TWI703725B - 顯示裝置 - Google Patents

Abstract

一種顯示裝置，包含發光元件陣列以及多層膜。多層膜設置在發光元件陣列上方，並包含第一光學單元、第二光學單元以及第三光學單元。第一光學單元包含層疊的第一高折射率透光層及第一低折射率透光層。第二光學單元包含層疊的第二高折射率透光層及第二低折射率透光層。第三光學單元包含層疊的第三高折射率透光層及第三低折射率透光層。第二光學單元位在第一與第三光學單元之間。第一與第三高折射率透光層各自的厚度小於第二高折射率透光層的厚度，且第一與第三低折射率透光層各自的厚度小於第二低折射率透光層的厚度。

Description

顯示裝置

本揭露內容是關於一種顯示裝置。

於家用電器設備的各式電子產品之中，顯示裝置已經被廣泛地使用來輸出影像或是操作選單。在顯示裝置的發展中，可分為液晶型顯示裝置或是發光二極體型顯示裝置。

對於發光二極體型顯示裝置而言，其可因使用了發光二極體做為光源而具有許多優點，像是省略背光源以及降低能量消耗等，也因此，相關產品的發展性也備受看好。然而，當發光二極體受到較高能量的光照時，像是紫光或紫外光，發光二極體將可能因此變質，使得其發光表現或是其他性質會產生劣化。也就是說，外部光照對發光二極體型顯示裝置的影響將會是潛在問題，而如何能有效解决上述問題，亦成為當前相關領域極需改進的目標。

本揭露內容之一實施方式提供一種顯示裝置，包含發光元件陣列以及多層膜。發光元件陣列包含發光元件。多層膜設置在發光元件陣列上方，並包含第一光學單元、第二光 學單元以及第三光學單元。第一光學單元包含層疊的第一高折射率透光層以及第一低折射率透光層。第二光學單元包含層疊的第二高折射率透光層以及第二低折射率透光層。第三光學單元包含層疊的第三高折射率透光層以及第三低折射率透光層。第二光學單元位在第一光學單元與第三光學單元之間，第一光學單元與第三光學單元各自的厚度小於第二光學單元的厚度，而第一高折射率透光層與第三高折射率透光層各自的厚度小於第二高折射率透光層的厚度，且第一低折射率透光層與第三低折射率透光層各自的厚度小於第二低折射率透光層的厚度。

於部分實施方式中，顯示裝置更包含蓋板。蓋板設置在發光元件陣列上方，且多層膜貼附在蓋板之上表面或蓋板之下表面。

於部分實施方式中，第一低折射率透光層、第二低折射率透光層與第三低折射率透光層之其中任一者具有厚度與折射率，並滿足：厚度>(λ)/(4*折射率)，其中參數λ係小於或等於420奈米。

於部分實施方式中，第一高折射率透光層、第二高折射率透光層與第三高折射率透光層之其中任一者具有厚度與折射率，並滿足：厚度<(λ)/(4*折射率)，其中參數λ係小於或等於420奈米。

於部分實施方式中，第一高折射率透光層具有厚度d1及折射率n1，第一低折射率透光層具有厚度d2及折射率n2，第二高折射率透光層具有厚度d3及折射率n3，而第二低 折射率透光層具有厚度d4及折射率n4，且滿足：[(n3*d3+n4*d4)/2]<(n1*d1+n2*d2)<(n3*d3+n4*d4)。

於部分實施方式中，第二高折射率透光層具有厚度d3及折射率n3，而第二低折射率透光層具有厚度d4及折射率n4，第三高折射率透光層具有厚度d5及折射率n5，第三低折射率透光層具有厚度d6及折射率n6，且滿足：(n5*d5+n6*d6)<[(n3*d3+n4*d4)/2]。

於部分實施方式中，第一高折射率透光層、第二高折射率透光層與第三高折射率透光層各自包含鈦氧化物、鋅氧化物或其組合，而第一低折射率透光層、第二低折射率透光層與第三低折射率透光層各自包含矽氧化物。

於部分實施方式中，多層膜在波長小於420奈米的光穿透率為不超過10%。

於部分實施方式中，多層膜在波長近似於或等於440奈米處的光穿透率為近似於或等於50%，而多層膜在波長大於455奈米處的光穿透率為大於80%。

於部分實施方式中，第一高折射率透光層、第一低折射率透光層、第三高折射率透光層及第三低折射率透光層各自的層數為一層，而第二高折射率透光層及第二低折射率透光層各自的層數為超過一層。

透過上述配置，多層膜可具有抗紫外光或抗微紫外光的效果，此效果可視為主要由第二光學單元提供，而第一光學單元及第三光學單元則可用來藉由調整其各自厚度，而達到撫平多層膜的穿透率曲線之效果，從而避免顯示裝置產生色 偏。

100A、100B‧‧‧顯示裝置

102‧‧‧基板

104‧‧‧支撐物

106‧‧‧容置空間

110‧‧‧發光元件陣列

112‧‧‧第一有機發光元件

114‧‧‧第二有機發光元件

116‧‧‧第三有機發光元件

120‧‧‧蓋板

130‧‧‧多層膜

140‧‧‧第一光學單元

142‧‧‧第一高折射率透光層

144‧‧‧第一低折射率透光層

150‧‧‧第二光學單元

152‧‧‧第二高折射率透光層

154‧‧‧第二低折射率透光層

160‧‧‧第三光學單元

162‧‧‧第三高折射率透光層

164‧‧‧第三低折射率透光層

C1、C2‧‧‧曲線

d1、d2、d3、d4、d5、d6‧‧‧厚度

第1A圖為依據本揭露內容的第一實施方式繪示顯示裝置的側視示意圖。

第1B圖繪示配置在第1A圖的蓋板上的多層膜的放大示意圖。

第1C圖為將第1A圖的多層膜的穿透率曲線和反射率曲線繪示在同一波長尺度上的波長頻譜。

第2圖為依據本揭露內容的第二實施方式繪示顯示裝置的側視示意圖。

以下將以圖式揭露本揭露內容之複數個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本揭露內容。也就是說，在本揭露內容部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。

在本文中，使用第一、第二與第三等等之詞彙，是用於描述各種元件、組件、區域、層是可以被理解的。但是這些元件、組件、區域、層不應該被這些術語所限制。這些詞彙只限於用來辨別單一元件、組件、區域、層。因此，在下文 中的一第一元件、組件、區域、層也可被稱為第二元件、組件、區域、層，而不脫離本揭露內容的本意。

本文使用的「約」或「近似於」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值，考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即，測量系統的限制)。例如，「約」或「近似於」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內，或±30%、±20%、±10%、±5%內。

本揭露內容的顯示裝置包含發光元件陣列及多層膜，多層膜可用以抵禦紫外光或微紫外光，以防止發光元件陣列中的發光元件劣化。多層膜包含第一光學單元、第二光學單元以及第三光學單元，其中多層膜能夠抗紫外光及抗微紫外光的效果可視為主要由第二光學單元提供，而第一光學單元及第三光學單元可用來藉由調整其各自厚度，而達到撫平多層膜的穿透率曲線之效果，從而避免顯示裝置產生色偏。

請先參照第1A圖，第1A圖為依據本揭露內容的第一實施方式繪示顯示裝置100A的側視示意圖。顯示裝置100A包含基板102、支撐物104、發光元件陣列110、蓋板120以及多層膜130。

支撐物104及蓋板120設置在基板102上，並可共同形成用來放置發光元件陣列110的容置空間106。具體來說，支撐物104可以是框體結構，其可包含玻璃、陶瓷或是其他具有足夠支撐強度的材料。支撐物104可接觸在蓋板120的下表面。蓋板120可以是透光基板，例如像是玻璃基板。

發光元件陣列110設置在基板102上，並位在容置空間106內，即發光元件陣列110會位在基板102與蓋板120之間。發光元件陣列110可包含第一有機發光元件112、第二有機發光元件114以及第三有機發光元件116。為了不使圖式過於複雜，第1A圖的發光元件陣列110係繪示為由三個有機發光元件排列而成，然而本揭露內容不以此為限，發光元件陣列110也可以是由超過三個有機發光元件排列而成。

第一有機發光元件112可透過其內的有機發光層而提供第一色光。第二有機發光元件114可透過其內的有機發光層而提供第二色光。第三有機發光元件116可透過其內的有機發光層而提供第三色光。第一色光、第二色光及第三色光彼此的性質相異，例如第一色光、第二色光及第三色光分別可以是藍色色光、綠色色光及紅色色光，並其各自的峰值分別位在不同的波長區間。發光元件陣列110可用以透過其中的不同有機發光元件來提供光束，具體來說，發光元件陣列110可提供藍色色光、綠色色光、紅色色光或其混合而成的色光，並藉此使顯示裝置100A能提供影像。

發光元件陣列110中的有機發光元件的發光狀態可由基板102驅動及控制。舉例來說，於部分實施方式中，基板102可以是陣列基板，其包含了薄膜電晶體陣列，且薄膜電晶體陣列中的每一個薄膜電晶體係電性連接至不同的有機發光元件，以可獨立地切換發光元件陣列110中的有機發光元件各自的開關狀態，例如使第一有機發光元件112、第二有機發光元件114以及第三有機發光元件116同時發光，或是第一有 機發光元件112、第二有機發光元件114同時發光而第三有機發光元件116不發光。本揭露內容不以此為限，於其他實施方式中，基板102也可以是透過其他類型的驅動元件或驅動電路來對發光元件陣列110中的有機發光元件定址。

於部分實施方式中，發光元件陣列110也可包含其他電致發光元件或光致發光元件，例如像是無機發光二極體或量子點發光體，且這些發光元件也可排列成為陣列。此外，於其他實施方式中，發光元件陣列110也可置換為顯示介質層(例如液晶層)以及彩色濾光層，且基板102更包含畫素電極及背光模組，以使顯示裝置100A可透過顯示介質層的旋光性以及彩色濾光層的色阻層來提供影像。

多層膜130設置在發光元件陣列110上方，以使來自顯示裝置100A上方的光照會先經穿過多層膜130，才會抵達至發光元件陣列110。具體來說，蓋板120為設置在發光元件陣列110上方，而多層膜130係貼附在蓋板120之上表面。多層膜130可用以提供抗紫外光(ultraviolet；UV)及抗微紫外光(high energy blue/violet visible light；HEV)的效果，從而保護發光元件陣列110內的有機發光元件，以降低紫外光或微紫外光對有機發光元件的影響，從而達到防止有機發光元件因受光照而劣化。除此之外，多層膜130可在抗紫外光及抗微紫外光的情況下，仍維持對可見光具有高穿透率，且此高穿透率對於可見光波段中的不同波長數值會是均勻的，從而避免顯示裝置100A產生色偏。

以下將對多層膜130的結構及相關性質提供進一 步的說明。請再參照第1B圖，第1B圖繪示配置在第1A圖的蓋板120上的多層膜130的放大示意圖。

多層膜130可包含自蓋板120依序向上堆疊的第一光學單元140、第二光學單元150以及第三光學單元160，亦即第二光學單元150會是位在第一光學單元140與第三光學單元160之間。各光學單元可以是由不同折射率的透光層體以層疊方式而形成，且各光學單元對穿過其中的光束可提供光學調製效果。

第一光學單元140可包含單層第一高折射率透光層142以及單層第一低折射率透光層144，其為自蓋板120依序向上層疊，亦即第一高折射率透光層142相對第一低折射率透光層144會較靠近蓋板120。第一高折射率透光層142具有厚度d1及折射率n1，而第一低折射率透光層144具有厚度d2及折射率n2，其中厚度d1可小於厚度d2，且折射率n1可大於折射率n2。舉例來說，厚度d1可以是介於20奈米至30奈米之間；厚度d2可以是介於60奈米至70奈米之間；折射率n1可介於2至3之間；折射率n2可介於1.3至1.6之間。

第二光學單元150可包含六層第二高折射率透光層152以及六層第二低折射率透光層154，其為自第一光學單元140依序向上交互地層疊，亦即，自第一光學單元140向上計數，奇數層會是第二高折射率透光層152，而偶數層會是第二低折射率透光層154。第二高折射率透光層152各自具有厚度d3及折射率n3，而第二低折射率透光層154各自具有厚度d4及折射率n4，其中厚度d3可小於厚度d4，且折射率n3可大於 折射率n4。舉例來說，厚度d3可以是介於30奈米至40奈米之間；厚度d4可以是介於75奈米至85奈米之間；折射率n3可介於2至3之間；折射率n4可介於1.3至1.6之間。

第三光學單元160可包含單層第三高折射率透光層162以及單層第三低折射率透光層164，其為自第二光學單元150依序向上層疊，亦即第三高折射率透光層162相對第三低折射率透光層164會較靠近第二光學單元150。第三高折射率透光層162具有厚度d5及折射率n5，而第三低折射率透光層164具有厚度d6及折射率n6，其中厚度d5可小於厚度d6，且折射率n5可大於折射率n6。舉例來說，厚度d5可以是介於1奈米至10奈米之間；厚度d6可以是介於60奈米至70奈米之間；折射率n5可介於2至3之間；折射率n6可介於1.3至1.6之間。

由於上述透光層體的厚度等級為小於可見光等級，例如小於100奈米，故這些透光層體在光學角度上可稱為薄膜或是光學薄膜。因此，第一光學單元140、第二光學單元150與第三光學單元160各自可被視為是由一對或多對層疊的高折射率與低折射率薄膜形成，並可透過薄膜干涉實現提供光學調製效果。

所提供的光學調製效果至少可包含抗紫外光及抗微紫外光的效果。以第二光學單元150為例，可先將其第二高折射率透光層152與第二低折射率透光層154各自的厚度d3、d4與折射率n3、n4關係設計為滿足：(d3*n3)+(d4*n4)近似或等於(λ/2)，其中參數λ可為對應要抵抗的目標波長，像是紫外光波長或是微紫外光波長，亦即參數λ係小於或等於420奈 米。如此一來，第二光學單元150即可藉由薄膜干涉，使目標波長呈現低穿透率(或是使目標波長呈現高反射率)，從而達到抗紫外光及抗微紫外光的效果。

此外，在第二高折射率透光層152及第二低折射率透光層154各自的層數為超過一層的情況下，其能產生連續交互地層疊的多對高折射率與低折射率薄膜，從而增強抗紫外光及抗微紫外光的效果。於部分實施方式中，第二高折射率透光層152與第二低折射率透光層154的折射率差值可大於等於0.7，且小於等於1.7，從而利於提升抗紫外光及抗微紫外光的效果。

於部分實施方式中，可將第二高折射率透光層152的厚度d3與折射率d3關係設計為：厚度<(λ)/(4*折射率)，即d3<(λ)/(4*n3)，並將第二低折射率透光層154的厚度d4與折射率n3關係設計為滿足：厚度>(λ)/(4*折射率)，即d4>(λ)/(4*n4)；其中參數λ仍小於或等於420奈米。如此的厚度與折射率關係將可使得第二光學單元150在其高穿透率波段(或是低反射率波段)的數值能更均勻。在此，「高穿透率波段的數值能更均勻」的意思可以是：在第二光學單元150的穿透頻譜中，對應具有高穿透率的波段，其穿透率曲線可呈現相對平滑的線形，以減緩穿透率曲線的起伏程度。

對於第一光學單元140，其第一高折射率透光層142與第一低折射率透光層144各自的厚度d1、d2與折射率n1、n2關係可設計為雷同或相似第二光學單元150，即滿足：(d1*n1)+(d2*n2)近似或等於(λ/2)；d1<(λ)/(4*n1)； d2>(λ)/(4*n2)。此外，第一光學單元140的厚度(即厚度d1與厚度d2之和)會小於第二光學單元150厚度(即厚度d3與厚度d4之和的三倍)，其中第一高折射率透光層142的厚度d1小於第二高折射率透光層152各自的厚度d3，且第一低折射率透光層144的厚度d2也小於第二低折射率透光層154各自的厚度d4。於部分實施方式中，可透過如此的尺寸配置，使第一光學單元140與第二光學單元150各自的層體的厚度與折射率滿足：[(n3*d3+n4*d4)/2]<(n1*d1+n2*d2)<(n3*d3+n4*d4)。

透過上述數值關係，第一光學單元140除了能維持其提供抗紫外光及抗微紫外光的效果之外，尚能對穿過其中的光束的其他模態造成影響，以減緩其與第二光學單元150疊加而成的穿透率曲線於可見光波段的起伏程度。此外，在第一高折射率透光層142及第一低折射率透光層144各自的層數配置為一層的情況下，可使第一光學單元140對光束的其他模態所造成影響不足以降低顯示裝置的顯示品質。

而對於第三光學單元160，其第三高折射率透光層162與第三低折射率透光層164各自的厚度d5、d6與折射率n5、n6關係可設計為雷同或相似第二光學單元150，即滿足：(d5*n5)+(d6*n6)近似或等於(λ/2)；d5<(λ)/(4*n5)；d6>(λ)/(4*n6)。此外，第三光學單元160的厚度(即厚度d5與厚度d6之和)會小於第二光學單元150的厚度(即厚度d3與厚度d4之和的三倍)，其中第三高折射率透光層162的厚度d5小於第二高折射率透光層152各自的厚度d3，且第三低折射率透光層164的厚度d6也小於第二低折射率透光層154各自的厚 度d4。於部分實施方式中，可透過如此的尺寸配置，使第三光學單元160與第二光學單元150各自的層體的厚度與折射率滿足：(n5*d5+n6*d6)<[(n3*d3+n4*d4)/2]。

同樣地，透過上述數值關係，第三光學單元160除了能維持其提供抗紫外光及抗微紫外光的效果之外，尚能對光束的其他模態造成影響，以減緩其與第一光學單元140和第二光學單元150疊加而成的穿透率曲線於可見光波段的起伏程度。此外，在第三高折射率透光層162及第三低折射率透光層164各自的層數配置為一層的情況下，可使第三光學單元160對光束的其他模態所造成影響不足以降低顯示裝置的顯示品質。

也就是說，對於多層膜130來說，第二光學單元150提供的光學調製效果包含抗紫外光及抗微紫外光的效果，而第一光學單元140和第三光學單元160提供的光學調製效果除了包含抗紫外光及抗微紫外光的效果之外，尚可撫平多層膜130的穿透率曲線於可見光波段的起伏程度，如此一來，多層膜130除了能抗紫外光及抗微紫外光以外，其對可見光波段的穿透率會是均勻的，以避免顯示裝置產生色偏。

對此，由於第二光學單元150的透光層體數量(例如其對數為六對)大於第一光學單元140與第三光學單元160各自的透光層體數量(例如其對數各自為一對)，故多層膜130能夠抗紫外光及抗微紫外光的效果可視為主要由第二光學單元150提供，因此，藉由調整第一光學單元140及第三光學單元160各自層體的厚度來撫平多層膜130的穿透率曲線之方式 可避免對於抗紫外光及抗微紫外光的效果造成過多影響。

具有上述物理性質之高折射率透光層及低折射率透光層可透過氧化物實現，例如第一高折射率透光層142、第二高折射率透光層152與第三高折射率透光層162各自可包含鈦氧化物(TiO₂)、鋅氧化物(ZnO)或其組合，並形成為鈦氧化層、鋅氧化層或其組合，而第一低折射率透光層144、第二低折射率透光層154與第三低折射率透光層164各自可包含矽氧化物(SiO_x)，並形成為矽氧化層。

本實施方式中，雖第一光學單元140的第一高折射率透光層142與第一低折射率透光層144各自的層數為一層，而第三光學單元160的第三高折射率透光層162與第三低折射率透光層164各自的層數也為一層，然而本揭露內容不以此為限，於其他實施方式中，第一光學單元140的第一高折射率透光層142與第一低折射率透光層144各自的層數，或是第三光學單元160的第三高折射率透光層162與第三低折射率透光層164各自的層數可以是超過一層。

請再看到第1C圖，第1C圖為將第1A圖的多層膜130的穿透率曲線和反射率曲線繪示在同一波長尺度上的波長頻譜。本揭露內容中，「繪示在同一波長尺度上」意思為，將多層膜的穿透率曲線和反射率曲線繪示在同一波長頻譜內，以便於自單一波長頻譜讀出「多層膜之光穿透率」以及「多層膜之光反射率」對應到相同波長數值時的相對關係。第1C圖中，橫軸為波長，單位為奈米；縱軸為多層膜之光穿透率或光反射率(使用同一尺度)，單位為百分比。多層膜之光穿透率與波長 之間的關係(即多層膜的光穿透頻譜)以曲線C1表示，而多層膜之光反射率與波長之間的關係(即多層膜的光反射頻譜)則以曲線C2表示。

如曲線C1所示，多層膜在波長小於420奈米的光穿透率為介於0%至10%，即不超過10%，藉以使多層膜可因此光學表現而實現前述抗紫外光及抗微紫外光的效果。多層膜在波長近似於或等於440奈米處的光穿透率為近似或等於50%，且在多層膜對應可見光波段(至少到750奈米)之中，在波長大於455奈米的光穿透率可大於80%。

藉由將多層膜自波長大於455奈米的可見光波段(至少到750奈米)的光穿透率調製為大於80%，可使多層膜在其高穿透率的波段中，穿透率數值能更均勻，藉以使曲線C1在可見光波段中能呈現更平滑的線形(相較呈現出多個波峰與波谷)，從而減緩起伏程度。因此，當顯示裝置顯示影像時，將可避免因不均勻穿透率(例如呈現為多個波峰與波谷)而產生色偏。

如曲線C2所示，多層膜在紫外光波段及微紫外光波段的反射率會相對大於可見光波段的反射率，其中多層膜在可見光波段的反射率可低於10%，且曲線C2在可見光波段波段中能呈現更平滑的線形(相較呈現出多個波峰與波谷)，從而減緩起伏程度。因此，當顯示裝置顯示影像時，將可避免因不均勻反射率(例如呈現為多個波峰與波谷)而產生色偏，或是因過高反射率而降低顯示品質。

請再看到第2圖，第2圖為依據本揭露內容的第二 實施方式繪示顯示裝置100B的側視示意圖。本實施方式與第一實施方式的至少一個差異點在於，本實施方式的多層膜130的配置位置改變。具體來說，多層膜130可貼附在蓋板120之下表面，使得多層膜130會與發光元件陣列110共同位在基板102、支撐物104與蓋板120所形成的容置空間106內。多層膜130仍是位在設置在發光元件陣列110上方，使得來自顯示裝置100B上方的光照仍也會先經穿過多層膜130，才抵達至發光元件陣列110，以使多層膜130可提供抗紫外光及抗微紫外光的效果予發光元件陣列110，從而避免發光元件陣列110內的有機發光元件劣化。

綜上所述，本揭露內容的顯示裝置包含發光元件陣列以及多層膜，其中多層膜設置在發光元件陣列上方，並包含第一光學單元、第二光學單元以及第三光學單元。每一個光學單元各自包含至少一對高折射率與低折射率薄膜，以提供抗紫外光及抗微紫外光的效果，從而避免發光元件陣列的發光元件劣化。對此，多層膜能夠抗紫外光及抗微紫外光的效果可視為主要由第二光學單元提供，而第一光學單元及第三光學單元可用來藉由調整其各自厚度，而達到撫平多層膜的穿透率曲線之效果，從而避免顯示裝置產生色偏。此外，當對厚度的調整是藉由第一光學單元及第三光學單元達成時，由於第一光學單元及第三光學單元所提供抗紫外光及抗微紫外光的效果小於第二光學單元，故將可避免多層膜因厚度調整而致使其抗紫外光及抗微紫外光的效果受到過多影響。

雖然本發明已以多種實施方式揭露如上，然其並 非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

120‧‧‧蓋板

130‧‧‧多層膜

140‧‧‧第一光學單元

142‧‧‧第一高折射率透光層

144‧‧‧第一低折射率透光層

150‧‧‧第二光學單元

152‧‧‧第二高折射率透光層

154‧‧‧第二低折射率透光層

160‧‧‧第三光學單元

162‧‧‧第三高折射率透光層

164‧‧‧第三低折射率透光層

d1、d2、d3、d4、d5、d6‧‧‧厚 度

Claims (9)

1. 一種顯示裝置，包含：一發光元件陣列，包含複數個發光元件；以及一多層膜，設置在該發光元件陣列上方，其中該多層膜在波長小於420奈米的光穿透率為不超過10%且包含：一第一光學單元，包含層疊的一第一高折射率透光層以及一第一低折射率透光層；一第二光學單元，包含層疊的至少一第二高折射率透光層以及至少一第二低折射率透光層；以及一第三光學單元，包含層疊的一第三高折射率透光層以及一第三低折射率透光層，其中該第二光學單元位在該第一光學單元與該第三光學單元之間，該第一光學單元與該第三光學單元各自的厚度小於該第二光學單元的厚度，而該第一高折射率透光層與該第三高折射率透光層各自的厚度小於該第二高折射率透光層的厚度，且該第一低折射率透光層與該第三低折射率透光層各自的厚度小於該第二低折射率透光層的厚度。
2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，更包含一蓋板，設置在該發光元件陣列上方，且該多層膜貼附在該蓋板之一上表面或該蓋板之一下表面。
3. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一低折射率透光層、該第二低折射率透光層與該第三 低折射率透光層之其中任一者的厚度與折射率滿足：厚度>(λ)/(4*折射率)，其中參數λ係小於或等於420奈米。
4. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一高折射率透光層、該第二高折射率透光層與該第三高折射率透光層之其中任一者的厚度與折射率滿足：厚度<(λ)/(4*折射率)，其中參數λ係小於或等於420奈米。
5. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一高折射率透光層具有厚度d1及折射率n1，該第一低折射率透光層具有厚度d2及折射率n2，該第二高折射率透光層具有厚度d3及折射率n3，而該第二低折射率透光層具有厚度d4及折射率n4，且滿足：[(n3*d3+n4*d4)/2]<(n1*d1+n2*d2)<(n3*d3+n4*d4)。
6. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第二高折射率透光層具有厚度d3及折射率n3，而該第二低折射率透光層具有厚度d4及折射率n4，該第三高折射率透光層具有厚度d5及折射率n5，該第三低折射率透光層具有厚度d6及折射率n6，且滿足：(n5*d5+n6*d6)<[(n3*d3+n4*d4)/2]。
7. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一高折射率透光層、該第二高折射率透光層與該第三高折射率透光層各自包含鈦氧化物、鋅氧化物或其組合，而該第一低折射率透光層、該第二低折射率透光層與該第三低折射率透光層各自包含矽氧化物。
8. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該多層膜在波長近似於或等於440奈米處的光穿透率為近似於或等於50%，而該多層膜在波長大於455奈米處的光穿透率為大於80%。
9. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一高折射率透光層、該第一低折射率透光層、該第三高折射率透光層及該第三低折射率透光層各自的層數為一層，而該第二高折射率透光層及該第二低折射率透光層各自的層數為超過一層。

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