蔽放電電源供應器140,且這些介電質屏蔽放電電源供應器140之數量與介電質屏蔽放電電漿源120之數量相同。在這樣的例子中,介電質屏蔽放電電源供應器140配置以分別供應電力給對應之介電質屏蔽放電電漿源120。在極化設備200a僅具有一個介電質屏蔽放電電源供應器140的例子中,此介電質屏蔽放電電源供應器140可供應電力給所有的介電質屏蔽放電電漿源120,其中這些介電質屏蔽放電電漿源120之電極122以並聯方式與介電質屏蔽放電電源供應器140連接。每個介電質屏蔽放電電源供應器140可包含具不同電位之第一極142與第二極144,其中第一極142與介電質屏蔽放電電漿源120之電極122電性連接,第二極144則可接地。
極化設備200a可包含一個或多個直流電源供應器150。舉例而言,如圖4所示,極化設備200a包含多個直流電源供應器150,且這些直流電源供應器150之數量與電網130之數量相同。在這樣的例子中,直流電源供應器150配置以分別供應電力給對應之電網130。在極化設備200a僅具有一個直流電源供應器150的例子中,此直流電源供應器150可供應電力給所有的電網130,且這些電網130以並聯方式與此直流電源供應器150連接。直流電源供應器150可包含具有不同電位之第三極152與第四極154,其中第三極152電性連接電網130,第四極154可接地。
藉由這樣的設計,可同時進行多個工件160之壓電材料薄膜164的極化製程,達到批量式極化製程的效果,而可大大地提升極化效率。
請參照圖5,其係繪示依照本發明之第五實施方式的一種極化設備的示意圖。此實施方式之極化設備200b的架構與極化設備200a的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備200b之介電質屏蔽放電電漿源120與導電載台110之間並未設置電網,且極化設備200b另包含至少一個直流電偏壓電源供應器170來對導電載台110施加偏壓。
極化設備200b可包含一或多個直流電偏壓電源供應器170。在一些例子中,如圖5所示,極化設備200b包含多個直流電偏壓電源供應器170,且這些直流電偏壓電源供應器170之數量與導電載台110之數量相同。在這樣的例子中,直流電偏壓電源供應器170配置以分別供應電力給對應之導電載台110。在極化設備200a僅具有一個直流電偏壓電源供應器170的例子中,此直流電偏壓電源供應器170可供應電力給所有的導電載台110,且這些導電載台110以並聯方式與此直流電偏壓電源供應器170連接。直流電偏壓電源供應器170包含具有不同電位之第五極172與第六極174,其中第五極172電性連接導電載台110,第六極174可接地,藉以提供導點載台110偏壓。因此,極化設備200b係採對導點載台110施加偏壓以吸附與導點載台110不同電性的電荷方式來進行壓電材料薄膜164的極化製程。
請參照圖6,其係繪示依照本發明之第六實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備200c之架構與上述實施方式之極化設備200b的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備200c之每個介電質屏蔽放電電漿源120與對應之導電載台110之間更設有電網130,且極化設備200c另包含對這些電網130施加電力之至少一個直流電源供應器150。如同圖4之極化設備200a,直流電源供應器150之第三極152電性連接電網130,第四極154接地。極化設備200c之直流電源供應器150的架構與設計與極化設備200a之直流電源供應器150的架構與設計相同,於此不再贅述。
極化設備200c結合上述實施方式之極化設備200a之過濾電荷方式與極化設備200b之吸引電荷方式,可更有效率地使所有介電質屏蔽放電電漿源120所產生之電漿中帶一特定電性之電荷移動到承載於對應導電載台110上的壓電材料薄膜164,藉此以批量式方式極化壓電材料薄膜164。
本發明之極化設備亦可進行連續式極化製程。請參照圖7,其係繪示依照本發明之第七實施方式的一種極化設備的示意圖。在一些實施例中,極化設備300a包含至少一導電傳送機構310、至少一介電質屏蔽放電電漿源120、至少一電網130、至少一介電質屏蔽放電電源供應器140、以及至少一直流電源供應器150。此極化設備300a可用以對連續式工件320進行極化製程。連續式工件320包含壓電材料薄膜324。壓電材料薄膜324可例如包含聚偏氟乙 烯等高分子壓電材料,或鋯鈦酸鉛等壓電陶瓷材料。在一些例子中,連續式工件320更包含基材322,其中壓電材料薄膜324覆蓋在基材322的表面322a上。基材322可例如由導電材料所製成。
極化設備300a包含一或多個導電傳送機構310。舉例而言,如圖7所示,極化設備300a包含多個導電傳送機構310,這些導電傳送機構310為數個滾輪。在其他例子中,極化設備300a可包含單一傳送機構,例如一輸送帶,此輸送帶可導電。另一些例子中,極化設備300a之導電傳送機構可包含數個滾輪與一輸送帶的組合,其中輸送帶設於這些滾輪上。導電傳送機構310配置以朝一方向330載送連續式工件320。在此實施方式中,這些導電傳送機構310可接地。
極化設備300a可包含一或多個介電質屏蔽放電電漿源120。介電質屏蔽放電電漿源120設於導電傳送機構310之預設區段312的上方。舉例而言,導電傳送機構310之預設區段312可為導電傳送機構310的下游區段。藉此,介電質屏蔽放電電漿源120可朝導電傳送機構310所載送且通過導電傳送機構310之預設區段312的壓電材料薄膜324施加電漿。
極化設備300a可包含一或多個電網130。電網130設於導電傳送機構310之預設區段312之上方,且介於導電傳送機構310之預設區段312與介電質屏蔽放電電漿源120之間。在一些示範例子中,電網130與介電質屏蔽放電 電漿源120之數量相同。電網130橫設於導電傳送機構310之預設區段312的上方,且可鄰近於導電傳送機構310。電網130可例如包含網格狀結構、或以一預設間距排列之數個排線。電網130與介電質屏蔽放電電漿源120之架構與安排類似於上述實施方式,於此不再贅述。
請繼續參照圖7,極化設備300a可包含一個或多個介電質屏蔽放電電源供應器140。介電質屏蔽放電電源供應器140之數量可例如與介電質屏蔽放電電漿源120之數量相同。介電質屏蔽放電電源供應器140配置以供應電力給介電質屏蔽放電電漿源120。介電質屏蔽放電電源供應器140包含第一極142與第二極144,其中第一極142電性連接介電質屏蔽放電電漿源120之電極122,第二極144接地。
極化設備300a可包含一個或多個直流電源供應器150。直流電源供應器150與電網130可具有相同數量。直流電源供應器150包含具有不同電位之第三極152與第四極152,其中第三極152電性連接電網130,第四極154可接地。
藉由這樣的設計,當導電傳送機構310朝方向330載送連續式工件320時,介電質屏蔽放電電漿源120可經由電網130而對通過預設區段312之連續式工件320的壓電材料薄膜324施加電漿,來對通過預設區段312之壓電材料薄膜324進行極化製程。因此,可不間斷地極化連續式工件320的壓電材料薄膜324。
請參照圖8,其係繪示依照本發明之第八實施方式的一種極化設備的示意圖。此實施方式之極化設備300b的架構與極化設備300a的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備300b之介電質屏蔽放電電漿源120與導電傳送機構310之間並未設置電網,且極化設備300b另包含至少一個直流電偏壓電源供應器170來對導電傳送機構310施加偏壓。
如圖8所示,直流電偏壓電源供應器170包含第五極172與第六極174,其中第五極172與第六極174具有不同電位。直流電偏壓電源供應器170之第五極172電性連接導電傳送機構310,第六極174可接地,藉以提供導電傳送機構310偏壓。藉此,極化設備300b可採對導電傳送機構310施加偏壓以吸附與導電傳送機構310不同電性的電荷方式,持續地進行壓電材料薄膜324的極化製程。
請參照圖9,其係繪示依照本發明之第九實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備300c之架構與上述實施方式之極化設備300b的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備300c之介電質屏蔽放電電漿源120與導電傳送機構310之間更設有電網130,且極化設備300c另包含對電網130施加電力之至少一個直流電源供應器150。如同圖7之極化設備300a,直流電源供應器150之第三極152電性連接電網130,第四極154接地。極化設備300c之直流電源供應器150的架構與設計與極化設備300a之直流電源供應器150的架構與設計相同,於此不再贅述。
極化設備300c結合上述實施方式之極化設備300a之過濾電荷方式與極化設備300b之吸引電荷方式,可更有效率地使介電質屏蔽放電電漿源120所產生之電漿中帶一特定電性之電荷移動到導電傳送機構310所載送之連續式工件320的壓電材料薄膜324,藉此可連續極化壓電材料薄膜324。
本發明之極化設備亦可進行連續式捲對捲極化製程。請參照圖10,其係繪示依照本發明之第十實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備400a主要可包含第一滾輪410、介電質屏蔽放電電漿源120、電網130、第二滾輪420、介電質屏蔽放電電源供應器140、以及直流電源供應器150。此極化設備400a可用以對連續式工件430進行極化製程。連續式工件430包含壓電材料薄膜434。壓電材料薄膜434可例如包含聚偏氟乙烯等高分子壓電材料,或鋯鈦酸鉛等壓電陶瓷材料。在一些例子中,連續式工件430可更包含導電基材432,其中壓電材料薄膜434覆蓋在導電基材432的表面432a上。在本實施方式中,連續式工件430可僅由壓電材料薄膜434所組成,或者可包含導電基材432與壓電材料薄膜434。
第一滾輪410配置以捲載連續式工件430,且第一滾輪410可沿一方向440轉動。在圖10之例子中,方向440為逆時針方向。在其他例子中,第一滾輪410可沿順時針方向轉動。第一滾輪410轉動的同時可帶動連續式工件430轉 動。在此實施方式中,第一滾輪410由導電材質所製成,且此第一滾輪410可接地。
介電質屏蔽放電電漿源120設於第一滾輪410之上方。藉此,介電質屏蔽放電電漿源120可朝第一滾輪410所載送且通過介電質屏蔽放電電漿源120下方的壓電材料薄膜434施加電漿。
第二滾輪420配置以捲收來自第一滾輪410且通過介電質屏蔽放電電漿源120所施加之電漿的連續式工件430。第二滾輪420可同樣沿方向440轉動。第二滾輪420轉動的同時可捲收來自第一滾輪410的連續式工件430,而達成捲對捲的連續式極化製程。
電網130設於第一滾輪410之上方,且介於第一滾輪410與介電質屏蔽放電電漿源120之間。電網130橫設於第一滾輪410的上方並順著第一滾輪410之長度方向延伸,且可鄰近於第一滾輪410。電網130可例如包含網格狀結構、或以一預設間距排列之數個排線。電網130與介電質屏蔽放電電漿源120之架構與安排類似於上述實施方式,於此不再贅述。
介電質屏蔽放電電源供應器140配置以供應電力給介電質屏蔽放電電漿源120。介電質屏蔽放電電源供應器140包含第一極142與第二極144,其中第一極142電性連接介電質屏蔽放電電漿源120之電極122,第二極144接地。直流電源供應器150包含具有不同電位之第三極152與 第四極152,其中第三極152電性連接電網130,第四極154可接地。
藉由這樣的設計,當第一滾輪410帶著連續式工件430沿方向440轉動時,介電質屏蔽放電電漿源120可經由電網130而對通過介電質屏蔽放電電漿源120下方之連續式工件430的壓電材料薄膜434施加電漿,來對壓電材料薄膜434進行極化製程。因此,可以捲對捲的方式不間斷地極化連續式工件430的壓電材料薄膜434。
請參照圖11,其係繪示依照本發明之第十一實施方式的一種極化設備的示意圖。此實施方式之極化設備400b的架構與極化設備400a的架構類似,二者之間的差異在於,極化設備400b之介電質屏蔽放電電漿源120與第一滾輪410之間並未設置電網,且極化設備400b另包含直流電偏壓電源供應器170來對第一滾輪410施加偏壓。
直流電偏壓電源供應器170包含第五極172與第六極174,其中第五極172與第六極174具有不同電位。直流電偏壓電源供應器170之第五極172電性連接第一滾輪410,第六極174可接地,藉以提供第一滾輪410偏壓。藉此,極化設備400b可採對第一滾輪410施加偏壓以吸附與第一滾輪410不同電性的電荷方式,捲對捲地持續進行壓電材料薄膜434的極化製程。
請參照圖12,其係繪示依照本發明之第十二實施方式的一種極化設備的示意圖。極化設備400c之架構與上述實施方式之極化設備400b的架構類似,二者之間的差 異在於,極化設備400c之介電質屏蔽放電電漿源120與第一滾輪410之間更設有電網130,且極化設備400c另包含對電網130施加電力之直流電源供應器150。如同圖10之極化設備400a,直流電源供應器150之第三極152電性連接電網130,第四極154接地。極化設備400c之直流電源供應器150的架構與設計與極化設備400a之直流電源供應器150的架構與設計相同,於此不再贅述。
極化設備400c結合上述實施方式之極化設備400a之過濾電荷方式與極化設備400b之吸引電荷方式,可更有效率地使介電質屏蔽放電電漿源120所產生之電漿中帶一特定電性之電荷移動到第一滾輪410所捲載之連續式工件430的壓電材料薄膜434,藉此可以捲對捲方式持續極化壓電材料薄膜434。
由上述之實施方式可知,本發明之一優點就是因為本發明之極化設備以介電質屏蔽放電電漿源來取代習知電暈放電源,藉此可產生二維均勻電漿,故可避免極化盲區與放電不均勻的問題,而可提升極化的均勻度。
由上述之實施方式可知,本發明之另一優點就是因為本發明之極化設備可產生均勻電漿,因此可無需增設移動機構及/或旋轉機構,也不用拉長極化處理的時間,不僅可加快極化速度,更可降低設備成本與減少設備所需空間。而且,極化設備可應用於批量式極化製程、連續式極化製程、連續式捲對捲極化製程,應用性廣泛。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何在此技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100a:極化設備
110:導電載台
112:承載面
120:電質屏蔽放電電漿源
122:電極
122a:底面
124:介電層
130:電網
132:開孔
140:介電質屏蔽放電電源供應器
142:第一極
144:第二極
150:直流電源供應器
152:第三極
154:第四極
160:工件
162:基材
162a:表面
164:壓電材料薄膜

Claims (24)

  1. 一種放電極化設備,包含:一導電載台,具有一承載面配置以承載一工件,其中該工件包含一壓電材料薄膜,且該導電載台接地;一介電質屏蔽放電電漿源,設於該承載面之上方,且配置以朝該壓電材料薄膜施加電漿;一電網,設於該承載面與該介電質屏蔽放電電漿源之間;一介電質屏蔽放電電源供應器,包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及一直流電源供應器,包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該電網,該第四極接地。
  2. 如申請專利範圍第1項之放電極化設備,其中該介電質屏蔽放電電漿源包含:一電極,與該第一極電性連接;以及一介電層,接合在該電極之一底面。
  3. 如申請專利範圍第1項之放電極化設備,其中該電網包含一網格狀結構或複數個排線,該些排線以一預設間距排列。
  4. 一種放電極化設備,包含: 一導電載台,具有一承載面配置以承載一工件,其中該工件包含一壓電材料薄膜;一介電質屏蔽放電電漿源,設於該承載面之上方,且配置以朝該壓電材料薄膜施加電漿;一介電質屏蔽放電電源供應器,包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及一直流電偏壓電源供應器,包含一第五極與一第六極,其中該第五極電性連接該導電載台,該第六極接地,以提供該導電載台一偏壓。
  5. 如申請專利範圍第4項之放電極化設備,更包含:一電網,設於該承載面與該介電質屏蔽放電電漿源之間;以及一直流電源供應器,包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該電網,該第四極接地。
  6. 如申請專利範圍第5項之放電極化設備,其中該電網包含一網格狀結構或複數個排線,該些排線以一預設間距排列。
  7. 一種放電極化設備,包含:一腔體,具有一腔室; 複數個導電載台,設於該腔室內,其中每一該些導電載台具有一承載面配置以承載一工件,每一該些工件包含一壓電材料薄膜,且該些導電載台接地;複數個介電質屏蔽放電電漿源,設於該腔室內,且分別對應設於該些承載面之上方,其中該些介電質屏蔽放電電漿源配置以朝對應之該些承載面上之該些壓電材料薄膜施加電漿;複數個電網,分別設於該些承載面與對應之該些介電質屏蔽放電電漿源之間;至少一介電質屏蔽放電電源供應器,其中每一該至少一介電質屏蔽放電電源供應器包含一第一極與一第二極,該第一極電性連接該些介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及至少一直流電源供應器,其中每一該至少一直流電源供應器包含一第三極與一第四極,該第三極電性連接該些電網,該第四極接地。
  8. 如申請專利範圍第7項之放電極化設備,其中每一該些電網包含一網格狀結構或複數個排線,該些排線以一預設間距排列。
  9. 一種放電極化設備,包含:一腔體,具有一腔室; 複數個導電載台,設於該腔室內,其中每一該些導電載台具有一承載面配置以承載一工件,每一該些工件包含一壓電材料薄膜;複數個介電質屏蔽放電電漿源,設於該腔室內,且分別對應設於該些承載面之上方,其中該些介電質屏蔽放電電漿源配置以朝對應之該些承載面上之該些壓電材料薄膜施加電漿;至少一介電質屏蔽放電電源供應器,其中每一該至少一介電質屏蔽放電電源供應器包含一第一極與一第二極,該第一極電性連接該些介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及至少一直流電偏壓電源供應器,其中每一該至少一直流電偏壓電源供應器包含一第五極與一第六極,該第五極電性連接該些導電載台,該第六極接地,以提供每一該些導電載台一偏壓。
  10. 如申請專利範圍第9項之放電極化設備,更包含:複數個電網,設於該承載面與該介電質屏蔽放電電漿源之間;以及至少一直流電源供應器,其中每一該至少一直流電源供應器包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該些電網,該第四極接地。
  11. 如申請專利範圍第10項之放電極化設備,其中每一該些電網包含一網格狀結構或複數個排線,該些排線以一預設間距排列。
  12. 一種放電極化設備,包含:至少一導電傳送機構,配置以朝一方向載送一連續式工件,其中該連續式工件包含一壓電材料薄膜,且該至少一導電傳送機構接地;至少一介電質屏蔽放電電漿源,設於該至少一導電傳送機構之一預設區段的上方,且配置以朝通過該預設區段之該壓電材料薄膜施加電漿;至少一電網,設於該至少一導電傳送機構之該預設區段與該至少一介電質屏蔽放電電漿源之間;至少一介電質屏蔽放電介電質屏蔽放電電源供應器,其中每一該至少一介電質屏蔽放電電源供應器包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該至少一介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及至少一直流電源供應器,其中每一該至少一直流電源供應器包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該至少一電網,該第四極接地。
  13. 如申請專利範圍第12項之放電極化設備,其中該至少一導電傳送機構包含複數個滾輪、一輸送帶、或複數個滾輪與設於該些滾輪上之一輸送帶。
  14. 如申請專利範圍第12項之放電極化設備,其中每一該至少一電網包含一網格狀結構或複數個排線,該些排線以一預設間距排列。
  15. 一種放電極化設備,包含:至少一導電傳送機構,配置以朝一方向載送一連續式工件,其中該連續式工件包含一壓電材料薄膜;至少一介電質屏蔽放電電漿源,設於該至少一導電傳送機構之一預設區段的上方,且配置以朝通過該預設區段之該壓電材料薄膜施加電漿;至少一介電質屏蔽放電電源供應器,其中每一該至少一介電質屏蔽放電電源供應器包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該至少一介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及至少一直流電偏壓電源供應器,其中每一該至少一直流電偏壓電源供應器包含一第五極與一第六極,該第五極電性連接該至少一導電傳送機構,該第六極接地,以提供該至少一導電傳送機構一偏壓。
  16. 如申請專利範圍第15項之放電極化設備,其中該至少一導電傳送機構包含複數個滾輪、一輸送帶、或複數個滾輪與設於該些滾輪上之一輸送帶。
  17. 如申請專利範圍第15項之放電極化設備,更包含: 至少一電網,設於該至少一導電傳送機構之該預設區段與該至少一介電質屏蔽放電電漿源之間;以及至少一直流電源供應器,其中每一該至少一直流電源供應器包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該至少一電網,該第四極接地。
  18. 一種放電極化設備,包含:一第一滾輪,配置以捲載一連續式工件,其中該連續式工件包含一壓電材料薄膜,該第一滾輪接地;一介電質屏蔽放電電漿源,設於該第一滾輪之上方,且配置以朝該壓電材料薄膜施加電漿;一電網,設於該第一滾輪與該介電質屏蔽放電電漿源之間;一第二滾輪,配置以捲收來自該第一滾輪且通過該電漿之該連續式工件;一介電質屏蔽放電電源供應器,包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及一直流電源供應器,包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該電網,該第四極接地。
  19. 如申請專利範圍第18項之放電極化設備,其中該連續式工件包含:一導電基材;以及該壓電材料薄膜,覆蓋該導電基材之一表面上。
  20. 如申請專利範圍第18項之放電極化設備,其中該連續式工件由該壓電材料薄膜所組成。
  21. 一種放電極化設備,包含:一第一滾輪,配置以捲載一連續式工件,其中該連續式工件包含一壓電材料薄膜;一介電質屏蔽放電電漿源,設於該第一滾輪之上方,且配置以朝該壓電材料薄膜施加電漿;一第二滾輪,配置以捲收來自該第一滾輪且通過該電漿之該連續式工件;一介電質屏蔽放電電源供應器,包含一第一極與一第二極,其中該第一極電性連接該介電質屏蔽放電電漿源,該第二極接地;以及一直流電偏壓電源供應器,包含一第五極與一第六極,其中該第五極電性連接該第一滾輪與該第二滾輪,該第六極接地,以提供該第一滾輪一偏壓。
  22. 如申請專利範圍第21項之放電極化設備,更包含:一電網,設於該第一滾輪與該介電質屏蔽放電電漿源之間;以及一直流電源供應器,包含一第三極與一第四極,其中該第三極電性連接該電網,該第四極接地。
  23. 如申請專利範圍第21項之放電極化設備,其中該連續式工件包含:一導電基材;以及該壓電材料薄膜,覆蓋該導電基材之一表面上。
  24. 如申請專利範圍第21項之放電極化設備,其中該連續式工件由該壓電材料薄膜所組成。
TW108142786A 2019-11-25 2019-11-25 放電極化設備 TWI728569B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108142786A TWI728569B (zh) 2019-11-25 2019-11-25 放電極化設備
CN202010085101.9A CN112838159B (zh) 2019-11-25 2020-02-10 极化设备
US17/087,577 US11363707B2 (en) 2019-11-25 2020-11-02 Polarization apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108142786A TWI728569B (zh) 2019-11-25 2019-11-25 放電極化設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI728569B true TWI728569B (zh) 2021-05-21
TW202121932A TW202121932A (zh) 2021-06-01

Family

ID=75923079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108142786A TWI728569B (zh) 2019-11-25 2019-11-25 放電極化設備

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11363707B2 (zh)
CN (1) CN112838159B (zh)
TW (1) TWI728569B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI728569B (zh) * 2019-11-25 2021-05-21 馗鼎奈米科技股份有限公司 放電極化設備
TWI751524B (zh) * 2020-04-10 2022-01-01 馗鼎奈米科技股份有限公司 壓電薄膜之電極化方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI239027B (en) * 2003-10-29 2005-09-01 Yue-Yun Guo Electrode set for dielectric plasma discharging system
TWI355866B (zh) * 2007-08-16 2012-01-01 Atomic Energy Council
TWI623052B (zh) * 2016-12-02 2018-05-01 Nat Chung Shan Inst Science & Tech Fluid uniform device
US20190342985A1 (en) * 2018-05-03 2019-11-07 GM Global Technology Operations LLC Systems and apparatuses for high performance atmosphere thin film piezoelectric resonant plasmas to modulate air flows

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5512508A (en) * 1978-07-10 1980-01-29 Kureha Chem Ind Co Ltd Information recording sheet
GB2045522B (en) * 1979-04-03 1983-03-16 Standard Telephones Cables Ltd Piezo-electric film manufacture
FR2490877A1 (fr) * 1980-09-19 1982-03-26 Thomson Csf Procede de fabrication de films polymeres piezoelectriques
US4392178A (en) * 1980-10-16 1983-07-05 Pennwalt Corporation Apparatus for the rapid continuous corona poling of polymeric films
FR2519503B1 (fr) * 1981-12-31 1991-09-06 Thomson Csf Transducteurs piezoelectriques polymeres et procede de fabrication
FR2522241A1 (fr) * 1982-02-22 1983-08-26 Thomson Csf Procede de fabrication de transducteurs polymeres piezoelectriques par forgeage
DE3370251D1 (en) * 1982-03-18 1987-04-16 British Telecomm Piezoelectric and pyroelectric film
US4459634A (en) * 1982-10-22 1984-07-10 Pennwalt Corporation Reverse field stabilization of polarized polymer films
GB9214401D0 (en) * 1992-07-07 1992-08-19 James Halstead Ltd Apparatus and method for compressing a continuous web
US5663606A (en) * 1995-09-15 1997-09-02 Beurrier; Henry Richard Apparatus for poling a piezoelectric actuator
US6593681B2 (en) * 2000-12-15 2003-07-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Polarization apparatus and polarization method of coaxial flexible piezoelectric cable
US7134197B2 (en) * 2003-12-18 2006-11-14 Honeywell International Inc. Plastic lead frames utilizing reel-to-reel processing
JP4815743B2 (ja) * 2004-01-14 2011-11-16 パナソニック株式会社 圧電素子の製造方法
JP5382905B2 (ja) * 2008-03-10 2014-01-08 富士フイルム株式会社 圧電素子の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法
EP2326151A1 (fr) * 2009-11-24 2011-05-25 AGC Glass Europe Procédé et dispositif de polarisation d'une électrode DBD
JP5555072B2 (ja) * 2010-06-25 2014-07-23 富士フイルム株式会社 圧電体膜、圧電素子および液体吐出装置
KR20140037097A (ko) * 2011-04-27 2014-03-26 다우 코닝 프랑스 기판의 플라즈마 처리
EP2767901B1 (en) * 2013-02-19 2020-05-20 Quadient Group AG Generating interactive electronic documents
KR101615494B1 (ko) * 2013-10-31 2016-04-26 주식회사 뉴파워 프라즈마 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기
JP6435896B2 (ja) * 2014-03-14 2018-12-12 株式会社リコー 被処理物改質装置、印刷装置、印刷システムおよび印刷物の製造方法
US9955564B2 (en) * 2016-06-13 2018-04-24 Elmer Griebeler Dielectric barrier discharge device
DE102017100161B4 (de) * 2017-01-05 2022-08-04 Cinogy Gmbh Flächiges flexibles Auflagestück für eine dielektrisch behinderte Plasmabehandlung
TWM579386U (zh) * 2019-03-14 2019-06-11 馗鼎奈米科技股份有限公司 壓電材料薄膜之極化設備
TWI728569B (zh) * 2019-11-25 2021-05-21 馗鼎奈米科技股份有限公司 放電極化設備
TWI751524B (zh) * 2020-04-10 2022-01-01 馗鼎奈米科技股份有限公司 壓電薄膜之電極化方法
TWI747360B (zh) * 2020-07-03 2021-11-21 馗鼎奈米科技股份有限公司 壓電薄膜之極化品質的監控方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI239027B (en) * 2003-10-29 2005-09-01 Yue-Yun Guo Electrode set for dielectric plasma discharging system
TWI355866B (zh) * 2007-08-16 2012-01-01 Atomic Energy Council
TWI623052B (zh) * 2016-12-02 2018-05-01 Nat Chung Shan Inst Science & Tech Fluid uniform device
US20190342985A1 (en) * 2018-05-03 2019-11-07 GM Global Technology Operations LLC Systems and apparatuses for high performance atmosphere thin film piezoelectric resonant plasmas to modulate air flows

Also Published As

Publication number Publication date
CN112838159A (zh) 2021-05-25
CN112838159B (zh) 2023-10-24
TW202121932A (zh) 2021-06-01
US11363707B2 (en) 2022-06-14
US20210160995A1 (en) 2021-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI728569B (zh) 放電極化設備
TWI732927B (zh) 工件處理裝置、平台與處理工件的方法
TW201913738A (zh) 基板處理設備
US20080283500A1 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR100801769B1 (ko) 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및 컴퓨터 기억매체
TWI655686B (zh) 活性氣體生成裝置
JPWO2019229873A1 (ja) 活性ガス生成装置
JP2015178682A (ja) 反応性スパッタ装置
EA023480B1 (ru) Способ и устройство для покрытия поверхности субстрата посредством диэлектрического барьерного разряда
KR20130080055A (ko) 전원 장치
KR940006428A (ko) 플라즈마 발생방법 및 발생장치
US20110247995A1 (en) Dry etching method and dry etching apparatus
CN107435135A (zh) 溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法
JP2009191340A5 (zh)
TWM579386U (zh) 壓電材料薄膜之極化設備
JPH11323546A (ja) 大型基板用スパッタ装置
JP6959447B2 (ja) スパッタ成膜装置
JP7155853B2 (ja) 除電方法及び装置
TWI747556B (zh) 壓電薄膜之極化方法
JP2010106370A (ja) バイアススパッタリング装置
KR20090131366A (ko) 상압 플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 상압 플라즈마표면처리장치
US20150376774A1 (en) Sputtering apparatus and method thereof
KR20080101309A (ko) 상압 플라즈마 세정장치
CN108701577A (zh) 用于等离子体处理装置的阴极
JPS6372870A (ja) プラズマ処理装置