CN208861946U - 一种链式循环传动槽结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种链式循环传动槽结构,包括:槽体,其内设有隔板,隔板将槽体分隔成相连通的反应槽和储液槽,反应槽内设有用于传送半导体硅片的传送机构;用于将储液槽内的药液输送至反应槽中的液体循环系统。反应槽和储液槽上下设置,液体循环系统包括泵、进液管道、出液管和进液盒,进液盒位于储液槽内并安装在隔板上,出液管道的一端连接泵,另一端与储液槽连通。本实用新型的结构更为简单,安装更为方便;相比于传统的湿法处理设备,本实用新型使生产效率得到保障。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体的处理设备领域,尤其涉及太阳能链式清洗设备和链式湿法处理设备的循环传动槽结构。
背景技术
在目前太阳能链式清洗设备和链式湿法处理设备,尤其在链式湿法设备中,主槽和副槽是单独的两个整体,主槽放置在机架上面,副槽放置在机架下面,主槽与副槽之间连接溢流管,药液的循环方式是靠泵从副槽输送到主槽,然后通过溢流管道回到副槽,如果出现溢流管溢流不及时的情况,便会出发液位保护,对生产造成不必要的影响。
由于溢流管需要单独安装,当副槽较大时,下空间变小,影响管路和气路的排布,溢流管的安装难度便会加大,溢流管漏液的风险也会加大;主槽与副槽之间的相对位置不固定,溢流管的尺寸与排布也不相同,这对药液的流量和扬程造成影响,不利于设备的稳定工作。因此,我们便需要一种结构更为简单、安装更为方便且能够可靠工作的链式湿法处理设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出了一种结构简单的链式循环传动槽结构。
本实用新型的技术方案如下:
一种链式循环传动槽结构,包括:槽体,其内设有隔板,隔板将槽体分隔成反应槽和储液槽,所述反应槽和储液槽连通,所述反应槽内设有用于传送半导体硅片的传送机构;用于将储液槽内的药液输送至反应槽中的液体循环系统。所述反应槽和储液槽上下设置,所述液体循环系统包括泵、进液管道、出液管和进液盒,所述进液盒位于储液槽内并安装在隔板上,且进液盒与反应槽连通,所述出液管道的一端连接泵,所述出液管道的另一端与储液槽连通,所述进液管道连接泵和进液盒。
进一步地,所述出液管道的另一端上安装有过滤网,且所述过滤装置位于储液槽内,所述进液管道包括设于槽体外的第一段和设于储液槽内的第二段构成,所述第一段的一端连接泵,所述第一段的另一端连接第二段的一端,所述第二段的另一端连接进液盒,且所述进液盒还与第二段的两端之间的管体连接,所述隔板的左右两侧均设有穿孔,所述储液槽的左右两侧均设有导流板,反应槽的药液流过穿孔后沿着导流板流入储液槽中,导流板上设有通孔,所述导流板一端连接隔板,所述导流板的另一端连接槽体的侧壁,所述反应槽的左右两侧均设有使药液流向反应槽的左右两侧的挡水板。
优选地,所述传送机构包括传动辊支撑板和传动辊,所述传动辊支撑板固定在隔板上表面上,并位于反应槽的前后两侧,所述传动辊安装在两个传动辊支撑板之间。
本实用新型的有益效果如下:本实用新型用隔板与槽体的结构取代了传统湿法处理设备中单独设置的反应槽与储液槽结构,结构更为简单,安装更为方便;相比于传统的湿法处理设备,本实用新型中设置了挡水板取代了传统湿法处理设备的溢流管道,有效解决了溢流管溢流不及时,管内残留的液体较多,导致副槽液位减低,触发液位保护的问题,使生产效率得到保障。
附图说明
图1为本实用新型的正面示意图;
图2为本实用新型装侧面示意图。
具体实施方式
下面结合附图以及实施例对本实用新型的原理及结构进行详细说明。
如图1和图2所示,本实用新型较佳实施例提供了一种链式循环传动槽结构,包括槽体和液体循环系统,槽体内设有隔板5,隔板5将槽体分隔成上下设置的反应槽13和储液槽14,反应槽13内设有用于传送半导体硅片的传送机构,传送机构包括传动辊支撑板1和传动辊2,传动辊支撑板1固定在上隔板5上表面上,并位于反应槽的前后两侧,传动辊安装在两个传动辊支撑板之间。
液体循环系统用于将储液槽内的药液体输送至反应槽中,液体循环系统包括泵10、进液管道12、出液管道11和进液盒4,进液盒4位于储液槽14内并安装在隔板5上,且进液盒4与反应槽13连通。出液管道11的一端连接泵10,出液管道11的另一端与储液槽14连通,进液管道12连接泵10和进液盒4。
泵10工作时,储液槽14中的药液经出液管道11吸入泵10中,再通过进液管道12输入进液盒4中,进液盒4中的药液再向上喷入反应槽13中对传动辊2输送的半导体材料进行湿法处理。
出液管道11的另一端上安装有过滤网9,过滤网9位于储液槽14内。过滤网9将药液中的杂质过滤后先流入到出液管道11再输送回泵10中,药液通过该液体循环系统进行循环流动。
进液管道12包括设于槽体外的第一段和设于储液槽内的第二段构成,第一段的一端连接泵,第一段的另一端连接第二段的一端,第二段的另一端连接进液盒,且进液盒还与第二段的两端之间的管体连接。
进液盒4采用多层错位匀流结构,可是让液体更加平稳的进入反应槽,防止液面的波动对硅片产生影响。反应槽13的左右两侧均设有挡水板3,挡水板3的作用在于使得药液流到反应槽13的左右两侧。隔板5的左右两侧均设有穿孔15,反应槽13左右两侧的药液通过穿孔15流入储液槽14内。
储液槽14的左右两侧均设有导流板8,流过穿孔15的药液沿着导流板8流入储液槽14中,导流板8上设有通孔。导流板8一端连接隔板5,另一端连接槽体的侧壁。导流板8的作用在于防止药液由于落差过高,在流入储液槽14时,对储液槽14的液面造成波动,也可以减少药液的挥发,同时避免泵吸入空气。
为方便设备维修和清洗,隔板5上设有可拆除维修板6,在进行设备维修或清理时,拿掉传动辊2、将可拆除维修板6拿下后便可对下层槽进行清洗。
本实用新型通过在槽体内设置隔板将槽体分隔成反应槽和储液槽,相对于传统湿法处理设备中单独设置反应槽与储液槽,结构更为简单,安装更为方便。本实用新型中设置了挡水板取代了传统湿法处理设备的溢流管道,有效解决了溢流管溢流不及时,管内残留的液体较多,导致副槽液位减低,触发液位保护的问题,使生产效率得到保障。
本实用新型的保护范围并不限于所述的实施例,显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变形而不脱离本实用新型的范围和精神。倘若这些改动和变形属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围内,则本实用新型的意图也包含这些改动和变形在内。
Claims (10)
1.一种链式循环传动槽结构,其特征在于,包括:
槽体,其内设有隔板,隔板将槽体分隔成反应槽和储液槽,所述反应槽和储液槽连通,所述反应槽内设有用于传送半导体硅片的传送机构;
用于将储液槽内的药液输送至反应槽中的液体循环系统。
2.根据权利要求1所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述反应槽和储液槽上下设置。
3.根据权利要求1所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述液体循环系统包括泵、进液管道、出液管和进液盒,所述进液盒位于储液槽内并安装在隔板上,且进液盒与反应槽连通,所述出液管道的一端连接泵,所述出液管道的另一端与储液槽连通,所述进液管道连接泵和进液盒。
4.根据权利要求3所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述出液管道的另一端上安装有过滤网,且所述过滤装置位于储液槽内。
5.根据权利要求3所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述进液管道包括设于槽体外的第一段和设于储液槽内的第二段构成,所述第一段的一端连接泵,所述第一段的另一端连接第二段的一端,所述第二段的另一端连接进液盒,且所述进液盒还与第二段的两端之间的管体连接。
6.根据权利要求3所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述隔板的左右两侧均设有穿孔。
7.根据权利要求6所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述储液槽的左右两侧均设有导流板,反应槽的药液流过穿孔后沿着导流板流入储液槽中,导流板上设有通孔。
8.根据权利要求7所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述导流板一端连接隔板,所述导流板的另一端连接槽体的侧壁。
9.根据权利要求6所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述反应槽的左右两侧均设有使药液流向反应槽的左右两侧的挡水板。
10.根据权利要求1所述的链式循环传动槽结构,其特征在于,所述传送机构包括传动辊支撑板和传动辊,所述传动辊支撑板固定在隔板上表面上,并位于反应槽的前后两侧,所述传动辊安装在两个传动辊支撑板之间。
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