TWI695241B - 資訊處理裝置,製造輔助系統,閥的組裝方法,及機器交換方法 - Google Patents
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Abstract
提供一種可容易地製造具有合適的規格的機器之技術。 按照資訊處理裝置(1),分析部(11A),基於閥(30)的使用資訊,作成示意適合閥(30)的合適規格之合適規格資訊,規定比較部(11B),將合適規格資訊、和示意規定的規格之規格資訊比較,規格更新部(11C),基於規格比較部(11B)所做的比較結果,來更新閥(30)的規格資訊,製造條件作成手段(製造條件作成部(11D)、製造條件更新部(11E)),基於藉由規格更新部(11C)而被更新的規格資訊,來作成閥(30)的製造條件,指示資訊作成部(11G),基於藉由製造條件決定手段而被決定的製造條件,來作成用來顯示於顯示裝置(3)之有關閥的製造之指示資訊。
Description
本發明有關資訊處理裝置,製造輔助系統,閥的組裝方法,及機器交換方法。
半導體製程中會使用各式各樣的配方(recipe),若各配方相異則對於半導體製程中使用的閥之要求性能會相異。因此,理想是製造適於各半導體製程之閥。
[發明所欲解決之問題]
但,為了製造適於各半導體製程之閥,必須依每一閥備妥紙本的製造手冊,惟會將大量的紙帶進無塵室內故不切實際。
因此,會量產高規格的閥而使用於半導體製程,惟會招致超出規格(over spec)所造成之閥的高價化。
鑑此,本發明之目的在於提供一種可容易地製造具有合適的規格的機器之技術。 [解決問題之技術手段]
為解決上述目的,本發明一態樣之資訊處理裝置,具備:合適規格作成手段,基於藉由基於規格資訊之製造條件而被製造出的機器的使用資訊,來作成示意適合機器的合適規格之合適規格資訊;及製造條件決定手段,基於藉由前述合適規格作成手段而被作成的前述合適規格資訊,來決定機器的製造條件。
亦可具備:規格比較手段,將前述合適規格資訊、和示意規定的規格之前述規格資訊比較;及規格更新手段,基於前述規格比較手段所做的比較結果,來更新機器的前述規格資訊;及指示資訊作成手段,基於藉由前述製造條件決定手段而被決定的製造條件,來作成用來顯示於顯示裝置之有關前述機器的製造之指示資訊。
此外,前述合適規格作成手段,亦可基於示意前述規定的規格之前述規格資訊及/或前述合適規格資訊、及有關前述規格資訊之累積資訊,來作成前述合適規格資訊。
本發明一態樣之製造輔助系統,具備:上述的資訊處理裝置、及顯示藉由前述指示資訊作成手段而被作成的前述指示資訊之顯示裝置。
前述顯示裝置,亦可與拍攝裝置一體地構成。
本發明一態樣之使用了上述製造輔助系統之閥的組裝方法,前述機器為閥,前述製造條件,包含前述閥的閥體的物性值、前述閥體的尺寸、前述閥製造時的周圍的溫度範圍之任一者,及前述閥的洩漏檢測方法。
前述製造條件,亦可包含前述閥的行程量。
本發明一態樣之機器交換方法,基於藉由資訊處理裝置中的製造條件決定手段而被決定的製造條件,來製造機器,將製造出的機器與取得了使用資訊之機器交換。 [發明之功效]
按照本發明,能夠提供一種可容易地製造具有合適的規格的機器之技術。
針對本發明實施形態之資訊處理裝置1,參照圖面說明之。
圖1揭示具備本實施形態之資訊處理裝置1的製造輔助系統10之構成圖。
本發明實施形態之資訊處理裝置1,為作成有關設於流體控制裝置20的閥30的製造指示資訊之裝置。流體控制裝置20,為設於半導體製造裝置之裝置。閥30為機器的一例。
首先,說明流體控制裝置20及閥30。
圖2揭示流體控制裝置20的外觀立體圖。圖3揭示閥30的正面圖。
如圖2所示,流體控制裝置20,具備基座21、及複數(3管線)個氣體管線22、及氣體排出歧管23。各氣體管線22的構成為相同,故以下僅針對複數個氣體管線22當中的一個氣體管線22進行說明。
如圖2所示,氣體管線22,具備複數個接頭24、25、及複數個流體控制機器27~30。
複數個接頭24、25,由作為製程氣體的入口之入口接頭24、及配置於入口接頭24與氣體排出歧管23之間之複數個塊狀的接頭25所構成。複數個接頭24、25,在基座21上被設置成並排成一列,被固定於基座21。在氣體排出歧管23,連接有出口配管26。
複數個流體控制機器27~30,由手動式的調節器(regulator)(減壓閥)27、及過濾器28、及流量控制機器(例如質量流量控制器(MFC:Mass Flow Controller))29、及自動閥(例如流體驅動式的自動閥)30所構成。各流體控制機器27~30,對於接頭24、25各自連結。又,從入口接頭24流入的氣體,通過流體控制機器27~30及複數個接頭25及氣體排出歧管23,被供給至未圖示之腔室。此外,在調節器27或質量流量控制器29,設有偵檢氣體的流量之未圖示之流量感測器。
圖3揭示閥30的正面圖。
如圖3所示,閥30,具備本體31、及致動器32、及連接本體31與致動器32而藉由扭矩扳手(圖示省略)被旋轉之閥帽33、及藉由本體31與閥帽33而外周緣部受到夾壓之隔膜(diaphragm)34。此外,閥30,為藉由從外部被供給至致動器32的驅動流體而進行開閉之閥。此外,在閥30,設有感測器部35。感測器部35,由偵測氣體的壓力之壓力感測器、偵測氣體的溫度之溫度感測器、偵測隔膜34的動作之位移感測器所構成。隔膜34相當於閥體。
接下來,參照圖1說明具備資訊處理裝置1的製造輔助系統10之構成。如圖1所示,製造輔助系統10,具備資訊處理裝置1、及相機2、及顯示裝置3,它們構成為可藉由有線或無線而通訊。
相機2,例如為可拍攝影片之錄影相機,構成為拍攝製造中的閥30,將拍攝出的影片發送給資訊處理裝置1。顯示裝置3,具有顯示器,顯示從資訊處理裝置1發送之有關閥30的製造之指示資訊。
資訊處理裝置1,具備CPU(Central Processing Unit)11、及記憶部12、及通訊部13,它們藉由匯流排而相互連接。
CPU11,讀出並執行被記憶於記憶部12的程式,藉此控制資訊處理裝置1及製造輔助系統10。
記憶部12,記憶有關後述的指示資訊作成處理之程式,藉由該程式被CPU11讀出並被執行,來實現CPU11的各處理部11A~11G的機能。
此外,記憶部12,存儲著有關閥30的使用資訊、規格(規範;specifications)資訊、合適規格(規範)資訊、製造條件、累積資訊之各種表格。
圖4為使用資訊表格100的構成例示意圖。
使用資訊表格100,例如存儲著位於流體控制裝置20的各氣體管線22的最上游及最下游之閥30的使用資訊,對應於各閥30而設有複數個使用閥表格101。在各使用閥表格101,標有對應之閥30的批次No.。
使用閥表格101,作為使用資訊的項目,係存儲氣體種類102、環境溫度103、流體溫度104、開閉頻度105、流量106、壓力107、驅動壓108。
氣體種類102,表示閥30中被使用之氣體的種類。環境溫度103,表示閥30的周圍的平均溫度(℃)。流體溫度104,表示流過閥30的氣體的平均溫度(℃)。開閉頻度105,表示使用期間中閥30的開閉次數(開閉的合計值)。流量106,表示使用期間中流過了閥30的氣體的流量(m3
/s)。壓力107,表示閥30中流通的氣體的平均壓力(MPa)。驅動壓108,表示為了將閥30開閉而供給至致動器32之驅動流體的平均驅動壓(MPa)。
藉由設於閥30之感測器部35、設於調節器27或質量流量控制器29之未圖示之流量感測器,來取得環境溫度103、流體溫度104等,而蓄積在設於流體控制裝置20之記憶部。另,亦可不蓄積在記憶部,而是藉由無線通訊發送至外部的其他資訊處理裝置。然後,設於半導體製造裝置之流體控制裝置20被使用規定的期間(例如1週)而基於蓄積在該記憶部的資料,來作成使用資訊表格100。此外,使用資訊表格100的作成,可由資訊處理裝置1來進行,亦可設計成於外部的其他資訊處理裝置中作成使用資訊表格100而輸入至資訊處理裝置1。此外,使用資訊表格100中,溫度及壓力雖為平均值,惟亦可為使用期間中溫度及壓力的範圍(上限及下限)。
圖5為規格資訊表格200的構成例示意圖。
規格資訊表格200,存儲著在使用資訊表格100中存儲有使用資訊之閥30的規格(規範)資訊。故,在規格資訊表格200,設有對應於各閥30之規格閥表格201。
規格閥表格201,作為規格資訊的項目,係存儲氣體種類202、環境溫度範圍203、流體溫度範圍204、上限開閉頻度205、上限流量206、最高壓力207、驅動壓範圍208。
氣體種類202,表示閥30中被使用之氣體的種類,惟製造時被使用之氣體不明,故未被輸入任何內容。環境溫度範圍203,表示可以使用閥30的周圍的溫度範圍(℃)。流體溫度範圍204,表示閥30中流通的氣體的溫度範圍(℃)。上限開閉頻度205,表示使用期間中閥30的開閉次數(開閉的合計值)的上限。上限流量206,表示使用期間中流過閥30的氣體的流量(m3
/s)的上限。最高壓力207,表示閥30中可以流通的氣體的最高壓力(MPa)。驅動壓208,表示為了將閥30開閉而供給至致動器32之驅動流體的驅動壓(MPa)的範圍。
圖6為合適規格資訊表格300的構成例示意圖。
合適規格資訊表格300,如後述般為基於使用資訊表格100所作成的表格,具備對應於各閥30之合適規格閥表格301。
合適規格閥表格301,作為基於使用資訊之合適的規格資訊,係存儲氣體種類302、環境溫度範圍303、流體溫度範圍304、上限開閉頻度305、上限流量306、最高壓力307、驅動壓範圍308。合適規格閥表格301中存儲著的項目,和規格閥表格201中存儲著的項目相同,故省略說明。另,合適規格閥表格301中,輸入有被使用之氣體。
圖7為製造條件表格400的構成例示意圖。
製造條件表格400,存儲有用來製造各閥30之製造條件。故,在製造條件表格400,設有對應於各閥30之製造閥表格401。
製造閥表格401,作為製造資訊的項目,係存儲扭矩值402、隔膜尺寸403、隔膜硬度404、隔膜位移量405、溫度範圍406、工具407、洩漏試驗方法408。
扭矩值402,表示將閥帽33旋入本體31時之扭矩值。藉由該扭矩值,外周緣部受到夾壓之隔膜34的形狀會變化。例如,若提高扭矩值,則隔膜34的形狀會成為陡峭的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會增大,隔膜34的耐久性會降低。另一方面,若減低扭矩值,則隔膜34的形狀會成為平緩的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會減少,隔膜34的耐久性會增加。
隔膜尺寸403,表示隔膜34的尺寸。隔膜34的尺寸會因製造批次而有些許的誤差,因此被分類成依尺寸A-C的順序尺寸逐漸變大。又,隔膜34的尺寸愈大,則隔膜34的形狀愈成為平緩的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會減少。另一方面,隔膜34的尺寸愈小,則隔膜34的形狀愈成為陡峭的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會增加。
隔膜硬度404,表示隔膜34的硬度(維氏硬度)。隔膜34的硬度會因製造批次而有些許的誤差,因此被分類成依硬度A-C的順序硬度逐漸變硬。又,隔膜34的硬度愈硬,則隔膜34的形狀愈成為陡峭的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會增加。另一方面,隔膜34的硬度愈軟,則隔膜34的形狀愈成為平緩的山形狀,因此閥30的行程量及氣體流量會減少。隔膜34的硬度,相當於閥體的物性值。
隔膜位移量405,表示閥30的隔膜34入位至閥座為止之距離,亦即閥30的行程量。隔膜位移量405對於決定所使用的閥30的Cv值而言為重要項目。又,隔膜位移量405愈大,隔膜34的形狀愈成為陡峭的山形狀,因此氣體流量會增大,隔膜位移量405愈小,隔膜34的形狀愈成為平緩的山形狀,因此氣體流量會減少。
溫度範圍406,表示閥30製造時的周圍的溫度範圍。
工具407,表示將閥帽33旋入本體31時所使用之扳手的種類。
洩漏試驗方法408,表示閥30完成後進行之洩漏試驗的方法。依據閥30中流通的氣體種類,洩漏試驗會變更。例如,對於流通甲矽烷(SiH4
)之閥30,會進行比對於流通氮之閥30進行的洩漏試驗更嚴格的試驗。洩漏試驗的方法,相當於洩漏檢測方法。
累積資訊表格500,為蓄積了有關過去於資訊處理裝置1已被作成指示資訊的閥之使用資訊表格100、規格資訊表格200、合適規格資訊表格300、及製造條件表格400之表格,於後述的指示資訊作成處理進行後,已被使用的表格會被存儲。
通訊部13,與相機2及顯示裝置3進行通訊,接收從相機2發送的影片,將來自CPU11的顯示控制部11G的資訊發送給顯示裝置3。
CPU11,具有分析部11A、規格比較部11B、規格更新部11C、製造條件作成部11D、製造條件更新部11E、指示資訊作成部11F、顯示控制部11G。
分析部11A,分析使用資訊表格100中存儲的使用資訊,基於規格資訊表格200中存儲的規格資訊及累積資訊表格500中存儲的累積資訊,來作成合適的規格資訊。例如,亦可將使用資訊表格100中存儲的使用資訊的各項目、和該閥30的規格資訊的各項目比較,針對符合的項目則將該規格訂為合適規格來使用,針對不符合的項目則將變更成符合後的規格訂為合適規格。
此外,累積資訊中,針對具有和該閥30同樣規格的閥,當使用資訊的開閉頻度105未高於或大幅低於規格資訊的上限開閉頻度205的情形下,亦可不基於使用資訊的開閉頻度105來作成合適規格資訊的上限開閉頻度305。此外,亦可設計成從累積資訊的合適規格資訊,把符合使用資訊的所有項目之規格抽出合適的規格。
閥30行程量愈小,則隔膜34的位移量愈小而反覆應力愈小,因此能夠增加耐久性亦即可使用的開閉次數。但,若減小閥30的行程量,則壓力損失大而無法確保流量,耐久性和流量處於相反的關係。
具體而言,將圖4的使用資訊的各項目102~108、和圖5的規格資訊的各項目202~208比較。針對使用資訊的項目103、107~108係和規格資訊的項目203、207~208符合,故將該規格訂為合適規格來使用。另一方面,針對使用資訊的項目102、104~106,係和規格資訊的項目202、204~206的項目不符合,故將變更成符合後之規格訂為合適規格來使用。藉此,便作成圖6所示之合適規格資訊。分析部11A,相當於合適規格作成手段。
規格比較部11B,將規格資訊表格200中存儲的規格資訊、和合適規格資訊表格300中存儲的合適規格資訊比較。例如,將規格資訊表格200中存儲的項目203~208、和合適規格資訊表格300中存儲的項目303~308比較,判定是否全部一致。
規格更新部11C,基於規格比較部11B所做的比較結果,於規格資訊中,將和合適規格資訊相異的項目的資訊更新成合適規格資訊的項目的資訊。例如,圖5、6中,在規格資訊表格200中存儲的規格資訊、和合適規格資訊表格300中存儲的合適規格資訊中,流體溫度範圍204、304、上限開閉頻度205、305、上限流量206、306相異。故,將規格資訊的流體溫度範圍204、上限開閉頻度205、及上限流量206的資訊,更新成合適規格資訊的流體溫度範圍304、上限開閉頻度305、及上限流量306的資訊。
製造條件作成部11D,基於被更新後的規格資訊表格200中存儲的規格資訊,作成閥30的製造條件。具體而言,針對和製造條件表格400中存儲的製造條件同樣的項目(扭矩值、隔膜尺寸等)來作成。例如,氣體種類302為SiH4
,因此洩漏試驗方法408會選擇更嚴格的試驗方法。此外,當藉由規格資訊的更新而上限開閉頻度205被變更了的情形下,隔膜34的耐久性會有影響,因此會設定適當的扭矩值402的值、或選擇適當的隔膜尺寸403及隔膜硬度404。此外,當上限流量206被變更了的情形下,會變更隔膜34的位移量,因此會設定適當的扭矩值402的值、或選擇適當的隔膜尺寸403及隔膜硬度404。
製造條件更新部11E,基於藉由製造條件作成部11D而被作成的製造條件,來更新製造條件表格400中存儲的製造條件。製造條件作成部11D與製造條件更新部11E,相當於製造條件決定手段。
指示資訊作成部11F,基於藉由製造條件更新部11E而被更新的製造條件,來作成於閥30製造時用來顯示於顯示裝置3之指示資訊。例如,基於製造條件表格400的扭矩值402,作成用來將扭矩值「6.0」顯示於顯示裝置3之指示資訊,基於隔膜尺寸403,作成用來將「尺寸A」顯示於顯示裝置3之指示資訊等。
顯示控制部11G,基於從相機2接收的影片,判斷閥30製造工程,因應製造工程,將指示資訊作成部11F所作成的指示資訊發送至顯示裝置3。
具備如上述般構成的本實施形態之資訊處理裝置1,係依以下說明之手續進行指示資訊作成處理。
圖8為指示資訊作成處理的手續示意流程圖。
資訊處理裝置1的CPU11所執行的指示資訊作成處理,例如是藉由使用者執行記憶部12中記憶的有關指示資訊作成處理之程式而開始。
首先,分析部11A,分析圖4所示使用資訊表格100中存儲的使用資訊,將圖6所示合適的規格資訊存儲於合適規格資訊表格300(步驟S1)。
規格比較部11B,將規格資訊表格200中存儲的規格資訊、和合適規格資訊表格300中存儲的合適規格資訊比較(步驟S2)。具體而言,將規格資訊表格200中存儲的項目203~208、和合適規格資訊表格300中存儲的項目303~308比較,判定是否全部一致。
當全部一致的情形下(步驟S2:YES),規格比較部11B結束指示資訊作成處理。另一方面,當有不一致的項目的情形下(步驟S2.NO),規格比較部11B進入步驟S3。
規格更新部11C,基於步驟S2中規格比較部11B所做的比較結果,於規格資訊中,將和合適規格資訊相異的項目的資訊更新成合適規格資訊的項目的資訊(步驟S3)。
製造條件作成部11D,基於被更新後的規格資訊表格200中存儲的規格資訊,作成閥30的製造條件(步驟S4)。
製造條件更新部11E,基於藉由製造條件作成部11D而被作成的製造條件,來更新製造條件表格400中存儲的製造條件(步驟S5)。
指示資訊作成部11F,基於藉由製造條件更新部11E而被更新的製造條件,來作成於閥30製造時用來顯示於顯示裝置3之指示資訊(步驟S6)。
此外,本實施形態之機器交換方法中,基於藉由製造條件更新部11E而被更新的製造條件來製造閥,將製造出的閥與取得了使用資訊之流體控制裝置20的閥30交換。藉此,能夠總是提供具有和半導體製程相應的適當的規格之閥。
按照如上述般的資訊處理裝置1,分析部11A,基於閥30的使用資訊,作成示意適合閥30的合適規格之合適規格資訊,規定比較部11B,將合適規格資訊、和示意規定的規格之規格資訊比較,規格更新部11C,基於規格比較部11B所做的比較結果,來更新閥30的規格資訊,製造條件作成手段(製造條件作成部11D、製造條件更新部11E),基於藉由規格更新部11C而被更新的規格資訊,來作成閥30的製造條件,指示資訊作成部11F,基於藉由製造條件決定手段而被決定的製造條件,來作成用來顯示於顯示裝置3之有關閥的製造之指示資訊。
按照該構成,會作成用來製造具有因應閥30的使用狀態之合適規格的閥之製造條件,基於該製造條件,來作成用來顯示於顯示裝置3之有關閥的製造之指示資訊。因此,當有和閥30相同閥的訂單的情形下,能夠容易地製造具有和半導體製程相應之適當規格的各式各樣的閥。藉此,能夠防止閥的超出規格,能夠抑制閥的高價化。是故,使用者,若是重覆下訂或同製程的閥,則可入手適於自身的使用環境之規格的閥。
此外,分析部11A,基於揭示規定規格之規格資訊及/或累積資訊,來作成合適規格資訊。藉此,當有和閥30相同閥的訂單的情形下,能夠容易地製造具有和半導體製程相應之更適當規格的各式各樣的閥。
此外,按照上述的製造輔助系統10,具備資訊處理裝置1、及顯示藉由指示資訊作成部11F而被作成的指示資訊之顯示裝置3,故作業者能夠一面看著顯示裝置3一面容易地製造各式各樣的閥。
另,本發明不限定於上述的實施例。所屬技術領域者,在本發明的範圍內能夠進行種種的追加或變更等。
例如,上述的實施形態中,是將機器訂為閥30,惟亦可為其他的流體控制機器。
此外,相機2與顯示裝置3,亦可為一體地構成之平板終端4(圖1),例如亦可在作業者與閥30之間配置平板終端4,將相機2拍攝的影片顯示於顯示裝置3,來進行製造輔助。又,資訊處理裝置1、相機2、及顯示裝置3亦可一體地構成。
此外,如圖9所示,相機2與顯示裝置3,亦可為一體地構成之頭戴式顯示器5。
1‧‧‧資訊處理裝置2‧‧‧相機3‧‧‧顯示裝置4‧‧‧平板終端5‧‧‧頭戴式顯示器10‧‧‧製造輔助系統11‧‧‧CPU11A‧‧‧分析部11B‧‧‧規格比較部11C‧‧‧規格更新部11D‧‧‧製造條件作成部11E‧‧‧製造條件更新部11F‧‧‧指示資訊作成部12‧‧‧記憶部100‧‧‧使用資訊表格200‧‧‧規格資訊表格300‧‧‧合適規格資訊表格400‧‧‧製造條件表格500‧‧‧累積資訊表格30‧‧‧閥
[圖1] 示意具備本發明實施形態之製造指示資訊作成裝置的製造輔助系統之構成圖。 [圖2] 示意流體控制裝置的外觀立體圖。 [圖3] 示意閥的正面圖。 [圖4] 使用資訊表格的構成例示意圖。 [圖5] 規格資訊表格的構成例示意圖。 [圖6] 合適規格資訊表格的構成例示意圖。 [圖7] 製造條件表格的構成例示意圖。 [圖8] 指示資訊作成處理的手續示意流程圖。 [圖9] 示意頭戴式顯示器的外觀圖。
1‧‧‧資訊處理裝置
2‧‧‧相機
3‧‧‧顯示裝置
4‧‧‧平板終端
10‧‧‧製造輔助系統
11‧‧‧CPU
11A‧‧‧分析部
11B‧‧‧規格比較部
11C‧‧‧規格更新部
11D‧‧‧製造條件作成部
11E‧‧‧製造條件更新部
11F‧‧‧指示資訊作成部
11G‧‧‧顯示控制部
12‧‧‧記憶部
13‧‧‧通訊部
100‧‧‧使用資訊表格
200‧‧‧規格資訊表格
300‧‧‧合適規格資訊表格
400‧‧‧製造條件表格
500‧‧‧累積資訊表格
Claims (7)
- 一種資訊處理裝置,具備:合適規格作成手段,基於藉由基於規格資訊之製造條件而被製造出的機器的使用資訊,來作成示意適合機器的合適規格之合適規格資訊;及製造條件決定手段,基於藉由前述合適規格作成手段而被作成的前述合適規格資訊,來決定機器的製造條件;前述機器為閥,前述製造條件,包含前述閥的閥體的物性值、前述閥體的尺寸、前述閥製造時的周圍的溫度範圍、及前述閥的洩漏檢測方法之至少任一者。
- 如申請專利範圍第1項所述之資訊處理裝置,其中,具備:規格比較手段,將前述合適規格資訊、和示意規定的規格之前述規格資訊比較;及規格更新手段,基於前述規格比較手段所做的比較結果,來更新機器的前述規格資訊;及指示資訊作成手段,基於藉由前述製造條件決定手段而被決定的製造條件,來作成用來顯示於顯示裝置之有關前述機器的製造之指示資訊。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之資訊處理裝置,其中,前述合適規格作成手段,基於示意前述規定的規格之前述規格資訊及/或前述合適規格資訊、及有關前述規 格資訊之累積資訊,來作成前述合適規格資訊。
- 一種製造輔助系統,具備:如申請專利範圍第2項或第3項所述之資訊處理裝置;及顯示藉由前述指示資訊作成手段而被作成的前述指示資訊之顯示裝置。
- 如申請專利範圍第4項所述之製造輔助系統,其中,前述顯示裝置,與拍攝裝置一體地構成。
- 如申請專利範圍第1項所述之資訊處理裝置,其中,前述製造條件,包含前述閥的行程量。
- 一種機器交換方法,基於藉由如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之資訊處理裝置中的製造條件決定手段而被決定的製造條件,來製造機器,將製造出的機器與取得了使用資訊之機器交換。
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