TWI685045B - 基板處理裝置及其旋轉台 - Google Patents

Abstract

本揭示提供一種基板處理裝置及其旋轉台。旋轉台包含：一基板保持部，用於保持一基板；一底板，環繞該基板保持部，且具有一中央鏤空部，其中該基板放置在該中央鏤空部之位置；以及一液體引導件，組裝在該底板上方，且與該底板之間相隔一間距以形成一液體通道，其中當該旋轉台帶動該基板旋轉時，施加在該基板上而從該基板甩出的液體，其經由該液體通道流至該旋轉台之外部。

Description

基板處理裝置及其旋轉台

本揭示是關於一種基板處理裝置，特別是關於一種用於處理非圓形基板的基板處理裝置及其旋轉台。

在方形面板級扇出型封裝製程中會藉由基板處理裝置對方形基板進行濕式蝕刻或清洗。然而，在傳統之用於處理方形基板的旋轉式處理裝置中，其從放置基板的旋載台中心到旋載台邊緣上的任一點並非等距離，使得方形基板在旋轉時從不同邊緣處甩出的液體會沿著不相等的路徑長度朝回收環前進，如此會造成液體以不規則的路徑朝四處飛濺，甚至是無法順利地到達回收環內，進而降低液體回收率，導致液體的浪費。

有鑑於此，有必要提出一種基板處理裝置及其旋轉台，以解決習知技術中存在的問題。

為解決上述習知技術之問題，本揭示之目的在於提供一種基板處理裝置及其旋轉台，其藉由在放置基板的旋載台上加裝附加元件，使得從旋轉台之中心點到邊緣上任一點的距離為等距，進而避免習知技術中因旋轉台與回收環相隔的距離並非等距，使得液體以不規則的路徑長度朝回收環前進，導致液體無法被確實地收集，造成液體回收率降低的問題

為達成上述目的，本揭示提供一種基板處理裝置之旋轉台，包含：一基板保持部，用於保持一基板；一底板，環繞該基板保持部，且具有一中央鏤空部，其中該基板放置在該中央鏤空部之位置；以及一液體引導件，組裝在該底板上方，且與該底板之間相隔一間距以形成一液體通道，其中當該旋轉台帶動該基板旋轉時，施加在該基板上而從該基板甩出的液體，其經由該液體通道流至該旋轉台之外部。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，從該基板保持部之中心點到該底板之外邊緣上任一點的距離相等。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該液體引導件包含相對的一第一側邊和一第二側邊，該第一側邊與該基板相鄰，且形狀與相鄰之該基板之外廓互補，以及該第二側邊與位在下方的該底板之外邊緣對齊。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該第一側邊為一斜面，且該斜面面對該基板，如此該基板旋轉時向上飛濺的該液體會藉由該斜面的阻擋而被引導至該液體通道內。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該液體引導件在該第二側邊處包含一檔止部。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該旋轉台還包含一框架，且該基板保持部連接在該框架之中央，以及該底板連接在該框架之外周圍。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該液體引導件為多件式組合而成的結構。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該液體引導件為一件式 結構。

本揭示還提供一種基板處理裝置，包括：上述的旋轉台；一驅動單元，與該旋轉台電性連接，用於驅使該旋轉台轉動；以及一回收環，環繞地設置在該旋轉台之周圍，並且與該液體通道之出口對準，用於收集從該基板甩出的該液體。

於本揭示其中之一較佳實施例當中，該底板在靠近該回收環處包含向下傾斜斜面。

相較於先前技術，本揭示藉由在放置基板的旋載台上裝設互相疊置的環型底板和液體引導件，使得當基板放置在從旋轉台上時，從基板之中心點到旋轉台之邊緣上任一點的距離為等距，並且從基板甩出的液體會經由底板和液體引導件之間的液體通道到達旋轉台的邊緣。藉此設計，可使得旋載台邊緣的液體以相等的路徑長度朝回收環前進，進而提高液體回收率。

1‧‧‧基板處理裝置

10、20‧‧‧旋轉台

11‧‧‧基座

12‧‧‧回收環

110、210‧‧‧框架

120、220‧‧‧基板保持部

130、230‧‧‧底板

131‧‧‧中央鏤空部

132‧‧‧螺紋通孔

140、240‧‧‧液體引導件

141‧‧‧第一側邊

142‧‧‧第二側邊

143‧‧‧斜面

144‧‧‧檔止部

145‧‧‧向下傾斜斜面

150、250‧‧‧鎖固件

160‧‧‧液體通道

A-A‧‧‧割面線

Z‧‧‧中心軸

F1、F2‧‧‧液體流動方向

S‧‧‧基板

第1圖顯示本揭示之第一較佳實施例之基板處理裝置之示意圖；第2圖顯示第1圖之基板處理裝置之旋轉台之立體圖；第3圖顯示第2圖之旋轉台之零件爆炸圖；第4圖顯示第2圖之沿著A-A割面線之局部剖面圖；以及第5圖顯示本揭示之第二較佳實施例之基板處理裝置之旋轉台之零件爆炸圖。

為了讓本揭示之上述及其他目的、特徵、優點能更明顯易懂，下文將特舉本揭示較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

請參照第1圖，其顯示本揭示之第一較佳實施例之基板處理裝置1之示意圖。基板處理裝置1包含旋轉台10、基座11和回收環12。旋轉台10與基座11連接，且基座11上裝設有與旋轉台10電性連接的驅動單元(未顯示於圖中)。藉由驅動單元的驅動，使得旋轉台10可繞著基座11的中心軸Z轉動。回收環12環繞地設置在旋轉台10的周圍，用於收集從旋轉台10甩出的液體(將於後詳述)。

請參照第2圖和第3圖，其中第2圖顯示第1圖之基板處理裝置1之旋轉台10之立體圖，以及第3圖顯示第2圖之旋轉台10之零件爆炸圖。旋轉台10包含框架110、基板保持部120、底板130、液體引導件140、和鎖固件150。框架110是由一對十字形交錯的長桿組成，用於支撐及連接基板保持部120和底板130。基板保持部120連接在框架110的中央位置，用於以真空吸附、或以夾持等方式將基板S(請參見第4圖)保持於其上。底板130連接在框架110之外周圍，即底板130是以環繞基板保持部120之方式設置。底板130具有中央鏤空部131，其中基板S是放置在中央鏤空部131之位置。也就是說，中央鏤空部131之形狀與放置之基板S的形狀相對應。舉例來說，在本實施例中是採用正方形的基板S，故中央鏤空部131的形狀為正方形。然而，在其他實施例中亦可根據採用的基板S形狀，如長方形、多邊形、橢圓形等，提供具有相對應構型的中央鏤空部之底板，不侷限於此。再者，底板130之外廓呈圓形，即從基板保持部120之中心點到底板130之外邊緣上任一點的距離皆相等。因此，當基板S放置在基板保持部120上時，從基板S 的中心點到底板130之外邊緣上任一點的距離一樣皆相等。此外，由於回收環12係同心地環繞設置在旋轉台10的周圍，即在本揭示中，藉由底板130和液體引導件140的設置，使得旋轉台10之邊緣上任一點到回收環12之間的距離為等距。

如第2圖和第3圖所示，液體引導件140藉由鎖固件150組裝在底板130上方。更明確地說，鎖固件150為螺絲，底板130上包含多個螺紋通孔132，以及液體引導件140上包含多個螺紋盲孔(未顯示於圖中)。鎖固件150是從底板130之背面穿過底板130上的螺紋通孔132而通往底板130之正面，最後再鎖附固定在液體引導件140上的螺紋盲孔內，進而完成液體引導件140與底板130之間的組裝。在本揭示之第一較佳實施例中液體引導件140是由四件式且彼此分離的板件組成。液體引導件140之單一個板件包含相對的第一側邊141和第二側邊142。第一側邊141會與底板130之中央鏤空部131的外廓大致上下對齊。因此，當基板S放置在基板保持部120上且從上方視之時，液體引導件140之第一側邊141會與基板S相鄰，且形狀與相鄰之基板S之外廓互補。另一方面，液體引導件140之第二側邊142會與位在下方的底板130之外邊緣對齊。

請參照第4圖，其顯示第2圖之沿著A-A割面線之局部剖面圖，其中第4圖之旋轉台10上放置有基板S。當液體引導件140組裝在底板130上方時，液體引導件140與底板130之間會相隔一間距，使得兩者之間形成有液體通道160。當旋轉台10帶動基板S旋轉時，施加在基板S上而從基板S甩出的液體，其經由液體通道160流至旋轉台10之外部(即沿著液體流動方向F1)。應當注意的是，基板處理裝置1之回收環12會與液體通道160之出口 對準，故可有效地將從基板S甩出的液體收集於其內。此外，當基板S放置在旋轉台10上時，基板S與底板130之間的間距相當微小，如此可降低液體流入基板S背面的風險。

如第4圖所示，液體引導件140之第一側邊141為斜面143，且該斜面143面對基板S。藉此設計，當基板S旋轉時向斜上飛濺的液體會藉由斜面143的阻擋而被引導至液體通道160內。更明確地說，當基板S表面不平坦或有翹曲時，容易使得基板S甩出的液體朝不規則的方向(尤其指上方)飛濺，導致回收率下降。因此，藉由提供水平高度高於基板S的液體引導件140，並且將液體引導件140面對基板S的表面設置為斜面143，使得當液體斜上地噴射至液體引導件140時，液體可沿著斜面143而導入液體通道160內。

液體引導件140在第二側邊處包含檔止部144，藉由檔止部144的阻擋，可避免液體過度飛濺。再者，底板130在靠近回收環12的位置設計為向下傾斜斜面145，如此，藉由在旋轉台10的外邊緣處設計具有檔止部144的液體引導件140以及向下傾斜的底板130，使得液體可沿著預定的角度入流至回收環12內部。然而，在其他實施例中可藉由調整回收環12的距離以及開口尺寸等，使得即使不在液體引導件140的第二側邊處設置檔止部144，也可將液體有效地收集至回收環12內部。

如第4圖所示，液體引導件140之上表面(遠離底板130之表面)為平面，因此當旋轉台10上方的液體噴灑裝置(未顯示在圖中)噴灑在液體引導件140上表面時，液體可藉由旋轉的離心力並沿著平坦的表面而被甩落入回收環12內部(即沿著液體流動方向F2)。此外，雖然在本實施例 中是採用單一層的液體引導件140，然而在其他實施例中，可根據實際使用的基板厚度而提供多層的液體引導件，不侷限於此。

請參照第5圖，其顯示本揭示之第二較佳實施例之基板處理裝置之旋轉台20之零件爆炸圖。第二較佳實施例之旋轉台20包含框架210、基板保持部220、底板230、液體引導件240、和鎖固件250，其中第二實施例之框架210、基板保持部220、底板230、和鎖固件250相似於第一實施例之框架110、基板保持部120、底板130、和鎖固件150，在此不加以贅述。第二較佳實施例與第一較佳實施例差別在於，第二較佳實施例之旋轉台20的液體引導件240是採用一件式且一體成型的板件組成。可以理解的是，在其他實施例中，亦可採用不同數量的板件構成本揭示之液體引導件，不侷限於此。

綜上所述，本揭示藉由在放置基板的旋載台上裝設互相疊置的環型底板和液體引導件，使得當基板放置在從旋轉台上時，從基板之中心點到旋轉台之邊緣上任一點的距離為等距，並且從基板甩出的液體會經由底板和液體引導件之間的液體通道到達旋轉台的邊緣。藉此設計，可使得旋載台邊緣的液體以相等的路徑長度朝回收環前進，進而提高液體回收率。此外，經由實驗證實，相較於傳統的用於處理非圓形基板的旋轉式處理裝置(從放置基板的旋載台中心到旋載台邊緣上的任一點並非等距離)，本揭示的基板處理裝置可有效地提高30%以上的液體回收率。

以上僅是本揭示的較佳實施方式，應當指出，對於所屬領域技術人員，在不脫離本揭示原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本揭示的保護範圍。

10‧‧‧旋轉台

110‧‧‧框架

120‧‧‧基板保持部

130‧‧‧底板

140‧‧‧液體引導件

A-A‧‧‧割面線

Claims (10)

1. 一種基板處理裝置之旋轉台，包含：一基板保持部，用於保持一基板；一底板，環繞該基板保持部，且具有一中央鏤空部，其中該基板放置在該中央鏤空部之位置；以及一液體引導件，組裝在該底板上方，且與該底板之間相隔一間距以形成一液體通道，其中當該旋轉台帶動該基板旋轉時，施加在該基板上而從該基板甩出的液體，其經由該液體通道流至該旋轉台之外部；其中該液體引導件包含相對的一第一側邊和一第二側邊，該第一側邊與該基板相鄰，且形狀與相鄰之該基板之外廓互補，以及該第二側邊與位在下方的該底板之外邊緣對齊；以及其中該第一側邊為一斜面，且該斜面面對該基板，如此該基板旋轉時向上飛濺的該液體會藉由該斜面的阻擋而被引導至該液體通道內。
2. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中從該基板保持部之中心點到該底板之外邊緣上任一點的距離相等。
3. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該液體引導件在該第二側邊處包含一檔止部。
4. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該旋轉台還包含一框架，且該基板保持部連接在該框架之中央，以及該底板連接在該框架之外周圍。
5. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該液體引導件為多件式組合而成的結構。
6. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該液體引導件為一件式結構。
7. 如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該中央鏤空部具有一長方形的形狀。
8. 如申請專利範圍第7項所述之基板處理裝置之旋轉台，其中該中央鏤空部具有一正方形的形狀。
9. 一種基板處理裝置，包括：如申請專利範圍第1至8項中任一項所述的旋轉台；一驅動單元，與該旋轉台電性連接，用於驅使該旋轉台轉動；以及一回收環，環繞地設置在該旋轉台之周圍，並且與該液體通道之出口對準，用於收集從該基板甩出的該液體。
10. 如申請專利範圍第9項所述之基板處理裝置，其中該底板在靠近該回收環處包含向下傾斜斜面。

Images