TWI706803B - 消泡裝置 - Google Patents

Abstract

一種使用於PCB之DES製程的消泡裝置，該消泡裝置提供以設置在DES製程之顯影槽外的副槽上；該消泡裝置包括有一本體與一真空產生器，其中，本體內部具有泡沫破壞區與出液區，並且本體設置有排氣口以及位於該泡沫破壞區上方的進液口；該真空產生器運轉時通過排氣口使本體內部產生負壓力，進而通過第一管路將副槽內的產生泡沫的藥水溶液吸入本體內，使藥水溶液通過泡沫破壞區被消除泡沫後再通過出液區排出，排出的藥水溶液經過濾後再回收輸送至顯影槽利用。

Description

消泡裝置

本發明涉及使用於印刷電路板（Printed Circuit Board， 以下簡稱「PCB」）之外層顯影蝕刻剝墨線(以下簡稱「DES」)製程的消泡裝置。

PCB在化學濕製程中的DES製程需要在顯影槽使用大量溶解藥水(碳酸鈉溶液)來溶解PCB上的油墨及其他物質，隨著大量處理PCB時被溶解藥水沖刷下來的油墨與雜質愈來愈多，溶解藥水的濃度也隨著降低，致使溶解效果越來越差，溶解藥水因來不及溶解油墨與雜質而不定時地會在顯影槽產生大量泡沫而溢出。

面對顯影槽溢出大量泡沫的問題，習知的解決方式是在顯影槽外添加一個相通的副槽，當顯影槽內的液位高於副槽某一液面後使泡沫隨著藥水溶液自動從連接顯影槽的廢水管排出至副槽。然而這種做法會製造多餘的大量汙水往外排出，不僅增加溶解藥水的成本，而且污染環境。

本發明的目的在於提供一種在PCB濕製程中減少使用溶解藥水量以降低成本，並且減少排放污水以降低污染環境的問題。

本發明的特徵是提供一種使用於PCB之DES製程的消泡裝置，該消泡裝置提供以設置在DES製程之顯影槽外的副槽上；該消泡裝置包括有一本體與一真空產生器，其中，本體內部具有泡沫破壞區與出液區，並且本體設置有排氣口以及位於該泡沫破壞區上方的進液口；該真空產生器運轉時通過排氣口使本體內部產生負壓力，進而通過第一管路將副槽內的產生泡沫的藥水溶液吸入本體內，使藥水溶液通過泡沫破壞區被消除泡沫後再通過出液區排出，排出的藥水溶液經過濾後再回收輸送至顯影槽利用。

本發明之消泡裝置提供以設置在DES製程之顯影槽外的副槽上；包括：一本體，內部具有由上往下配置的一泡沫破壞區、一緩衝區、一靜置區與一出液區，並且該本體設置有一排氣口以及一進液口，其中該進液口位於該泡沫破壞區上方並且連接一第一管路，該第一管路往該本體外延伸；以及一真空產生器，設於該本體外面並且以一第二管路連接該排氣口，該真空產生器運轉時使該本體內部產生負壓力，其中，藉由該負壓力將藥水溶液從該第一管路吸入該本體內部後，使該藥水溶液藉由重力依序通過該泡沫破壞區、該緩衝區、該靜置區以消除泡沫，再使該藥水溶液通過該出液區的一出液口排出。

較佳者，該本體內部區隔出有相鄰的一第一空間與一第二空間，該泡沫破壞區、該緩衝區、與該靜置區設於該第一空間，該出液區位於該第一空間與該第二空間的下方。

較佳者，該泡沫破壞區設有至少一個傾斜板，該傾斜板設有至少一個通孔，該傾斜板上設有一過濾棉層。

在一適當實施例中，可以包含有二個該傾斜板，該二個傾斜板的傾斜方向互為相反且呈上下配置，每一個該傾斜板均設置有該通孔與該過濾棉層。

較佳者，該通孔位於該傾斜板的最低位置。

較佳者，該緩衝區可以包括有位於該泡沫破壞區下方的至少一個隔板，該隔板設有複數洞孔，該隔板上配置有複數顆粒物，並且在該等顆粒物之間形成縫隙。

在一適當實施例中，該顆粒物可以是彈珠。

較佳者，該出液口連接一第三管路，並且該第三管路設置有用以控制該藥水溶液是否通過該第三管路的一電磁閥。

較佳者，該第二空間可以設有一擋液板，用以避免液體被吸入該排氣口。

本發明利用前述之消泡裝置直接安裝於PCB濕製程之副槽，可以直接將溢流至副槽的藥水溶液和泡沫抽吸至消泡裝置的本體內的泡沫破壞區以破壞泡沫，再使藥水溶液流至緩衝區以進一步消除泡沫，然後將消除泡沫後的藥水溶液流至靜置區，等待電磁閥控制該藥水溶液通過第三管路排出，經過濾後再回收輸送回顯影槽，從而維持顯顯槽內之藥水溶液的濃度在預期的程度，得以降低藥水溶液的使用量以及排放污水量，達到降低藥水溶液成本及降低環境污染的目的。

以下配合圖式及元件符號對本發明的實施方式做更詳細的說明，俾使熟習該項技藝者在研讀本說明書後能據以實施。

如圖1所示，本發明提供之消泡裝置的較佳實施例包括有一本體1與一真空產生器2。其中，本體1的內部以一豎直板11區隔出一第一空間10A與一第二空間10B，使得該第一空間10A與第二空間10B分別位於本體1內部的右側與左側，並且第一空間10A與第二空間10B可以使氣流在某些部位彼此相通，例如可以在豎直板12的較高位置形成通氣孔121，使得氣體可以從第一空間10A流至第二空間10B，但往下方流動的液體無法通過通氣孔121溢流至第二空間10B。

第一空間10A設置有依序由上往下配置的泡沫破壞區11A、緩衝區11B、靜置區11C與出液區11D；其中，泡沫破壞區11A設有至少一個過濾棉層132；本發明的較佳實施例係包括有二個過濾棉層132。具體而言，泡沫破壞區11A設置有分別配置在上方的第一傾斜板13A與配置在第一傾斜板13A下方的第二傾斜板13B，該第一、二傾斜板13A、13B的傾斜方向互為相反，該第一、二傾斜板13A、13B均設置有至少一個通孔131，該通孔131較佳地位該第一、二傾斜板13A、13B的最低位置，每一個傾斜板13A、13B上面則配置所述過濾棉層132。

緩衝區11B係設於泡沫破壞區11A的下方，該緩衝區11B較佳地具有分別配置在上方與下方的第一隔板14A與第二隔板14B，並且在第一、二隔板14A、14B均設有複數洞孔141，以及在第一、二隔板14A、14B上均配置有複數顆粒物142，並且在該等顆粒物之間形成縫隙以供液體可以通過；在本發明的實施例可以採用彈珠作為所述顆粒物142。

靜置區11C係位於緩衝區11B的下方的空間，該靜置區11C的底面具有一出液口111，該出液口111連接第三管路P3，且第三管路P3延伸出本體1外並連接至顯影槽內，該第三管路P3延伸至顯影槽的路徑中還設有過濾裝置(圖中未顯示)，用以過濾藥水溶液中的雜質；再者，第三管路P3上還設置有一電磁閥15，用以控制藥水溶液通過第三管路P3的時間與流量。

此外，第一空間10A的側壁設置一進液口101，且該進液口101位於泡沫破壞區1A的上方，該進液口101連接一第一管路P1，該第一管路P1延伸至本體1外部並且延伸進入一副槽4內部，該副槽4係連接至PCB濕製程之顯影槽(圖中未顯示)的槽體。

第二空間10B的側壁的較高位置設置一排氣口102，排氣口102連接一第二管路P2，且該第二管路P2連接真空產生器2，該真空產生器2則連接一排氣盒21，所述真空產生器2由電控箱3控制運轉與否。本體1內部的排氣口102下方設置一擋液板103，該擋液板103較佳地形成為傾斜一角度，亦即該擋液板103從本體1之第二空間10B的內側壁往上方傾斜延伸，使得擋液板103的自由端高於排氣口102的中心位置，藉以避免本體1內的液體進入排氣口102。

本發明之消泡裝置的運作方式說明如下： 當PCB濕製程中的顯影槽中的藥水溶液產生泡沫並且排入副槽4內時，可以通過自動設定或人工作業方式啟動真空產生器2運轉，運轉中的真空產生器2通過第二管路P2將本體1內的空氣吸出時(如圖1所示之實心箭頭所示的方向)將使本體1內部產生負壓力，從而通過第一管路P1將副槽4內的含有泡沫的藥水溶液吸入本體1內(如圖1所示之空心箭頭所示的方向)，藥水溶液通過進液口101被吸入本體1內後會先落在第一傾斜板13A的過濾棉層132上進行第一次過濾，過濾後的藥水溶液再通過第一傾斜板13A的通孔131往下落至第二傾斜板13B的過濾棉層132上進行第二次過濾，然後通過第二傾斜板13B的通孔131落至緩衝區11B；其中，由於第一、二傾斜板13A、13B均傾斜一角度地配置，因此藥水溶液通過進液口101落至過濾棉層132後會進一步往下方流動，從而可以獲得初步穩流效果並且破壞泡沫，當藥水溶液再落至第二傾斜板13B上的過濾棉層132時再產生一次穩流效果而進一步破壞泡沫；通過第二傾斜板13B後的藥水溶液在落至緩衝區11B後則藉由較大體積的顆粒物142予以緩衝而完成消除泡沫，最終使藥水溶液通過第三管路P3輸送至過濾裝置予以過濾後再流至顯影槽內回收利用；電磁閥15則用以控制藥水溶液通過第三管路P3的流量。

另者，在真空產生器2運轉過程中，由於本體1內的部分藥水溶液可能受到強大吸力的影響而從排氣口102被吸出，為了避免這種現象，設置於第二空間10B中的擋液板103提供了阻擋藥水溶液被吸至排氣口102的效果。

再者，本發明在真空產生器2連接排氣盒21的目的在於緩衝空氣被排出時的壓力，防止高空氣壓力直接噴入副槽內的藥水溶液導致產生更多泡沫。

以上所述者僅為用以解釋本發明之較佳實施例，並非企圖具以對本發明做任何形式上之限制，是以，凡有在相同之創作精神下所作有關本發明之任何修飾或變更，皆仍應包括在本發明意圖保護之範疇。

1:本體 10A:第一空間 10B:第二空間 11A:泡沫破壞區 11B:緩衝區 11C:靜置區 11D:出液區 101:進液口 102:排氣口 103:擋液板 111:出液口 12:豎直板 121:通氣孔 13A:第一傾斜板(傾斜板) 13B:第二傾斜板(傾斜板) 131:通孔 132:過濾棉層 14A:第一隔板(隔板) 14B:第二隔板(隔板) 141:洞孔 142:顆粒物 15:電磁閥 2:真空產生器 21:排氣盒 3:電控箱 4:副槽 P1:第一管路 P2:第二管路 P3:第三管路

圖1為顯示本發明消泡裝置安裝於PCB濕製程之副槽上方之實施例平面示意圖；以及 圖2為顯示本發明之消泡裝置之本體的結構之立體示意圖。

1:本體

10A:第一空間

10B:第二空間

11A:泡沫破壞區

11B:緩衝區

11C:靜置區

11D:出液區

101:進液口

102:排氣口

103:擋液板

111:出液口

12:豎直板

121:通氣孔

13A:第一傾斜板(傾斜板)

13B:第二傾斜板(傾斜板)

131:通孔

132:過濾棉層

14A:第一隔板(隔板)

14B:第二隔板(隔板)

141:洞孔

142:顆粒物

15:電磁閥

2:真空產生器

21:排氣盒

3:電控箱

4:副槽

P1:第一管路

P2:第二管路

P3:第三管路

Claims (4)

1. 一種消泡裝置，包括：一本體，內部具有依序由上往下配置的一泡沫破壞區、一緩衝區、一靜置區與一出液區，並且該本體設置有一排氣口以及一進液口，其中該進液口位於該泡沫破壞區上方並且連接一第一管路，該第一管路往該本體外延伸；以及一真空產生器，設於該本體外面並且以一第二管路連接該排氣口，該真空產生器運轉時使該本體內部產生負壓力，其中，該本體內部區隔出有相鄰的一第一空間與一第二空間，該泡沫破壞區、該緩衝區、與該靜置區設於該第一空間，該出液區位於該第一空間與該第二空間的下方，該泡沫破壞區設有至少一個傾斜板，該傾斜板設有至少一個通孔，該傾斜板上設有一過濾棉層，該緩衝區包括有位於該泡沫破壞區下方的至少一個隔板，該隔板設有複數洞孔，該隔板上配置有複數彈珠，並且在該等彈珠之間形成縫隙，以及一出液口連接一第三管路，並且該第三管路設置有用以控制一藥水溶液是否通過該第三管路的一電磁閥，藉由該負壓力將藥水溶液從該第一管路吸入該本體內部後，使該藥水溶液藉由重力依序通過該泡沫破壞區、該緩衝區、該靜置區以消除泡沫，再使該藥水溶液通過該出液區的一出液口排出。
2. 如申請專利範圍第1項所述之消泡裝置，其中，包含有二個該傾斜板，該二個傾斜板的傾斜方向互為相反且呈上下配置，每一個該傾斜板均設置有該通孔與該過濾棉層。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之消泡裝置，其中，該通孔位於該傾斜板的最低位置。
4. 如申請專利範圍第1項所述之消泡裝置，其中，該第二空間設有一擋液板，用以避免該藥水溶液被吸入該排氣口。

Images