TWI690583B - 透明導電性膜用表面保護膜以及使用該保護膜之透明導電性膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種透明導電性膜用表面保護膜及使用表面保護膜的透明導電性膜，透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層維持表面的平滑性，即使貼合到透明導電性膜上也具有優異的處理性，在透明導電性膜的製造、加工製程中，起因於表面保護膜的外觀的缺陷不良得到改善，且在觸控面板用透明電極製造製程中的生產性良好。一種透明導電性膜用表面保護膜5，其使用於貼合到在一個面上形成有透明導電膜的樹脂膜的另一個面上，在基材膜1的單面上具有使用含有異氰酸酯類交聯劑和交聯觸媒的丙烯酸類黏合劑而疊層的黏合劑層2，黏合劑層在30℃下的儲存模數為4.0×105 Pa以上，且所述黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的所述黏合劑層的反應率K為75%以上。

Description

透明導電性膜用表面保護膜以及使用該保護膜之透明導電性膜
本發明包含使用於貼合到在一個面上形成有透明導電膜的樹脂膜的另一個面上的透明導電性膜用表面保護膜及使用該表面保護膜的透明導電性膜。更詳細地說，本發明提供一種透明導電性膜用表面保護膜及使用表面保護膜的透明導電性膜，透明導電性膜用表面保護膜中，所形成的黏合劑層維持表面的平滑性，即使貼合到透明導電性膜上也具有優異的處理性，在透明導電性膜的製造、加工製程中，起因於表面保護膜的外觀的缺陷不良得到改善，且在觸控面板用透明電極製程中的生產性良好。
一直以來，在觸控面板、電子紙、電磁波遮蔽材料、各種感測器、液晶面板、有機EL、太陽能電池等技術領域中，透明導電性膜(以下，有時也僅稱為“導電性膜”)被廣泛用於透明電極等的形成用途。此透明導電性膜在基材的一個面上形成有例如由ITO(銦錫氧化物化合物)、AZO或GZO(在ZnO(氧化鋅)中添加有鋁或鎵的化合物)等構成的透明導電膜。 另外，在觸控面板用透明電極的製程中，要經過多種加熱製程和試劑處理的製程，例如，對形成有由ITO、AZO或GZO等構成的透明導電膜的透明導電性膜進行退火處理的金屬氧化膜的結晶化製程、抗蝕劑的印刷製程、蝕刻處理製程、利用銀膠形成電路配線的製程、絕緣層的印刷製程、沖裁製程等。在這樣的透明電極的製造製程中，為了防止在透明導電性膜的形成有透明導電膜的面的相反側面上產生汙損、損傷，貼合透明導電性膜用表面保護膜來使用。
在透明電極的製造製程中，退火處理、利用銀膠的電路配線的形成等在約150℃左右的溫度下進行加熱處理，因此要求透明導電性膜用保護膜具有耐熱性。 關於在觸控面板用等的、透明電極的製造製程中使用的透明導電性膜用保護膜，提出了各種方案。例如，專利文獻1中提出了一種透明導電性膜用表面保護膜，其在由熔點為200℃以上的熱塑性樹脂膜構成的基材的單面上設置有黏合劑層。其與使用聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂作為基材的透明導電性膜用表面保護膜相比，耐熱性較良好。
另外，專利文獻2中提出了一種透明導電性膜用表面保護膜的製造方法，其中，在含有聚對苯二甲酸乙二酯樹脂和/或聚萘二甲酸乙二酯樹脂的基材膜的單面上塗佈黏合劑後，以預定的溫度‧停留時間‧拉伸張力進行乾燥。透過該製造方法得到的透明導電性膜用表面保護膜在貼合到透明導電性膜上之後，即使經過加熱製程，也不會產生較大的捲曲(curl)。
專利文獻3中提出了帶有透明導電膜和保護膜的樹脂膜，其中，在樹脂膜的單面上設置透明導電膜，在與設置有該透明導電膜的面相反的樹脂膜面上設置保護膜，上述保護膜由第一膜和第二膜構成且從上述樹脂膜起依次設置上述第一膜和第二膜，第一膜在150℃下加熱30分鐘後的熱收縮率在MD和TD方向上均為0.5%以下，第二膜具有與上述帶有透明導電膜和保護膜的樹脂膜的線膨脹係數之差為40ppm/℃以下的線膨脹係數。若應用此發明，則能夠得到不會由觸控面板化等加工製程中的熱處理所致的尺寸變化和捲曲的透明導電膜。
另外，專利文獻4中提出了一種透明導電性膜用表面保護膜，其通過使用預定的厚度和抗彎曲性的剝離膜，使得表面保護膜的黏合劑層表面平滑，外觀的缺陷不良得到了改善。 [現有技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2003-170535號公報 專利文獻2：日本專利第4342775號公報 專利文獻3：日本特開平11-268168號公報 專利文獻4：日本特開2013-226676號公報
[發明所要解決的課題]
本發明提供與專利文獻4同樣地表面保護膜的黏合劑層維持表面的平滑性、外觀的缺陷不良得到改善的透明導電性膜用表面保護膜。專利文獻4的表面保護膜的特徵在於使用了40℃下的抗彎曲性為0.30mN～40mN的剝離膜，但具有該抗彎曲性的膜存在厚度變厚、成本增高的問題。另外，在表面保護膜的製造時或者使用者使用表面保護膜時，根據所使用的加工機械的規格，表面保護膜的纏繞直徑有時受到限制。這種情況下，對於使用了基材厚度厚的剝離膜的表面保護膜而言，與使用了基材厚度較薄的剝離膜的表面保護膜相比，存在如下問題：以預定纏繞直徑捲起時的捲起長度變短，在觸控面板用透明電極製造製程中的生產性下降。
本發明是鑒於上述情況而完成的，其課題在於提供透明導電性膜用表面保護膜及使用表面保護膜的透明導電性膜，透明導電性膜用表面保護膜在從滾筒反繞的狀態下，透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層維持表面的平滑性，即使貼合到透明導電性膜上也具有優異的處理性，在透明導電性膜的製造‧加工製程中，起因於透明導電性膜用表面保護膜的外觀的缺陷不良得到改善，且在觸控面板用透明電極製程中的生產性良好。 [用於解決課題的手段]
透明導電性膜用表面保護膜通過如下方法製造：在基材膜或剝離膜上塗佈黏合劑，在乾燥製程中使黏合劑中的溶劑蒸發後，貼合剝離膜或基材膜，並捲成滾筒形狀。本發明人進行了深入研究，結果發現，乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的固化狀態與黏合劑層的表面的凹凸狀變形相關。進而發現，通過使用黏合劑層在乾燥開始後15分鐘以內發生固化的黏合劑，即使在將基材厚度較薄的剝離膜用於透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層的貼合用途的情況下，也能夠抑制在上述黏合劑層的待貼合到被黏物上的表面產生凹凸的變形，從而完成了本發明。
在表面保護膜的製程中，通常在基材膜上塗佈黏合劑並使其乾燥而形成黏合劑層後，在捲筒狀態下進行熟化，但在此熟化期間中，會由於捲筒的捲緊等影響而產生剝離膜的變形。因此，在剝離膜變形後黏合劑層固化的情況下，剝離膜的表面形狀轉印到黏合劑層的表面，經過透明導電性薄膜的製造、加工製程時，這會成為透明導電性薄膜的外觀顯著變差的原因。
本發明技術構思如下：在將透明導電性膜用表面保護膜以捲筒狀進行熟化的期間，在剝離膜發生變形之前進行黏合劑層的固化，由此，即使剝離膜發生變形，也可抑制黏合劑層的表面的變形，從而維持平滑性。 即，在將本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜以捲筒狀進行熟化的期間，在貼合有剝離膜的黏合劑層受到剝離膜變形的牽引而變形之前，進行黏合劑層的固化，防止在貼合到被黏物上的黏合劑層的表面產生凹凸，從而維持平滑性。 本發明人發現，通過測定黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率和老化(熟化)完成後的黏合劑層的儲存模數，能夠掌握黏合劑層的固化的進行狀態。更具體地說，如果黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率和老化(熟化)完成後的黏合劑層的儲存模數在預定的範圍內，則即使在將基材厚度薄的剝離膜用於透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層的貼合用途的情況下，也能夠抑制在上述黏合劑層的待貼合到被黏物上的表面產生凹凸的變形。
為了解決上述課題，本發明提供如下的透明導電性膜用表面保護膜。 一種透明導電性膜用表面保護膜，其使用於貼合到在一個面上形成有透明導電膜的樹脂膜的另一個面上，其特徵在於，上述透明導電性膜用表面保護膜具有在基材膜的單面上使用含有異氰酸酯類交聯劑和交聯觸媒的丙烯酸類黏合劑疊層得到的黏合劑層，所述黏合劑層在30℃下的儲存模數為4.0×105 Pa以上，且所述黏合劑層的由下式表示的所述黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的所述黏合劑層的反應率K為75%以上。 反應率K(%)=(1-a/b)×100 (此處，a為所述黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的所述黏合劑層的透過傅立葉轉換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比，b為未固化時的所述黏合劑層的透過傅立葉轉換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比)
另外，本發明提供一種透明導電性膜，其為將上述的透明導電性膜用表面保護膜貼合到在一個面上形成有透明導電膜的樹脂膜的另一個面上得到的透明導電性膜。 [發明的效果]
本發明提供一種透明導電性膜用表面保護膜及使用表面保護膜的透明導電性膜，本發明的透明導電性膜用表面保護膜在從滾筒反繞的狀態下，所形成的黏合劑層維持表面的平滑性，即使貼合到透明導電性膜上也具有優異的處理性，在透明導電性膜的製造、加工製程中，起因於表面保護膜的外觀的缺陷不良得到改善，且在觸控面板用透明電極製造製程中生產性良好。
另外，近年來，隨著智慧手機等高功能便攜終端的殼體的薄型化，所使用的透明導電性膜的薄型化不斷進展。本發明的透明導電性膜用表面保護膜在觸控面板用透明電極的製造製程中，即使在貼合到薄型化的透明導電性膜上的狀態下經過加熱製程後，產生的捲曲也非常小。由此，能夠大幅改善觸控面板用透明電極的製造製程的作業性、生產效率。
以下，基於實施方式對本發明進行詳細說明。 第1圖為表示本發明的透明導電性膜用表面保護膜的一例的剖面圖。此透明導電性膜用表面保護膜5在透明的具有可撓性的基材膜1的單面上疊層有黏合劑層2。黏合劑層2之待貼合至被黏附物的表面上，藉由已剝離處理的面，疊層著用以保護黏合劑層的表面之已剝離處理的剝離膜3。
作為基材膜1，使用透明的具有可撓性的塑膠膜。由此，能夠在將本發明的透明導電性膜用表面保護膜貼合黏合到在基材的一個面上形成有透明導電膜的透明導電性膜的另一個面上的狀態下直接進行導電性膜的外觀檢查。作為用作基材膜1的塑膠膜，較佳可以舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯(polyethylene isophthalate)、聚對苯二甲酸丁二酯(polybutylene terephthalate)等聚酯膜。另外，除了聚酯膜以外，只要是具有所需的強度且具有光學適性的塑膠膜，則也可以使用其他樹脂種類的塑膠膜。基材膜1為未拉伸膜、單軸或雙軸延伸膜等，雖然沒有特別限制，但基材膜的加熱收縮率低的較佳。
另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的基材膜1的厚度沒有特別限制，根據所使用的透明導電性膜來選擇即可。在所使用的透明導電性膜厚至100μm以上的情況下，透明導電性膜本身的處理性不會太差，因此，表面保護膜主要著眼於對透明導電性膜的表面進行保護即可。因此，可以使用表面保護膜的基材膜1的厚度為25～75μm左右的表面保護膜。
另一方面，在所使用的透明導電性膜薄至50μm以下的情況下，透明導電性膜本身的處理性較差，因此，也要考慮表面保護膜的處理性，使用基材膜的厚度厚的透明導電性膜較佳。作為具體的基材膜的厚度，較佳的為100～188μm左右。
另外，可以根據需要在基材膜1的疊層有黏合劑層2的面的相反側面上疊層以防止表面污垢為目的的防污層、抗靜電層、寡聚物防止層、防止損傷的硬塗層或者進行電暈放電處理、錨固塗佈(anchor coat)處理等易黏合性的處理。
本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層2較佳的為丙烯酸類黏合劑，其中，使用了異氰酸酯類交聯劑和交聯觸媒的丙烯酸類黏合劑較佳。透明導電性膜用表面保護膜對透明導電性膜進行保護的狀態下應用的，加熱處理前後黏合力的變化較小的黏合劑，則對於丙烯酸類黏合劑的組成沒有特別限定，可以使用公知的材料。
作為丙烯酸類黏合劑，較佳的為在(甲基)丙烯酸類聚合物(丙烯酸類樹脂組合物)中添加有交聯劑且需要添加有賦黏劑的黏合劑。(甲基)丙烯酸類聚合物通常為丙烯酸正丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異壬酯等主要單體與丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚單體、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丁酯、縮水甘油甲基丙烯酸酯、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等官能性單體共聚而成的聚合物。構成(甲基)丙烯酸類聚合物的單體組成較佳的(甲基)丙烯酸類單體為50%以上，(甲基)丙烯酸類單體也可以為100%。
作為交聯劑，較佳的為異氰酸酯化合物，其中，在一分子中具有至少3個以上的異氰酸酯(NCO)基的多異氰酸酯化合物較佳。 多異氰酸酯化合物分為脂肪族類異氰酸酯、芳香族類異氰酸酯、非環類異氰酸酯、脂肪環類異氰酸酯等，可以為任意一種。作為二官能的異氰酸酯化合物的具體例，可以舉例如六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、三甲基六亞甲基二異氰酸酯(TMDI)等脂肪族類異氰酸酯化合物；二苯甲烷二異氰酸酯(methylene diphenyl diisocyanate,MDI)、苯二甲基二異氰酸酯(xylylene diisocyanate,XDI)、氫化苯二甲基二異氰酸酯(H6XDI)、聯鄰甲苯二異氰酸酯(o -tolidine Diisocyanate,TOID)、甲苯二異氰酸酯(TDI)等芳香族類異氰酸酯化合物。 作為三官能以上的異氰酸酯化合物，可以舉出二異氰酸酯類(在一分子中具有2個NCO基的化合物)的縮二脲型改質物、三聚異氰酸酯型(isocyanurate)改質物；與三羥甲基丙烷(TMP)、甘油等三價以上的多元醇(在一分子中具有至少3個以上OH基的化合物)的加成物(多元醇改質物)等。
交聯劑的添加量考慮(甲基)丙烯酸類聚合物的種類、聚合度、官能團量等來確定即可，雖然沒有特別限定，相對於(甲基)丙烯酸類聚合物100重量份，通常使交聯劑為0.5～10重量份左右。
另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜在以捲筒狀進行熟化的期間，需要在剝離膜變形之前使黏合劑層進行固化，因此，為了促進(甲基)丙烯酸類聚合物與交聯劑的交聯反應，添加交聯觸媒較佳。交聯觸媒只要是對(甲基)丙烯酸類聚合物與異氰酸酯系交聯劑的反應(交聯反應)起觸媒作用的物質即可，可以舉出三級胺等胺類化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機鋅化合物、有機鐵化合物等的有機金屬化合物等。 作為三級胺，可以舉出三烷基胺、N,N,N’,N’-四烷基二胺、N,N-二烷基氨基醇、三伸乙二胺、嗎福啉衍生物、哌嗪衍生物等。 作為有機錫化合物，可以舉例如二烷基氧化錫、二烷基錫的脂肪酸鹽、亞錫的脂肪酸鹽等。 交聯觸媒的添加量考慮(甲基)丙烯酸類聚合物的種類、聚合度、官能基量、交聯觸媒的種類、添加量等來確定即可，雖然沒有特別限定，相對於丙烯酸類聚合物100重量份，通常為0.01～0.5重量份左右。
另外，為了抑制交聯劑配製後的黏合劑組合物的過度的黏度上升、凝膠化、延長黏合劑組合物的適用期，可以根據需要含有交聯延遲劑。 作為交聯延遲劑，可以舉出乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸辛酯、乙醯乙酸油酯、乙醯乙酸月桂酯、乙醯乙酸硬脂酯等β-酮酸酯、乙醯丙酮、2,4-己二酮、苯甲醯丙酮等β-二酮。特別為選自由乙醯丙酮、乙醯乙酸乙酯組成的化合物組中的至少一種以上較佳。這些交聯延遲劑為酮-烯醇互變異構化合物，在以多異氰酸酯化合物作為交聯劑的黏合劑組合物中，通過封閉交聯劑所具有的異氰酸酯基，能夠抑制交聯劑配製後的黏合劑組合物的過度的黏度上升、凝膠化，能夠延長黏合劑組合物的適用期。 交聯延遲劑的添加量雖然沒有特別限定，相對於(甲基)丙烯酸類聚合物100重量份，通常添加1.0～5.0重量份左右。
另外，可以根據需要在黏合劑中添加賦黏劑。作為賦黏劑，可以舉出松香類、苯井呋喃-茚類、萜烯類、石油類、酚類等。
另外，在本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層2中，可以依照需要混合抗靜電劑。作為抗靜電劑，較佳的為在(甲基)丙烯酸類聚合物中的分散性或與(甲基)丙烯酸類聚合物相容性良好的抗靜電劑。作為可使用的抗靜電劑，可以舉出表面活性劑類、離子液體、鹼金屬鹽、金屬氧化物、金屬微粒、導電性聚合物、碳、奈米碳管等。從透明性、與(甲基)丙烯酸類聚合物的親和性等角度出發，表面活性劑類、離子液體、鹼金屬鹽等較佳。抗靜電劑相對於黏合劑的添加量可以考慮抗靜電劑的種類、與基礎聚合物的相容性來適當確定。另外，考慮將本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜從透明導電性膜剝離時的所需要的剝離靜電壓、被黏物的污染性、黏合力等來具體設定抗靜電劑的種類、添加量。
另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層2的厚度雖然沒有特別限定，但例如為5～50μm左右的厚度較佳，進一步為5～30μm左右的厚度較佳。黏合劑層2的厚度超過50μm時，製造透明導電性膜用表面保護膜的成本增大，因此損害競爭力。黏合劑層2的厚度小於5μm時，存在如下問題：對透明導電性膜的密合性降低，或者，在將表面保護膜貼合到透明導電性膜上時混入有異物的情況下，透明導電性膜大幅變形。 另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的黏合劑層2較佳為對被黏物表面的剝離強度為0.05～0.5N/25mm左右的、具有輕度黏合性的微黏合劑層。通過製成具有這樣的微黏合劑層的透明導電性膜用表面保護膜，能夠得到容易從被黏物剝離的優異的操作性。
另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的剝離膜3的材質沒有特別限定。作為可使用的剝離膜的材質，可以舉例如聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚甲基戊烯膜等聚烯烴膜、在聚酯膜等膜的表面上使用聚矽氧烷系剝離劑等剝離劑實施了剝離處理的剝離膜、氟樹脂膜、聚醯亞胺膜等。另外，也可以為將複數膜使用黏合劑疊層而成的膜、在膜上熔融擠出樹脂並疊層而成的疊層膜。在這些單層膜或疊層膜上使用聚矽氧烷系剝離劑等剝離劑實施剝離處理，得到剝離膜。
另外，本發明所涉及的透明導電性膜用表面保護膜的剝離膜3的厚度沒有特別限制，選擇易於使用的厚度的剝離膜即可。通常多為19μm～75μm左右的剝離膜。 剝離膜3較厚時，在捲成捲筒狀的相同捲徑的滾筒中，透明導電性膜用表面保護膜的全長縮短、製造成本增加，因此，引導剝離膜3在適當的厚度。另外，剝離膜3較佳的為對單層聚酯膜進行剝離處理而得到的剝離膜、對使用黏合劑將聚酯膜多層疊層成的膜實施剝離處理而得到的剝離膜。
另外，在基材膜1上依次疊層黏合劑層2和剝離膜3的方法通過公知的方法進行即可，沒有特別限定。具體地說，可以為在基材膜1上塗佈黏合劑層2並乾燥後貼合剝離膜3的方法、在剝離膜3上塗佈黏合劑層2並乾燥後貼合基材膜1的方法等中的任意一種方法。 另外，在基材膜1上形成黏合劑層可以通過公知的方法進行。具體地說，可以採用逆向塗佈法、刮刀塗佈(comma coat)法、凹版印刷法、縫模塗佈法、梅爾棒塗佈(Mayer bar coat)法、氣刀塗佈法等公知的塗佈方法。
另外，對剝離膜3實施剝離處理的方法通過公知的方法進行即可。具體地說，通過凹版印刷法、梅爾棒塗佈法、氣刀塗佈法等塗佈方法在剝離膜3的單面上塗佈剝離劑並通過加熱或紫外線照射等對剝離劑進行乾燥、固化即可。也可以根據需要對要進行剝離處理的膜預先進行電暈處理、電漿處理、錨固塗佈等使剝離劑對膜的密合性提高的預處理。
另外，第2圖為表示將本發明的透明導電性膜用表面保護膜貼合到透明導電性膜上而成的疊層膜11的一例的示意性構成圖。 此疊層膜11為將黏合膜4利用其黏合劑層2貼合到透明導電性膜10的表面而成的疊層膜，該黏合膜4是從本發明的透明導電性膜用表面保護膜5上剝下剝離膜3而得到的。透明導電性膜10在樹脂膜6的一個面6a上形成有透明導電膜7。黏合膜4貼合在樹脂膜6的另一個面6b上。 作為透明導電性膜10，可以舉例如形成有ITO、AZO或GZO等的透明導電膜的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、形成有ITO、AZO或GZO等的透明導電膜的環狀聚烯烴膜等。這樣的透明導電性膜在觸控面板、電子紙、電磁波遮蔽材料、各種感測器、液晶面板、有機EL、太陽能電池等技術領域中廣泛用於透明電極等形成用途。 本發明的透明導電性膜用表面保護膜發揮如下的優異效果：在觸控面板等的透明電極的製造製程中，能夠大幅改善作業性、生產效率，即使是薄型化的透明導電性膜，也不會使作業性、處理性降低。
另外，第3圖為表示本發明的透明導電性膜用表面保護膜的製造方法的一例的示意圖。 從進行了剝離處理的剝離膜3捲繞而成的滾筒21和基材膜1捲繞而成的滾筒22上分別不斷放出剝離膜3和基材膜1。在基材膜1的一個面上，利用黏合劑塗佈裝置23塗佈黏合劑。將塗佈有黏合劑的基材膜1在乾燥爐24中乾燥，形成黏合膜4。使黏合膜4的形成有黏合劑層的面與剝離膜3的進行了剝離處理的面相對，使用壓力滾輪25、26進行壓接，得到透明導電性膜用表面保護膜5。將透明導電性膜用表面保護膜5捲起為滾筒27。通常，透明導電性膜用表面保護膜5的保存、運輸以滾筒27的狀態進行。在貼合到透明導電性膜10上時，透明導電性膜用表面保護膜5從滾筒27上反繞。 [實施例]
以下，基於實施例進一步對本發明進行說明。 (實施例1的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 在厚度為25μm的雙軸延伸後的聚酯膜的單面上，通過梅爾棒法塗佈塗料，使乾燥後的聚矽氧烷膜的厚度為0.1μm，該塗料是將加成反應型聚矽氧烷(Toray Dow Corning製造，品名：SRX-211 100重量份中添加有鉑觸媒SRX-212 1重量份)用甲苯/乙酸乙酯1:1混合溶劑稀釋而得到的。進而，在溫度120℃的熱風循環式烘箱中進行1分鐘的乾燥、固化，得到實施例1的剝離膜。
另外，黏合劑層使用黏合劑組合物來形成，該黏合劑組合物為在丙烯酸-2-乙基己酯與丙烯酸-2-羥乙酯共聚合而成的固體含量為40%的丙烯酸類聚合物100重量份中添加HDI類交聯劑(日本聚氨酯工業公司製造，品名：CORONATE HX)4重量份、作為交聯觸媒的二月桂酸二丁基錫0.03重量份並混合而得到的黏合劑組合物。在厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜上塗佈上述黏合劑組合物，使乾燥後的黏合劑層的厚度為20μm，在溫度為130℃的熱風循環式烘箱中使黏合劑乾燥1分鐘。然後，將上述製作的實施例1的剝離膜的聚矽氧烷(silicone)處理面貼合疊層到黏合劑層的表面上，得到實施例1的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為92%。
(實施例2的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 除了使交聯劑的添加量相對於丙烯酸類聚合物100重量份為6重量份以外，以與實施例1同樣的方式，得到實施例2的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為82%
(實施例3的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 除了使黏合劑層的厚度為40μm以外，以與實施例1同樣的方式，得到實施例3的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為82%。
(實施例4的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 除了使黏合劑層的乾燥溫度為120℃以外，以與實施例1同樣的方式，得到實施例4的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為77%。
(比較例1的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 除了使黏合劑層的乾燥溫度為100℃以外，以與實施例1同樣的方式，得到比較例1的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為56%。
(比較例2的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 除了使用在丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸丁酯與丙烯酸-2-羥乙酯共聚而成的固體含量為40%的丙烯酸類聚合物100重量份中添加HDI類交聯劑(日本聚氨酯工業公司製造，品名：CORONATE HX)1重量份、作為交聯觸媒的二月桂酸二丁基錫0.03重量份並混合而得到的黏合劑組合物作為黏合劑組合物以外，以與實施例1同樣的方式，得到比較例2的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為90%。
(比較例3的透明導電性膜用表面保護膜的製作) 使交聯劑的添加量相對於丙烯酸類聚合物100重量份為2重量份以外，以與比較例2同樣的方式，得到比較例3的透明導電性膜用表面保護膜。此樣品的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為74%。
以下，示出評價試驗的方法和試驗結果。此處，使用“硬塗佈處理PET膜”作為透明導電性薄膜用基材(膜)的一例。
(反應率K的測定) 在膜上塗佈黏合劑，在熱風循環式烘箱中將黏合劑中的溶劑乾燥後，在黏合劑層的表面上貼合剝離膜。將此樣品在23℃、50%RH環境下放置15分鐘後，將剝離膜剝離，透過傅立葉轉換紅外吸光光度法測定黏合劑層表面的紅外吸收光譜。測定歸屬於交聯劑的異氰酸酯(-N=C=O)的2270cm-1 的峰強度與歸屬於黏合劑的(甲基)丙烯酸酯的C=O的1730cm-1 的峰強度，計算出2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比，將其作為樣品的峰強度比(a)。 以同樣的方式，未固化時的峰強度比如下求出：不在黏合劑中添加交聯觸媒，在80℃的熱風循環式烘箱中乾燥後，快速地(例如在1分鐘以內)測定樣品的黏合劑層的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度，將其作為未固化時的峰強度比(b)。透過下式求出反應率K。 反應率K(%)=(1-a/b)×100 (此處，a為樣品的黏合劑層的利用傅利葉變換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比，b為未固化時的黏合劑層的透過傅立葉轉換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比)
(儲存模數的測定) 將實施例、比較例中得到的樣品在40℃的烘箱中熟化5天後，使用黏彈性測定裝置(ABM公司製造，動態黏彈性測定裝置Reogel-E4000)測定黏合劑層在30℃下的儲存模數。
(透明導電性膜用表面保護膜的初始黏合力的測定) 使用在厚度為50μm的雙軸延伸後的聚酯膜的單面上實施了硬塗佈處理的、也用於ITO膜的硬塗佈處理後的PET膜(KIMOTO公司製造，品名：KB膜#50G01)。將裁切為25mm寬的透明導電性膜用表面保護膜貼合到PET膜的實施了硬塗佈處理的表面上後，在23℃、50%RH的環境下保存1小時，製成初始黏合力的測定樣品。然後，使用拉伸試驗機，測定以300mm/分鐘的剝離速度沿180°的方向剝離透明導電性膜用表面保護膜時的強度，將其作為初始黏合力(N/25mm)。 測定裝置使用島津製作所公司製造的型號為EZ-L的小型桌上型試驗裝置。
＜透明導電性膜用表面保護膜的加熱後黏合力的測定＞ 將裁切為25mm寬的透明導電性膜用表面保護膜貼合到PET膜的實施了硬塗佈處理的表面上後，在150℃環境下保存1小時，作為加熱後黏合力的測定樣品，除此以外，與初始黏合力的測定同樣地測定，將其作為加熱後黏合力(N/25mm)。 測定裝置使用島津製作所公司製造的型號為EZ-L的小型桌上型試驗裝置。
(在硬塗佈處理PET膜上貼合透明導電性膜用表面保護膜時的處理性的確認方法) 使用對透明導電性膜用表面保護膜進行了外觀檢查的樣品作為下述的透明導電性膜用表面保護膜。在硬塗佈處理後的PET膜(KIMOTO公司製造，品名：KB膜#50G01)的硬塗佈處理面上貼合透明導電性膜用表面保護膜，然後將疊層品切割為A4尺寸。拿住切割得到的樣品的4個角中的1個角，以膜面在空中扇動的方式前後往返振動20次。然後，通過目測確認硬塗佈處理PET膜有無彎折、變形。將硬塗佈處理PET膜上沒有彎折、變形的樣品評價為(○)，將存在彎折或變形的樣品評價為(×)。
(透明導電性膜用表面保護膜的外觀檢查的方法) 使用測試塗佈機製作透明導電性膜用表面保護膜的捲筒品(400mm寬×100m/卷)，在40℃的烘箱中保溫5天，進行黏合劑的熟化。然後，通過目視對從捲筒品反繞後的透明導電性膜用表面保護膜的距邊緣50m的部位(距兩端大致等距離的位置)的樣品的外觀進行觀察。將黏合劑層的表面平滑的樣品評價為(○)，將在黏合劑層的表面產生了弱凹凸的樣品評價為(△)，將在黏合劑層的表面產生了強凹凸的樣品評價為(×)。
(硬塗佈處理膜的外觀檢查的方法) 使用對透明導電性膜用表面保護膜進行了外觀檢查的樣品作為下述的透明導電性膜用表面保護膜。在硬塗佈處理PET膜(KIMOTO公司製造，品名：KB膜#50G01)的硬塗佈處理面上貼合透明導電性膜用表面保護膜，然後，在150℃下進行1小時的加熱處理。將透明導電性膜用表面保護膜剝離後，通過目視觀察硬塗佈處理PET膜的表面狀態。將硬塗佈處理PET膜的外觀平滑的樣品評價為(○)，將產生了凹凸狀弱變形的樣品評價為(△)，將產生了凹凸狀強變形的樣品評價為(×)。
將針對各個樣品的測定結果示於表1。表1中，「聚合物A」為實施例1中記載的丙烯酸類聚合物，「聚合物B」為比較例2中記載的丙烯酸類聚合物。另外，關於表1中的儲存模數的值，通過在E的前後記載尾數和指數的形式來表示，例如將4.0×105 記為4.0E+05。
[表1]
Figure 108120844-A0304-0001
由表1所示的測定結果作出如下判斷。 實施例1～3中，透明導電性膜用表面保護膜中使用的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為82～92%，在加熱製程的前後黏合力的變化小，且黏合劑層表面的凹凸非常少(小)。使用了此表面保護膜的硬塗佈處理PET膜的外觀良好。另外，將實施例1～3的透明導電性膜用表面保護膜貼合到硬塗佈處理PET膜上時的處理性也非常良好。 關於實施例4，黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為77%，與實施例1～3相比，黏合劑層表面的凹凸稍稍增大。但是，黏合劑層表面的凹凸形狀不會轉印到硬塗佈處理PET膜上，得到了外觀良好的硬塗佈處理PET膜。
另一方面，在比較例1中，透明導電性膜用表面保護膜中使用的黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為低至56%的值。此結果，比較例1的透明導電性膜用表面保護膜在黏合劑層的表面產生了凹凸，在對硬塗佈處理PET膜貼合而成的疊層品進行加熱處理時，黏合劑層的表面的凹凸形狀轉印到硬塗佈處理PET膜上，硬塗佈處理PET膜的外觀下降。 另外，比較例2中，黏合劑層的儲存模數低至小於4.0×105 Pa，而黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K顯示出高達90%的值。但是，比較例2的透明導電性膜用表面保護膜在黏合劑層的表面產生了凹凸，在對與硬塗佈處理PET膜貼合而成的疊層品進行加熱處理時，黏合劑層的表面的凹凸形狀轉印到硬塗佈處理PET膜上，硬塗佈處理PET膜的外觀下降。同樣，在比較例3中，黏合劑層的儲存模數低至小於4.0×105 Pa，而黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的黏合劑層的反應率K為74%。但是，比較例3的透明導電性膜用表面保護膜在黏合劑層的表面產生了凹凸，在對與硬塗佈處理PET膜貼合而成的疊層品進行加熱處理時，黏合劑層的表面的凹凸形狀轉印到硬塗佈處理PET膜上，硬塗佈處理PET膜的外觀下降。 [產業上的利用可能性]
本發明的透明導電性膜用表面保護膜在觸控面板用透明電極的製造製程中，即使在貼合到薄型化的透明導電性薄膜上的狀態下經過加熱製程後，產生的捲曲也非常小。由此，能夠大幅改善觸控面板用透明電極的製造製程的操作性、生產效率。另外，本發明的透明導電性膜用表面保護膜能夠作為在觸控面板、電子紙、電磁波遮蔽材料、各種感測器、液晶面板、有機EL、太陽能電池等技術領域中使用的、透明導電性薄膜的製造、加工用表面保護膜廣泛使用。
1‧‧‧基材膜 2‧‧‧黏合劑層 3‧‧‧剝離膜 4‧‧‧黏合膜 5‧‧‧透明導電性膜用表面保護膜 6‧‧‧樹脂膜 6a‧‧‧樹脂膜的一個面 6b‧‧‧樹脂膜的另一個面 7‧‧‧透明導電膜 10‧‧‧透明導電性膜 11‧‧‧疊層膜 21‧‧‧剝離膜的滾筒 22‧‧‧基材膜的滾筒 23‧‧‧黏合劑塗佈裝置 24‧‧‧乾燥爐 25、26‧‧‧壓力滾輪 27‧‧‧透明導電性膜用表面保護膜的滾筒
[第1圖] 為表示本發明的透明導電性膜用表面保護膜的一例的剖面圖。 [第2圖] 為表示將本發明的透明導電性膜用表面保護膜貼合到透明導電性膜上的例子的剖面圖。 [第3圖] 為表示本發明的透明導電性膜用表面保護膜的製造方法的一例的示意圖。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏合劑層
3‧‧‧剝離膜
4‧‧‧黏合膜
5‧‧‧用於透明導電性薄膜的表面保護膜

Claims (1)

  1. 一種透明導電性膜用表面保護膜的製造方法，其為使用於貼合到在樹脂膜的一個面上形成有透明導電膜的透明導電性膜的另一個面上之透明導電性膜用表面保護膜的製造方法，其特徵在於： 該透明導電性膜用表面保護膜為在基材膜的單面上塗佈包含(甲基)丙烯酸類聚合物、異氰酸酯類交聯劑及交聯觸媒的丙烯酸類黏合劑且使其乾燥形成黏合劑層後， 該黏合劑層在30℃下的儲存模數為4.0×105 Pa以上，且該黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的該黏合劑層中所包含的該異氰酸酯類交聯劑的由下式表示的反應率K為75%以上， 反應率K(%)=(1-a/b)×100 其中，a為該黏合劑層的乾燥開始15分鐘後的該黏合劑層的透過傅立葉轉換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比，b為未固化時的該黏合劑層的透過傅利葉變換紅外吸光光度法得到的2270cm-1 /1730cm-1 的峰強度比，測定歸屬於該異氰酸酯類交聯劑的異氰酸酯(-N=C=O)的2270cm-1 的峰強度與歸屬於該黏合劑的(甲基)丙烯酸酯的C=O的1730cm-1 的峰強度後，藉由上式，計算該黏合劑層乾燥開始15分鐘後的該黏合劑層中所包含的該異氰酸酯類交聯劑的反應率K。
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