TWI683184B - 感光性黑色樹脂組成物、黑色硬化膜的製造方法、彩色濾光片及有機el顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種感光性黑色樹脂組成物、使用所述組成物的黑色硬化膜的製造方法、彩色濾光片及有機EL顯示裝置，所述感光性黑色樹脂組成物可於低溫條件下形成膜厚薄且遮光性優異的黑色硬化膜，解析性亦優異。本發明的感光性黑色樹脂組成物為含有既定成分、用以形成黑色硬化膜的組成物，所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部。
Description
本發明是有關於一種感光性黑色樹脂組成物、黑色硬化膜的製造方法、彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
於有機電致發光(Electroluminescence，EL)或無機EL等自發光型顯示裝置所代表的彩色顯示裝置中，於使用白色發光的發光元件的情形時，使用彩色濾光片(color filter)來生成紅色、綠色及藍色三原色的光，從而顯示彩色圖像。另外，於使用紅色、綠色及藍色三原色的發光元件的情形時，有時亦為了提高顏色純度而使用彩色濾光片。
此種彩色濾光片中，為了提高對比度，有時含有遮光膜。例如專利文獻1的圖7所示般，揭示有具有設置於透過色區域的一部分中的遮光膜的彩色濾光片，且作為構成遮光膜的材料，例如揭示有鈦。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-209201號公報
若考慮到生產性的方面，則遮光膜較佳為於低溫條件下使用感光性組成物而形成。若可於低溫條件下形成遮光膜，則可減少對其他構件(例如發光元件中的發光層)等的加熱時的損傷。
另一方面，近年來對遮光膜亦需求各種要求。
例如就進一步提高對比度的方面而言，要求進一步提高遮光膜的遮光性。另外，為了應對顯示裝置的薄型化，理想的是遮光膜的厚度薄。另外，就提高顯示裝置的顯示性能的方面而言，必須實現彩色濾光片內的子畫素(subpixel)的進一步的小型化，關於遮光膜亦要求進一步的微細化。
鑒於所述實際情況，本發明的課題在於提供一種感光性黑色樹脂組成物，其可於低溫條件下形成膜厚薄且遮光性優異的黑色硬化膜，並且解析性亦優異。
另外，本發明的課題亦在於提供一種使用所述組成物的黑色硬化膜的製造方法、彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
本發明者為了達成所述課題而進行了潛心研究，結果發現，藉由使用含有既定成分的組成物，可解決所述課題，從而完成了本發明。
即，本發明者等人發現，藉由以下構成可解決所述課題。
(1)一種感光性黑色樹脂組成物，含有黑色顏料、且用於形成黑色硬化膜，所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部。
(2)一種感光性黑色樹脂組成物，其是用於形成黑色硬化膜，所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部，並且所述感光性黑色樹脂組成物含有鈦黑、分散劑、聚合性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂及溶劑，聚合性化合物滿足要件1及要件2的至少一個，相對於感光性黑色樹脂組成物的總固體成分，鈦黑的含量為55質量%以上，固體成分濃度為13質量%~22質量%；要件1：一分子中具有五個以上的乙烯性不飽和基；要件2：一分子中的乙烯性不飽和基的量為7mmol/g以上。
(3)如(1)或(2)所記載的感光性黑色樹脂組成物，更含有紫外線吸收劑。
(4)如(1)至(3)中任一項所記載的感光性黑色樹脂組成物，更含有密接劑。
(5)如(1)至(4)中任一項所記載的感光性黑色樹脂組成物，其中分散劑為含有具有接枝鏈的結構單元的高分子化合物。
(6)如(5)所記載的感光性黑色樹脂組成物，其中具有接
枝鏈的結構單元為選自後述式(1)~式(4)所表示的結構單元中的一種以上的結構單元。
(7)如(1)至(6)中任一項所記載的感光性黑色樹脂組成物，其是賦予至SiN膜上。
(8)一種黑色硬化膜的製造方法，將如(1)至(7)中任一項所記載的感光性黑色樹脂組成物塗佈於基板上而形成塗膜，對塗膜實施硬化處理，製造黑色硬化膜。
(9)如(8)所記載的黑色硬化膜的製造方法，其中硬化處理為紫外線照射。
(10)如(8)或(9)所記載的黑色硬化膜的製造方法，其中黑色硬化膜的厚度為1μm以下。
(11)一種彩色濾光片，具有：藉由如(8)至(10)中任一項所記載的製造方法所得的黑色硬化膜；以及選自由紅色子畫素、綠色子畫素及藍色子畫素所組成的組群中的至少一個子畫素。
(12)一種有機EL顯示裝置，具有如(11)所記載的彩色濾光片。
根據本發明，可提供一種感光性黑色樹脂組成物，該感光性黑色樹脂組成物可於低溫條件下形成膜厚薄且遮光性優異的黑色硬化膜，並且解析性亦優異。
另外，根據本發明，亦可提供一種使用所述組成物的黑色硬化膜的製造方法、彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
10‧‧‧有機EL顯示裝置
12‧‧‧基板
14‧‧‧有機EL元件
16‧‧‧保護層
18‧‧‧彩色濾光片
20B‧‧‧藍色子畫素
20G‧‧‧綠色子畫素
20R‧‧‧紅色子畫素
22‧‧‧黑色硬化膜
24‧‧‧密封用基板
P‧‧‧間距(中心間距離)
圖1為表示具有本發明的黑色硬化膜的有機EL顯示裝置的構成的剖面圖。
以下，對本發明的感光性黑色樹脂組成物(以下亦簡稱為「組成物」)可含有的各成分加以詳細說明。
再者，於本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團(原子團)，並且亦包含具有取代基的基團(原子團)。例如所謂「烷基」，不僅是指不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
另外，本說明書中的「放射線」是指包含可見光線、紫外線、遠紫外線、電子束、X射線等。
以下記載的構成要件的說明有時是根據本發明的具代表性的實施方式來進行，但本發明不限定於此種實施方式。再者，本說明書中使用「~」所表示的數值範圍是指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。
<<第1實施方式>>
本發明的組成物的第1實施方式可列舉：含有黑色顏料、且用以形成黑色硬化膜的感光性黑色樹脂組成物，其中所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片
內部。
所使用的黑色顏料可列舉於後述第2實施方式中所說明的黑色顏料，例如可列舉鈦黑或碳黑。其中，較佳為鈦黑。
該第1實施方式中，除了黑色顏料以外，亦可含有既定量的後述第2實施方式中將敘述的各種成分(分散劑、聚合性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、溶劑等)。
<<第2實施方式>>
作為本發明的組成物的較佳實施方式的第2實施方式可列舉：含有既定量的黑色顏料、分散劑、聚合性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂及溶劑的組成物。再者，所述組成物是用於形成黑色硬化膜(黑色遮光膜)，該黑色硬化膜(黑色遮光膜)配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部。
以下，對組成物所含的各種成分加以詳述。
<黑色顏料>
本發明的組成物含有黑色顏料，較佳為含有鈦黑作為黑色顏料。
所謂鈦黑，是指含有鈦原子的黑色粒子。較佳為低價氧化鈦或氮氧化鈦等。為了提高分散性、抑制凝聚性等，視需要可對鈦黑粒子表面加以修飾。可經氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋯被覆，且亦可進行日本專利特開2007-302836號公報中所示般的利用撥水性物質的處理。
鈦黑典型而言為鈦黑粒子，較佳為各粒子的一次粒徑及平均
一次粒徑均小。
具體而言，平均一次粒徑較佳為10nm~45nm的範圍，更佳為12nm~20nm的範圍。再者，本發明中所謂粒徑、即粒子直徑，是指具有與粒子的外表面的投影面積相等面積的圓的直徑。粒子的投影面積可藉由以下方式獲得：對由電子顯微鏡照片中的拍攝所得的面積進行測定，並修正拍攝倍率。
鈦黑的比表面積並無特別限定，為了使利用撥水劑對該鈦黑進行表面處理後的撥水性成為既定的性能，較佳為由布厄特(Brunauer-Emmett-Teller，BET)法所測定的值通常為5m2/g以上且150m2/g以下左右，尤佳為20m2/g以上且100m2/g以下。
鈦黑的市售品的例子可列舉：鈦黑10S、鈦黑12S、鈦黑13R、鈦黑13M、鈦黑13M-C、鈦黑13R-N、鈦黑13M-T(商品名：以上為三菱材料(股)製造)，提拉克(Tilack)D(商品名：赤穗化成(股)製造)等。
關於鈦黑粒子，為了提高分散性，抑制凝聚性等，視需要可對粒子表面加以修飾。關於粒子表面的修飾，例如可利用氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋯等進行被覆處理，且亦可進行日本專利特開2007-302836號公報所示般的利用撥水性物質的處理。
進而，本發明的組成物較佳為以含有鈦黑及Si原子的被分散體的形式而含有鈦黑。
於該形態中，鈦黑是以被分散體的形式而含有於組成物中，
較佳為被分散體中的Si原子與Ti原子之含有比(Si/Ti)以質量換算計為0.05以上。
此處，所述被分散體包含鈦黑為一次粒子的狀態、與凝聚物(二次粒子)的狀態這兩者。
再者，本發明中的被分散體中的Si原子與Ti原子之含有比(Si/Ti)若超過0.5，則有難以使用被分散體來製造顏料分散液的傾向，故其上限較佳為0.5。
另外，若被分散體的Si/Ti過小，則於藉由光微影等將使用本發明的被分散體的黑色硬化膜加以圖案化時，容易於去除部中殘留殘渣，若被分散體的Si/Ti過大，則有遮光能力降低的傾向，故被分散體的Si/Ti更佳為0.05以上且0.5以下，進而佳為0.07以上且0.4以下。
為了變更被分散體的Si/Ti(例如設定為0.05以上)，可使用如下方法。
首先，使用分散機將氧化鈦及二氧化矽粒子分散，由此獲得分散物，於高溫(例如850℃~1000℃)下對該混合物進行還原處理，藉此可獲得以鈦黑粒子為主成分且含有Si及Ti的被分散體。
此處，對用以變更被分散體的Si/Ti的具體態樣加以說明。
將Si/Ti調整為例如0.05以上等的鈦黑例如可藉由日本專利特開2008-266045公報的段落編號[0005]及段落編號[0016]~段落編號[0021]中記載的方法而製作。
本發明中，將含有鈦黑及Si原子的被分散體中的Si原
子與Ti原子的含有比(Si/Ti)調整至較佳範圍(例如0.05以上)，由此於使用含有該被分散體的本發明的組成物來形成黑色硬化膜時，減少黑色硬化膜的形成區域外的來源於組成物的殘渣物。再者，殘渣物包含來源於鈦黑粒子、樹脂成分等感光性組成物的成分。
減少殘渣物的理由雖尚未明確，但推測，如上所述的被分散體有成為小粒徑的傾向(例如粒徑為30nm以下)，進而該被分散體的含有Si原子的成分增加，由此降低膜總體與基底的吸附性，這有助於提高黑色硬化膜形成時的未硬化的組成物(尤其是鈦黑)的顯影去除性。
另外，鈦黑對遍及自紫外至紅外的廣範圍的波長區域的光的遮光性優異，故使用所述含有鈦黑及Si原子的被分散體(較佳為Si/Ti以質量換算計為0.05以上的被分散體)而形成的黑色硬化膜發揮優異的遮光性。
再者，被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)例如可使用日本專利特開2013-249417號公報的段落0033中記載的方法(1-1)或方法(1-2)來測定。
另外，關於使本發明的組成物硬化所得的黑色硬化膜所含有的被分散體，判斷該被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)是否為0.05以上時，使用日本專利特開2013-249417號公報的段落0035中記載的方法(2)。
含有鈦黑及Si原子的被分散體中，鈦黑可使用上文所
述的鈦黑。
另外，該被分散體中，為了調整分散性、著色性等，亦可與鈦黑一起而組合包含Cu、Fe、Mn、V、Ni等的複合氧化物、氧化鈷、氧化鐵、碳黑、苯胺黑等的黑色顏料的一種或兩種以上，以被分散體的形式併用。
於該情形時，較佳為包含鈦黑的被分散體佔所有被分散體中的50質量%以上。
另外，該被分散體中，為了調整遮光性等，只要不損及本發明的效果，則視需要亦可與鈦黑一起而併用其他著色劑(有機顏料或染料等)。
以下，對將Si原子導入至被分散體中時所用的材料加以說明。於被分散體中導入Si原子時，只要使用二氧化矽等含Si的物質即可。
本發明中可使用的二氧化矽可列舉：沈降二氧化矽、煙熏二氧化矽、膠體二氧化矽、合成二氧化矽等，只要適當選擇使用該些二氧化矽即可。
進而，若二氧化矽粒子的粒徑為於形成黑色硬化膜時與膜厚為相同程度的粒徑，則引起遮光性的降低，故二氧化矽粒子較佳為使用微粒子型的二氧化矽。再者，微粒子型的二氧化矽的例子例如可列舉日本專利特開2013-249417號公報的段落0039中記載的二氧化矽，將該些內容併入至本說明書中。
本發明的組成物可僅含有一種鈦黑，亦可含有兩種以上。
相對於組成物的總固體成分(總固體成分質量)，鈦黑的含量較佳為55質量%以上，就所形成的黑色硬化膜的遮光性、低溫硬化性及解析性的平衡更優異的方面而言，更佳為55質量%~80質量%，進而佳為55質量%~70質量%。
再者，固體成分為可成為構成黑色硬化膜的成分者，不包括溶劑。
另外，本發明的組成物亦可混合使用鈦黑以外的顏料作為黑色顏料。
此種可混合的黑色顏料只要於可見光區域內具有吸光度，則並無特別限定，可列舉：所述體質顏料，碳黑，C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：2、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍64、C.I.顏料藍66、C.I.顏料藍79、C.I.顏料藍80、C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫27、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫42、C.I.顏料棕(Pigment Brown)25、C.I.顏料棕28、C.I.顏料黑(Pigment Black)1等有機顏料，顏料黑(Pigment Black)7等無機顏料等。
混合鈦黑以外的黑色顏料的例子可列舉：將鈦黑與碳黑以6：1混合而成的顏料、將鈦黑與氧化鈦以3：1混合而成的顏料等。
相對於鈦黑100質量份，所混合的鈦黑以外的黑色顏料能以0.01質量份~99.99質量份的範圍而使用。較佳為20質量份~70
質量份的範圍。
<黑色顏料以外的顏料>
本發明的組成物除了黑色顏料以外，視需要亦可含有體質顏料。此種體質顏料例如可列舉：硫酸鋇、碳酸鋇、碳酸鈣、二氧化矽、鹼性碳酸鎂、氧化鋁白、光澤白、鈦白、水滑石等。該些體質顏料可單獨使用或混合使用兩種以上。相對於黑色顏料100質量份，體質顏料的使用量通常為0質量份~100質量份，較佳為5質量份~50質量份，進而佳為10質量份~40質量份。本發明中，黑色顏料及體質顏料有時可利用聚合物對該些顏料的表面加以改良而使用。
<分散劑>
本發明的組成物較佳為含有分散劑。分散劑有助於提高上文所述的鈦黑等黑色顏料的分散性。
分散劑例如可適當選擇使用公知的顏料分散劑或界面活性劑。其中，較佳為高分子化合物。
高分子化合物可列舉：高分子分散劑[例如聚醯胺-胺及其鹽、多羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物]、及聚氧伸乙基烷基磷酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、烷醇胺及顏料衍生物等。
高分子化合物可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子及嵌段型高分子。
高分子化合物以如下方式發揮作用：吸附於黑色顏料及視需要而併用的顏料等被分散體的表面，防止再凝聚。因此，可列舉具有對顏料表面的固定部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作為較佳結構。
另一方面，藉由對鈦黑、或所述含有鈦黑及Si原子的被分散體的表面進行改良，亦可促進高分子化合物對該些物質的吸附性。
高分子化合物較佳為含有具有接枝鏈的結構單元。再者，本說明書中所謂「結構單元」，與「重覆單元」為相同含意。
此種含有具有接枝鏈的結構單元的高分子化合物藉由接枝鏈而具有與溶媒的親和性，故黑色顏料的分散性、及經時後的分散穩定性優異。另外，於組成物中，因存在接枝鏈而具有與聚合性化合物或其他可併用的樹脂等的親和性，故不易因鹼顯影而產生殘渣。
若接枝鏈變長，則立體排斥效果變高而分散性提高，但另一方面，若接枝鏈過長則有對黑色顏料的吸附力降低而分散性降低的傾向。因此，接枝鏈較佳為除了氫原子以外的原子數為40~10000的範圍，更佳為除了氫原子以外的原子數為50~2000，進而佳為除了氫原子以外的原子數為60~500。
此處，所謂接枝鏈，表示自共聚物的主鏈的根部(從主鏈分支的基團中鍵結於主鏈的原子)至從主鏈分支的基團的末端。
接枝鏈較佳為具有聚合物結構，此種聚合物結構例如可列舉：聚(甲基)丙烯酸酯結構(例如聚(甲基)丙烯酸結構)、聚酯
結構、聚胺基甲酸酯結構、聚脲結構、聚醯胺結構及聚醚結構等。
為了提高接枝部位與溶媒的相互作用性由此提高分散性，接枝鏈較佳為具有選自由聚酯結構、聚醚結構及聚(甲基)丙烯酸酯結構所組成的組群中的至少一種的接枝鏈，更佳為具有聚酯結構及聚醚結構的至少任一種的接枝鏈。
具有此種聚合物結構作為接枝鏈的巨單體的結構並無特別限定，較佳為可較佳地使用具有反應性雙鍵基的巨單體。
對應於高分子化合物所含的具有接枝鏈的結構單元，可較佳地用於合成高分子化合物的市售的巨單體可使用：AA-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AA-10(商品名，東亞合成(股)製造)、AB-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AS-6(商品名，東亞合成(股))、AN-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AW-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AA-714(商品名，東亞合成(股)製造)、AY-707(商品名，東亞合成(股)製造)、AY-714(商品名，東亞合成(股)製造)、AK-5(商品名，東亞合成(股)製造)、AK-30(商品名，東亞合成(股)製造)、AK-32(商品名，東亞合成(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PP-100(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PP-500(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PP-800(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PP-1000(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)55-PET-800(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PME-4000(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PSE-400(商品
名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PSE-1300(商品名，日油(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)43PAPE-600B(商品名，日油(股)製造)等。其中，較佳為可使用AA-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AA-10(商品名，東亞合成(股))、AB-6(商品名，東亞合成(股)製造)、AS-6(商品名，東亞合成(股))、AN-6(商品名，東亞合成(股)製造)、布蘭莫(Blemmer)PME-4000(商品名，日油(股)製造)等。
高分子化合物較佳為含有下述式(1)~式(4)的任一個所表示的結構單元作為具有接枝鏈的結構單元，更佳為含有下述式(1A)、下述式(2A)、下述式(3A)、下述式(3B)及下述式(4)的任一個所表示的結構單元。
式(1)~式(4)中，W1、W2、W3及W4分別獨立地
表示氧原子或NH。W1、W2、W3及W4較佳為氧原子。
式(1)~式(4)中，X1、X2、X3、X4及X5分別獨立地表示氫原子或一價有機基。就合成上的制約的觀點而言，X1、X2、X3、X4及X5較佳為分別獨立地為氫原子或碳數1~12的烷基，更佳為分別獨立地為氫原子或甲基，尤佳為甲基。
式(1)~式(4)中，Y1、Y2、Y3及Y4分別獨立地表示二價連結基，連結基於結構上並無特別制約。Y1、Y2、Y3及Y4所表示的二價連結基具體可列舉下述(Y-1)~(Y-21)的連結基等作為例子。於下述所示的結構中，A、B分別是指與式(1)~式(4)中的左末端基、右末端基的鍵結部位。下述所示的結構中，就合成的簡便性而言，更佳為(Y-2)或(Y-13)。
[化2]
式(1)~式(4)中，Z1、Z2、Z3及Z4分別獨立地表示一價有機基。有機基的結構並無特別限定，具體可列舉：烷基、羥基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、烷硫醚基、芳硫醚基、雜芳硫醚基及胺基等。該些基團中，尤其就提高分散性觀點而言，Z1、Z2、Z3及Z4所表示的有機基較佳為具有立體排斥效果，較佳為分別獨立地為碳數5~24的烷基或烷氧基，其中，尤佳為分別獨立地為碳數5~24的分支烷基、碳數5~24的環狀烷基或碳數5~24
的烷氧基。再者，烷氧基中所含的烷基可為直鏈狀、分支鏈狀、環狀的任一種。
式(1)~式(4)中，n、m、p及q分別獨立地為1~500的整數。
另外，式(1)及式(2)中，j及k分別獨立地表示2~8的整數。就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(1)及式(2)中的j及k較佳為4~6的整數，最佳為5。
式(3)中，R3表示分支或直鏈的伸烷基，較佳為碳數1~10的伸烷基，更佳為碳數2或3的伸烷基。於p為2~500時，存在多個的R3可彼此相同亦可不同。
式(4)中，R4表示氫原子或一價有機基，該一價有機基於結構上並無特別限定。R4較佳為可列舉氫原子、烷基、芳基及雜芳基，進而佳為氫原子或烷基。於R4為烷基的情形時，烷基較佳為碳數1~20的直鏈狀烷基、碳數3~20的分支狀烷基或碳數5~20的環狀烷基，更佳為碳數1~20的直鏈狀烷基，尤佳為碳數1~6的直鏈狀烷基。式(4)中，於q為2~500時，接枝共聚物中存在多個的X5及R4可彼此相同亦可不同。
另外，高分子化合物可含有兩種以上的結構不同的具有接枝鏈的結構單元。即，亦可於高分子化合物分子中，含有結構互不相同的式(1)~式(4)所表示的結構單元，且於式(1)~式(4)中n、m、p及q分別表示2以上的整數的情形時，式(1)及式(2)中，亦可於側鏈中含有j及k互不相同的結構，式(3)
及式(4)中，於分子內存在多個的R3、R4及X5可彼此相同亦可不同。
就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(1)所表示的結構單元更佳為下述式(1A)所表示的結構單元。
另外，就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(2)所表示的結構單元更佳為下述式(2A)所表示的結構單元。
式(1A)中，X1、Y1、Z1及n與式(1)中的X1、Y1、Z1及n為相同含意，較佳範圍亦相同。式(2A)中，X2、Y2、Z2及m與式(2)中的X2、Y2、Z2及m為相同含意，較佳範圍亦相同。
另外，就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(3)所表示的結構單元更佳為下述式(3A)或式(3B)所表示的結構單元。
式(3A)或(3B)中，X3、Y3、Z3及p與式(3)中的X3、Y3、Z3及p為相同含意，較佳範圍亦相同。
高分子化合物更佳為含有式(1A)所表示的結構單元作為具有接枝鏈的結構單元。
高分子化合物中，具有接枝鏈的結構單元(例如所述式(1)~式(4)所表示的結構單元)以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量，較佳為於10%~90%的範圍內含有，更佳為於30%~70%的範圍內含有。若於該範圍內含有具有接枝鏈的結構單元，則黑色顏料(尤其是鈦黑粒子)的分散性高，形成黑色硬化膜時的顯影性良好。
另外，高分子化合物較佳為含有與具有接枝鏈的結構單元不同(即，不相當於具有接枝鏈的結構單元)的疏水性結構單元。其中，本發明中，疏水性結構單元為不具有酸基(例如羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羥基等)的結構單元。
疏水性結構單元較佳為來源於(對應於)ClogP值為1.2
以上的化合物(單體)的結構單元，更佳為來源於ClogP值為1.2~8的化合物的結構單元。藉此，能更可靠地表現出本發明的效果。
ClogP值為利用可自日光化學資訊系統公司(Daylight Chemical Information System,Inc.)獲取的程式「CLOGP」所計算的值。該程式提供藉由漢施、里奧(Hansch、Leo)的片段法(fragment approach)(參照下述文獻)所算出的「計算logP」的值。片段法根據化合物的化學結構將化學結構分割為部分結構(片段)，將對該片段所分配的logP幫助成分合計，由此推算化合物的logP值。其詳細情況記載於以下的文獻中。本發明中，使用藉由程式CLOGP v4.82所計算的ClogP值。
A.J.里奧(A.J.Leo)，「綜合醫藥化學(Comprehensive Medicinal Chemistry)」，Vol.4；C.漢施(C.Hansch)、P.G.薩蒙斯(P.G.Sammnens)、J.B.泰勒(J.B.Taylor)及C.A.拉姆斯登(C.A.Ramsden)編輯(Eds.)，p.295，帕加馬出版社(Pergamon Press)，1990；C.漢施(C.Hansch)及A.J.里奧(A.J.Leo.)，「化學及生物學中的取代基常量的相關分析(SUbstituent Constants For Correlation Analysis in Chemistry and Biology.)」，約翰威立父子出版公司(John Wiley & Sons.)；A.J.里奧(A.J.Leo.)，「從結構計算疏水常數(Calculating logPoct from structure.)」，化學研究(Chem.Rev.)，93，1281-1306，1993.
logP是指分配係數P(Partition Coefficient)的常用對數，為以定量的數值來表示某有機化合物於油(通常為1-辛醇)
與水的二相系平衡中如何分配的物性值，是由以下的式子表示。
logP=log(Coil/Cwater)
式中，Coil表示油相中的化合物的莫耳濃度，Cwater表示水相中的化合物的莫耳濃度。
若logP的值隔著0而正值增大則意味著油溶性增大，若負值的絕對值增大則意味著水溶性增大，與有機化合物的水溶性具有負相關，被廣泛地用作估算有機化合物的親疏水性的參數。
高分子化合物較佳為含有選自來源於下述通式(i)~通式(iii)所表示的單量體的結構單元中的一種以上的結構單元作為疏水性結構單元。
所述式(i)~式(iii)中，R1、R2及R3分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟、氯、溴等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)。
R1、R2及R3更佳為氫原子或碳原子數為1~3的烷基，最佳為氫原子或甲基。R2及R3尤佳為氫原子。
X表示氧原子(-O-)或亞胺基(-NH-)，較佳為氧原子。
L為單鍵或二價連結基。二價連結基可列舉：二價脂肪族基(例如伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基、伸炔基、經取代的伸炔基)、二價芳香族基(例如伸芳基、經取代的伸芳基)、二價雜環基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基(-NR31-，此處R31為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、羰基(-CO-)或該些的組合等。
二價脂肪族基亦可具有環狀結構或分支結構。脂肪族基的碳原子數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10。脂肪族基可為不飽和脂肪族基亦可為飽和脂肪族基，較佳為飽和脂肪族基。另外，脂肪族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、芳香族基及雜環基等。
二價芳香族基的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。另外，芳香族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、脂肪族基、芳香族基及雜環基等。
二價雜環基較佳為具有5員環或6員環作為雜環。亦可於雜環上縮合有其他雜環、脂肪族環或芳香族環。另外，雜環基
亦可具有取代基。取代基的例子可列舉：鹵素原子、羥基、側氧基(=O)、側硫基(=S)、亞胺基(=NH)、經取代的亞胺基(=N-R32，此處R32為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、脂肪族基、芳香族基或雜環基。
L較佳為單鍵、伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價連結基。氧伸烷基結構更佳為氧伸乙基結構或氧伸丙基結構。另外，L亦可含有包含兩個以上的氧伸烷基結構的聚氧伸烷基結構。聚氧伸烷基結構較佳為聚氧伸乙基結構或聚氧伸丙基結構。聚氧伸乙基結構是由-(OCH2CH2)n-表示，n較佳為2以上的整數，更佳為2~10的整數。
Z可列舉：脂肪族基(例如烷基、經取代的烷基、不飽和烷基、經取代的不飽和烷基)、芳香族基(例如芳基、經取代的芳基、伸芳基、經取代的伸芳基)、雜環基或該些基團的組合。該些基團中，亦可含有氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基(-NR31-，此處R31為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、羰基(-CO-)。
脂肪族基亦可具有環狀結構或分支結構。脂肪族基的碳原子數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10。脂肪族基中，更包含集合環烴基、交聯環式烴基，集合環烴基的例子包含雙環己基、全氫萘基、聯苯基、4-環己基苯基等。交聯環式烴環例如可列舉：蒎烷、莰烷、降蒎烷、降莰烷、雙環辛烷環(雙環[2.2.2]辛烷環、雙環[3.2.1]辛烷環等)等二環式烴環，及三環
[5.2.1.03,8]癸烷(homobredane)、金剛烷、三環[5.2.1.02,6]癸烷、三環[4.3.1.12,5]十一烷環等三環式烴環，四環[4.4.0.12,5.17,10]十二烷、全氫-1,4-甲橋-5,8-甲橋萘環等四環式烴環等。另外，交聯環式烴環中亦包含縮合環式烴環，例如全氫萘(十氫萘)、全氫蒽、全氫菲、全氫苊、全氫茀、全氫茚、全氫萉環等5員~8員環烷烴環多個縮合而成的縮合環。
關於脂肪族基，飽和脂肪族基優於不飽和脂肪族基。另外，脂肪族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、芳香族基及雜環基。其中，脂肪族基不具有酸基作為取代基。
芳香族基的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。另外，芳香族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、脂肪族基、芳香族基及雜環基。其中，芳香族基不具有酸基作為取代基。
雜環基較佳為具有5員環或6員環作為雜環。亦可於雜環上縮合有其他雜環、脂肪族環或芳香族環。另外，雜環基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉：鹵素原子、羥基、側氧基(=O)、側硫基(=S)、亞胺基(=NH)、經取代的亞胺基(=N-R32，其中R32為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、脂肪族基、芳香族基及雜環基。其中，雜環基不具有酸基作為取代基。
所述式(iii)中，R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟、氯、溴等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)、Z或-L-Z。此處，L及Z與上文所述者
為相同含意。R4、R5及R6較佳為氫原子或碳數為1~3的烷基，更佳為氫原子。
本發明中，所述通式(i)所表示的單量體較佳為以下化合物：R1、R2及R3為氫原子或甲基，L為單鍵或伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價連結基，X為氧原子或亞胺基，且Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基。
另外，所述通式(ii)所表示的單量體較佳為以下化合物：R1為氫原子或甲基，L為伸烷基，且Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基。另外，所述通式(iii)所表示的單量體較佳為以下化合物：R4、R5及R6為氫原子或甲基，且Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基。
式(i)~式(iii)所表示的具代表性的化合物的例子可列舉：選自丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、苯乙烯類等中的自由基聚合性化合物。
再者，式(i)~式(iii)所表示的具代表性的化合物的例子可參照日本專利特開2013-249417號公報的段落0089~段落0093中記載的化合物，將該些內容併入至本說明書中。
高分子化合物中，疏水性結構單元較佳為以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量而於10%~90%的範圍內含有，更佳為於20%~80%的範圍內含有，進而佳為於30%~70%的範圍內含有。含量在所述範圍內時可充分地形成圖案。
高分子化合物可導入可與黑色顏料(尤其是鈦黑)形成
相互作用的官能基。此處，高分子化合物較佳為更含有具有可與黑色顏料形成相互作用的官能基的結構單元。
該可與黑色顏料形成相互作用的官能基例如可列舉：酸基、鹼性基、配位性基、具反應性的官能基等。
於高分子化合物具有酸基、鹼性基、配位性基、或具反應性的官能基的情形時，分別較佳為含有具有酸基的結構單元、具有鹼性基的結構單元、具有配位性基的結構單元或具反應性的結構單元。
尤其藉由高分子化合物更具有羧酸基等鹼可溶性基作為酸基，可對高分子化合物賦予用以藉由鹼顯影來形成圖案的顯影性。
即，藉由在高分子化合物中導入鹼可溶性基，本發明的組成物中，作為有助於黑色顏料的分散的分散劑的高分子化合物變得具有鹼可溶性。對於含有此種高分子化合物的組成物而言，曝光部的遮光性變優異，且未曝光部的鹼顯影性得到提高。
另外，藉由高分子化合物含有具有酸基的結構單元，高分子化合物容易與溶媒親和，有塗佈性亦提高的傾向。
推測其原因在於，具有酸基的結構單元中的酸基容易與黑色顏料相互作用，高分子化合物將黑色顏料穩定地分散，並且分散黑色顏料的高分子化合物的黏度由於所述具有聚酯結構的接枝鏈而降低，高分子化合物自身亦容易穩定地分散。
其中，具有作為酸基的鹼可溶性基的結構單元可為與所述具有接枝鏈的結構單元相同的結構單元，亦可為不同的結構單
元，但具有作為酸基的鹼可溶性基的結構單元為與所述疏水性結構單元不同的結構單元(即，不相當於所述疏水性結構單元)。
作為可與黑色顏料形成相互作用的官能基的酸基例如有羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羥基等，較佳為羧酸基、磺酸基、磷酸基中的至少一種，尤佳為對黑色顏料的吸附力良好且其分散性高的羧酸基。
即，高分子化合物較佳為更含有具有羧酸基、磺酸基及磷酸基中的至少一種的結構單元。
高分子化合物亦可含有一種或兩種以上的具有酸基的結構單元。
高分子化合物可含有具有酸基的結構單元，亦可不含具有酸基的結構單元，於含有具有酸基的結構單元的情形時，具有酸基的結構單元的含量以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量，較佳為5%以上且80%以下，就抑制鹼顯影對圖像強度的損傷(damege)的觀點而言，更佳為10%以上且60%以下。
作為可與黑色顏料形成相互作用的官能基的鹼性基例如有一級胺基、二級胺基、三級胺基、含有N原子的雜環基、醯胺基等，尤佳為對黑色顏料的吸附力良好且其分散性高的三級胺基。高分子化合物可具有一種或兩種以上的該些鹼性基。
高分子化合物可含有具有鹼性基的結構單元，亦可不含具有鹼性基的結構單元，於含有具有鹼性基的結構單元的情形時，具有鹼性基的結構單元的含量以質量換算計，相對於高分子化合物
的總質量，較佳為0.01%以上且50%以下，就抑制損及顯影性的觀點而言，更佳為0.01%以上且30%以下。
作為可與黑色顏料形成相互作用的官能基的配位性基、及具反應性的官能基例如可列舉：乙醯基乙醯氧基、三烷氧基矽烷基、異氰酸酯基、酸酐基、醯氯基等。尤佳為對黑色顏料的吸附力良好且分散性高的乙醯基乙醯氧基。高分子化合物可具有一種或兩種以上的該些基團。
高分子化合物可含有具有配位性基的結構單元、或具有具反應性的官能基的結構單元，亦可不含具有配位性基的結構單元、或具有具反應性的官能基的結構單元，於含有具有配位性基的結構單元、或具有具反應性的官能基的結構單元的情形時，該些結構單元的含量以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量，較佳為10%以上且80%以下，就抑制損及顯影性的觀點而言，更佳為20%以上且60%以下。
於本發明的高分子化合物除了接枝鏈以外具有可與黑色顏料形成相互作用的官能基的情形時，只要含有如上所述的各種可與黑色顏料形成相互作用的官能基即可，如何導入該些官能基並無特別限定，高分子化合物較佳為含有選自來源於下述通式(iv)~通式(vi)所表示的單量體的結構單元中的一種以上的結構單元。
[化6]
通式(iv)~通式(vi)中，R11、R12及R13分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)。
通式(iv)~通式(vi)中，R11、R12及R13更佳為分別獨立地為氫原子或碳原子數為1~3的烷基，最佳為分別獨立地為氫原子或甲基。通式(iv)中，R12及R13尤佳為分別為氫原子。
通式(iv)中的X1表示氧原子(-O-)或亞胺基(-NH-)，較佳為氧原子。
另外，通式(v)中的Y表示次甲基或氮原子。
另外，通式(iv)~通式(v)中的L1表示單鍵或二價連結基。二價連結基的例子可列舉：二價脂肪族基(例如伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基、伸炔基及經取代的
伸炔基)、二價芳香族基(例如伸芳基及經取代的伸芳基)、二價雜環基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基鍵(-NR31’-，此處R31’為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、羰基鍵(-CO-)或該些的組合等。
二價脂肪族基亦可具有環狀結構或分支結構。脂肪族基的碳原子數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10。關於脂肪族基，飽和脂肪族基優於不飽和脂肪族基。另外，脂肪族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、羥基、芳香族基及雜環基。
二價芳香族基的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。另外，芳香族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、羥基、脂肪族基、芳香族基及雜環基。
二價雜環基較佳為具有5員環或6員環作為雜環。亦可於雜環上縮合有其他雜環、脂肪族環或芳香族環中的一個以上。另外，雜環基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉：鹵素原子、羥基、側氧基(=O)、側硫基(=S)、亞胺基(=NH)、經取代的亞胺基(=N-R32，此處R32為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、脂肪族基、芳香族基及雜環基。
L1較佳為單鍵、伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價連結基。氧伸烷基結構更佳為氧伸乙基結構或氧伸丙基結構。另外，L1亦可含有包含兩個以上的氧伸烷基結構的聚氧伸烷基結構。聚氧伸烷基結構較佳為聚氧伸乙基結構或聚氧伸丙基結構。聚氧伸
乙基結構是由-(OCH2CH2)n-表示，n較佳為2以上的整數，更佳為2~10的整數。
通式(iv)~通式(vi)中，Z1表示接枝部位以外可與黑色顏料形成相互作用的官能基，較佳為羧酸基、三級胺基，更佳為羧酸基。
通式(vi)中，R14、R15及R16分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)、碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)、-Z1或-L1-Z1。此處，L1及Z1與所述L1及Z1為相同含意，較佳例亦相同。R14、R15及R16分別獨立地較佳為氫原子或碳數為1~3的烷基，更佳為氫原子。
本發明中，通式(iv)所表示的單量體較佳為以下化合物：R11、R12及R13分別獨立地為氫原子或甲基，L1為伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價連結基，X為氧原子或亞胺基，且Z為羧酸基。
另外，通式(v)所表示的單量體較佳為以下化合物：R11為氫原子或甲基，L1為伸烷基，Z1為羧酸基，且Y為次甲基。
進而，通式(vi)所表示的單量體較佳為以下化合物：R14、R15及R16分別獨立地為氫原子或甲基，L1為單鍵或伸烷基，且Z1為羧酸基。
以下示出通式(iv)~通式(vi)所表示的單量體(化合物)的代表例。
單量體的例子可列舉：甲基丙烯酸、丁烯酸、異丁烯酸、分
子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物(例如甲基丙烯酸-2-羥基乙酯)與琥珀酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與鄰苯二甲酸酐的反應物，分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與四羥基鄰苯二甲酸酐的反應物，分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與偏苯三甲酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與均苯四甲酸酐的反應物、丙烯酸、丙烯酸二聚物、丙烯酸寡聚物、馬來酸、衣康酸、富馬酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚、4-羥基苯基甲基丙烯醯胺等。
關於具有可與黑色顏料形成相互作用的官能基的結構單元的含量，就與黑色顏料的相互作用、分散穩定性及於顯影液中的浸透性的觀點而言，以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量，較佳為0.05質量%~90質量%，更佳為1.0質量%~80質量%，進而佳為10質量%~70質量%。
進而，高分子化合物為了提高圖像強度等各種性能，亦可於不損及本發明的效果的範圍內，更含有與具有接枝鏈的結構單元、疏水性結構單元及具有可與黑色顏料形成相互作用的官能基的結構單元不同的具有各種功能的其他結構單元(例如具有與用於分散物的分散介質具有親和性的官能基等的結構單元)。
此種其他結構單元例如可列舉：來源於選自丙烯腈類、甲基丙烯腈類等中的自由基聚合性化合物的結構單元。
高分子化合物可使用一種或兩種以上的該些其他結構單元，
其含量以質量換算計，相對於高分子化合物的總質量，較佳為0%以上且80%以下，尤佳為10%以上且60%以下。含量在所述範圍內時維持充分的圖案形成性。
高分子化合物的酸值較佳為0mgKOH/g以上且160mgKOH/g以下的範圍，更佳為10mgKOH/g以上且140mgKOH/g以下的範圍，進而佳為20mgKOH/g以上且120mgKOH/g以下的範圍。
若高分子化合物的酸值為160mgKOH/g以下，則可更有效地抑制形成黑色硬化膜時的顯影時的圖案剝離。另外，若高分子化合物的酸值為10mgKOH/g以上，則鹼顯影性變得更良好。另外，若高分子化合物的酸值為20mgKOH/g以上，則可進一步抑制黑色顏料(尤其是鈦黑)、或含有鈦黑及Si原子的被分散體的沈降，可進一步減少粗大粒子數，可進一步提高組成物的經時穩定性。
本發明中，高分子化合物的酸值例如可根據高分子化合物中的酸基的平均含量而算出。另外，藉由使作為高分子化合物的構成成分的含有酸基的結構單元的含量變化，可獲得具有所需酸值的樹脂。
關於本發明的高分子化合物的重量平均分子量，於形成黑色硬化膜時，就顯影時的圖案剝離的抑制及顯影性的觀點而言，以由凝膠滲透層析(Gel permeation chromatography，GPC)法所得的聚苯乙烯換算值計，較佳為4,000以上且300,000以下，更佳為5,000以上且200,000以下，進而佳為6,000以上且100,000
以下，尤佳為10,000以上且50,000以下。
GPC法基於以下方法：使用HLC-8020GPC(東曹(Tosoh)(股)製造)，使用TSKgel SuperHZM-H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ2000(東曹(Tosoh)(股)製造，4.6mm ID×15cm)作為管柱，且使用四氫呋喃(Tetrafuran，THF)作為溶離液。
高分子化合物可根據公知的方法來合成，合成高分子化合物時可使用的溶媒例如可列舉：二氯乙烷、環己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、2-甲氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。該些溶媒可單獨使用亦可混合使用兩種以上。
本發明中可使用的高分子化合物的具體例可列舉：畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「迪斯帕畢克(Disperbyk)-161、迪斯帕畢克(Disperbyk)-162、迪斯帕畢克(Disperbyk)-163、迪斯帕畢克(Disperbyk)-164、迪斯帕畢克(Disperbyk)-165、迪斯帕畢克(Disperbyk)-166、迪斯帕畢克(Disperbyk)-170、迪斯帕畢克(Disperbyk)-190(商品名，高分子共聚合物)」、埃夫卡(EFKA)公司製造的「埃夫卡(EFKA)4047、埃夫卡(EFKA)4050、埃夫卡(EFKA)4010、埃夫卡(EFKA)4165(商品名，聚胺基甲酸酯系)，埃夫卡(EFKA)4330、埃夫卡(EFKA)4340(商品名，嵌段共聚物)」等。
該些高分子化合物可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。
再者，高分子化合物的具體例可參照日本專利特開2013-249417號公報的段落0127~段落0129中記載的高分子化合物，將該些內容併入至本說明書中。
另外，分散劑除了上文所述的高分子化合物以外，可使用日本專利特開2010-106268號公報的段落0037~段落0115(對應的US2011/0124824的段落0075~段落0133欄)的接枝共聚物，可引用該些內容而併入至本說明書中。
另外，除了所述以外，亦可使用日本專利特開2011-153283號公報的段落0028~段落0084(對應的US2011/0279759的段落0075~段落0133欄)的高分子化合物，該高分子化合物含有具有酸性基經由連結基鍵結而成的側鏈結構的構成成分，可引用該些內容而併入至本說明書中。
相對於組成物的總固體成分，本發明的組成物中的分散劑的含量較佳為0.1質量%~50質量%，更佳為0.5質量%~30質量%。
<聚合性化合物>
本發明的組成物較佳為含有聚合性化合物。
聚合性化合物較佳為滿足以下的要件1及要件2的至少一個。
要件1：一分子中具有五個以上的乙烯性不飽和基
要件2：一分子中的乙烯性不飽和基的量為7mmol/g以上
要件1是指聚合性化合物一分子中的乙烯性不飽和基的個數
為五個以上，就解析性更優異的方面而言，較佳為五個~二十個，更佳為五個~八個。
要件2是指聚合性化合物一分子中的乙烯性不飽和基的量為7mmol/g以上，就解析性更優異的方面而言，較佳為7mmol/g~30mmol/g，更佳為7mmol/g~15mmol/g。
再者，所謂乙烯性不飽和基，是具有碳-碳雙鍵的基團，該碳-碳雙鍵亦可與其他飽和鍵共軛，但不包括苯環般的穩定芳香環中的雙鍵。乙烯性不飽和基例如可列舉：乙烯基(-CH=CH2)、(甲基)丙烯醯基[-C(=O)CH=CH2、-C(=O)C(CH3)=CH2]、乙烯基磺醯基(-SO2CH=CH2)、馬來醯亞胺般的具有-C(=O)CH=CHC(=O)-的部分結構的基團。
聚合性化合物較佳為滿足所述要件1或要件2的任一個，更佳為滿足兩個。
聚合性化合物例如可列舉：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、於甘油或三羥甲基乙烷等多官能醇上加成環氧乙烷或環氧丙烷後加以(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物、加以季戊四醇或二季戊四醇的聚(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物、作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
進而，亦可使用日本接著協會雜誌Vol.20、No.7、300頁~
308頁中作為光硬化性單體及寡聚物而介紹的化合物。
另外，亦可使用日本專利特開平10-62986號公報中作為通式(1)及通式(2)而與其具體例一併記載的於多官能醇上加成環氧乙烷或環氧丙烷後加以(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物。
其中，較佳為二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯及該些化合物的丙烯醯基介於乙二醇殘基、丙二醇殘基而連結於二季戊四醇的結構。亦可使用該些化合物的寡聚物類型。
市售品可列舉：胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、胺基甲酸酯寡聚物UAB-140(商品名，日本製紙化學(股)製造)，A-TMMT、UA-7200(商品名，新中村化學工業(股)製造)，DPHA、DPHA-40H、DPCA-20(商品名，日本化藥(股)製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(商品名，共榮社化學(股)製造)等。
另外，具有酸基的乙烯性不飽和化合物類亦較佳，市售品例如可列舉：含有羧基的五官能丙烯酸酯的TO-1382等。
聚合性化合物可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
於將兩種以上的聚合性化合物組合使用的情形時，其組合態樣可根據組成物所要求的物性等而適當設定。聚合性化合物的較佳組合的態樣之一例如可列舉：將選自上文所述的多官能的丙烯酸酯化合物中的兩種以上的聚合性化合物組合的態樣，其一例可
列舉二季戊四醇六丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯的組合。
相對於組成物的總固體成分，本發明的組成物中的聚合性化合物的含量較佳為3質量%~55質量%，更佳為10質量%~50質量%，進而佳為10質量%~25質量%。
<聚合起始劑>
本發明的組成物較佳為含有聚合起始劑。
聚合起始劑並無特別限制，可自公知的聚合起始劑中適當選擇，例如較佳為對自紫外線區域至可見光線具有感光性的化合物(所謂光聚合起始劑)，亦可為與經光激發的增感劑發生某些作用而生成活性自由基的活性劑，亦可為根據單體的種類而引發陽離子聚合般的起始劑。
另外，聚合起始劑較佳為含有至少一種於約300nm~800nm(更佳為330nm~500nm)的範圍內具有至少約50的分子吸光係數的成分。
聚合起始劑例如可列舉：鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架的化合物、具有噁二唑骨架的化合物)、醯基膦氧化物等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。更具體而言，例如亦可使用日本專利特開平10-291969號公報中記載的胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中記載的醯基膦氧化物系起始劑。
羥基苯乙酮系起始劑可使用：豔佳固(IRGACURE)-184、
達羅固(DAROCUR)-1173、豔佳固(IRGACURE)-500、豔佳固(IRGACURE)-2959、豔佳固(IRGACURE)-127(商品名：均為日本汽巴(Ciba Japan)公司製造)。
胺基苯乙酮系起始劑可使用：作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-907、豔佳固(IRGACURE)-369及豔佳固(IRGACURE)-379(商品名：均為日本汽巴(Ciba Japan)公司製造)。
胺基苯乙酮系起始劑亦可使用吸收波長與365nm或405nm等的長波光源匹配的日本專利特開2009-191179號公報中記載的化合物。
醯基膦系起始劑可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-819或達羅固(DAROCUR)-TPO(商品名：均為日本汽巴(Ciba Japan)公司製造)。
聚合起始劑較佳為含有肟系起始劑(肟化合物)。
肟系起始劑的具體的化合物名可列舉：2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-戊二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-己二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-庚二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(甲基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(乙基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(丁基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙
基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-甲基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-丙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-乙基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-丁基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮等。
肟系起始劑可使用：強力(TRONLY)TR-PBG-304、強力(TRONLY)TR-PBG-309、強力(TRONLY)TR-PBG-305(常州強力電子新材料有限公司(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD)製造)等市售品。另外，可參照日本專利特開2012-113104號公報的段落0092~段落0096中記載的肟系起始劑的記載，將該些內容併入至本說明書中。藉由使用此種肟系起始劑，可提供硬化感度高、顯影性良好的組成物。所述肟系起始劑為日本專利特開2012-113104號公報的段落0030以後說明的化合物。通式是由日本專利特開2012-113104號公報的申請專利範圍第1項中記載的通式(I)表示，更佳為由申請專利範圍第3項中記載的通式(I-A)表示，可參照該些記載，將該些內容併入至本說明書中。
另外亦可列舉：「英國化學會誌(Journal of the Chemical Society，J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979)1653-1660、「英國化學會誌(Journal of the Chemical Society，J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979)156-162、「光聚合物科學與技術期刊(Journal of Photopolymer Science and Technology)」(1995)202-232、日本
專利特開2000-66385號公報記載的化合物，日本專利特開2000-80068號公報的段落0218~段落0281、日本專利特表2004-534797號公報的段落0242~段落0251中記載的化合物，日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造的豔佳固(IRGACURE)OXE 01(1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苯甲醯基肟)])、豔佳固(IRGACURE)OXE 02(乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟))、2-(乙醯氧基亞胺基甲基)噻噸-9-酮、O-醯基肟系化合物(例如艾迪科奧普托瑪(Adeka optomer)N-1919、艾迪科阿科爾斯(Adeka Arkls)NCI-831)等，將該些內容併入至本說明書中。
進而亦可列舉：日本專利特開2007-231000號公報的段落0031及日本專利特開2007-322744號公報的段落0039中記載的環狀肟化合物、日本專利特開2007-269779號公報的段落0060~段落0062中所示的具有特定取代基的肟化合物、或日本專利特開2009-191061號公報的段落0090~段落0106中所示的具有硫代芳基的肟化合物、日本專利特開2001-233842號公報的段落0375~段落0409記載的化合物等，將該些內容併入至本說明書中。
相對於組成物的總固體成分，本發明的組成物中的聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%~30質量%，更佳為1質量%~25質量%，進而佳為1質量%~10質量%。
<鹼可溶性樹脂>
本發明的組成物較佳為含有鹼可溶性樹脂。
鹼可溶性樹脂可自以下鹼可溶性樹脂中適當選擇：其為線狀有機高分子聚合物，且於分子(較佳為以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進鹼可溶性的基團。就耐熱性的觀點而言，較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
促進鹼可溶性的基團(以下亦稱為酸基)例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為可溶於有機溶劑中且可藉由弱鹼性水溶液進行顯影，可列舉(甲基)丙烯酸基作為尤佳的基團。該些酸基可僅為一種，亦可為兩種以上。
鹼可溶性樹脂例如可列舉：於側鏈上具有羧酸基的樹脂(例如自由基聚合物)，例如日本專利特開昭59-44615號、日本專利特公昭54-34327號、日本專利特公昭58-12577號、日本專利特公昭54-25957號、日本專利特開昭54-92723號、日本專利特開昭59-53836號、日本專利特開昭59-71048號中記載的樹脂，即，使具有羧基的單體進行均聚合或共聚合而成的樹脂、使具有酸酐的單體進行均聚合或共聚合並使酸酐單元水解或半酯化或半醯胺化而成的樹脂、利用不飽和單羧酸及酸酐將環氧樹脂改質而成的環氧丙烯酸酯等。具有羧基的單體的例子可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、馬來酸、富馬酸、4-羧基苯乙烯等，具有酸酐的單體的例子可列舉馬來酸酐等。另外，亦可同樣地列舉
於側鏈上具有羧酸基的酸性纖維素衍生物作為例子。除此以外，於具有羥基的聚合物上加成環狀酸酐而成的樹脂等有用。
另外，歐洲專利第993966號、歐洲專利第1204000號、日本專利特開2001-318463號等的各公報中記載的具有酸基的縮醛改質聚乙烯醇系黏合物聚合物的膜強度、顯影性的平衡優異，因而較佳。
進而，除此以外，聚乙烯基吡咯啶酮或聚環氧乙烷等有效用作水溶性線狀有機聚合物。另外，為了提高硬化皮膜的強度，醇可溶性尼龍或2,2-雙-(4-羥基苯基)-丙烷與表氯醇的聚醚等亦有用。
尤其該些化合物中，[(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/視需要的其他加成聚合性乙烯系單體]共聚物、及[(甲基)丙烯酸烯丙酯/(甲基)丙烯酸/視需要的其他加成聚合性乙烯系單體]共聚物的膜強度、感度、顯影性的平衡優異，因而較佳。市售品例如可列舉亞克力貝斯(Acrybase)FF-187、亞克力貝斯(Acrybase)FF-426(藤倉化成公司製造)等。
製造鹼可溶性樹脂時，例如可應用利用公知的自由基聚合法的方法。藉由自由基聚合法來製造鹼可溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶媒的種類等聚合條件可由本領域技術人員容易地設定，亦能以實驗方式來決定條件。
相對於組成物的總固體成分，本發明的組成物中的鹼可溶性樹脂的含量較佳為0.1質量%~25質量%，更佳為0.3質量%
~20質量%，進而佳為0.5質量%~10質量%。
<溶媒>
本發明的組成物較佳為含有溶媒。
溶媒可列舉水或有機溶媒。
有機溶媒的例子例如可列舉：丙酮、甲基乙基酮、環己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氫呋喃、甲苯、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、乙醯丙酮、環己酮、環戊酮、二丙酮醇、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等，但不限定於該些溶媒。
溶媒可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
於組合使用兩種以上的溶媒的情形時，尤佳為由選自以下溶劑中的兩種以上所構成：所述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、環戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯。
相對於組成物的總量，組成物所含的溶媒的量較佳為10質量%~90質量%，更佳為20質量%~85質量%。
<其他成分>
本發明的組成物中，亦可含有上文所述的成分以外的成分。
例如，本發明的組成物中亦可含有密接劑。藉由含有密接劑，黑色硬化膜對基材的密接性得到提高。
密接劑可列舉矽烷系偶合劑、鈦偶合劑等。
所謂矽烷偶合劑，是於分子中具有水解性基及除此以外的官能基的化合物。再者，烷氧基等水解性基鍵結於矽原子。
矽烷系偶合劑可列舉：N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-甲基二甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBM-602)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBM-603)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBE-602)、γ-胺基丙基-三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBM-903)、γ-胺基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBE-903)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造的商品名KBM-503)等。
矽烷偶合劑的其他較佳態樣可列舉：於分子內至少具有矽原子、氮原子及硬化性官能基，且具有鍵結於矽原子的水解性基的矽烷偶合劑Y。
該矽烷偶合劑Y只要於分子內具有至少一個矽原子即可，矽原子可與以下的原子、取代基鍵結。該些可為相同的原子、取代基，亦可不同。可鍵結的原子、取代基可列舉：氫原子、鹵素原
子、羥基、碳數1~20的烷基、烯基、炔基、芳基、可經烷基及/或芳基取代的胺基、矽烷基、碳數1~20的烷氧基、芳氧基等。該些取代基亦可進一步經矽烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、硫代烷氧基、可經烷基及/或芳基取代的胺基、鹵素原子、磺醯胺基、烷氧基羰基、醯胺基、脲基、銨基、烷基銨基、羧基或其鹽、磺基或其鹽等所取代。
再者，於矽原子上鍵結有至少一個水解性基。水解性基例如可列舉：鹵素原子、烷氧基、醯氧基、烯氧基。
矽烷偶合劑Y於分子內具有至少一個以上的氮原子，氮原子較佳為以二級胺基或三級胺基的形態而存在，即，氮原子較佳為具有至少一個有機基作為取代基。再者，關於胺基的結構，能以含氮雜環的部分結構的形態而存在於分子內，亦能以苯胺等經取代的胺基的形式而存在。
此處，有機基可列舉：烷基、烯基、炔基、芳基或該些基團的組合等。該些基團亦可進一步具有取代基，可導入的取代基可列舉：矽烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、硫代烷氧基、胺基、鹵素原子、磺醯胺基、烷氧基羰基、羰氧基、醯胺基、脲基、伸烷氧基銨基、烷基銨基、羧基或其鹽、磺基等。
另外，氮原子較佳為經由任意的有機連結基而與硬化性官能基鍵結。較佳的有機連結基可列舉可對所述氮原子及鍵結於其的有機基所導入的取代基。
矽烷偶合劑Y所含的硬化性官能基可列舉：(甲基)丙烯
醯氧基、環氧基及氧雜環丁基等。
矽烷偶合劑Y中，硬化性官能基只要於一分子中具有至少一個以上即可，亦可採用具有兩個以上的硬化性官能基的態樣，就感度、穩定性的觀點而言，較佳為具有兩個~二十個硬化性官能基，進而佳為具有四個~十五個硬化性官能基，最佳為於分子內具有六個~十個硬化性官能基的態樣。
相對於組成物的總固體成分，密接劑的含量較佳為0.5質量%~30質量%，更佳為0.7質量%~20質量%，進而佳為0.7質量%~5質量%。
本發明的組成物中，亦可含有紫外線吸收劑。藉此，可使圖案的形狀更優異(精細)。
紫外線吸收劑可使用水楊酸酯系、二苯甲酮系、苯并三唑系、經取代的丙烯腈系、三嗪系的紫外線吸收劑。該些紫外線吸收劑的具體例可使用日本專利特開2012-068418號公報的段落0137~段落0142欄(對應的US2012/0068292的段落0251~段落0254欄)的化合物，可引用該些內容而併入至本說明書中。
除此以外，亦可較佳地使用二乙基胺基-苯基磺醯基系紫外線吸收劑(大東化學製造，商品名：UV-503)等。
紫外線吸收劑可列舉日本專利特開2012-32556號公報的段落0134~段落0148中例示的化合物。
組成物可含有紫外線吸收劑，亦可不含紫外線吸收劑，於含有紫外線吸收劑的情形時，相對於組成物的總固體成分，紫外線
吸收劑的含量較佳為0.001質量%~15質量%，更佳為0.01質量%~10質量%，進而佳為0.1質量%~5質量%。
組成物中，就進一步提高塗佈性的觀點而言，亦可添加各種界面活性劑。界面活性劑可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。尤其本發明的組成物藉由含有氟系界面活性劑，於製備成塗佈液時的液體特性(尤其是流動性)進一步提高，故可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。
氟系界面活性劑例如可列舉：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)，沙福龍(Surflon)S-382、沙福龍(Surflon)SC-101、沙福龍(Surflon)SC-103、沙福龍(Surflon)SC-104、沙福龍(Surflon)SC-105、沙福龍(Surflon)SC1068、沙福龍(Surflon)SC-381、沙福龍(Surflon)SC-383、沙福龍(Surflon)S393、沙福龍(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)等。
其他界面活性劑的具體例例如可列舉日本專利特開2013-249417號公報的段落0174~段落0177中記載的界面活性劑，將該些內容併入至本說明書中。
界面活性劑可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。
相對於組成物的總質量，界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。
除了所述成分以外，組成物中亦可更添加以下成分。例如可列舉：增感劑、共增感劑、交聯劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、聚合禁止劑、塑化劑、稀釋劑、感脂劑等，進而視需要亦可添加對基材表面的密接促進劑及其他助劑類(例如導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)等公知的添加劑。
該些成分例如可參照日本專利特開2012-003225號公報的段落編號0183~段落編號0228(對應的美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的[0237]~[0309])、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0101~段落編號0102、段落編號0103~段落編號0104、段落編號0107~段落編號0109、日本專利特開2013-195480號公報的段落編號0159~段落編號0184等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
本發明的組成物的固體成分濃度較佳為13質量%~22質量%，就所形成的黑色硬化膜的厚度及遮光性的平衡的方面而言，更佳為15質量%~21質量%，進而佳為17質量%~20質量%。
<組成物的製備方法>
本發明的組成物可藉由公知的混合方法(例如攪拌機、均質機、高壓乳化裝置、濕式粉碎機、濕式分散機)將上文所述的各種成分混合而製備。
為了去除異物或減少缺陷等，本發明的組成物(感光性黑色樹脂組成物的第1實施方式及第2實施方式)較佳為利用過濾器進行過濾。過濾器只要為一直以來用於過濾用途等中的過濾器，則可並無特別限定地使用。例如可列舉：聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂、尼龍等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(Polypropylene，PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量)等的過濾器。該些原材料中，較佳為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)、尼龍。
過濾器的孔徑合適的是0.1μm~7.0μm左右，較佳為0.2μm~2.5μm左右，更佳為0.2μm~1.5μm左右，進而佳為0.3μm~0.7μm。藉由設定為該範圍，可抑制顏料的過濾堵塞，並且將顏料所含的雜質或凝聚物等微細的異物可靠地去除。
使用過濾器時，亦可將不同的過濾器組合。此時，利用第1過濾器的過濾器可僅進行一次，亦可進行兩次以上。於將不同的過濾器組合來進行兩次以上的過濾的情形時，較佳為第2次以後的孔徑與第1次過濾的孔徑相同或較其更大。另外，亦可於上文所述的範圍內將孔徑不同的第1過濾器組合。此處的孔徑可參照過濾器廠商(filter maker)的標稱值。市售的過濾器例如可自日
本頗爾(Pall)股份有限公司、愛多邦德科東洋(Advantec Toyo)股份有限公司、日本英特格(Entegris)股份有限公司(原日本麥克麗思(Microris)股份有限公司)或北澤微濾器(KITZ Micro Filter)股份有限公司等所提供的各種過濾器中選擇。
第2過濾器可使用由與上文所述的第1過濾器相同的材料等所形成的過濾器。第2過濾器的孔徑合適的是0.2μm~10.0μm左右，較佳為0.2μm~7.0μm左右，進而佳為0.3μm~6.0μm左右。藉由設定為該範圍，可保持使混合液所含有的成分粒子殘存的狀態而將混合液中混入的異物去除。
例如，利用第1過濾器的過濾可僅利用分散液來進行，亦可與其他成分混合後進行第2過濾。
<黑色硬化膜的製造方法>
藉由使用上文所述的感光性黑色樹脂組成物(感光性黑色樹脂組成物的第1實施方式及第2實施方式)，可形成遮光性優異的黑色硬化膜。
黑色硬化膜的製造方法並無特別限制，可列舉：將上文所述的組成物塗佈於基板(較佳為SiN膜)上而形成塗膜，對塗膜實施硬化處理而製造黑色硬化膜的方法。
硬化處理的方法並無特別限制，可列舉光硬化處理或熱硬化處理，就圖案形成容易的方面而言，較佳為光硬化處理(尤其是紫外線照射處理)。
再者，所使用的基板的種類並無特別限制，將對下文的較佳
態樣加以詳述，可較佳地列舉SiN膜等。
本發明的黑色硬化膜的製造方法的較佳態樣可列舉包括以下步驟的態樣：於基板上塗佈本發明的組成物而形成組成物層的步驟(以下適當簡稱為「組成物層形成步驟」)；介隔遮罩對組成物層進行曝光的步驟(以下適當簡稱為「曝光步驟」)；以及對曝光後的組成物層進行顯影而形成著色圖案(圖案狀黑色硬化膜)的步驟(以下適當簡稱為「顯影步驟」)。
具體而言，將本發明的組成物直接或介隔其他層而塗佈於基板上，形成組成物層(組成物層形成步驟)，介隔既定的遮罩圖案進行曝光，僅使經光照射的塗佈膜部分進行硬化(曝光步驟)，利用顯影液進行顯影(顯影步驟)，由此可製造圖案狀的黑色硬化膜。
以下，對所述態樣中的各步驟加以說明。
[組成物層形成步驟]
於組成物層形成步驟中，於基板上塗佈本發明的組成物而形成組成物層。
基板例如可列舉：液晶顯示裝置等中所用的無鹼玻璃、鈉玻璃、派熱司(Pyrex)(註冊商標)玻璃、石英玻璃及於該些玻璃上附著有透明導電膜的基板、固體攝像元件等中所用的光電轉換元件基板、例如矽基板等、或互補性金屬氧化膜半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)等。另外，亦可使用SiN膜作為基板。
於基板上的本發明的組成物的塗佈方法可應用：狹縫塗
佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥塗佈、網版印刷法等各種塗佈方法。
就解析度及顯影性的觀點而言，組成物層的塗佈膜厚較佳為0.35μm以上且1.5μm以下，更佳為0.40μm以上且1.0μm以下。
塗佈於基板上的組成物通常是於70℃以上且110℃以下、2分鐘以上且4分鐘以下左右的條件下乾燥，形成組成物層。
[曝光步驟]
曝光步驟中，介隔遮罩對組成物層形成步驟中形成的組成物層進行曝光，僅使經光照射的塗佈膜部分硬化。
曝光較佳為藉由放射線的照射來進行，曝光時可使用的放射線尤其可較佳地使用g射線、h射線、i射線等紫外線，更佳為高壓水銀燈。照射強度較佳為5mJ/cm2以上且1500mJ/cm2以下，更佳為10mJ/cm2以上且1000mJ/cm2以下，最佳為10mJ/cm2以上且800mJ/cm2以下。
[顯影步驟]
於曝光步驟中，進行鹼顯影處理(顯影步驟)，使曝光步驟中的光未照射部分溶出至鹼性水溶液中。藉此，僅經光硬化的部分殘留。
顯影液理想的是有機鹼顯影液。顯影溫度通常為20℃以上且30℃以下，顯影時間為20秒鐘以上且90秒鐘以下。
關於鹼性水溶液，例如無機系顯影液可列舉將氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉以濃度成為0.001
質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%的方式溶解的鹼性水溶液，有機鹼顯影液可列舉將氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5,4,0]-7-十一烯等鹼性化合物以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%的方式溶解的鹼性水溶液。鹼性水溶液中，例如亦可添加適量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑或界面活性劑等。再者，於使用包含此種鹼性水溶液的顯影液的情形時，通常於顯影後利用純水進行清洗(淋洗)。
再者，進行組成物層形成步驟、曝光步驟及顯影步驟後，視需要亦可實施藉由加熱及/或曝光使所形成的圖案狀的黑色硬化膜硬化的硬化步驟。
<黑色硬化膜>
由上文所述的組成物所得的黑色硬化膜的厚度薄，且顯示出優異的遮光性。另外，可藉由低溫硬化而硬化，顯影性亦優異。黑色硬化膜作為所謂遮光膜而發揮功能。
黑色硬化膜的厚度並無特別限制，就薄型化的方面而言，較佳為1μm以下，更佳為0.8μm以下，進而佳為0.5μm以下。下限並無特別限制，就遮光性的方面而言，較佳為0.2μm以上。
於製作圖案狀的黑色硬化膜時，就可更有效地獲得本發明的效果的觀點而言，其圖案尺寸(一邊的長度)較佳為5μm以下，更佳為1μm以下。下限並無特別限制，就可更有效地獲得本發明的效果的觀點而言，較佳為0.1μm以上。再者，圖案的形狀較佳
為四邊形狀，可為正方形亦可為長方形。只要四邊形的長邊的長度滿足所述條件即可。
所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部。再者，子畫素例如有紅色子畫素、綠色子畫素、藍色子畫素等。
配置有黑色硬化膜的彩色濾光片內的子畫素的大小(一邊的長度)為15μm以下，較佳為10μm以下，更佳為5μm以下。下限並無特別限制，大多情況下為0.5μm以上。再者，子畫素的形狀較佳為四邊形狀。四邊形狀的情況下，只要各邊的長度為15μm以下即可。
黑色硬化膜配置於彩色濾光片內部，其位置並無特別限制，例如可列舉於黑色硬化膜上配置有子畫素(紅色子畫素、綠色子畫素或藍色子畫素)的態樣。即，較佳為以黑色硬化膜與子畫素(紅色子畫素、綠色子畫素及藍色子畫素的至少一個)接觸的方式配置。
<顯示裝置>
含有由本發明的組成物所得的黑色硬化膜的彩色濾光片可應用於各種用途，例如可列舉：顯示裝置(例如有機EL顯示裝置(OLED)、液晶顯示裝置等)的彩色濾光片、或固體攝像元件的彩色濾光片等。
以下，參照圖式，對具備含有本發明的黑色硬化膜的彩色濾光片的有機EL顯示裝置的一實施方式加以說明。
圖1中示出具有含有本發明的黑色硬化膜的彩色濾光片的有機EL顯示裝置的一實施方式的剖面圖。有機EL顯示裝置10具備基板12、以矩陣狀配置於基板12上的多個有機EL元件14、覆蓋有機EL元件14的保護層16、配置於保護層16上的彩色濾光片18、及配置於彩色濾光片18上的密封用基板24。彩色濾光片18具有正方形狀的紅色子畫素(紅色區域)20R、正方形狀的綠色子畫素(綠色區域)20G、正方形狀的藍色子畫素(藍色區域)20B、及兩個矩形狀的黑色硬化膜22。其中一個黑色硬化膜22配置於紅色子畫素20R與綠色子畫素20G之間，另一黑色硬化膜22配置於綠色子畫素20G與藍色子畫素20B之間。即，各子畫素配置於黑色硬化膜上。另外，黑色硬化膜位於各子畫素間。
再者，所謂子畫素，是指構成一個畫素(pixel)的紅綠藍(Red Green Blue，RGB)單色的各點。
有機EL顯示裝置10中，藉由產生白色光的多個有機EL元件14與彩色濾光片18的組合而產生三原色(紅色、綠色及藍色)的任一種光。多個有機EL元件14的間距(中心間距離)P例如為30μm以下，具體而言例如為約2μm~3μm。即，該有機EL顯示裝置中，有機EL元件14的尺寸極小，被稱為所謂微顯示器(微OLED)。
保護膜16例如厚度為0.5μm~10μm，是由氮化矽(SiN)所構成。密封用基板24將有機EL元件密封，是由透明的玻璃等材料所構成。
彩色濾光片18中的各子畫素(紅色子畫素20R、綠色子畫素20G、藍色子畫素20B)為正方形狀，其一邊的長度為15μm以下，就小型化的方面而言，較佳為10μm以下，更佳為5μm以下。下限並無特別限制，就製造上的問題而言，大多情況下為0.5μm以上。
再者，圖1中，示出正方形狀的子畫素的態樣，但不限定於該態樣，只要為四邊形狀即可，亦可為長方形狀。於長方形狀的情形時，長邊的長度為15μm以下。
黑色硬化膜20為配置於各子畫素之間、平行於各子畫素間的界面而延伸的矩形狀的層。黑色硬化膜20的形狀不限定於圖1的態樣，可為任一形態。
另外，黑色硬化膜20於圖1的態樣中是橫跨兩個子畫素而存在，但只要配置於彩色濾光片內，則其位置並無特別限制。
[實施例]
以下，對本發明加以更具體說明，但本發明只要不超出其主旨，則不限定於以下的實施例。再者，只要特別說明，「份」「%」為質量基準。另外，室溫是指25℃。
再者，關於本實施例，於製備後述的分散物後、及製備後述的黑色感光性樹脂組成物後，分別全部使用日本頗爾(Pall)製造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾。
<鈦黑分散物的製備>
-鈦黑A-1的製作-
秤量100g的平均粒徑15nm的氧化鈦MT-150A(商品名：帝化(Tayca)(股)製造)、25g的BET表面積300m2/g的二氧化矽粒子埃洛希爾(AEROPERL)(註冊商標)300/30(贏創(Evonic)製造)、及100g的分散劑迪斯帕畢克(Disperbyk)190(商品名：畢克化學(BYK Chemie)公司製造)，添加71g的離子電氣交換水，使用倉紡(KURABO)製造的馬澤斯達(MAZERSTAR)KK-400W以公轉轉速1360rpm、自轉轉速1047rpm進行20分鐘處理，由此獲得均勻的混合物水溶液。將該水溶液填充至石英容器中，使用小型回轉爐(rotary kiln)(本山(Motoyama)股份有限公司製造)於氧氣環境中加熱至920℃後，以氮氣置換環境，於該溫度下以100mL/min流通氨氣5小時，藉此實施氮化還原處理。結束後利用研缽將回收的粉末粉碎，獲得含有Si原子、粉末狀的比表面積73m2/g的鈦黑A-1[含有鈦黑粒子及Si原子的被分散體]。
<鈦黑分散物的製備>
使用攪拌機(艾卡(IKA)公司製造的尤洛斯達(EUROSTAR))將下述組成1所示的成分混合15分鐘，獲得分散物a。
再者，以下記載的特定樹脂1是參照日本專利特開2013-249417號公報的記載而合成。再者，特定樹脂1的式中，x為30質量%，y為20質量%，z為50質量%。另外，特定樹脂1的重量平均分子量為30000，酸值為60mgKOH/g，接枝鏈的原子數(氫原子除外)為117。
(組成1)
使用壽工業(股)製造的超分散磨機(Ultra Apex Mill)UAM015於下述條件下對所得的分散物a進行分散處理，獲得鈦黑分散物。
(分散條件)
．珠徑：Φ 0.05mm
．珠填充率：75體積%
．磨機周速：8m/sec
．進行分散處理的混合液量：500g
．循環流量(泵供給量)：13kg/hour
．處理液溫度：25℃~30℃
．冷卻水：自來水
．珠磨機環狀通道內容積：0.15L
．通過次數：90次
[黑色感光性樹脂組成物的製備]
<實施例1>
將下述組成混合，由此獲得黑色感光性樹脂組成物1。
<實施例2>
將作為聚合起始劑的豔佳固(Irgacure)OXE02變更為NCI-831(艾迪科(Adeka)公司製造)，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物2。
<實施例3>
將作為聚合起始劑的豔佳固(Irgacure)OXE02變更為N-1919(艾迪科(Adeka)公司製造)，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物3。
<實施例4>
將作為聚合性化合物的卡亞拉德(KAYARAD)DPHA變更為卡亞拉德(KAYARAD)DPCA-20(日本化藥(股)製造，乙烯性不飽和基的個數：6，乙烯性不飽和基的量：7.4mmol/g)，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物4。
<實施例5>
將作為聚合性化合物的卡亞拉德(KAYARAD)DPHA變更為NK酯(NK Ester)A-TMMT(新中村化學(股)製造，乙烯性不飽和基的個數：4，乙烯性不飽和基的量：11.3mmol/g)，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物5。
<實施例6>
進一步添加更0.3質量份的KBM-502(信越化學(股)製造)作為密接劑，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物6。
<實施例7>
進一步添加0.3質量份的以下式所表示的化合物作為密接劑，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物7。
<實施例8>
進一步添加0.3質量份的KBM-503(信越化學(股)製造)作為密接劑，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物8。
<實施例9>
進一步添加0.3質量份的KBM-502(信越化學(股)製造)作為密接劑，除此以外，依照與實施例5相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物9。
<實施例10>
進一步添加0.3質量份的以下式所表示的化合物作為密接劑，除此以外，依照與實施例5相同的順序獲得黑色感光性樹脂
組成物10。
<實施例11>
進一步添加0.3質量份的KBM-503(信越化學(股)製造)作為密接劑，除此以外，依照與實施例5相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物11。
<實施例12>
進一步添加35.1質量份的環己酮作為溶劑，除此以外，依照與實施例1相同的順序獲得黑色感光性樹脂組成物12。
<黑色硬化膜的製作>
利用旋塗法將所述實施例中獲得的黑色感光性樹脂組成物分別塗佈於8吋的SiN基板上，其後於加熱板上於100℃下加熱2分鐘而獲得塗佈膜。對該塗佈膜使用具有0.8μm×0.8μm的開口圖案的i射線步進機，以500mJ/cm2進行曝光。使用氫氧化四甲基銨0.3%水溶液，對曝光後的黑色硬化膜反覆進行5次23℃下的60
秒鐘覆液顯影。其後，藉由旋轉噴淋(spin shower)進行淋洗，進而以純水進行水洗，獲得圖案狀的黑色硬化膜。進而，利用紫外線(Ultraviolet，UV)固化裝置(牛尾(Ushio)公司製造)以10J/cm2進行曝光。
<評價>
(膜厚)
利用旋塗法將所述實施例中獲得的黑色感光性樹脂組成物以3000rpm分別塗佈於8吋的SiN基板上，其後於加熱板上於100℃下加熱2分鐘而獲得塗佈膜。繼而，使用i射線步進機，對所得的塗佈膜以500mJ/cm2進行曝光。其後，使用愛發科(ULVAC)製造的德塔克(Decktak)6M(接觸式表面形狀測定器)來評價膜厚，以如下評價基準進行評價。將A視為容許範圍內。
「A」：膜厚小於4500Å
「B」：膜厚為4500Å以上
(遮光性)
利用旋塗法將所述實施例中獲得的黑色感光性樹脂組成物分別以膜厚成為0.4μm的方式塗佈於玻璃基板上，其後於加熱板上於100℃下加熱2分鐘而獲得塗佈膜。繼而，使用i射線步進機對所得的塗佈膜以500mJ/cm2進行曝光。其後，使用UV-3600(日立股份有限公司製造：分光光度計)，依照評價基準來評價遮光性。將A視為容許範圍內。
「A」：於波長400nm~700nm下透過率小於20%
「B」：於波長400nm~700nm下透過率為20%以上
(解析性)
藉由光學顯微鏡或剖面掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)對所述<黑色硬化膜的製作>中獲得的黑色硬化膜評價解析性，以如下評價基準進行評價。將「3」或「2」視為容許範圍內。
「3」：於SiN基板上未見圖案的剝離，解析性為無問題的水準
「2」：於SiN基板上稍可見圖案的剝離，解析性稍差但為容許範圍內的水準
「1」：於SiN基板上圖案的剝離多，無法評價解析性而為不合格水準
(硬化性)
將所述<黑色硬化膜的製作>中獲得的黑色硬化膜於環己酮中浸漬10分鐘，其後使用UV-3600(日立股份有限公司製造：分光光度計)，對浸漬於環己酮中前的黑色硬化膜的透過率、及浸漬於環己酮中後的黑色硬化膜的透過率進行測定，依照評價基準來評價遮光性。將「3」或「2」視為容許範圍內。再者，以下所謂透過率變動，是指波長450nm下的環己酮浸漬前後的黑色硬化膜的透過率之差的值(浸漬於環己酮中後的波長450nm下的黑色硬化膜的透過率-浸漬於環己酮中前的波長450nm下的黑色硬化膜的透過率)。
「3」：波長450nm下環己酮浸漬前後的透過率變動小於1%
「2」：波長450nm下環己酮浸漬前後的透過率變動為1%以上且小於3%
「1」：波長450nm下環己酮浸漬前後的透過率變動為3%以上
將所述各種評價結果匯總示於以下的表1中。
表1中，「鈦黑的含量(質量%)」欄是指相對於組成物中的總固體成分的鈦黑的含量(質量%)。
表1中，「固體成分濃度(質量%)」欄是指組成物中的固體成分濃度。
表1中，「聚合性化合物的要件」欄表示是否滿足所述要件1(要件1：一分子中具有五個以上的乙烯性不飽和基)、及所述要件2(一分子中的乙烯性不飽和基的量為7mmol/g以上)。將滿足要件1及要件2兩個的情形記作「1及2」，將僅滿足要件1的情形記作「1」，將僅滿足要件2的情形記作「2」，將不滿足要件1及要件2兩個的情形記作「-」。
表1中，關於「肟系起始劑的有無」欄，將使用肟系起始劑的情形記作「有」，將不使用肟系起始劑的情形記作「無」。
表1中，關於「密接劑的有無」欄，將使用密接劑的情形記作「有」，將不使用密接劑的情形記作「無」。
如表1所示，確認到若使用本發明的感光性黑色樹脂組成物，則可獲得所需效果。
使用上文所述的實施例中所得的黑色感光性樹脂組成物，製作圖1所記載般的含有黑色硬化膜的彩色濾光片及有機EL顯示裝置。再者，此時，各子畫素(正方形狀的紅色子畫素20R、正方形狀的綠色子畫素20G、正方形狀的藍色子畫素)20B)的一邊的長度為3μm。
另外，黑色硬化膜的形狀為長方形狀，各邊的長度為3.0μm及1.0μm。黑色硬化膜的製造是依照與所述相同的順序來實施。
10‧‧‧有機EL顯示裝置
12‧‧‧基板
14‧‧‧有機EL元件
16‧‧‧保護層
18‧‧‧彩色濾光片
20B‧‧‧藍色子畫素
20G‧‧‧綠色子畫素
20R‧‧‧紅色子畫素
22‧‧‧黑色硬化膜
24‧‧‧密封用基板
P‧‧‧間距(中心間距離)
Claims (11)
- 一種感光性黑色樹脂組成物，含有鈦黑、分散劑、聚合性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、溶劑及紫外線吸收劑，用於形成黑色硬化膜，所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部。
- 一種感光性黑色樹脂組成物，用於形成黑色硬化膜，所述黑色硬化膜配置於具有一邊的長度為15μm以下的子畫素的彩色濾光片內部，並且所述感光性黑色樹脂組成物含有鈦黑、分散劑、聚合性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、溶劑及紫外線吸收劑，所述聚合性化合物滿足要件1及要件2的至少一個，相對於所述感光性黑色樹脂組成物的總固體成分，所述鈦黑的含量為55質量%以上，固體成分濃度為13質量%~22質量%；要件1：一分子中具有五個以上的乙烯性不飽和基；要件2：一分子中的乙烯性不飽和基的量為7mmol/g以上。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性黑色樹脂組成物，更含有密接劑。
- 如申請專利範圍第2項所述的感光性黑色樹脂組成物，其中所述分散劑為含有具有接枝鏈的結構單元的高分子化合物。
- 如申請專利範圍第4項所述的感光性黑色樹脂組成物，其中所述具有接枝鏈的結構單元為選自下述式(1)~式(4)所 表示的結構單元中的一種以上的結構單元，
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性黑色樹脂組成物，其是賦予至SiN膜上。
- 一種黑色硬化膜的製造方法，將如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的感光性黑色樹脂組成物塗佈於基板上 而形成塗膜，對所述塗膜實施硬化處理，製造黑色硬化膜。
- 如申請專利範圍第7項所述的黑色硬化膜的製造方法，其中所述硬化處理為紫外線照射。
- 如申請專利範圍第7項或第8項所述的黑色硬化膜的製造方法，其中所述黑色硬化膜的厚度為1μm以下。
- 一種彩色濾光片，具有：藉由如申請專利範圍第7項至第9項中任一項所記載的製造方法所得的黑色硬化膜；以及選自由紅色子畫素、綠色子畫素及藍色子畫素所組成的組群中的至少一個子畫素。
- 一種有機電致發光顯示裝置，具有如申請專利範圍第10項所述的彩色濾光片。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014201634 | 2014-09-30 | ||
| JP2014-201634 | 2014-09-30 |
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| Publication Number | Publication Date |
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