TWI682565B

TWI682565B - 有機電激發光元件的製造方法

Info

Publication number: TWI682565B
Application number: TW107127453A
Authority: TW
Inventors: 陳承義; 宋兆峰; 謝咏明; 胡紀平
Original assignee: 財團法人工業技術研究院
Priority date: 2018-08-07
Filing date: 2018-08-07
Publication date: 2020-01-11
Also published as: TW202008626A

Abstract

一種有機電激發光元件的製造方法，包括：於基材上形成包括第一電極以及接觸圖案的第一導電層；於第一導電層上形成第一掩膜，第一掩膜包括用以暴露部分第一電極以及部分接觸圖案的開口；藉由第二掩膜的遮蔽以形成圖案化有機官能層，有機官能層覆蓋第一掩膜以及被第一掩膜所暴露出的第一電極，且第二掩膜配置於第一掩膜上方以遮蔽開口所暴露的部分接觸圖案；形成第二導電層，並且藉由移除第一掩膜以及位第一掩膜上的部分第二導電層以圖案化第二導電層進而形成與接觸圖案電性連接的第二電極，其中該第一掩膜及該第二掩膜上具有複數個穿孔結構。

Description

有機電激發光元件的製造方法

本發明是有關於一種捲對捲製程(roll-to-roll process)，且特別是有關於一種有機電激發光元件的製造方法。

由於有機電激發光元件具有輕量以及良好的演色性(color rendering)，因此有機電激發光元件可被視為下一代顯示器以及照明元件的主流。具有高量子效率以及低耗電等特性的有機電激發光元件已被廣泛地使用於顯示器以及照明領域。現今，有機電激發光元件的製造成本尚無法輕易地降低，故用以量產的不同捲對捲製程及設備相繼被提出。然而，前述用以製造有機電激發光元件的捲對捲製程面臨到整體製程中會有製程溫度的變化，因此會導致掩膜之間的各層的捲材若有熱膨脹係數差異，則容易造成因熱收縮或膨脹而導致掩膜的捲材變形，因而導致良率低落。

本發明提供一種有機電激發光元件的製造方法。

本發明的一實施例提出一種一種有機電激發光元件的製造方法，包括於基材上形成一第一導電層，第一導電層包括第一電極以及與第一電極電性絕緣的接觸圖案；於第一導電層上形成第一掩膜，第一掩膜包括用以暴露部分第一電極以及部分接觸圖案的開口；藉由第二掩膜的遮蔽以形成圖案化有機官能層，有機官能層覆蓋第一掩膜以及被第一掩膜所暴露出的第一電極，且第二掩膜配置於第一掩膜上方以遮蔽開口所暴露的部分接觸圖案；在形成圖案化有機官能層之後，移除第二掩膜；在圖案化有機官能層、第一掩膜以及被開口所暴露的部分接觸圖案上方形成第二導電層；以及藉由移除第一掩膜以及位第一掩膜上的部分第二導電層以圖案化第二導電層進而形成與接觸圖案電性連接的第二電極；其中該第一掩膜或該第二掩膜上具有複數個穿孔結構。

基於上述，在本發明的實施例為一種有機電激發光元件的製造方法。如此一來，本發明的實施例的掩膜基板包含破壞小區域甚至單點區域，而減少整體掩膜基板翹曲或變形。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

請參照圖1A，提供包括多個滾輪R的捲對捲裝置。滾輪R能夠沿著傳輸方向D1傳送基板100。在本實施例中，所提供的基板100上已具有第一導電層110。基板100例如為超薄(厚度例如低於100微米)且可撓的玻璃基材。然而，本實施例不限定基板100的厚度與材質。第一導電層110包括第一電極112以及與第一電極112電性絕緣的至少一接觸圖案114。如圖2A與圖3A所示，在本實施例中，二接觸圖案114分別形成在第一電極112的兩相對側。值得注意的是，本發明的實施例不限定接觸圖案114的形狀與數量。

舉例而言，第一電極112以及接觸圖案114的製造方法可包括下列步驟。首先，例如透過濺鍍的方式於基板100上形成透明導電氧化物層。之後，例如藉由雷射光源L所提供的雷射照射圖案化透明導電氧化物層。如圖2A以及圖3A所示，在透明導電氧化物層被圖案化之後，第一電極112與各個接觸圖案114之間存在間隙G以使得接觸圖案114能夠與第一電極112電性絕緣。

請參照圖1B、圖2B以及圖3B，在基板100上方形成第一電極112以及接觸圖案114之後，於第一導電層110上形成第一掩膜120。第一掩膜120包括用以暴露部分第一電極112以及部分接觸圖案114的開口122。第一電極112與各個接觸圖案114之間的間隙G被第一掩膜120的開口122所部分暴露。如圖2B與圖3B所示，第一掩膜120填入且覆蓋第一電極112與各個接觸圖案114之間的部分間隙G。此外，第一掩膜120覆蓋住第一電極112的週邊區域以及各個接觸圖案114的部分區域。換句話說，第一電極112的中央區域被第一掩膜120的開口122所暴露，其中，如圖1B、圖2B以及圖3B，在本實施例中，第一掩膜120包括第一黏著薄膜120a以及堆疊於黏著薄膜120a上的第一離型薄膜120b。

請參照圖1C、圖2C以及圖3C，於第一掩膜120上方提供第二掩膜130以遮蔽各個接觸圖案114被第一掩膜120的開口122所暴露的部分區域。換句話說，第二掩膜130覆蓋並且遮蔽接觸圖案114以及部分間隙G。此外，部分的第一掩膜120未被第二掩膜130所覆蓋且第二掩膜130所暴露。如圖2B所示，第一掩膜120為具有開口122的框形掩膜，第二掩膜130包括至少一對遮蔽條132，且遮蔽條132的長度方向平行於傳輸方向D1。在本實施例中，於第一掩膜120上方提供第二掩膜130，第二掩膜130例如與第一掩膜120接觸，且第二掩膜130例如不與第一導電層110接觸，在本實施例中，第二掩膜130包括第二黏著薄膜以及堆疊於黏著薄膜上的第二離型薄膜。

圖2C所示，由於第二掩膜130不與第一導電層110接觸，蒸鍍形成的圖案化有機官能層140可覆蓋住被第一掩膜120的開口122所暴露的第一電極112的側壁。換句話說，圖案化有機官能層140可延伸至間隙G中以包覆住被第一掩膜120的開口122所暴露的第一電極112的側壁與頂表

在提供第二掩膜130之後，可藉由第二掩膜130的遮蔽以進行蒸鍍製程進而形成圖案化有機官能層140。圖案化有機官能層140會覆蓋住第二掩膜130所暴露的部分第一掩膜120以及第一掩膜120的開口122所暴露的第一電極112的中央區域。

在一些其他實施例中，在於第一掩膜120上方提供第二掩膜130之後(例如圖1C、圖2C、圖3C、所繪示的製程)，第一掩膜120可使用熱處理、冷處理、紫外光照射、水浴，上述製程的組合或其他合適的製程。

請參照圖1D、圖2D以及圖3D，在形成圖案化有機官能層140之後，包括有第一導電層110、第一掩膜120以及圖案化有機官能層140形成於其上的基板100會被沿著傳輸方向D1傳送，以進行第二掩膜130的移除。之後，於圖案化有機官能層140、第一掩膜120以及被第一掩膜120的開口122所暴露的接觸圖案114上方形成第二導電層150。在本實施例中，第二導電層150可藉由蒸鍍製程形成。

請參照圖1E、圖2E以及圖3E，在形成第二導電層150之後，可藉由移除第一掩膜120以及位於第一掩膜120上的部分第二導電層150，以圖案化第二導電層150進而形成第二電極152。第二電極152與接觸圖案114電性連接，且第二電極152藉由圖案化有機官能層140與第一電極112分隔開。在形成第二電極152之後，本實施例的有機電激發光元件的製造便大致上完成。上述製程並不限於製造有機電激發光元件，上述製程可用於製造其他可撓性電子元件。

請參照圖1F、圖2F以及圖3F，為了增進有機電激發光元件的信賴性，可形成包封體160以包覆第二電極152。在一些實施例中，包封體160可進一步包覆部分的接觸圖案114。

在本實施例中，第一掩膜120或第二掩膜130之材料為一種包含黏著薄膜以及離型薄膜之捲材，其可以利用捲對捲的裝置做為一連續不中斷的捲材，在本實施例的製造過程當中不時的被加熱及被冷卻，而所有材料都具有熱膨係數(thermal expansion coefficient, α)，其定義如下：

:掩膜基板在溫度T的長度

: 掩膜基板在溫度T ₀的長度

在本實施例中，第一掩膜120或第二掩膜130都包括第一及第二黏著薄膜以及堆疊於第一及第二黏著薄膜上的第一及第二離型薄膜，而上述第一及第二黏著薄膜的材質可以為COC(Cyclic Olefin Copolymer)薄膜或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)，而第一及第二離型薄膜可以為壓克力膠(Acrylic adhesive)，具有不同的熱膨係數 α，在一實施例中，三者材料的熱膨係數 α 分別為COC(Cyclic Olefin Copolymer)：60~70 ppm/℃ ；聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)：~20 ppm/℃；壓克力膠：50~90 ppm/℃，在相同的長度下，在一實施例中的長度為350mm，操作過程之溫度由25 ^oC至100 ^oC (具有75 ℃的溫度差異)，三種材料之間此操作過程之溫度差異(25 ^oC至100 ^oC)下會產生1.0~1.8mm的長度變化差異。

請參照圖4A~圖4C，在本實施例中，將第一掩膜或第二掩膜的連續長度縮短，本實施例中將第一掩膜或第二掩膜連續長度由350 mm 縮減為35mm，則在相同的操作條件 (溫度從25℃升溫到100℃)，因此，上述第一及第二掩膜二層的材料間因熱膨脹係數 α差異所造成的形變量將縮減為1/10。為達到上述縮短原本長度的結構設計，可以將第一掩膜或第二掩膜的黏著薄膜的結構進行穿孔破壞，將會破壞其表面的原本的連續長度，故理論上將會縮小其長度

，因此，將會大幅降地第一掩膜或第二掩膜中各層形變量的差異，進而減少第一掩膜或第二掩膜在操作時的變形量。

在本實施例中，不論是對第一掩膜或第二掩膜的結構進行穿孔，都能達到破壞第一掩膜或第二掩膜原本的連續長度，而穿孔結構也可具有不同方式，包括完全穿孔的結構或是不完全穿孔的結構，本實施例的完全穿孔的結構，是對第一掩膜或第二掩膜的二層結構進行完全貫穿，包含黏著薄膜以及離型薄膜；另外，本實施例中的不完全穿孔的結構是對第一掩膜或第二掩膜的二層結構進行不完全貫穿，例如只貫穿其中一層(黏著薄膜)的膜厚深度。

請參照圖4A~圖4C為第二實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的頂視圖，在本實施例中，不論是對第一掩膜或第二掩膜進行穿孔，都能達到破壞其原本的連續長度，使得第一掩膜或第二掩膜上具有複數個穿結構，在本實施例中，圖4A~圖4C所示為第一掩膜或第二掩膜，其中第一掩膜或第二掩膜上的穿孔結構的形狀也可以有所不同，該些穿孔結構形狀可以包含圓孔形穿孔結構170A (如圖4A)、十字形穿孔結構171A (如圖4B)、斜線形穿孔結構172A (如圖4C)或上述之形狀之結合，在本實施例中，上述的穿孔結構的方式可以是以物理型穿孔方式達成，包括機械型(例如：刀具)或是光學型(例如：雷射)；抑或是以化學型穿孔方式達成(例如：蝕刻)，其中斜線形的穿孔更可以搭配滾輪的行走方向，在離型薄膜脫離的過程中，能夠更有效的剝離。

不論是對第一掩膜或第二掩膜進行結構穿孔，都期望能達到破壞其原本的連續長度，而穿孔也可具有不同深度，可以包含完全穿孔的結構或是不完全穿孔的結構，請參照圖4D為第三實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的剖面圖，其中的不完全穿孔的結構是指對第一掩膜或第二掩膜的二層結構不完全貫穿，在本實施例中，在基板400上方形成第一電極412以及圖案化第一電極412之後，於第一電極412上形成第一掩膜420，接著在第一掩膜上形成第二掩膜432，其中第二掩膜432包含第二黏著薄膜432A及第二離型薄膜432B，在本實施例中，只貫穿第二掩膜432的其中第二離型薄膜432A的膜厚深度，在穿孔的第二離型薄膜432A結構下方，搭配具有圖案化的第二黏著薄膜432B，使得第二離型薄膜432A的結構穿孔位置下方形成缺口432C，亦即不具有第二黏著薄膜，可以使第二離型薄膜432A及第二黏著薄膜432B都成為非連續狀，同樣達成縮短第二離型薄膜原本的連續長度，在本實施例中，第二黏著薄膜432B可以在捲材傳輸方向上設定固定長度進行不連續的圖案化。

請參照圖5A~5C為第四實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的頂視圖，對於第一掩膜或第二掩膜的不連續的中斷方法，則是採用垂直於捲材傳輸方向的方向上進行結構完全穿孔的破壞或不完全穿孔的破壞，來縮短其原本捲材的長度，但不論是對第一掩膜或第二掩膜進行穿孔，都會使得第一掩膜或第二掩膜上具有複數個穿結構，其中穿孔結構的形狀也可以有所不同，該些穿孔結構形狀可以包含圓孔形穿孔結構170B (如圖5A)、十字形穿孔結構171B (如圖5B)、斜線形穿孔結構172B (如圖5C)或上述之形狀之結合，在本實施例中，上述的穿孔結構的方式可以是以物理型穿孔方式達成，包括機械型(例如：刀具)或是光學型(例如：雷射)；抑或是以化學型穿孔方式達成(例如：蝕刻)，在另一實施例中，則是結合圖4A~4C與圖5A~5C的方法(未繪示)，同時在第一掩膜或第二掩膜的傳輸方向與垂直傳輸方向上進行結構的完全穿孔或不完全穿孔，在另一實施例中，當掩膜的結構為不完全穿孔時，只貫穿其中第一層(離型薄膜)的膜厚深度，在穿孔的離型薄膜結構下方，搭配具有圖案化的離型薄膜，使得第一層的穿孔結構位置下方同時不具有黏著薄膜，可以同樣達成縮短離型薄膜原本的連續長度，在本實施例中，黏著薄膜也可以設定在垂直於捲材傳輸方向的方向上固定長度進行不連續的圖案化。

綜上所述，本發明的實施例中的第一掩膜或第二掩膜的結構，是具有區域性的穿孔結構。如此一來，在不破壞整體第一掩膜或第二掩膜整體結構的前提下，利用僅破壞第一掩膜或第二掩膜的第一層結構或在第一掩膜或第二掩膜的小區域甚至單點區域的產生完全貫穿的穿孔結構，藉由縮短形變量的長度，來改善因為第一掩膜、第二掩膜或第一掩膜與第二掩膜同時堆疊時的多層材料經過高溫製程時，由於熱膨脹係數 α的差異，導致熱膨脹與收縮量不同，而造成整體掩膜基板翹曲或變形。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100、400‧‧‧基材 110‧‧‧第一導電層 112、412‧‧‧第一電極 114‧‧‧接觸圖案 120、420‧‧‧第一掩膜 120a‧‧‧第一黏著薄膜 120b‧‧‧第一離型薄膜 122‧‧‧開口 130、432‧‧‧第二掩膜 132‧‧‧遮蔽條 140‧‧‧圖案化有機官能層 150‧‧‧第二導電層 152‧‧‧第二電極 160‧‧‧包封體 170A、 170B‧‧‧圓孔形穿孔結構 171A、 171B‧‧‧十字形穿孔結構 172A、 172B‧‧‧斜線形穿孔結構 432A‧‧‧第二離型薄膜 432B‧‧‧第二黏著薄膜 432C‧‧‧缺口 D1‧‧‧傳輸方向 G‧‧‧間隙 L‧‧‧雷射光源 R‧‧‧滾輪

圖1A至圖1F依據第一實施例繪示出有機電激發光元件的製造方法。圖2A至圖2F依據第一實施例繪示出有機電激發光元件在製造過程中的頂視圖或底視圖。圖3A至圖3F為沿著圖2A至圖2F中之剖面線I-I'的剖面圖。圖4A至圖4C為第二實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的頂視圖。圖4D為第三實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的剖面圖。圖5A至圖5C為第四實施例繪示出有機電激發光元件的掩膜基板的穿孔結構的頂視圖。

170a‧‧‧圓孔形穿孔結構

Claims

一種有機電激發光元件的製造方法，包括：於基材上形成一第一導電層；於該第一導電層上形成一第一掩膜，該第一掩膜包括用以暴露部分一第一電極以及部分一接觸圖案的開口；藉由一第二掩膜的遮蔽以形成圖案化一有機官能層，該有機官能層覆蓋該第一掩膜以及被該第一掩膜所暴露出的該第一電極，且該第二掩膜配置於該第一掩膜上方以遮蔽開口所暴露的部分該接觸圖案；在形成圖案化該有機官能層之後，移除該第二掩膜；在圖案化該有機官能層、該第一掩膜以及被開口所暴露的部分該接觸圖案上方形成一第二導電層；以及藉由移除該第一掩膜以及位該第一掩膜上的部分該第二導電層以圖案化該第二導電層進而形成與接觸圖案電性連接的一第二電極；其中該第一掩膜或該第二掩膜上具有複數個穿孔結構。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中該第一掩膜更包含一第一黏著薄膜以及一第一離型薄膜。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中該第二掩膜更包含一第二黏著薄膜以及一第二離型薄膜。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中一間隙位於該第一電極與該接觸圖案之間。
如申請專利範圍第4項所述的方法，其中一間隙被該第一掩膜的開口部分暴露且被該第二掩膜部分遮蔽。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中該第一電極與該第二電極藉由該圖案化有機官能層分隔開。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中該基材沿著傳輸方向傳送以於該基材上形成該第一電極、該接觸圖案、該第一掩膜、該圖案化有機官能層以及該第二電極。
如申請專利範圍第7項所述的方法，其中該第一掩膜或該第二掩膜為一框形掩膜。
如申請專利範圍第7項所述的方法，其中該第二掩膜包括至少一對遮蔽條，且該遮蔽條的長度方向平行於傳輸方向。
如申請專利範圍第2項或第3項所述的方法，其中該第一掩膜或該第二掩膜上的該些穿孔結構具有一深度。
如申請專利範圍第10項所述的方法，其中該些穿孔結構之該深度為貫穿該第一黏著薄膜或第二黏著薄膜。
如申請專利範圍第10項所述的方法，其中該些穿孔結構之深度為貫穿該第一黏著薄膜以及該第一離型薄膜或該第二黏著薄膜以及該第二離型薄膜。
如申請專利範圍第1項所述的方法，其中該第一掩膜及該第二掩膜上的該些穿孔結構形狀為圓孔形、十字形、斜線形或上述之形狀之結合。
如申請專利範圍第2項所述的方法，其中該第一黏著薄膜為具有一圖案化的薄膜。
如申請專利範圍第2項所述的方法，其中該第一離型薄膜為具有一圖案化的薄膜。
如申請專利範圍第3項所述的方法，其中該第二黏著薄膜為具有一圖案化的薄膜。
如申請專利範圍第3項所述的方法，其中該第二離型薄膜為具有一圖案化的薄膜。