TWI711810B

TWI711810B - 流體控制機器

Info

Publication number: TWI711810B
Application number: TW108123947A
Authority: TW
Inventors: 丹野竜太郎; 篠原努; 鈴木裕也; 木曽秀則
Original assignee: 日商富士金股份有限公司
Priority date: 2018-07-09
Filing date: 2019-07-08
Publication date: 2020-12-01
Also published as: US20210123544A1; JPWO2020012828A1; CN111989514A; JP7189631B2; US11536385B2; IL279612B2; IL279612A; IL279612B1; KR20200125699A; KR102392599B1; TW202006491A; WO2020012828A1

Abstract

本發明提供一種可取得與內部動作相關之資料的流體控制機器。

本發明之流體控制機器V係具備：閥帽部2，係安裝有用以檢測出前述流體控制機器V內之動作的感測器M1、M2、P；以及閥本體1，係將閥帽部2收容在內部；在閥本體1中設置有：凹部12a，係用以收容閥帽部2；以及開縫12b，係使連接於感測器M1、M2、P之通訊用的纜線51導出至外側，並且與形成有流路之基台部11為相反側的一端係形成開口，且從外側貫通至凹部12a側。

Description

流體控制機器

本發明係關於一種在機器內具備感測器，並且可輸出由該感測器所檢測出之資料的流體控制機器。

在半導體晶圓之表面形成薄膜之成膜處理中，要求薄膜之微細化，近年來採用一種以原子層級(level)或分子層級之厚度來形成薄膜之ALD(原子層沈積，Atomic Layer Deposition)的成膜方法。

然而，該種薄膜之微細化係對流體控制機器要求高於目前為止者之高頻度的開閉動作，而會有因其負荷而容易造成流體之漏出等之情形。因此，對於可容易地檢測出流體控制機器之流體之漏出的技術之要求係逐漸提高。

另外，若不但可容易地檢測出漏出，而且還能收集伴隨動作之資料，即可掌握以往未能考慮到之流體控制機器的使用頻度或個體差異等，亦可比以往精確度佳地控制流體控制機器。

此點，在專利文獻1中提案有一種附有密封部破損檢知機構之控制器，其係由形成在控制流體之流量之控制器之外表面的孔及安裝在該孔而檢測流體之漏洩之漏洩檢知構件所構成，前述孔係與控制器內之空隙連通，前述漏洩檢知構件係依據特定之流體的存在而進行感應，前述孔係在安裝有漏洩檢知構件之狀態下與外部連通而成者。

(先前技術文獻) (專利文獻)

專利文獻1：日本特許第3142304號公報

專利文獻1所述之附有密封部破損檢知機構之控制器係具備漏洩檢知構件，且與控制器外之信號發生裝置電性連通。另一方面，至今尚未提供一種不僅進行洩漏之檢知，並且取得平常時之與機器之內部動作相關的資料之流體控制機器。

因此，本發明之目的之一在於提供一種可取得與機器之內部動作相關之資料的流體控制機器。

為了達成上述目的，本發明之流體控制機器係可取得與內部動作相關之資料者，該流體控制機器係具備：閥帽部，係安裝有用以檢測出前述流體控制機器內之動作的一個或複數個感測器；以及閥本體，係將前述閥帽部收容在內部；在前述閥本體中設置有：凹部，係用以收容前述閥帽部之至少一部分；以及開縫，係使連接於前述感測器之通訊用的纜線導出至外側，並且與形成有流路之基台部為相反側的一端係形成開口，且從外側貫通至凹部側。

再者，前述感測器之一者為檢測出相隔開之磁鐵與磁性體之磁場之變化的磁性感測器；該流體控制機器更具備：圓柱狀之隔膜按壓件，係安裝有前述磁性體，並且按壓隔膜；以及轉動限制手段，係針對以可滑動之方式貫插至設置於前述閥帽部之貫插孔內的前述隔膜按壓件，限制前述隔膜按壓件之周方向的轉動；並且，在前述閥帽部中，亦可安裝有前述磁鐵，且設置有供前述隔膜按壓件貫插之貫插孔。

再者，前述感測器之一者為檢測出由隔膜所隔離之空間之壓力的壓力感測器，且亦可在前述閥帽部安裝有前述壓力感測器。

此外，前述纜線之一端亦可與設置在流體控制機器之外側的連接器連接，且該流體控制機器更具有：將前述連接器固定在前述流體控制機器之固定手段。

並且，前述閥本體之基台部為矩形狀，前述固定手段亦可將前述連接器朝向前述閥本體之基台部的對角線方向固定在前述流體控制機器。

並且，連接在前述感測器之通訊用的纜線亦可為具有可撓性之可撓基板。

依據本發明之流體控制機器，可取得與機器之內部動作相關之資料。

1‧‧‧閥本體

2‧‧‧閥帽部

3‧‧‧罩蓋部

4‧‧‧致動器部

11‧‧‧基台部

12‧‧‧圓筒部

12a、24a‧‧‧凹部

12b‧‧‧開縫

21‧‧‧片料

22‧‧‧隔膜

23‧‧‧隔膜按壓件

24‧‧‧閥帽

25‧‧‧閥帽壁

25a、41a、241a‧‧‧貫插孔

25b、42a、43a‧‧‧開口部

25c、31a‧‧‧螺絲孔

25d、31b、31d‧‧‧螺絲

25e、32b、33a、33b、241c‧‧‧貫通孔

25f‧‧‧螺栓

26‧‧‧襯墊

31‧‧‧罩蓋

31c、241b‧‧‧螺絲穴

32、33‧‧‧板

32a‧‧‧凹陷部

41‧‧‧致動器本體

42‧‧‧致動器帽蓋

43‧‧‧活塞

44‧‧‧彈簧

51‧‧‧可撓纜線

52‧‧‧電路基板

53‧‧‧連接器

111‧‧‧流入路

112‧‧‧閥室

113‧‧‧流出路

231‧‧‧基體部

231a‧‧‧條溝

231b‧‧‧螺紋

232、431‧‧‧擴徑部

241‧‧‧隔開部

241d‧‧‧連通孔

411‧‧‧周壁

432‧‧‧驅動壓導入路

M1‧‧‧磁鐵

M2‧‧‧磁性體

O41、O42‧‧‧O環

P‧‧‧壓力感測器

S‧‧‧驅動壓導入室

V‧‧‧流體控制機器

第1圖係顯示本發明之實施型態之流體控制機器，第1圖(a)為外觀立體圖、第1圖(b)為俯視圖。

第2圖係顯示本實施型態之流體控制機器之內部構造的A-A剖視圖，第2圖(a)為閉閥狀態、第2圖(b)為開閥狀態。

第3圖係顯示本實施型態之流體控制機器之內部構造的B-B剖視圖，第3圖(a)為閉閥狀態、第3圖(b)為開閥狀態。

第4圖係顯示本實施型態之流體控制機器之分解立體圖。

第5圖係顯示本實施型態之流體控制機器之分解立體圖。

第6圖係顯示本實施型態之流體控制機器之分解立體圖。

以下，針對本發明之實施型態之流體控制機器，參照圖式加以說明。

此外，在以下之說明中，為了方便起見，係有依在圖式上之方向將構件等之方向指稱為上下左右之情形，但該等並非限定本發明之實施或使用時之構件等的方向者。

如第1圖所示，本實施型態之流體控制機器V係內建用以檢測出流體控制機器V之內部動作的感測器，且執行與其他端末等進行之有線通訊的空氣作動式的直接隔膜閥(direct diaphragm valve)。

此外，在此所謂之其他端末，除了伺服器等所謂電腦之外，亦包含其他流體控制機器或流量控制裝置等機器、裝置。

本實施型態之流體控制機器V係可取得與內部動作相關之資料的機器，且如第1圖至第3圖所示，具備閥本體1、閥帽部2、罩蓋部3、致動器部4。

●閥本體1

閥本體1係如第2圖至第4圖，由形成有流路之基台部11、及設置在基台部11上之大致圓筒形狀之圓筒部12所構成。

基台部11為俯視矩形狀，在構成藉由複數個流體控制機器V而單元化之流體控制裝置時，係成為設置在基板或歧管塊(manifold block)上的部分。

圓筒部12係為在配設有閥帽部2之側的端面形成開口之中空形狀，中空之內部係構成收容有閥帽部2之凹部12a。

在該圓筒部12中設置有開縫12b，該開縫12b係在軸心方向具有長度，且在配設有閥帽部2之側且為與基台部11為相反側之一端形成開口，並且從外側貫通至凹部12a側。經由該開縫12b將從閥帽壁25延伸出之可撓纜線51從內側導出至外側。

在凹部12a之下方及基台部11內，形成有供流體流入之流入路111、供流體流出之流出路113、及連通於該流入路111及流出路113之閥室112。流入路111、流出路113、及閥室112係一體地構成供流體流通之流路。

●閥帽部2

閥帽部2係如第2圖至第5圖所示，配設成收容於閥本體1之凹部12a內的狀態。

該閥帽部2係具備片料21、隔膜22、隔膜按壓件23、閥帽24、及閥帽壁25。

環狀之片料21係設置在流入路111及流出路113連通之部位的周緣。在片料21上設置有隔膜22，隔膜22係藉由與片料21抵接分離，而使流體從流入路111流通至流出路113，或使流通被阻隔。

隔膜22係由不銹鋼、Ni-Co系合金等金屬或氟系樹脂所構成且中心部會呈凸狀膨出之球殼狀的構件，且將流路與致動器部4動作之空間予以隔離。當供給作為驅動壓之空氣而從由隔膜按壓件23進行之按壓解放時，該隔膜22係如第2圖(b)及第3圖(b)所示，藉由本身之復原力或流路內之壓力，使中央部朝從片料21分離之方向變位而從片料21分離。結果，成為閥室112被開放，且流入路111與流出路113連通之狀態。另一方面，當作為驅動壓之空氣的供給停止而使隔膜22被隔膜按壓件23按壓時，如第2圖(a)及第3圖(a)所示，隔膜22之中央部會朝與片料21抵接之方向變位而與片料21抵接。結果，成為閥室112被阻隔，且流入路111與流出路113被阻隔之狀態。

隔膜按壓件23係設置在隔膜22之上側，且藉由閥帽24而支持成可上下移動，並且與滑動之活塞43連動而按壓隔膜22之中央部。

該隔膜按壓件23係由大致圓柱狀之基體部231、及在與隔膜22抵接之側的一端側擴徑之擴徑部232所構成。

在基體部231形成有有底之條溝231a，該條溝231a係在軸心方向具有長度，且在與擴徑部232為相反側之一端形成開口。螺入至閥帽壁25之螺絲孔25c的螺絲25d之軸棒部分係以可滑動之方式嵌合於該條溝 231a。條溝231a及螺絲25d係構成限制隔膜按壓件23之周方向之轉動的轉動限制手段，藉此，隔膜按壓件23係與滑動之活塞43連動而上下動作，同時被限制周方向之轉動。

並且，在基體部231中安裝有構成磁性感測器之磁鐵M1。該磁鐵M1係與安裝在閥帽壁25之磁性體M2一同構成後述之磁性感測器。此外，在本實施例中，磁鐵M1雖係安裝在基體部231之條溝231a的相反側，但只要對於與磁性體M2構成磁性感測器一事沒有妨礙，則亦可安裝在基體部231上之其他位置。

擴徑部232係在其下表面側與隔膜22抵接，並與滑動之活塞43連動而按壓隔膜22。

閥帽24係為大致圓筒狀，且覆蓋閥室112而被收容在閥本體1之凹部12a內。

在閥帽24之內部設置有：在中心部形成有供隔膜按壓件23貫插之貫插孔241a之大致圓盤狀的隔開部241。

在形成於隔開部241之上方或配設有致動器部4之側的凹部24a收容有閥帽壁25。隔開部241及閥帽壁25係分別在彼此對應之位置設置有螺絲穴241b及貫通孔25e，藉由螺栓25f將閥帽壁25螺設於閥帽24。

閥帽24之隔開部241係具有一定之厚度，且在形成於隔開部241之貫插孔241a的內周面與隔膜按壓件23之間介設有O環O2。藉此，確保由隔開部241及隔膜22所區隔之空間的氣密性。

並且，在閥帽24之隔開部241中，設置有與安裝在閥帽壁25之壓力感測器P連通之連通孔241d。藉由透過連通孔241d設置壓力感測器P，可測定由隔開部241及隔膜22所區隔之空間內的壓力。

並且，在閥帽24之側面設置有用以將從收容在內側之閥帽壁25導出的可撓纜線51導出至外側之貫通孔241c。

閥帽壁25係配設在閥帽24內之構件。該閥帽壁25係為將厚壁之大致圓盤狀的構件鑿挖成俯視大致C字狀之形狀。在該閥帽壁25之中心，設置有供隔膜按壓件23之基體部231貫插的貫插孔25a。並且，還設置有使貫插孔25a朝向閥帽壁25之半徑方向外側開口的開口部25b。

在閥帽壁25之厚度部分的預定部位，形成有從貫插孔25a朝向半徑方向外側經螺紋加工而成的螺絲孔25c。在該螺絲孔25c中，從外側螺合有螺絲25d，所螺合之螺絲25d的軸心部分係穿出至貫插孔25a側，且以可滑動之方式嵌合於貫插至貫插孔25a之隔膜按壓件23的條溝231a。

在閥帽壁25中，係於對應於閥帽24之螺絲穴241b的位置設置有貫通孔25e。在螺絲穴241b及貫通孔25e中，係在閥帽壁25配設於閥帽24之隔開部241上的狀態下螺合有螺栓25f，藉此在閥帽24固定閥帽壁25。

在閥帽壁25之外周面中之開口部25b附近，安裝有以塞住開口部25b之方式架設並固定之平板狀的磁性體M2。該磁性體M2係與安裝在隔膜按壓件23之磁鐵M1一同構成後述之磁性感測器。

●罩蓋部3

罩蓋部3係如第1圖及第6圖所示，夾壓致動器本體41及閥本體1而予以一體地保持，並且構成將電路基板52及設置於電路基板52之連接器53固定在流體控制機器V的固定手段。

該罩蓋部3係具備罩蓋31及平板狀之板32、33。

罩蓋31係為大致U字狀，且在其內側嵌入有致動器本體41及閥本體1之端部。

在罩蓋31之兩側面，係對應於嵌入有致動器本體41之位置設置有螺絲孔31a。藉此，在閥本體1嵌入於內側的狀態下，當使螺絲31b螺入於螺絲孔31a，並使螺絲31b之前端壓接於閥本體1時，可將閥本體1夾持於罩蓋31之內側。

並且，在罩蓋31之厚度部分設置有螺絲穴31c。在該螺絲穴31c中，經由板32、33之貫通孔32b、33b螺合螺絲31d，藉此在罩蓋31安裝板32、33。

板32、33係在將致動器本體41與閥本體1之端部嵌入於罩蓋31之內側的狀態下與罩蓋31經螺絲鎖定固定。且在被固定之狀態下，在板32、33與罩蓋31之間夾壓保持致動器本體41及閥本體1。

在該板32之下方形成有凹陷成舌片狀之凹陷部32a，可撓纜線51係經由該凹陷部32a導出至設置有連接器53之電路基板52。

板33係在與板32之間介設有電路基板52之狀態下經螺絲鎖定固定於板32及罩蓋31，而在與板32之間夾壓保持電路基板52。

在該板33中，於中央部設置有大致矩形狀之貫通孔33a，且設置在電路基板52之連接器53係從該貫通孔33a穿出至外側。

在此，在基台部11為俯視矩形狀時，罩蓋部3係如第1圖(b)所示，將連接器53朝矩形狀之基台部11的對角線方向固定於流體控制機器V。在此方向固定連接器53係基於以下之理由。亦即，在構成藉由複數個流體控制機器V而單元化之流體控制裝置(氣體箱，gas box)時，從要求集成化之觀點來看，較佳為儘可能地使相鄰接之矩形狀的基台部11之方向一致並消除間隙，且在基盤或歧管塊上配設流體控制機器V。另一方面，在如上方式配設並使之集成化後，會難以將端子等連接於連接器53。因此，與朝正橫向配設之流體控制機器V之情形相比較，藉由使連接器53朝向基台部11之對角線方向可獲取較廣之連接之空間。結果，容易將端子等連接於連接器53，且亦可防止因端子等之折斷或扭曲所造成之斷線等缺失、端子等抵觸於流體控制機器V而使流體控制機器V之動作產生異常等缺失。

●致動器部4

致動器部4係配設在閥帽部2上。

該致動器部4係如第2圖及第3圖所示，具備致動器本體41、致動器帽蓋(cap)42、活塞43、及彈簧44。此外，在第4圖中，雖省略致動器部4之內部構造，但內部構造係如第2圖及第3圖所示。

致動器本體41係介設在活塞43與閥帽24之間。

該致動器本體41係如第4圖所示為大致圓柱形狀，且在中心部沿著長度方向設置有供活塞43及隔膜按壓件23貫插之貫插孔41a。如第2圖及第3圖所示，在貫插孔41a內抵接有活塞43及隔膜按壓件23，隔膜按壓件23係與活塞43之上下動作連動而上下動作。

在配設有活塞43之側的上端面形成有由環狀之突條所構成之周壁411，在周壁411之內側的平坦的水平面與活塞43之擴徑部431的下端面之間形成有導入驅動壓之驅動壓導入室S。

並且，在致動器本體41之一端側的外周面上加工形成有公螺紋，藉由與加工形成在致動器帽蓋42之內周面的母螺紋螺合，將致動器本體41安裝在致動器帽蓋42之一端。

致動器本體41之長度方向的中心部係形成為剖視大致六角形狀，該剖視六角形狀之部分及閥本體1之上端部分係由罩蓋31一體地夾壓。

致動器帽蓋42係下端部形成開口之帽蓋狀的構件，且在內部收容有活塞43及彈簧44。

在致動器帽蓋42之上端面，設置有與活塞43之驅動壓導入路432連通之開口部42a。

致動器帽蓋42之下端部係由致動器本體41之上部螺合而被封閉。

活塞43係依據驅動壓之供給及停止而上下動作，透過隔膜按壓件23使隔膜22與片料21抵接分離。

該活塞43之軸心方向大致中央係擴徑成圓盤狀，該部位係構成擴徑部431。活塞43係在擴徑部431之上表面側承受彈簧44之彈推力。並且，在擴徑部431之下端側形成有供給有驅動壓之驅動壓導入室S。

並且，在活塞43之內部設置有用以使形成在上端面之開口部43a與形成在擴徑部431之下端側的驅動壓導入室S連通的驅動壓導入路432。活塞43之開口部43a係連通至致動器帽蓋42之開口部42a，且在開口部42a連接用以從外部導入驅動壓之導入管，藉此對驅動壓導入室S供給驅動壓。

在活塞43之擴徑部431的外周面上安裝有O環O41，該O環O41係將活塞43之擴徑部431的外周面與致動器本體41之周壁411之間予以密封。並且，亦在活塞43之下端側安裝有O環O42，該O環O42係將活塞43之外周面與致動器本體41之貫插孔41a的內周面之間予以密封。藉由該等O環O41、O42形成與活塞43內之驅動壓導入路432連通之驅動壓導入室S，以確保該驅動壓導入室S之氣密性。

彈簧44係捲繞於活塞43之外周面上，且抵接在活塞43之擴徑部431的上表面而將活塞43朝下方(亦即將隔膜22下推之方向)彈推。

在此，針對伴隨驅動壓之供給及停止而進行之閥的開閉動作加以說明。當從連接在開口部42a之導入管(圖示省略)供給空氣時，空氣係經由活塞43內之驅動壓導入路432而導入至驅動壓導入室S。依此，活塞43會抵抗彈簧44之彈推力而朝上方被上推。藉此，成為隔膜22從片料21分離而開閥之狀態，且流體會流通。

另一方面，當空氣不被導入至驅動壓導入室S時，活塞43會隨著彈簧44之彈推力朝下方被下推。藉此，成為隔膜22抵接於片料21而閉閥之狀態，以阻隔流體之流通。

●感測器

流體控制機器V係作為用以檢測出機器內之動作的感測器，具備由壓力感測器P、磁鐵M1及磁性體M2所構成之磁性感測器。

壓力感測器P係如第3圖所示，安裝在閥帽壁25之下表面或流路側。該壓力感測器P係經由連通孔241d而與藉由隔膜22和閥帽24之隔開部241所區隔之空間連通。藉此，壓力感測器P可檢測出藉由隔膜22與閥帽之隔開部241所區隔之空間內的壓力。

此外，在壓力感測器P穿通連通孔241d之部位介設有襯墊26，以確保氣密狀態。

在閥帽壁25之開口部25b安裝有磁性體M2，該磁性體M2係與安裝在隔膜按壓件23之磁鐵M1一同構成磁性感測器。

可藉由該磁性感測器如以下所述檢測出閥之開閉動作。亦即，磁鐵M1係依隔膜按壓件23之上下動作而滑動，相對於此，磁性體M2係與閥帽壁25及閥帽24一同固定在閥本體1內。結果，根據發生在隨著隔膜按壓件23之上下動作而上下動作的磁鐵M1與位置固定之磁性體M2之間的磁場之變化，可檢測出隔膜按壓件23之動作、甚至閥之開閉動作。

此外，在本實施型態中雖採用磁性感測器，但並不限定於此，在其他實施型態中，亦可使用光學式之位置感測器等其他種類之感測器。

在壓力感測器P及磁性感測器分別連接有具有可撓性之通訊用的可撓纜線51之一端(在磁性感測器中，詳細而言係連接於磁性體M2)，可撓纜線51之另一端係連接在設置於流體控制機器V之外側的電路基板52。並且，在電路基板52設置有外部端子連接用之大致矩形狀的連接器53，藉此，可抽出由壓力感測器P及磁性感測器所測定之資料。

此外，本實施型態中，在可撓纜線51及電路基板52係使用可撓基板(FPC)，可撓纜線51、電路基板52、及連接器53係一體地構成。藉由在可撓纜線51及電路基板52使用可撓基板，可利用構件間的間隙作為配線路徑，結果，與使用被覆線之情形相比較，可使流體控制機器V本身小型化。

並且，連接器53之種類或形狀係可依據各種規格適當地設計。

依據由該種構成所形成之流體控制機器V，可將由壓力感測器P及磁性感測器所檢測出之資料輸出至外部。並且，該資料係可成為掌握閥之開閉動作、因隔膜22之破損等所造成之洩漏、流體控制機器V之經年性劣化或個體差異等的資訊。

●組裝步驟

接著，針對構成本實施型態之流體控制機器V之各構件的組裝步驟加以說明。

首先，如第5圖所示，使閥帽壁25收容在閥帽24。此時，將一端連接於閥帽壁25之壓力感測器P及磁性體M2之可撓纜線51的另一端從貫通孔241c導出至外側。

使安裝在閥帽壁25之磁性體M2與安裝在隔膜按壓件23之磁鐵M1的位置、設置在隔膜按壓件23之條溝231a與螺絲25d之位置相對應，而使隔膜按壓件23貫插於閥帽24之貫插孔241a與閥帽壁25之貫插孔25a。

接著，如第4圖所示，依據安裝有片料21、隔膜22、閥帽壁25之閥帽24的順序在閥本體1之凹部12a內收容閥帽部2，並且將致動器本體41收容在凹部12a內。在此，在閥本體1中，設置有與基台部11為相反側之一端形成開口，並且從外側貫通至凹部12a側之開縫12b。藉此，在使閥帽部2收容在凹部12a內之際，只要使從貫通孔241c導出之可撓纜線51的位置與開縫12b之位置相對合，則可順暢地將閥帽部2收容在凹部12a內。亦即，省去刻意從閥本體1內拉出可撓纜線51的麻煩，因此組裝作業性佳。

在將閥帽部2收容於閥本體1內之後，在閥帽部2上配設有致動器部4之情形下，以罩蓋部3覆蓋閥本體1及致動器部4。如第1圖及第6圖所示，在利用罩蓋部3來覆蓋閥本體1及致動器部4之步驟中，首先在罩蓋31之內側嵌入致動器本體41與閥本體1之上端部，並使螺絲31b螺入於螺絲孔31a而在閥本體1固定罩蓋31。並且，使電路基板52介設於板32與板33之間，並將板32、33彼此經螺絲鎖定固定而將電路基板52夾壓保持在板32與板33之間，再將其安裝在罩蓋31並以螺絲31d加以固定。

在以上之本實施型態之流體控制機器V的組裝中，係設置有與基台部11為相反側之一端形成開口且從外側貫通至凹部12a側之開縫12b，藉此，只要將閥帽部2從閥本體1之上端開口部收容至凹部12a內，即可成為使可撓纜線51從閥本體1之凹部12a導出之狀態。因此，不但組裝容易，亦不會有對可撓纜線51造成損傷而斷線等之虞。

再者，藉由將從流體控制機器V取得資料之構造作成為藉由可撓纜線51所形成之有線構造，即便在不銹鋼等金屬構件從壓力感測器P或磁性感測器等感測器之設置部位與外部隔絕之情形下，亦可進行通訊。並且，可藉由設為有線而對感測器供給電源，且不需要進行電池更換，因此對於在作業者之作業困難之半導體製造裝置內使用的流體控制機器V而言較為理想。再者，即使是如同流體控制裝置(氣體箱)內部或半導體製造裝置內部的機器密集之空間，亦不會產生電波障礙，而可進行確實之通訊。

此外，在以上之本實施型態之流體控制機器V中，雖具備由壓力感測器P、磁鐵M1及磁性體M2所構成之磁性感測器等複數個感測器，但並不限定於此，亦可為僅具備任一個感測器者。