TWI720330B - 控制送至加熱器之電力的系統及方法 - Google Patents

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TWI720330B
TWI720330B TW107128056A TW107128056A TWI720330B TW I720330 B TWI720330 B TW I720330B TW 107128056 A TW107128056 A TW 107128056A TW 107128056 A TW107128056 A TW 107128056A TW I720330 B TWI720330 B TW I720330B
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詹姆斯 亨吉斯
威廉 波林格
馬修 元德
基斯 奈斯
庫特 彼得森
艾利克 米奇
布列塔尼 菲利浦斯
賴瑞 沃特斯
傑佛瑞 羅札克
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美商瓦特洛威電子製造公司
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Abstract

本發明係關於一種用於控制包括至少一個加熱元件之一加熱器的控制系統。該控制系統包括：一電力轉換器，其可操作以將一可調整電壓輸出供應至該加熱器；一感測器電路，其量測該加熱器之該加熱元件之一電特性；一參考溫度感測器，其量測該加熱器處之一參考物之一參考溫度；及一控制器。該控制器經組配以基於該電特性計算一加熱器元件之一主要溫度，且基於該參考溫度及該主要溫度中之至少一者判定待施加至該加熱器之該電壓輸出。該控制器經組配以在一操作模式及一學習模式中之至少一者下操作，且在電壓正被供應至該加熱器時執行保護協定。

Description

控制送至加熱器之電力的系統及方法 交叉參考
本申請案主張2018年8月10日申請之美國臨時申請案第62/543,457號之權益及優先權，且為2017年6月15日申請且名為「POWER CONVERTER FOR A THERMAL SYSTEM」之美國第15/624,060號的部分接續申請案，美國第15/624,060號主張2016年6月15日申請之美國臨時申請案第62/350275號的權益。上述申請案之內容的全文以引用之方式併入本文中。
發明領域
本發明係關於一種用於控制具有加熱器之熱系統的系統及/或方法。
發明背景
此章節中之陳述僅僅提供關於本發明之背景資訊且可能不構成先前技術。
通常，諸如用於加熱負載之基座加熱器的加熱器包括由控制系統控制之加熱元件。舉例而言，基座加 熱器包括具有陶瓷基體及複數個電阻性加熱元件之加熱板，複數個電阻性加熱元件嵌入於陶瓷基體中以界定複數個加熱區。通常，在加熱器起動期間以相同緩變速率將相同電力施加至複數個電阻性加熱元件。
儘管相同電力被施加至電阻性加熱元件，但歸因於例如加熱區相對於散熱片之位置以及由非均一製造造成的加熱區之特性差異，一些電阻性加熱元件相比於其他加熱元件可較快地被加熱。當加熱區相比於鄰近加熱區較快地被加熱時，鄰近加熱區之間的溫度差會造成不同的熱膨脹且因此在鄰近加熱區之間造成熱應力。顯著的熱應力可能會導致在陶瓷基體中產生熱裂縫。本發明解決了此等及其他問題。
發明概要
此章節提供本發明之一般概述，且並非其全部範疇或其所有特徵之全面揭示。
在一種形式中，本發明係關於一種用於控制包括至少一個加熱元件之一加熱器的控制系統。該控制系統包括一電力轉換器、一感測器電路、一參考溫度感測器及一控制器。該電力轉換器可操作以將可調整之一電壓輸出供應至該加熱器，且經組配以將來自一電源之一電壓輸入轉換成小於或等於該電壓輸入之該電壓輸出。該感測器電路經組配以量測該加熱器之該加熱元件之一電特性，其中該電特性包括一電流及一電壓中之至少一者。該參考溫 度感測器量測該加熱器處之一參考物之一參考溫度。該控制器經組配以操作該電力轉換器以控制送至該加熱器之該電壓輸出。該控制器經組配以基於該電特性計算一加熱器元件之一主要溫度，且基於該參考溫度及該主要溫度中之至少一者判定待施加至該加熱器之該電壓輸出。該控制器經組配以在一操作模式及一學習模式中之至少一者下操作，且在該電壓輸出正被供應至該加熱器時執行一個或多個保護協定。
在另一形式中，該控制器經組配以回應於該參考溫度與該主要溫度之間的一差大於一預設臨限值而縮減或關斷送至該加熱器之電力。
在又一形式中，該參考溫度感測器為一紅外線攝影機、一熱電偶及一電阻溫度偵測器中之一者。
在一種形式中，在該學習模式下，該控制器經組配以操作該加熱器以產生一加熱器-負載相關性資料，該加熱器-負載相關性資料將一加熱器元件之一溫度與定位於該加熱器上之一負載之一溫度相關聯。
在另一形式中，在該學習模式下，該控制器經組配以逐漸地增加送至該加熱器之該電力以增加由該加熱器產生之熱，判定複數個該等主要溫度，及將該等主要溫度與由該參考溫度感測器偵測之各別參考溫度相關以產生該加熱器-負載相關性資料。
在又一形式中，該控制器經組配以映射該主要溫度及該參考溫度在一段時間內之改變，在該段時間期 間該電力正在增加。
在一種形式中，該參考溫度感測器經組配以量測定位於該加熱器上之一負載及該加熱器之一表面中之至少一者的一溫度。
在另一形式中，在該操作模式下，該控制器經組配以執行一提昇補償來增加該等加熱元件產生熱以將該參考物加熱至一預界定設定點溫度的一速率。
在又一形式中，該控制器經組配以基於該電特性針對該等加熱元件中之每一者判定該主要溫度，及對於鄰近區，基於該等主要溫度調整供應至該等鄰近區之一個或多個加熱元件之電力以控制遍及該加熱器之溫度變化。
在一種形式中，該控制器經組配以回應於一個區相比於一鄰近區具有一較高溫度而縮減送至該一個區之電力。
在另一形式中，在該操作模式下，該控制器經組配以基於該參考溫度及該主要溫度中之至少一者自複數個界定狀態模型控制當中選擇一狀態模型控制作為該加熱器之一操作狀態。
在又一形式中，該複數個界定狀態模型控制包括一加電控制、一軟起動控制、一設定速率控制及一穩態控制中之至少一者。
在一種形式中，該等狀態模型控制中之每一者界定用於針對該各別狀態模型控制來控制該加熱器之一 個或多個操作設定。
在另一形式中，該一個或多個操作設定包括界定用於退出該操作狀態而至一個其他狀態模型控制之一條件的一轉變條件。
在又一形式中，本發明為一種熱系統，其包括如上文所描述之加熱器及控制系統。
根據本文中所提供之描述，另外適用性領域將變得顯而易見。應理解，該描述及特定實例僅意欲用於說明目的，且並不意欲限制本發明之範疇。
100:熱系統
102:加熱器
104、350:控制系統
106:加熱器控制器
108:電力轉換器系統
110:加熱板
111:基體
112:支撐軸件
114:加熱區
116、1161、1162、116n:電力轉換器
118:電源
120:驅動器電路
122:降壓轉換器
124:控制開關
128:加熱元件
129:連鎖
130:參考感測器
132:加熱器感測器電路
134:電力計量晶片
136:計算裝置
200:介面模組
202:效能回饋模組
204:加熱器學習模組
206:電力控制模組
208:狀態模型控制模組
210:狀態選擇模組
212:系統保護模組
214:狀態模型控制儲存庫
250:狀態模型控制程式
252:加電控制
254:軟起動控制
256:速率控制
258、260、262:PID控制
270:主選單圖形使用者介面(GUI)
272A、272B:學習模式按鈕
274A、274B:操作模式按鈕
276A、276B、276C:按鈕
300:控制系統介面
302:殼體
304:通訊埠
352:隔離電路
354:均方根(RMS)控制電路
356:直流(DC)變壓器
VIN:輸入電壓
VOUT:輸出電壓
為了可很好地理解本發明，現在將參考隨附圖式描述作為實例而給出的本發明之各種形式，在圖式中：
圖1繪示根據本發明之教示的具有加熱器及控制系統之熱系統；圖2繪示根據本發明之教示的電力轉換器；圖3為圖1之控制系統的方塊圖；圖4繪示根據本發明之教示的由多個狀態模型界定之實例狀態模型控制程式；圖5A、圖5B、圖5C、圖5D及圖5E繪示用於圖4之狀態模型控制程式之狀態模型的設定；圖6為根據本發明之教示的主選單圖形使用者介面之實例；圖7為根據本發明之教示的控制系統介面之透視圖
圖8為具有隔離電路之控制系統的方塊圖；且圖9為圖8之隔離電路的實例組配。
本文中所描述之圖式係僅出於說明目的，且並不意欲以任何方式限制本發明之範疇。
較佳實施例之詳細說明
以下描述本質上僅僅係例示性的，且並不意欲限制本發明、應用或用途。應理解，在全部圖式中，對應參考數字指示類似或對應部分及特徵。
參看圖1，根據本發明之教示而建構的熱系統100包括加熱器102及控制系統104，控制系統104具有加熱器控制器106及電力轉換器系統108。在本發明之一種形式中，加熱器102為包括加熱板110及支撐軸件112之基座加熱器，支撐軸件112安置於加熱板110之底部表面處。加熱板110包括基體111及複數個電阻性加熱元件(未展示)，複數個電阻性加熱元件嵌入於基體111之表面中或沿著基體111之表面而安置。基體111可由陶瓷或鋁製成。電阻性加熱元件係由控制器106獨立地控制，且界定如由該圖中之虛點線所繪示的複數個加熱區114。此等加熱區114僅僅係例示性的，且可呈任何組配，同時保持於本發明之範疇內。
加熱器102可為「雙導線(two-wire)」加熱器，其中電阻改變可由控制器106使用以判定溫度。此類 雙導線系統被揭示於美國專利第7,196,295號中，該專利與本申請案共同擁有且該專利之內容的全文以引用之方式併入本文中。在雙導線系統中，熱系統為合併加熱器設計與控制之調適性熱系統，該等控制合併可自訂回饋控制系統中之電力、電阻、電壓及電流，該可自訂回饋控制系統限制一個或多個此等參數(亦即，電力、電阻、電壓、電流)，同時控制另一參數。如下文進一步所描述，在一種形式中，運用電力轉換器系統108，控制器106獲取穩定連續電流及電壓讀數。此等讀數可接著用於判定電阻，且因此判定加熱器102之溫度。在另一形式中，控制器106經組配以量測零交叉時之電壓及/或電流，如美國專利第7,196,295號中所描述。
雖然加熱器102被描述為基座加熱器，但本發明之控制系統可控制其他類型之加熱器，諸如用於流體管線之管狀加熱器及加熱器套，且不應限於基座加熱器。
控制系統104包括相比於例如電力轉換器116在較低電壓下操作之組件，諸如控制器104。因此，為了保護低電壓組件免受高電壓，控制系統104包括將低電壓組件與高電壓組件隔離且仍允許該等組件交換信號之電子組件。在圖1中，電力線被繪示為虛線，且資料信號線被提供為實線。
電力轉換器系統108包括可操作以將電力施加至加熱器102之加熱元件的複數個電力轉換器116(圖中之1161至116n)。更特定而言，每一電力轉換器116可 操作以將來自電源118之輸入電壓(VIN)調整至施加至加熱器102之加熱元件的輸出電壓(VOUT)，其中輸出電壓小於或等於輸入電壓。此類電力轉換器系統之一個實例被描述於2017年6月15日申請且名為「POWER CONVERTER FOR A THERMAL SYSTEM」的同在申請中之申請案美國第15/624,060號中，該申請案與本申請案共同擁有且該申請案之內容的全文以引用之方式併入本文中。在此實例中，每一電力轉換器包括可由控制器106操作以產生送至給定區之一個或多個加熱元件之所要輸出電壓(VOUT)的降壓轉換器。
更特定而言，參看圖2，給定電力轉換器116包括驅動器電路120及降壓轉換器122，降壓轉換器122具有控制開關124(圖中之「SW」)，控制開關124亦可被稱作電力開關。出於說明目的，虛線126表示系統100之低電壓區段與高電壓區段的隔離。驅動器電路202基於來自控制器104之輸入信號操作控制開關206，以調整來自電源118之電壓且將縮減電壓輸出至一個或多個加熱元件128。驅動器電路202包括用以與控制器106通訊且將控制器106與電力轉換器116隔離之電子器件，諸如光隔離器、變壓器等等。因此，電力轉換器系統108可操作以將可自訂量的電力提供至加熱器102之加熱區中之每一者。應容易理解，雖然圖2中繪示特定組件，但電力轉換器116可包括其他組件，同時保持於本發明之範疇內。
在一種形式中，控制系統104包括用以控制 電源118與電力轉換器系統108之間流動之電力的連鎖129，諸如中繼器。連鎖129可由控制器106操作為安全性機構以關斷自電源118至電力轉換器系統108之電力，且因此在異常活動之情況下關斷送至加熱器102之電力，如本文中所描述。
參看圖1及圖2，為了監測加熱器102之效能，控制系統104包括參考感測器130及一個或多個加熱器感測器電路132。參考感測器130為經組配以量測加熱器102周圍之參考區域之溫度(亦即，參考溫度)的相異感測器。舉例而言，在一種形式中，參考感測器130量測正由加熱器102加熱之負載(例如，晶圓、管)之溫度，其中負載為參考區域。在另一實例中，參考感測器130量測沿著加熱器102之表面的溫度。參考感測器130可為紅外線攝影機、熱電偶、電阻溫度偵測器，及/或用於量測溫度之其他合適感測器。另外，多個參考感測器可用以偵測加熱器102周圍之不同區域。
藉由使用雙導線加熱器，加熱器感測器電路132(亦即，感測器電路)經組配以量測加熱元件之電特性，其接著用以判定加熱元件之效能特性，諸如電阻、溫度及其他合適資訊。在一種形式中，提供給定加熱器感測器電路132，以量測自給定電力轉換器116接收電力之一個或多個加熱元件之電特性。舉例而言，圖2繪示加熱器感測器電路132耦接至電力轉換器116與加熱元件128之間的電路以量測加熱元件128之電特性。電特性包括電流 及電壓中之至少一者。在一種形式中，感測器電路132包括電力計量晶片134(圖中之「PM」)以連續地量測電流及/或電壓，而不管施加至加熱元件之電力如何。感測器電路132亦可包括用於在系統之低電壓區段與高電壓區段之間傳輸信號的其他電子器件，諸如隔離類比至數位轉換器、光隔離器或變壓器等等。感測器電路132可以其他合適方式而組配，諸如美國第15/624,060號中所描述之感測器電路，同時保持於本發明之範疇內。
將來自參考感測器130及/或感測器電路134之資料提供至加熱器控制器106以供進一步處理，以控制加熱器102之操作。在一種形式中，加熱器控制器106以可通訊方式耦接至可由使用者操作以與控制系統104交換資訊之外部裝置，諸如計算裝置136。舉例而言，計算裝置134可為經由無線通訊鏈路(例如，WI-FI、藍芽等等)及/或有線通訊以可通訊方式耦接至控制器10之桌上型電腦、平板電腦、膝上型電腦等等。在一種形式中，控制器106經組配以藉助於一個或多個圖形使用者介面(GUI)而與計算裝置136交換資訊。GUI可以各種合適方式而組配以用於進行以下操作：中繼與加熱器102之控制及操作相關的資訊，諸如操作狀態、溫度分佈、加熱器之電特性，及其他合適資訊；及自使用者接收輸入，諸如設定點(例如，溫度、電力)、操作變數(例如，改變率、PID變數)，及加熱器102之控制狀態之選擇(例如，學習模式、校準、手動控制、狀態控制程式)。
控制器106包括含有一個或多個微處理器及一記憶體(例如，RAM、ROM等等)之電子器件，該記憶體儲存由該微處理器執行之電腦可讀指令(亦即，軟體程式)。控制器106藉助於預界定電腦可讀指令而組配以執行一個或多個控制程序，諸如：加熱器學習狀態、狀態模型控制、系統保護監測，及/或本文中所描述之其他合適程序。
參看圖3，在一種形式中，控制器106經組配以操作為介面模組200、效能回饋模組202、加熱器學習模組204、電力控制模組206、狀態模型控制模組208、狀態選擇模組210，及系統保護模組212。介面模組200經組配以與諸如計算裝置136之一個或多個外部裝置通訊。就計算裝置而言，介面模組200經組配以顯示GUI，該等GUI向使用者顯示由控制器106之其他模組提供的各種控制選項及系統效能資訊。若使用者選擇控制選項，則介面模組200將資料傳輸至控制器106之各別模組。
效能回饋模組202經組配以量測來自參考感測器130及加熱器感測器電路132之電回應以判定參考溫度及加熱器溫度(亦即，申請專利範圍中之主要溫度)。舉例而言，基於感測器電路132之電特性，效能回饋模組202判定各別加熱元件之平均電阻，且接著使用使電阻與溫度相關之預定資訊判定加熱元件之溫度。效能回饋模組202經組配以基於正使用的參考感測器130之類型判定參考溫度。舉例而言，若參考感測器130為RTD，則回饋模組 202包括使電阻與溫度相關聯之預定資訊，且使用此資訊以判定參考區域之溫度。
在一種形式中，加熱器學習模組204經組配以形成使兩個或多於兩個參數彼此相關聯的一個或多個類型之相關性資料，且稍後用以基於另一參數之量測值判定一個參數之值。舉例而言，學習模組204經組配以建構加熱器102之效能映圖，其使加熱器102之效能與正被加熱之負載相關。具體言之，加熱器102之溫度(亦即，加熱元件之溫度)不同於加熱器102之表面處的溫度且不同於置放於加熱器102上之負載的溫度。在一種形式中，加熱器學習模組204產生加熱器-負載溫度相關性資料，其提供加熱器102之溫度(亦即，加熱器溫度)，以及負載基於加熱器溫度及施加至加熱器102之電力達到設定點溫度所需要的時間量。舉例而言，若加熱器溫度為500℃，且負載溫度處於470℃，其為30℃之偏差，則加熱器-負載溫度相關性資料用以判定用於在所要時間段內將負載溫度增加至例如490℃之適當加熱器溫度。
為了產生加熱器-負載溫度相關性資料，加熱器學習模組204經組配以執行加熱器學習常式，在此期間，加熱器102具有負載或安置於其上之人工製品以供加熱。學習模組204根據預設操作序列操作加熱器102，該預設操作序列使電力控制模組206逐漸地增加送至加熱器102之電力以增加加熱器溫度。加熱器學習模組204自效能回饋模組202獲得每一加熱元件之平均溫度以及參考溫 度。
使用加熱元件之溫度，學習模組204獲得總加熱器溫度且使所施加之電力、加熱操作之持續時間及加熱器溫度相關。另外，加熱器學習模組204使所施加之電力、常式之持續時間及量測參考溫度相關。使用雙相關性資料，加熱器學習模組204使主要溫度(亦即，加熱器溫度)經由電力及時間改變而與各別參考溫度相關以形成加熱器-負載相關性資料。在一種形式中，可在任何時間執行加熱器學習常式以建構且甚至更新相關性資料。
加熱器學習模組204可以其他合適方式而組配。舉例而言，代替量測負載溫度，模組204可使用參考感測器130量測加熱器102之表面以使加熱器與表面溫度相關。可使用預界定演算法以基於表面溫度估計負載之溫度以獲得加熱器-負載相關性資料。
在一種形式中，藉由包括但不限於速率及手動控制之一個或多個狀態模型控制來利用加熱器-負載相關性資料，以執行提昇補償來增加負載溫度增加的速率。具體言之，使用相關性資料，控制器106知曉加熱器102達到特定溫度所花費的時間量，且判定加熱器溫度應為什麼溫度且負載溫度達到所要溫度需要多長時間。因此，控制器106可增加負載溫度增加的速率。
除了加熱器-負載相關性資料之外或代替加熱器-負載相關性資料，加熱器學習模組204亦經組配以執行自動學習電阻對溫度曲線控制以自主地產生用於雙導 線系統之電阻對溫度映射表。判定電阻對溫度曲線之一個實例被描述於美國專利第7,196,295號中所揭示之雙導線系統中。通常，導線之電阻係基於在參考溫度下之基本電阻、用於雙導線之特定材料的TCR以及溫度而判定。雙導線系統可基於電壓及/或電流判定電阻，且接著可藉由使用電阻、基本電阻及TCR判定溫度。電阻對溫度曲線可基於例如來自引線之任何附加電阻或參考溫度與雙導線系統之間發現之偏差而調整。
電力控制模組206經組配以基於用於每一轉換器116之電力輸出命令操作電力轉換器中之每一者。在一種形式中，電力輸出命令可由加熱器學習模組204、狀態選擇模組210及系統保護模組212中之至少一者提供。在一種形式中，電力控制模組206將控制信號輸出至驅動器電路120，作為回報，驅動器電路120操作各別電力轉換器116之控制開關124以將輸入電壓調整至用於指定加熱元件之所要輸出電壓。
狀態模型控制模組208及狀態選擇模組210經組配以建構狀態模型控制，且選擇給定狀態模型以操作加熱器102。在一種形式中，狀態模型控制模組208經組配以將一個或多個狀態模型儲存於狀態模型控制儲存庫214中，且基於來自使用者之輸入修改或建構新狀態模型。舉例而言，下表1提供為用於在設定條件內控制加熱器102之電腦可執行程式的不同狀態模型之實例。雖然提供特定實例，但可使用其他狀態模型，同時保持於本發明 之範疇內。
Figure 107128056-A0305-02-0017-1
在一種形式中，狀態模型控制係藉由用於針對各別狀態模型控制來控制加熱器102之一個或多個操作設定而界定。舉例而言，表2提供可用以界定狀態模型控制之各種設定。雖然提供特定實例，但亦可使用其他設定且其他設定在本發明之範疇內。
Figure 107128056-A0305-02-0017-2
不同設定可用以界定不同狀態模型，且亦可 界定相同類型之狀態模型之不同變化。舉例而言，圖4繪示由六個不同狀態模型界定之狀態模型控制程式250，該等狀態模型包括：加電控制252、軟起動控制254、速率控制256，及三個PID控制258、260、262(亦即，穩態控制)。圖4繪示給定狀態模型至控制程式250之另一狀態模型的轉變。
每一狀態模型係藉由一個或多個設定而界定，該一個或多個設定可為固定的或可由使用者經由計算裝置135而調整。舉例而言，圖5A至圖5E繪示用於圖4之狀態模型控制程式250之狀態模型1至5的設定。可由使用者調整之設定之類型及/或數目可基於熱系統100之使用而自訂，且因此，在本發明之範疇內的是設定之任何數目可為可調整的或固定的。
圖5A繪示用於加電控制252之設定，其包括：用於以2%/分鐘執行加電之電力設定點；及用以當加熱器元件之電特性(HEC)大於加電臨限值(THPWR-UP)時移動至狀態模型2(軟起動控制254)之轉變條件，該加電臨限值(THPWR-UP)可為預界定的或可由使用者調整。圖5B繪示用於軟起動控制254之設定，其包括：0.5%電力/分鐘之速率設定，其中初始電力為0%且最大電力為5%；及用以當電壓輸出(VO/P)大於5%時退出控制254而至狀態模型3(速率控制256)之轉變條件。圖5C繪示用於速率控制256之設定，其包括：12℃/分鐘之速率設定點；200℃之比例帶(PB)、30秒之積分增益(Ti)，及0秒之導數增 益(Td)；可選擇但當前被設定為無之起動動作；用以當系統以1℃之相對參數(相對參數1)靠近電力設定點(SP)時移動至狀態模型4(PID-1 258)之轉變條件。圖5D及圖5E分別繪示用於狀態模型控制4及5(亦即，PID-1 258及PID-2 260)之設定，且兩者皆為被指派不同設定之PID控制。狀態模型控制4包括兩個退出條件以及其他設定，在該兩個退出條件中：當溫度設定點增加達10℃之相對參數(相對參數1)時，第一條件轉變至狀態模型3(亦即，速率256)；且若設定點減低達10℃之相對參數(相對參數2)，則第二條件轉變至狀態模型5(PID-2)。相似地，狀態模型控制5亦包括兩個退出條件，其中：當系統遠離設定點(例如，+/-5℃)時，第一退出條件轉變至狀態模型6(PID-3 262)；且在預定時間已流逝之後，第二退出條件轉變至狀態模型4(PID-1 258)。
圖5A至圖5C繪示用於特定控制程式之不同狀態模型之實例設定。應容易理解，其他設定可用於不同狀態模型。另外，狀態控制程式可由兩個或多於兩個狀態模型界定，且不應限於本文中所提供之實例。另外，控制器106可經組配以包括用於控制加熱器102之操作的多於一個狀態控制程式。因此，可建立不同狀態模型控制程式以適應不同類型之負載、加熱器及效能準則。
在一種形式中，藉助於計算裝置136，使用者自儲存狀態控制模型及狀態控制程式當中選擇控制操作作為選定加熱器操作狀態。狀態選擇模組210經組配基於 來自效能回饋模組202之資訊及針對選定加熱器狀態操作中所提供之狀態模型所界定之設定而執行選定加熱器操作狀態，該選定加熱器操作狀態儲存於儲存庫214中。在操作中，狀態選擇模組210判定加熱區114中之每一者的所要功率位準以滿足正被執行之狀態模型之條件，且將該功率位準輸出至電力控制模組206。使用來自感測器130及132之回饋資訊，狀態選擇模組210可調整送至加熱器102之電力。
因此，狀態模型控制模組208及狀態選擇模組210允許使用者動態地改變用於給定狀態模型控制之控制方案，以開發用於特定加熱器之控制程式(亦即，指紋)。舉例而言，當自一個狀態轉變至另一狀態時，為靜態功率位準之積分可由使用者設定為設定值，或可基於比如溫度之變數而調節。因此，基於狀態之模型控制可針對每一加熱器而調諧，且並非用於所有加熱器之固定控制方案。
系統保護模組212經組配以針對可能會損害加熱器102及/或控制系統104之異常活動而監測熱系統100。在一種形式中，系統保護模組212執行以下保護協定中之至少一者：區對區監測；區對參考物監測；改變率量規；及/或能量限制控制。
區對區及區對參考物監測為用以評估熱系統100是否正維持沿著加熱器102之所要平衡且最小化或防止對加熱器102之損害(諸如陶瓷斷裂)之相干控制的實例。舉例而言，對於區對區監測，保護模組212基於來自 效能回饋模組202之資訊判定加熱區114之溫度，且判定鄰近區之間的溫度差是否超過溫度方差臨限值(例如，10℃差)。若如此，則保護模組212執行用於最小化或防止對熱系統100之損害的保護性措施。
區對參考物監測比較加熱器102之平均溫度與參考溫度以判定兩者之間的溫度是否超過溫度方差臨限值，該溫度方差臨限值可與用於區對區監測之溫度方差臨限值相同或不同。因此，相干控制可藉由例如調整送至加熱器102之電力或使系統停機來防止熱系統100超過方差臨限值。
用於熱系統100之可能異常操作的另一指示符處於加熱器102正基於所施加之電力而加熱的速率。具體言之，在一種形式中，比較加熱器溫度及/或加熱器102之電回應基於所施加之電力而改變的速率與關聯速率範圍臨限值以判定加熱器102是否正在規格內作出回應。舉例而言，若當所施加之電力增加時加熱器溫度未增加，或若當所施加之電力相同或稍微增加時加熱器溫度突然地增加，則保護模組212將此類活動加旗標為異常且執行保護性措施。相似地，能量限制控制對可施加至加熱器102之電力的量設定限制，且若熱系統100超過及/或接近彼等限制，則保護模組212輸出保護性措施。舉例而言，能量限制控制用以設定低電阻起動期間之最大電流，及所遞送之最大電力。最大值可由使用者設定或基於例如加熱器102之規格而預定，且可在一溫度範圍內變化。
由系統保護模組212執行之保護性措施包括但不限於：指示電力控制模組206縮減送至一個或多個加熱區114之電力以控制變化；關斷送至加熱器102之電力；將關於顯著溫度方差之訊息輸出至計算裝置136；及/或藉由操作連鎖129斷開供應至電力轉換器系統108之電力。
控制器106可以各種合適方式而組配用於執行介面模組200、效能回饋模組202、加熱器學習模組204、電力控制模組206、狀態模型控制模組208、狀態選擇模組210及系統保護模組212之操作。舉例而言，在一種形式中，控制器106可在學習模式下操作以形成加熱器-負載相關性資料及/或電阻對溫度映射表，且控制器106可在操作模式下操作以修改狀態控制模型及/或執行選定加熱器操作狀態。在一種形式中，一旦將電力施加至加熱器102，控制器106就針對異常活動而監測系統100。
參看圖6，為了在此類模式之間選擇，控制器106經組配以經由計算裝置136顯示例如主選單GUI 270。在此實例中，各種控制選項被提供為按鈕(例如，學習模式按鈕272A及272B，以及操作模式按鈕274A及27B)。給定按鈕之啟動會促使控制器106執行一個或多個程式以執行所選擇之特定任務，其可包括產生用於請求所選擇之額外資訊任務的額外GUI。
除了在學習模式或操作模式下操作控制器106之外，控制器106亦可操作以顯示與加熱器效能相關 之資訊。舉例而言，加熱器效能可包括但不限於：溫度分佈(亦即，按鈕276A)，其沿著加熱器102之表面以展示各種區處之溫度；電力輸出圖形(亦即，按鈕276B)，其提供施加至加熱器102之電力、電流及/或電壓的量；及加熱器-負載溫度圖表(亦即，按鈕276C)，其用於描繪加熱操作期間隨時間推移之加熱器溫度及負載溫度。應容易理解，控制器106可經組配以輸出其他加熱器效能資訊。雖然圖6繪示主選單GUI之特定實例，但可使用其他GUI，同時在本發明之範疇內。
控制系統104可以各種結構組配而實施。舉例而言，在一種形式中，圖7繪示控制系統介面300，其包括用於容納控制器、連鎖、電力轉換器系統及感測器電路之殼體302。介面300亦包括用於連接至諸如計算裝置之一個或多個外部裝置之一個或多個通訊埠304。基於所使用的參考感測器130之類型，介面300亦包括用於自參考感測器130接收輸入之輔助埠(未展示)，且包括用於連接至加熱器102之加熱元件之電力埠(未展示)。
參看圖8及圖9，在一種形式中，為了保護控制系統免受來自電源之高AC電力，本發明之控制系統包括在電源與電力轉換器之間的隔離障壁。更特定而言，控制系統350包括安置於電源118與電力轉換器系統108之電力轉換器116之間的隔離電路352。雖然未繪示，但控制系統350經組配以包括控制系統104之其他組件，諸如加熱器控制器、連鎖、加熱器感測器電路等等。
隔離電路352包括控制橋接器工作循環以控制輸出均方根(RMS)之RMS控制電路354，及直流(DC)變壓器356，以及其他組件。隔離電路352將電力轉換器與進線電力進行電隔離。輸出為來自地球/地面及L1/L2/L3之浮動。
本發明之描述本質上僅僅係例示性的，且因此，並不脫離本發明之主旨的變化意欲在本發明之範疇內。此類變化不應被視為脫離本發明之精神及範疇。
如本文中所使用，片語A、B及C中之至少一者應被認作意謂使用非互斥邏輯或之邏輯(A或B或C)，且不應被認作意謂「A中之至少一者、B中之至少一者，及C中之至少一者。
100‧‧‧熱系統
102‧‧‧加熱器
104‧‧‧控制系統
106‧‧‧加熱器控制器
108‧‧‧電力轉換器系統
110‧‧‧加熱板
111‧‧‧基體
112‧‧‧支撐軸件
114‧‧‧加熱區
1161、1162、116n‧‧‧電力轉換器
118‧‧‧電源
129‧‧‧連鎖
130‧‧‧參考感測器
132‧‧‧加熱器感測器電路
136‧‧‧計算裝置
VIN‧‧‧輸入電壓
VOUT‧‧‧輸出電壓

Claims (14)

  1. 一種用以控制加熱器之控制系統，該加熱器包括至少一個加熱元件，該控制系統包含：一電力轉換器，其可操作來將可調整之一電壓輸出供應至該加熱器，其中該電力轉換器組配來將來自一電源之一電壓輸入轉換成小於或等於該電壓輸入之該電壓輸出；一感測器電路，其組配來量測該加熱器之該加熱元件之一電氣特性，其中該電氣特性包括一電流及一電壓中之至少一者；一參考溫度感測器，其量測該加熱器處之一參考點之一參考溫度；及一控制器，其組配來操作該電力轉換器以控制送至該加熱器之該電壓輸出，其中：該控制器組配來基於該電氣特性計算一加熱器元件之一主要溫度，且基於該參考溫度及該主要溫度中之至少一者決定待施加至該加熱器之該電壓輸出，且該控制器組配來在一操作模式及一學習模式中之至少一者下操作，且在該電壓輸出正供應至該加熱器時執行一或多個保護協定，及在該學習模式下，該控制器係組配來操作該加熱器以產生一加熱器負載相關性資料，該加熱器負載相關性資料將一加熱器元件之一溫度與定置於該加熱器上之一負載的一溫度相關聯。
  2. 如請求項1之控制系統，其中該控制器 組配來回應於該參考溫度與該主要溫度之間的一差大於一預設臨界值而將送至該加熱器之電力減低或關斷。
  3. 如請求項1之控制系統，其中該參考溫度感測器為一紅外線攝影機、一熱電偶及一電阻溫度檢測器中之一者。
  4. 如請求項1之控制系統，其中在該學習模式下，該控制器組配來逐漸地增加送至該加熱器之該電力以增加由該加熱器產生之熱、判定多個主要溫度、及將該等主要溫度與由該參考溫度感測器所檢出之個別參考溫度相關聯以產生該加熱器負載相關性資料。
  5. 如請求項4之控制系統，其中該控制器組配來映射該主要溫度及該參考溫度在一段時間內之改變，在該段時間期間該電力正在增加。
  6. 如請求項1之控制系統，其中該參考溫度感測器組配來量測定置於該加熱器上之一負載及該加熱器之一表面中之至少一者的一溫度。
  7. 如請求項1之控制系統，其中在該操作模式下，該控制器組配來執行一提昇補償以增加該等加熱元件產生熱而將該參考點加熱至一預界定設定點溫度的一速率。
  8. 如請求項1之控制系統，其中該控制器組配來基於該電氣特性針對該等加熱元件中之每一者判定該主要溫度，及針對鄰近區，基於該等主要溫度調整供應至該等鄰近區之一或多個加熱元件之電力以控制遍及該加 熱器之溫度變化。
  9. 如請求項8之控制系統，其中該控制器組配來回應於一個區相比於一鄰近區具有一較高溫度而減低送至該一個區之電力。
  10. 如請求項1之控制系統，其中在該操作模式下，該控制器組配來基於該參考溫度及該主要溫度中之至少一者，從多個界定狀態模型控制當中選擇一狀態模型控制作為該加熱器之一操作狀態。
  11. 如請求項10之控制系統，其中該等多個界定狀態模型控制包括一加電控制、一軟起動控制、一設定速率控制及一穩態控制中之至少一者。
  12. 如請求項10之控制系統，其中該等狀態模型控制中之每一者界定用於針對個別的該狀態模型控制來控制該加熱器之一或多個操作設定。
  13. 如請求項12之控制系統，其中該一或多個操作設定包括界定用以退出該操作狀態而至一個其他狀態模型控制之一條件的一轉變條件。
  14. 一種熱系統，其包含：一加熱器；及如請求項1之控制系統。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102510306B1 (ko) * 2020-04-21 2023-03-17 주식회사 히타치하이테크 플라스마 처리 장치 및 플라스마 처리 방법
US11769658B2 (en) * 2020-07-28 2023-09-26 Trojan Technologies Group Ulc Lamp with temperature control
EP4197287A1 (en) * 2020-08-12 2023-06-21 Watlow Electric Manufacturing Company Method and system for providing variable ramp-down control for an electric heater
CN112512138B (zh) * 2020-11-25 2022-04-08 珠海格力电器股份有限公司 加热器及其控制方法、用电器
CN116759347B (zh) * 2023-08-17 2023-12-12 浙江求是创芯半导体设备有限公司 外延工艺的控制方法及控制装置、半导体加工设备
CN117572912B (zh) * 2024-01-16 2024-04-09 南京实点电子科技有限公司 基于运行环境的多信道协调温度控制方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110174801A1 (en) * 2009-02-10 2011-07-21 Honeywell International Inc. Systems and methods for sourcing a heater
US20110206358A1 (en) * 2010-02-19 2011-08-25 Applied Materials, Inc. High Efficiency High Accuracy Heater Driver
US8064233B2 (en) * 2004-08-19 2011-11-22 Kokusai Electric Semiconductor Service Inc. Power supply regulating apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, method for controlling power to heater, and method for manufacturing semiconductor device
US20130287377A1 (en) * 2012-04-25 2013-10-31 Applied Materials, Inc. Direct current lamp driver for substrate processing

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1425917A (en) * 1972-08-19 1976-02-25 Solartron Electronic Group Rms converter
JPS59103292A (ja) * 1982-12-03 1984-06-14 三洋電機株式会社 誘導加熱調理器
US4788398A (en) * 1987-09-30 1988-11-29 General Electric Company Temperature sensor failure detection arrangement using a heater energy counter
US6084224A (en) * 1997-03-03 2000-07-04 Chrysler Corporation In-situ closed loop temperature control for induction tempering
TW493215B (en) 1997-11-06 2002-07-01 Applied Materials Inc Method and apparatus for reducing thermal gradients within a ceramic wafer support pedestal
JPH11345030A (ja) * 1998-06-03 1999-12-14 Komatsu Ltd ゾーン分割ヒータの温度制御装置
JP2000339039A (ja) * 1999-05-25 2000-12-08 Tokyo Electron Ltd 加熱手段の温度制御方法、その装置及び熱処理装置
JP2001128361A (ja) 1999-10-22 2001-05-11 Tokyo Electron Ltd 電源装置、加熱処理装置、電圧制御方法及び温度制御方法
WO2001052602A1 (en) * 2000-01-13 2001-07-19 Electric Power Research Institute, Inc. Apparatus and method for inductive heating
GB2358971B (en) * 2000-02-01 2005-02-23 Strix Ltd Electric heaters
JP4241737B2 (ja) * 2001-05-31 2009-03-18 株式会社デンソー ガス濃度センサのヒータ制御装置
US7666052B2 (en) * 2001-10-01 2010-02-23 Lionel L.L.C. Variable-heat smoke unit for model vehicle
MXPA05002039A (es) * 2002-08-21 2005-06-17 Watlow Electric Mfg Sistema de control de wattaje variable.
JP3824984B2 (ja) * 2002-09-06 2006-09-20 三菱電機株式会社 排気ガスセンサの温度制御装置
US7196295B2 (en) 2003-11-21 2007-03-27 Watlow Electric Manufacturing Company Two-wire layered heater system
US8236255B2 (en) * 2004-12-02 2012-08-07 Lab Vision Corporation Slide treatment apparatus and methods for use
US7932480B2 (en) * 2006-04-05 2011-04-26 Mks Instruments, Inc. Multiple heater control system with expandable modular functionality
JP4391518B2 (ja) * 2006-12-28 2009-12-24 東京エレクトロン株式会社 温度制御方法、調整装置、温度調節器、プログラム、記録媒体および加熱処理装置
US7848840B2 (en) * 2008-01-04 2010-12-07 Applied Materials, Inc. Method of controlling process parameters for semiconductor manufacturing apparatus
US8422870B2 (en) * 2009-02-13 2013-04-16 General Electric Company Residential heat pump water heater
CN101726034A (zh) * 2009-12-15 2010-06-09 青岛福润德自动化技术有限公司 电磁温控供热系统
KR101036542B1 (ko) * 2010-01-12 2011-05-24 세메스 주식회사 반도체 제조 장치용 히터 시스템
US8552346B2 (en) * 2011-05-20 2013-10-08 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for controlling temperature of a multi-zone heater in an process chamber
EP2605616B1 (en) * 2011-12-13 2016-03-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Induction heating fusing device and image forming apparatus
US20140257584A1 (en) * 2013-03-07 2014-09-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Energy management system, energy management method, medium, and server
WO2015016885A1 (en) * 2013-07-31 2015-02-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Digital pulse width modulation control for load switch circuits
US20150330648A1 (en) * 2014-05-19 2015-11-19 Lennox Industries Inc. Hvac system, an hvac controller and a method of heating an lcd display of an hvac controller
CN104198527B (zh) * 2014-09-28 2016-05-18 广电计量检测（武汉）有限公司 车厢传热系数测试系统以及车厢内温度控制系统
US9871379B2 (en) * 2015-02-18 2018-01-16 Cyboenergy, Inc. Smart microgrids and dual-output off-grid power inverters with DC source flexibility
JP6806704B2 (ja) 2015-05-22 2021-01-06 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 方位角方向に調整可能なマルチゾーン静電チャック
TW201717247A (zh) * 2015-06-02 2017-05-16 蘭姆研究公司 電漿處理系統之大動態範圍射頻電壓感測器及電壓模式射頻偏壓施加方法
TWI606242B (zh) * 2015-09-17 2017-11-21 旺矽科技股份有限公司 溫度控制系統及其方法
CN105627582A (zh) * 2016-03-24 2016-06-01 苏州路之遥科技股份有限公司 一种基于物联网技术的终端感温电热水器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8064233B2 (en) * 2004-08-19 2011-11-22 Kokusai Electric Semiconductor Service Inc. Power supply regulating apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, method for controlling power to heater, and method for manufacturing semiconductor device
US20110174801A1 (en) * 2009-02-10 2011-07-21 Honeywell International Inc. Systems and methods for sourcing a heater
US20110206358A1 (en) * 2010-02-19 2011-08-25 Applied Materials, Inc. High Efficiency High Accuracy Heater Driver
US20130287377A1 (en) * 2012-04-25 2013-10-31 Applied Materials, Inc. Direct current lamp driver for substrate processing

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