TWI688435B - 淨化裝置、淨化倉儲及清潔方法 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題，在於提供可去除附著於容器之氣體導入口或淨化噴嘴之周圍之微粒的淨化裝置。本發明之淨化裝置(4)具備有：可噴出氣體(G1)之噴嘴(31)；及於淨化對象之容器(F)之底面(Fb)與噴嘴相對向之狀態下，使氣體自噴嘴噴出之淨化控制部(34)。

Description

淨化裝置、淨化倉儲及清潔方法
本發明係有關於淨化裝置、淨化倉儲及清潔方法。
淨化倉儲保管收容晶圓、光罩等各種物品之容器。該容器有FOUP(前開式晶圓傳送盒；Front Opening Unified Pod)、SMIF Pod(標準機械介面晶圓盒；Standard Mechanical Interface Pod)、光罩Pod等。淨化倉儲係於保管時，藉由淨化裝置對容器內填充潔淨乾燥空氣或氮氣等之淨化氣體，以抑制收容物的污染與氧化等。淨化裝置具備載置有容器之淨化埠、及被連接於容器之氣體導入口的淨化噴嘴，而將淨化氣體自淨化噴嘴供給至容器的內部。在容器與淨化裝置被連接時，會因氣體導入口與淨化噴嘴的接觸等而產生微粒，而有微粒附著於容器之氣體導入口、淨化噴嘴的內部、淨化噴嘴的周圍等情形。作為去除上述微粒的方法，存在有在容器搬運至淨化埠前，使淨化氣體流動於淨化噴嘴之方法。(例如，參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第5557061號公報
如專利文獻1般流動淨化氣體之情形時，雖可去除淨化噴嘴內部之微粒，但無法去除附著於容器之氣體導入口或淨化噴嘴周圍的微粒。本發明係有鑑於上述實情而完成者，其目的在於提供可去除附著於容器之氣體導入口或淨化噴嘴周圍之微粒的淨化裝置、淨化倉儲及清潔方法。
本發明之淨化裝置，具備有：可噴出氣體之噴嘴；及於淨化對象之容器之底面與噴嘴相對向之狀態下，使氣體自噴嘴噴出之淨化控制部。
又，亦可為，噴嘴係連接於被設在容器之底面的氣體導入口，並經由氣體導入口將淨化氣體供給至容器之內部的淨化噴嘴，將淨化氣體作為氣體而加以噴出者。又，亦可為，淨化控制部係根據容器之朝向淨化位置的搬送資訊(搬送指令等資訊)，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出者。又，亦可為，淨化控制部係在容器之搬送開始後，且氣體導入口與淨化噴嘴被連接前，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出者。又，亦可為，淨化控制部係根據使容器自淨化噴嘴之上方下降之移載裝置的動作，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出者。又，亦可為，淨化控制部係在氣體導入口與淨化噴嘴相對向之狀態下，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出者。又，亦可為，淨化控制部係在容器之氣體導入口與淨化噴嘴被連接後仍繼續淨化氣體自淨化噴嘴之噴出，而將淨化氣體供給至容器之內部者。亦可為，淨化控制部係在容器之氣體導入口與噴嘴連接的前後，使淨化氣體的流量產生變化者。
本發明之淨化倉儲具備有前述之淨化裝置、及保持藉由淨化裝置所淨化之容器的棚架。本發明之清潔方法包含在可噴出氣體之噴嘴與淨化對象之容器之底面相對向之狀態下，使氣體自噴嘴噴出。
根據本發明，由於在淨化對象之容器之底面與噴嘴相對向之狀態下使氣體自噴嘴噴出，因此可藉由被噴抵於容器底面之氣體來去除容器之底面的微粒，而且可藉由自容器之底面側返回噴嘴側之氣體來去除噴嘴之周圍的微粒。
又，噴嘴為被連接於被設在容器之底面的氣體導入口，並經由氣體導入口將淨化氣體供給至容器之內部的淨化噴嘴，在將淨化氣體作為氣體而噴出之淨化裝置中，由於淨化噴嘴兼作為清潔用之噴嘴，因此可簡化裝置構成。又，即便於淨化噴嘴的前端部混入有環境氣體之情形時，由於在進行淨化之前會將該氣體噴出，因此可藉由純度高之淨化氣體來進行淨化。又，於淨化控制部根據容器之朝向淨化位置的搬送資訊，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出之淨化裝置中，可藉由搬送資訊正確地掌握容器與淨化噴嘴的位置關係，而可效率佳地且確實地去除微粒。又，於淨化控制部在容器之搬送開始後，且氣體導入口與淨化噴嘴被連接前，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出之淨化裝置中，相較於在容器之搬送開始前即開始淨化氣體之噴出之淨化裝置，可減少淨化氣體的浪費。又，於淨化控制部在容器之底面與淨化噴嘴相對向之狀態下，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出之淨化裝置中，相較於在容器之底面與淨化噴嘴相對向前便噴出淨化氣體之淨化裝置，可減少淨化氣體的浪 費。又，於淨化控制部根據使容器自淨化噴嘴之上方下降之移載裝置的動作，開始淨化氣體自淨化噴嘴之噴出之淨化裝置中，使容器與淨化噴嘴的間隔變短，而可效率佳地且確實地去除微粒。又，於淨化控制部在容器之氣體導入口與噴嘴連接後仍繼續淨化氣體自淨化噴嘴之噴出，而將淨化氣體供給至容器之內部之淨化裝置中，可迅速地自清潔之狀態移轉至淨化之狀態。又，於淨化控制部在容器之氣體導入口與淨化噴嘴連接的前與後，使淨化氣體的流量產生變化之淨化裝置中，可區分使用例如適合進行清潔之流量與適合進行淨化之流量。
1‧‧‧淨化倉儲
2‧‧‧框體
2a‧‧‧內部空間
3‧‧‧保管架
3a‧‧‧設置面
4、4B‧‧‧淨化裝置
5‧‧‧堆高式起重機(搬送裝置)
6‧‧‧倉儲控制裝置
10‧‧‧移行台車
11‧‧‧支撐柱
12‧‧‧支撐台
13‧‧‧移載裝置
14‧‧‧車輪
15‧‧‧軌道
20‧‧‧開口
21‧‧‧本體部
22‧‧‧蓋部
23‧‧‧凸緣部
24‧‧‧氣體導入埠
25‧‧‧氣體排出埠
31‧‧‧淨化噴嘴
32‧‧‧排氣噴嘴
33‧‧‧流量控制裝置
34‧‧‧淨化控制部
36、38‧‧‧配管
37‧‧‧氣體源
39‧‧‧氣體排氣
40‧‧‧就位感測器
41‧‧‧氣體導入口
45‧‧‧感測器
F‧‧‧容器
Fa‧‧‧內部
Fb‧‧‧底面
G1‧‧‧淨化氣體
GA‧‧‧空隙
L、M、H‧‧‧流量
L1‧‧‧檢測光
L2‧‧‧返回光
P‧‧‧微粒
圖1(A)及(B)係顯示實施形態之淨化倉儲的圖。
圖2(A)及(B)係顯示實施形態之淨化裝置之動作的說明圖。
圖3係顯示實施形態之淨化倉儲之動作之一例的時序圖。
圖4(A)及(B)係顯示實施形態之淨化倉儲之動作之其他例的時序圖。
圖5(A)至(F)係顯示開始淨化氣體之噴出之時間點之例的圖。
圖6(A)至(C)係顯示淨化氣體之流量之例的圖。
圖7(A)至(B)係顯示變形例之淨化裝置的圖。
以下，一邊參照圖式一邊對實施形態進行說明。於以下各圖中，使用XYZ座標系統來說明圖中的方向。於該XYZ座標系統中，將鉛垂方向設為Z方向，並將水平方向設為X方向、Y方向。
圖1(A)係顯示本實施形態之淨化倉儲1之一例的圖。圖1(B)係顯示容器F及淨化裝置4之一例的圖。淨化倉儲1，例如為保管收容半導體元件的製造所使用之晶圓或光罩等物品之容器F的自動倉庫。容器F，例如為FOUP、SMIF Pod、光罩Pod等。光罩，既可為液浸式曝光裝置所使用者，亦可為EUV(Extreme Ultraviolet；極端紫外光源)所使用者。
如圖1(A)所示，淨化倉儲1具備有框體2、複數個保管架3、複數個淨化裝置4、堆高式起重機(搬送裝置)5、及倉儲控制裝置6。框體2具有可與外部隔離之內部空間2a。框體2具備有在框體2之外部與內部空間2a交接容器F之入出庫埠(未圖示)。複數個保管架3、複數個淨化裝置4、及堆高式起重機5係配置於框體2之內部空間2a。倉儲控制裝置6亦可配置於框體2之內部或外部之任一者。倉儲控制裝置6係控制淨化裝置4及堆高式起重機5。再者，亦可分開地設置控制淨化裝置4之控制裝置、及控制堆高式起重機5之控制裝置。
堆高式起重機5可將容器F朝X方向、Y方向及Z方向之各方向搬送，例如，可將容器F於入出庫埠與保管架3之間搬送，或將容器F自保管架3搬送至其他保管架3。堆高式起重機5，例如具備有移行台車10、支撐柱11、支撐台12、及移載裝置13。移行台車10具有複數個車輪14，且沿著被設於框體2之底面之軌道15而朝水平方向(X方向)移動。
支撐柱11係自移行台車10之上表面朝鉛垂方向(Z方向)延伸而設置。支撐台12係由支撐柱11所支撐，可沿著支撐柱11而朝Z方向滑動地設置。移載裝置13，例如具備有可伸縮之 臂部、及可於上表面載置容器F之載置部。再者，堆高式起重機5亦可取代用以載置容器F者，而把持例如容器F上部之凸緣部23(參照圖1(B))而懸吊容器F並加以搬送者，或使用把持容器F之側面並加以搬送者。又，圖1雖圖示有1台之堆高式起重機5，但被配置於框體2內之堆高式起重機5亦可為2台以上。
保管架3係沿著高度方向(Z方向)排列有複數段而配置，並沿水平方向(X方向)排列有複數列而配置。於複數個保管架3，分別可載置容器F。複數個保管架3分別為可保持藉由淨化裝置4所淨化之容器F的棚架。再者，依據容器F之保管狀況，存在有在一部分的保管架3未載置有容器F之情形。
圖1(B)係顯示作為容器F之一例的FOUP，容器F具備有在前面具有開口20之箱狀的本體部21、及閉塞開口20之蓋部22。晶圓等之物品，係經由開口20被收容於容器F之內部Fa(內部空間、收容空間)。於本體部21之上部設有凸緣部23。本體部21係於其底面Fb側，具備有定位用之凹部(未圖示)。該凹部，例如為自本體部21之底面Fb之中心呈放射狀延伸之溝狀。於搬送容器F時，該凹部係供被設於移載裝置13之載置台的定位用銷(未圖示)進入，用以使容器F被定位於移載裝置13之載置台。
保管架3具有可供移載裝置13之載置台朝鉛垂方向通行之切口部(未圖示)。移載裝置13係藉由使載置台自保管架3之上方朝下方通過切口部進行移動，而將容器F移載至保管架3之上表面。於保管架3之上表面，設有定位用銷(未圖示)。在將容器F載置於保管架3時，保管架3之上表面之銷係進入至容器F之底面Fb側之凹部，而將容器F定位於保管架3。容器F之本體部21 係於底面Fb側，具備有氣體導入埠24及氣體排出埠25。
於氣體導入埠24，設有例如氣體導入口(於圖2以符號41來表示)、過濾器、及逆止閥。氣體導入口連通於本體部21之內部Fa與外部。氣體導入口之內側係被供給至容器F之內部Fa之淨化氣體G1的流路，而過濾器係設於該流路。過濾器例如為微粒過濾器，用以去除通過氣體導入口之氣體所包含的塵埃。氣體導入埠24之逆止閥，係抑制氣體自容器F之內部Fa經由氣體導入口流出至外部。於氣體排出埠25，設有例如排氣口、逆止閥、及過濾器。排氣口連通於本體部21之內部Fa與外部。氣體排出埠25之逆止閥係抑制氣體自容器F之外部經由排氣口流入內部Fa。過濾器例如為微粒過濾器，用以去除通過排氣口之氣體所包含的塵埃。通過排氣口之氣體，於淨化剛開始的短時間內，淨化前之容器F之內部Fa之環境氣體的比例較高，而在淨化開始後隨著時間的經過，淨化氣體G1的比例會變高。
淨化裝置4，具備有淨化噴嘴31、排氣噴嘴32、流量控制裝置33、及淨化控制部34。淨化噴嘴31及排氣噴嘴32，係設於保管架3之上表面。淨化噴嘴31及排氣噴嘴32係於將容器F載置於保管架3時，以分別與氣體導入口、排氣口連接之方式配置。容器F之氣體導入口係於將容器F載置於保管架3時，經由淨化噴嘴31被連接於配管36，並進一步經由流量控制裝置33被連接於氣體源37。排氣噴嘴32係經由配管38被連接於淨化氣體G1之排氣通路(氣體排氣39)。
氣體源37係供給淨化氣體G1。淨化氣體G1的種類，係根據容器F所收容的收容物而選擇。例如，可使用能對收容物進 行氧化抑制、抑制分子汙染等之氣體、使容器F內部之水分減少的氣體等。例如，於收容物為矽晶圓之情形時，作為淨化氣體G1，可使用氮氣等惰性氣體。藉由氮氣被供給至容器F之內部Fa，可將含有氧氣之環境氣體自容器F之內部朝向外部排放(去除)，而抑制(防止)矽晶圓被氧化。此外，於收容物為光罩之情形時，使用潔淨乾燥空氣(CDA)等之乾燥空氣作為淨化氣體G1。藉由潔淨乾燥空氣被供給至容器F之內部Fa，含有水分之環境氣體係自容器F之內部朝外部被排出(去除)，而抑制(防止)水分附著於光罩。氣體源37既可為淨化倉儲1之一部分，亦可為淨化倉儲1外部之裝置，例如可為設有淨化倉儲1之工廠的設備。
在對容器F進行淨化時，來自氣體源37的淨化氣體G1，係經由流量控制裝置33及配管36，自容器F的氣體導入口被供給至內部Fa，而被填充於容器F之內部Fa。又，內部Fa的氣體，係自排氣口被排出至容器F的外部，經由配管38並藉由氣體排氣39被排出於外部。再者，氣體排氣39可設有藉由泵等抽吸氣體之裝置。又，容器F亦可不具備氣體排氣埠25，於該情形時，淨化裝置4亦可不具備排氣噴嘴32。例如，若容器F之內部Fa之壓力達到臨限值以上，由於容器F之內部Fa之氣體便會自開口20與蓋部22之間隙等洩漏至外部，因此在即便沒有氣體排氣埠25之情形時，也能將容器F之內部Fa之氣體排放至外部。
流量控制裝置33係控制被連接於容器F之配管36(容器F之氣體導入口與氣體源37之間的流路)之淨化氣體G1的流量。流量控制裝置33，例如為質量流量控制器，且具有使淨化氣體G1於其內部流動之流路。於流量控制裝置33內部之流路，設有例 如利用自己發熱型阻抗元件的流量計、電磁閥等的流量控制閥。流量控制裝置33係根據流量計的測量結果，來對電磁閥等進行回饋控制，使其內部之淨化氣體G1的流量接近目標值。藉由流量控制裝置33控制配管36之淨化氣體G1的流量，來控制自氣體源37被供給至淨化噴嘴31之淨化氣體G1的流量。流量控制裝置33係可與淨化控制部34通信地被連接，並根據淨化控制部34所供給的控制信號，來控制淨化氣體G1的流量。
倉儲控制裝置6係藉由對淨化控制部34供給控制指令，而對淨化裝置4進行控制。倉儲控制裝置6係控制堆高式起重機5而將淨化對象之容器F搬送至淨化裝置4，並對該淨化裝置4進行控制而執行對容器F的淨化。於保管架3，設有用來檢測容器F已被載置的就位感測器40(在庫感測器)。就位感測器40係按鈕式感測器等的接觸式感測器，藉由利用容器F的底面被壓下，而檢測出容器F已被載置於保管架3。就位感測器40係可與淨化控制部34通信地被連接，而將其檢測結果供給至淨化控制部34。
於倉儲控制裝置6，連接有輸入部及顯示部。該輸入部，例如為操作面板、觸控面板、鍵盤、滑鼠、或軌跡球等。輸入部係檢測來自操作員的輸入，而將所輸入的資訊供給至倉儲控制裝置。又，上述顯示部，例如為液晶顯示器等，用以顯示自倉儲控制裝置6所供給的影像。例如，倉儲控制裝置6係使淨化倉儲1的動作狀況、各種設定、顯示淨化狀態之影像等顯示於顯示部。
圖2係顯示實施形態之淨化裝置之動作的說明圖。圖2(A)顯示容器F被搬送至淨化裝置4(淨化位置)之過程的狀態，圖2(B)顯示容器F與淨化裝置4連接之過程的狀態。如圖2(A)所示， 於容器F之底面Fb，存在有在氣體導入口41或其周圍附著有微粒P之情形。再者，氣體導入口41之下端面係設為底面Fb之一部分。又，存在有在淨化噴嘴31或其周圍附著有微粒P之情形。微粒P例如係於淨化噴嘴31與容器F之氣體導入口連接時，因淨化噴嘴31與容器F之氣體導入口之接觸所產生者、或容器F接觸淨化噴嘴31以外之構件(例如，搬送路徑之棚架、處理裝置之棚架)時所附著者等。如此之微粒P有時會侵入容器F之內部Fa而汙染收容物。因此，本實施形態之淨化裝置4係進行將附著於容器F之氣體導入口或淨化噴嘴31之周圍之微粒P去除的清潔(清潔處理)。
於該例子中，將在對容器F所進行之淨化(淨化處理)中對容器F之內部供給淨化氣體G1(參照圖1(B))的淨化噴嘴31，亦作為清潔用之噴嘴而使用。如圖2(B)所示，在淨化對象之容器F之底面Fb與淨化噴嘴31相對向之狀態下，淨化控制部34使淨化氣體G1自淨化噴嘴31噴出。於圖2(B)中，容器F係藉由移載裝置13(參照圖1(A))被搬運至淨化位置的正上方。於該狀態下，容器F係藉由移載裝置13下降，而被配置在氣體導入口41與淨化噴嘴31連接的位置，使氣體導入口41與淨化噴嘴31處於相對向之位置關係。
淨化控制部34例如係於移載裝置13使容器F自淨化噴嘴31之上方下降的期間，藉由控制流量控制裝置33，使淨化氣體G1自淨化噴嘴31噴出。淨化氣體G1在自配管36被噴出時，將附著於配管36之內壁或淨化噴嘴31之內壁的微粒P噴飛，使其漂浮於環境氣體(淨化噴嘴31與容器F之底面Fb之間的空間)中。此外，被噴出之淨化氣體G1係到達至容器F之底面Fb(氣體導入 口41及其周圍)，而將附著於其表面之微粒P噴飛，使其漂淨於環境氣體中。又，被噴出之淨化氣體G1藉由被容器F之底面Fb遮擋而形成漩渦等，形成自容器F之側返回淨化噴嘴31之側的流向。該淨化氣體G1的流向係噴飛附著於淨化噴嘴31之周圍的微粒P，使其漂浮於環境氣體中。淨化氣體G1係朝向側方流動於容器F之底面Fb、與淨化噴嘴31之上表面及淨化噴嘴31之設置面3a(保管架3之上表面)之間的空間，而將漂浮於環境氣體中之微粒P朝向側方搬運。
符號GA係容器F之底面Fb與淨化噴嘴31之上表面的空隙。淨化控制部34係於空隙GA為來自淨化噴嘴31之淨化氣體G1可到達容器F之底面Fb之程度(level)的狀態下，以使淨化氣體G1自淨化噴嘴31噴出之方式來控制流量控制裝置33。此外，淨化控制部34係以如下方式控制流量控制裝置33：在空隙GA處於自淨化噴嘴31到達底面Fb而折返之淨化氣體G1到達淨化噴嘴31之周圍之程度的狀態下，使淨化氣體G1自淨化噴嘴31噴出。如此之空隙GA係取決於淨化氣體G1之流速等而決定，例如，可為50mm以下，亦可為20mm以下，亦可為10mm以下。
如前所述，微粒P係沿水平方向，被搬運至保管架3之外側，而自容器F之底面Fb與淨化噴嘴31之間的空間被去除。圖1(A)所示之淨化倉儲1，具備有使框體2之內部空間2a之環境氣體進行循環之循環系統(未圖示)，並藉由該循環系統，形成於內部空間2a內自頂板側流至地板側之氣流。被搬運至保管架3之外側的微粒P，藉由該氣流被搬運至地板側，並由前述之循環系統之過濾器所捕捉，藉此自框體2之內部空間2a被去除。
其次，根據前述之淨化倉儲1之動作，對實施形態之清潔方法及淨化方法進行說明。圖3係顯示實施形態之淨化倉儲1之動作之一例的時序圖。於淨化倉儲1，淨化對象(保管對象)之容器F係藉由高架搬送裝置等被搬運至入出庫埠。倉儲控制裝置6係於步驟S1中，指定容器F之搬送目的地的淨化裝置4(保管架3)，並將使其搬送該容器F之指令(搬送指令)發送至堆高式起重機5(圖3等以「搬送裝置」所表示)。搬送裝置係於步驟S2，接收搬送指令，並於步驟S3依照搬送指令開始進行容器F之搬送。
又，倉儲控制裝置6係對容器F之搬送目的地之淨化裝置4之淨化控制部34，發送淨化對象之容器F將被搬入之內容的搬送資訊。淨化控制部34係於步驟S5接收搬送資訊。搬送裝置係於步驟S6將容器F搬送至淨化噴嘴31的上方，而淨化控制部34係根據來自倉儲控制裝置6之搬送資訊，而於步驟S7開始自淨化噴嘴31噴出淨化氣體G1，而開始進行清潔。例如，淨化控制部34以開始自淨化噴嘴31噴出淨化氣體G1，來作為對於接收到搬送資訊的回應，或作為觸發搬送資訊之接收。如此，實施形態之清潔方法，包含有在可噴出氣體(例如，淨化氣體G1)之噴嘴(例如，淨化噴嘴31)與淨化對象之容器F之底面Fb相對向之狀態下，使氣體自噴嘴噴出之步驟。
搬送裝置係於步驟S8，藉由使載置有容器F之移載裝置13之載置台下降，使容器F自淨化噴嘴31之上方下降。容器F係以使氣體導入口41與淨化噴嘴31相對向之方式，在被大致定位之狀態下下降，並藉由使定位用銷插入底面Fb之凹部，而相對於淨化裝置4(淨化噴嘴31)正確地定位。搬送裝置係於步驟S9，將 容器F載置於保管架3，而完成容器F與淨化裝置4的連接、即容器F之氣體導入口41(參照圖2(B))與淨化噴嘴31的連接。在搬送裝置進行步驟S6、S8、S9之處理的期間，淨化控制部34係繼續淨化氣體G1之噴出，而如圖2(B)所說明般去除微粒P。於步驟S9，若完成容器F與淨化噴嘴之連接，則來自淨化噴嘴31之淨化氣體G1會被供給至容器F之內部Fa，清潔便結束。
淨化控制部34在容器F之氣體導入口41與噴嘴連接後(步驟S9之後)，仍繼續來自淨化噴嘴31之淨化氣體G1之噴出(步驟S10)，而將淨化氣體G1供給至容器F之內部。亦即，淨化控制部34繼步驟S7之後的清潔，而在步驟S10之後對容器F進行淨化。如此，實施形態之淨化方法，包含有對進行前述之清潔後的容器F進行淨化之步驟。清潔係作為淨化的前處理(預淨化)而進行。再者，搬送裝置係於步驟S11，自容器F退避，並進行下一容器的搬送。
圖4係顯示淨化倉儲1之動作之其他例的時序圖。於圖4(A)之例子中，淨化控制部34係根據使容器F自淨化噴嘴31之上方下降之移載裝置13的動作，開始自淨化噴嘴噴出淨化氣體G1。搬送裝置係於步驟S6，在將容器F搬送至淨化噴嘴之上方後，於步驟S11將動作資訊發送至倉儲控制裝置6。動作資訊係顯示處於搬送過程之哪個階段的資訊，且搬送裝置係將接著藉由移載裝置13的下降而使容器下降的內容作為動作資訊來發送。倉儲控制裝置6係於步驟S12接收動作資訊，並於步驟S13將動作資訊發送至淨化控制部34。淨化控制部34係於步驟S14接收動作資訊，並根據動作資訊而於步驟S7開始淨化氣體G1的噴出。例如，淨化控制部34，以開始噴出淨化氣體G1，來作為對於所接收到之動作資訊的 回應(將動作資訊之接收作為觸發)。搬送裝置係於發送動作資訊後，於步驟S8使容器F自淨化噴嘴31之上方下降，且淨化控制部34係於與容器F之下降的同時，使淨化氣體G1噴出。
再者，倉儲控制裝置6亦可於步驟S13，取代動作資訊而將開始淨化氣體G1之噴出的指令，發送至淨化控制部34。又，搬送裝置發送動作資訊的時間點，並不限定於步驟S6之後，搬送裝置亦可定期性地或於動作每次切換時，發送動作資訊。倉儲控制裝置6亦可根據動作資訊判定(掌握)處於搬送過程的哪個階段，並根據該判定結果，對淨化控制部34發送開始淨化氣體G1之噴出的指令。又，搬送裝置既可將搬送資訊直接發送至淨化控制部34，亦可根據搬送過程的階段，將開始淨化氣體G1之噴出的指令發送至淨化控制部34。
於圖4(A)之例子中，淨化控制部34係調整噴出淨化氣體G1之時間點。淨化控制部34係於步驟S5接收搬送資訊後，於步驟S15判定是否已經過預先所設定之既定時間。既定時間係根據自搬送裝置開始進行搬送後，至搬送過程到達既定階段為止的時間來設定。例如，上述既定時間係設定為自搬送開始，容器F被搬送至淨化噴嘴31之上方為止的時間。淨化控制部34，在判定為尚未經過既定時間之情形時(步驟S15；No)，反覆進行步驟S15的處理。淨化控制部34，在判定為已經過既定時間之情形時(步驟S15；Yes)，便於步驟S7開始淨化氣體G1的噴出。如此，淨化控制部34藉由步驟S15之處理來產生延遲，而搬送裝置同步地，開始淨化氣體G1之噴出。例如，淨化控制部34係與搬送裝置使容器F自淨化噴嘴31之上方下降之動作同步地，開始淨化氣體G1之噴出。
圖5係顯示開始淨化氣體G1之噴出之時間點之例的圖。於圖5中，符號t0係容器F之搬送開始的時間，符號t1係容器F抵達淨化噴嘴31上方的時間，符號t2係搬送裝置使容器F開始自淨化噴嘴31之上方下降的時間，符號t3係淨化噴嘴31與容器F之氣體導入口41之連接完成的時間。於圖5中，以OFF來表示設定為沒有將淨化氣體G1噴出之狀態，並以ON來表示設定為將淨化氣體G1噴出的狀態。又，於圖5中，忽略通信之延遲、流量控制裝置33的應答性等，而示意性顯示淨化氣體G1之噴出的設定。
於圖5(A)中，在與容器F之搬送開始之時間t0大致相同的時間，將淨化氣體G1之噴出從OFF切換成ON，並將淨化氣體G1的噴出維持為ON，直到淨化噴嘴31與氣體導入口41的連接完成之時間t3以後。於圖5(B)中，在容器F之搬送開始之時間t0與容器F抵達淨化噴嘴31之上方之時間t1之間的時間，淨化氣體G1之噴出從OFF被切換成ON。例如以使淨化氣體G1在時間t1為被噴出之狀態的方式，對時間t1設定裕度，而將淨化氣體G1之噴出從OFF被切換成ON之時間，設定為比時間t1微略提早的時間。於圖5(C)中，在與時間t1大致相同的時間，淨化氣體G1的噴出從OFF被切換成ON。於圖5(D)中，在時間t1與搬送裝置開始使容器F自淨化噴嘴31之上方下降之時間t2之間的時間，淨化氣體G1之噴出從OFF被切換成ON。於圖5(E)中，在與時間t2大致相同的時間，淨化氣體G1的噴出從OFF被切換成ON。於圖5(F)中，在時間t2、與淨化噴嘴31與氣體導入口41之連接完成之時間t3之間的時間，淨化氣體G1的噴出從OFF被切換成ON。
如圖5所示，開始淨化氣體G1之噴出的時間點，亦 可設定為較淨化噴嘴31與容器F之氣體導入口41之連接完成更早之期間中的任一時間。然而，若越延後開始淨化氣體G1之噴出的時間點，便能越抑制清潔所需要之淨化氣體的消耗量。又，由於容器F之底面Fb與淨化噴嘴31之空隙GA越狹窄，底面Fb或淨化噴嘴31之周圍的氣流就越強，因此可效率佳地去除微粒P。亦即，若延遲開始淨化氣體G1之噴出的時間點，即可於空隙GA較狹窄的狀態下進行選擇性地清潔，而可兼顧淨化氣體G1的消耗量而效率佳地去除微粒。
圖6係顯示淨化氣體G1之流量之例的圖。於圖6中，「L」表示將淨化氣體G1之流量減至最少時之流量(例如，0)，「M」表示淨化用之流量，「H」則為大於「M」之流量(例如，流量控制裝置33所能容許的最大流量)。於圖6中，示意性地顯示流量為階段性產生變化者。淨化控制部34係藉由控制流量控制裝置33，使淨化氣體G1的流量產生變化。於圖6中，時間t10係淨化氣體G1的噴出被設定為ON的時間，而時間t3係與圖5相同地，為淨化噴嘴31與氣體導入口41之連接完成的時間。
於圖6(A)中，流量在時間t10自L變化為M，且直至成為時間t3後，流量維持為M。若如此使用淨化氣體G1的供給模式(流量的時間履歷)，便可簡化流量的控制。於圖6(B)中，流量在時間t10自L變化為H，流量在時間t3自H變化為M，且於時間t3後，流量維持為M。在時間t10至時間t3的期間，相當於利用淨化氣體G1進行清潔的期間，藉由使該期間之流量較淨化用的流量(「M」)增加，可有效率地去除微粒P。於圖6(C)中，到時間t3為止的模式雖與圖6(B)相同，但流量在時間t3自H朝向L變化，且 流量在時間t11自L變化為M。亦即，於圖6(C)中，在淨化噴嘴31與氣體導入口41之連接完成的時間點，或即將完成時，暫時停止淨化氣體G1之噴出，而自時間t11起開始進行淨化。如此，亦可於進行清潔的期間與進行淨化的期間之間，存在休止期間(例如，時間t3至時間t11的期間)。又，於圖6(B)中，亦可以使流量在即將成為時間t3之前成為M的方式，使流量在時間t3前的時間點連續地或階段性地產生變化。又，既可使流量在進行清潔的期間中產生變化，亦可例如間歇性地噴出淨化氣體G1。
接著對變形例進行說明。圖7係顯示變形例之淨化裝置4B之圖。該淨化裝置4B，具備有檢測容器F被配置於上方之感測器45。感測器45例如為光學感測器。感測器45係如圖7(A)般，將檢測光L1朝上方照射，而如圖7(B)般在容器F被配置於上方之狀態下，藉由容器F之底面Fb反射，而檢測出亂射的返回光L2。感測器45係可與淨化控制部34通信地被連接，並將其檢測結果供給至淨化控制部34。淨化控制部34係根據感測器45的檢測結果來控制流量控制裝置33，使淨化氣體G1自淨化噴嘴31被噴出。如此，藉由使用感測器45的檢測結果，則可即使不使用圖3、4所說明之搬送資訊或動作資訊，仍可規定開始淨化氣體G1之噴出的時間點。又，亦可併用感測器45的檢測結果、與搬送資訊及動作資訊之至少一者，來規定開始淨化氣體G1之噴出的時間點。再者，感測器45亦可如雷射測距器般，為可測量至容器F之底面Fb的距離者。若使用上述感測器45的測量結果，則可求得空隙GA的值，亦可根據空隙GA的值來控制淨化氣體G1的噴出。
於前述之實施形態中，淨化控制部34，例如包含電 腦系統。淨化控制部34係讀取被記憶在記憶儲存裝置(未圖示)之控制程式，並依照該控制程式執行各種的處理。該控制程式例如對電腦執行如下之控制：在以可噴出氣體之噴嘴與淨化對象之容器F之底面Fb相對向之狀態下，使氣體自噴嘴噴出。該控制程式亦可被記錄於電腦可讀取之記憶媒體而加以提供。
再者，於前述之實施形態中，雖然在淨化對象之容器F之底面Fb與噴嘴相對向之狀態下，作為朝向容器F噴出氣體之噴嘴而使用淨化噴嘴31，但該噴嘴既可不同於淨化噴嘴31而設置，亦可為例如清潔專用之噴嘴。於該情形時，自噴嘴噴出之氣體，亦可為與淨化氣體G1相同組成之氣體，亦可為與淨化氣體G1不同組成之氣體(例如，環境氣體、空氣)。再者，於前述之實施形態中，雖然在將容器F之氣體導入口41與淨化噴嘴31連接時噴出淨化氣體G1，但亦可在將容器F(氣體導入口41)自淨化裝置4(淨化噴嘴31)拆卸時，於容器F之底面Fb與淨化噴嘴31相對向之狀態下，自淨化噴嘴31噴出淨化氣體G1。於該情形時，亦可自容器F之底面Fb、淨化噴嘴31之周圍去除微粒P。
再者，在淨化噴嘴31與容器F之底面Fb相對向，且淨化氣體G1自淨化噴嘴31被噴出之狀態下，堆高式起重機5(搬送裝置)亦可將容器F朝水平方向與鉛垂方向之至少一者移動(振動)。例如，堆高式起重機5亦可以藉由來自淨化噴嘴31之淨化氣體G1掃除(sweep)容器F之底面Fb的方式來移動容器F。
再者，於圖1中，淨化裝置4雖然被設於淨化倉儲1之保管架3，但亦可設於淨化倉儲1之其他部分(例如，入出庫埠)。又，於圖1中，淨化裝置4雖被安裝於淨化倉儲1，但亦可被安裝 於與淨化倉儲1不同的裝置。例如，淨化裝置4亦可被安裝於高架搬送裝置之臨時放置場所(例如，頂上緩衝區(OHB)、側台車倉儲(side truck storage；STS)、下台車倉儲(under truck storage；UTS))、使用容器F之收容物之處理裝置的臨時放置場所(工具緩衝區；tool buffer)、變更容器F之收容物的順序之轉換器(changer)等中之一者。又，在法令允許的前提下，援用日本專利特願2015-158043及在前述之實施形態等所引用文獻的內容，來作為本案發明之記載的一部分。
3‧‧‧保管架
3a‧‧‧設置面
4‧‧‧淨化裝置
24‧‧‧氣體導入埠
31‧‧‧淨化噴嘴
33‧‧‧流量控制裝置
34‧‧‧淨化控制部
36‧‧‧配管
41‧‧‧氣體導入口
F‧‧‧容器
Fb‧‧‧底面
G1‧‧‧淨化氣體
GA‧‧‧空隙
P‧‧‧微粒

Claims (10)

  1. 一種淨化裝置，其具備有：淨化噴嘴，其可噴出淨化氣體；及淨化控制部，其在淨化對象之容器之底面與上述淨化噴嘴相對向之狀態下，使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出；上述淨化控制部根據上述容器之朝向淨化位置的搬送資訊，於上述容器之搬送開始後，且較被設在上述容器之底面之氣體導入口與上述淨化噴嘴被連接以前，在上述容器之底面與上述淨化噴嘴之上表面的空隙為來自上述淨化噴嘴之上述淨化氣體可到達上述容器之底面之程度的狀態下，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
  2. 如請求項1之淨化裝置，其中，上述淨化控制器在上述容器之底面與上述淨化噴嘴之上表面的空隙為到達上述容器之底面而折返之上述淨化氣體可到達上述淨化噴嘴之周圍之程度的狀態下，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
  3. 如請求項1之淨化裝置，其中，上述淨化噴嘴係連接於上述氣體導入口，並經由上述氣體導入口將上述淨化氣體供給至上述容器之內部。
  4. 如請求項1至3中任一項之淨化裝置，其中，上述淨化控制部在上述容器之底面與上述淨化噴嘴相對向之狀態下，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
  5. 如請求項1至3中任一項之淨化裝置，其中，上述淨化控制部根據使上述容器自上述淨化噴嘴之上方下降之移載裝置的動作，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
  6. 如請求項1至3中任一項之淨化裝置，其中，上述淨化控制部在上述氣體導入口與上述淨化噴嘴被連接後仍繼續使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出，而使上述淨化氣體供給至上述容器之內部。
  7. 如請求項6之淨化裝置，其中，上述淨化控制部使上述淨化氣體的流量在上述氣體導入口與上述淨化噴嘴被連接的前與後不同。
  8. 一種淨化倉儲，其具備有：請求項1至7中任一項所記載之淨化裝置；及保持藉由上述淨化裝置所淨化後之上述容器的棚架。
  9. 一種清潔方法，其包含在可噴出淨化氣體之淨化噴嘴與淨化對象之容器之底面相對向之狀態下，使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出；且根據上述容器之朝向淨化位置的搬送資訊，於上述容器之搬送開始後，且較被設在上述容器之底面之氣體導入口與上述淨化噴嘴被連接以前，在上述容器之底面與上述淨化噴嘴之上表面的空隙為來自上述淨化噴嘴之上述淨化氣體可到達上述容器之底面之程度的狀態下，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
  10. 如請求項9之清潔方法，其中，在上述容器之底面與上述淨化噴嘴之上表面的空隙為到達上述容器之底面而折返之上述淨化氣體可到達上述淨化噴嘴之周圍之程度的狀態下，開始使上述淨化氣體自上述淨化噴嘴噴出。
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