TWI677978B - 蒸鍍源及有機發光二極體顯示面板的製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種有機發光二極體顯示面板的製造方法,包括:提供第一基板,在所述第一基板上形成複數凹槽;填充有機發光原料於所述複數凹槽;提供作為待蒸鍍基板的第二基板;將所述第一基板對齊所述第二基板;加熱所述第一基板,使所述複數凹槽中的所述有機發光原料汽化至所述第二基板上的複數預蒸鍍區域,從而所述形成有機發光二極體顯示面板的有機發光材料層。本發明還提供一種蒸鍍源。本發明的有機發光二極體顯示面板的製造方法無需經過兩次加熱,便能使蒸鍍源的入射角接近90°,減小陰影效應。
Description
本發明涉及一種蒸鍍源及一種有機發光二極體顯示面板的製造方法。
OLED(有機發光二極體,Organic Light-Emitting Diode)顯示器具備色域廣、輕薄、省電等優點。OLED顯示器不採用背光燈提供光源,而係在玻璃基板上沉積一層非常薄的有機發光材料作為發光層,有機發光材料包括紅、綠和藍三種;當有電流通過發光層時,這些發光層就會發出不同顏色的光。由於不需要背光燈和導光板等光學元件,故OLED顯示幕器可以做得更輕薄、可視角度更大,並且能夠顯著節省電能。
習知技術中,通常採用蒸鍍方式在玻璃基板上沉積發光層。蒸鍍過程中的蒸鍍源的入射角越接近90°蒸鍍效果越好,然而習知的蒸鍍源(例如點蒸鍍源(Point source)或者線蒸鍍源(Linear source)等)的蒸鍍角往往過小或者過大,從而導致陰影效應(shadow effect)或者膜厚不均的問題。而其他蒸鍍源(例如面蒸鍍源(Face source)或者噴頭蒸鍍源(Shower head source)等)雖無蒸鍍角問題,然亦有塞孔等問題,影響膜厚均勻性。
另外,習知技術中還有先將需要用的蒸鍍材料及膜厚蒸鍍到一供體基板(donor substrate)上,以形成平面蒸鍍源(plane source),再
進一步由該平面蒸鍍源蒸鍍至玻璃基板的方法。如此一來,雖然可以使蒸鍍源的入射角接近90°,減小陰影效應(shadow effect)的問題,然蒸鍍材料需要經過兩次高溫蒸鍍製程,不僅製程上更加困難,還容易造成蒸鍍材料被破壞,導致蒸鍍材料的純度降低的問題。而以噴霧或者狹縫塗布等溶劑處理方式將蒸鍍材料塗布到第一個供體基板,再將蒸鍍材料轉蒸鍍到第二個供體基板以均勻成膜的方式,雖然亦可以使蒸鍍源的入射角接近90°,然需要經過一次塗布(coating)製程和兩次高溫蒸鍍製程,亦會造成蒸鍍材料被破壞純度降低的問題,其製程亦比較複雜,設備成本高。
有鑑於此,有必要提供一種蒸鍍效果較好的有機發光二極體顯示面板的製造方法。
一種有機發光二極體顯示面板的製造方法,包括:提供第一基板,在所述第一基板上形成複數凹槽;填充有機發光原料於所述複數凹槽;提供作為待蒸鍍基板的第二基板;將所述第一基板對齊所述第二基板;加熱所述第一基板,使所述複數凹槽中的所述有機發光原料汽化至所述第二基板上的複數預蒸鍍區域,從而所述形成有機發光二極體顯示面板的有機發光材料層。
一種有機發光二極體顯示面板的製造方法,包括:提供一蒸鍍源,所述蒸鍍源包括:第一基板;所述第一基板形成有複數凹槽,每一所述凹槽中容納有有機發光原料;提供作為待蒸鍍基板的第二基板;將所述第一基板對齊所述第二基板;加熱所述第一基板,使所述複數凹槽中的所述有機發光原料汽化至所述第二基板上的複數預蒸鍍區域,從而所述形成有機發光二極體顯示面板的有機發光材料層。
本發明還提供一種蒸鍍源。
一種蒸鍍源,其包括:具有導熱性能的第一基板;所述第一基板形成有複數凹槽,每一所述凹槽中形成收容蒸鍍材料的收容空間,用以收容所述蒸鍍材料。
相較於習知技術,本發明的蒸鍍源包括複數凹槽,在製造有機發光二極體顯示面板時,無需經過兩次加熱,便能使蒸鍍源的入射角接近90°,減小陰影效應。
1‧‧‧蒸鍍源
11‧‧‧第一基板
12‧‧‧凹槽
121‧‧‧第一凹槽
122‧‧‧第二凹槽
13‧‧‧蒸鍍材料
14‧‧‧易剝離層
2‧‧‧OLED顯示面板
21‧‧‧第二基板
22‧‧‧預蒸鍍區域
221‧‧‧第一預蒸鍍區域
222‧‧‧第二預蒸鍍區域
223‧‧‧第三預蒸鍍區域
3‧‧‧噴塗工具
31‧‧‧噴頭
圖1係本發明蒸鍍源的第一實施例的立體結構示意圖。
圖2係本發明作為接收蒸鍍材料的第二基板的第一實施例的平面結構示意圖。
圖3係本發明蒸鍍源的一變更實施例的剖面結構示意圖。
圖4係本發明蒸鍍源的第二實施例的立體結構示意圖。
圖5係本發明蒸鍍源的第三實施例的立體結構示意圖。
圖6係本發明第一實施例的OLED顯示面板的製造流程圖。
圖7-10係描述製造本發明第一實施例的OLED顯示面板的各製造流程步驟的結構示意圖。
圖11係本發明一變更實施例的OLED顯示面板的製造流程圖。
請參考圖1,圖1係本發明第一實施例的蒸鍍源的立體結構示意圖。本發明第一實施例的蒸鍍源1包括第一基板11。所述第一基板11為平面
板狀結構,其材質不限,只要其為可加熱的材質並能夠導熱。在一實施例中,所述第一基板11可為玻璃基板、石英基板、矽基板或者塑膠基板等。
如圖1所示,所述第一基板11的一個表面上開設有彼此分離設置的複數凹槽12。在本實施例中,所述複數凹槽12均為呈圓形的點狀凹洞,但不限於此,在其他實施例中,所述凹槽12亦可為其他任何形狀,例如呈方形的點狀凹洞、呈菱形的點狀凹洞、呈三角形的點狀凹洞等等。所述凹槽12可根據蒸鍍製作有機發光二極體顯示裝置的各畫素的有機發光層的個數需要,設定分佈於所述第一基板11上的所需凹槽的個數與凹槽的分佈位置。在本實施例中,所述凹槽12均勻的分佈在第一基板11上。
所述凹槽12形成收容蒸鍍材料13的收容空間,收容空間中填充有蒸鍍材料13。可選地,每一個凹槽12中的蒸鍍材料13分量相同。可理解的,根據凹槽12的結構和數量的設計,每一個凹槽12中的蒸鍍材料13的分量亦可不同。例如:當OLED中用於發出藍色光的藍色有機發光材料層的面積大於發出紅色光/綠色光的紅色/綠色有機發光材料層的面積時,相應地,對應的凹槽12中的藍色蒸鍍材料的分量要多於其他顏色的蒸鍍材料的分量。
可理解的,在設計所述蒸鍍源1時,除了可對凹槽12中的蒸鍍材料13的分量作調整,還可對凹槽13的深度、面積等作調整。
請參考圖2,圖2係本發明第一實施例的第二基板21的平面結構示意圖。所述第二基板21為待蒸鍍的基板,包括第一表面201,所述第一表面201定義有複數預蒸鍍區域22。預蒸鍍區域22接收蒸發態的蒸鍍材料13,蒸發態的蒸鍍材料13在冷卻後形成在對應的預蒸鍍區域22內。亦即,在蒸鍍製程之後,蒸鍍材料13可形成於所述第二基板21的第一表面201的預蒸鍍區域22。在本實施例中,每一預蒸鍍區域22包括至少一個第一預蒸鍍
子區域221、至少一個第二預蒸鍍子區域222和至少一個第三預蒸鍍子區域223。亦即,所述第二基板21包括複數第一預蒸鍍子區域221、複數第二預蒸鍍子區域222和複數第三預蒸鍍子區域223。藉由不同的蒸鍍步驟之後,不同的蒸鍍材料13可分別形成於所述複數第一預蒸鍍子區域221、複數第二預蒸鍍子區域222和複數預蒸鍍子區域223。
如圖2所示,所述複數預蒸鍍區22在所述第二基板21上呈矩陣排佈,形成複數行和複數列預蒸鍍區22。每一預蒸鍍區22的第一預蒸鍍子區域221、第二預蒸鍍子區域222和第三預蒸鍍子區域223在行方向(如圖2中X方向)上依次排列。所述複數第一預蒸鍍子區域221在列方向(如圖2中Y方向)上線狀排列從而形成複數列,所述複數第二預蒸鍍子區域222在列方向(如圖2中Y方向)上線狀排列從而形成複數列,所述複數第三預蒸鍍子區域223在列方向(如圖2中Y方向)上線狀排列從而形成複數列。每一預蒸鍍子區域為有機發光顯示器OLED的畫素區域,分別具有預定顏色的有機發光原料。第一預蒸鍍子區域221、第二預蒸鍍子區域222及第二預蒸鍍子區域223分別對應不同顏色的畫素區域。位於同列的預蒸鍍子區域對應同色的畫素區域。
在本實施例中,所述蒸鍍材料13為有機發光原料,所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述複數凹槽12與第二基板21上的複數第一預蒸鍍區域221相對應,所述第一基板11上的所述複數凹槽12與第二基板21上的複數第一預蒸鍍區域221在所述第一基板11上的投影重疊。所述凹槽12中的第一色有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第一預蒸鍍區域221以形成第一色有機發光材料層。
可理解的,在形成第一色有機發光材料層之後,可提供另一包括容納有第二色有機發光原料的複數凹槽12的第一基板11。在一實施例中,將所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述凹槽12與第二基板21上的複數第二預蒸鍍區域222相對應,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第二預蒸鍍區域222在所述第一基板11上的投影重疊,所述凹槽12中的有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第二預蒸鍍區域222以形成第二色有機發光材料層。在形成第二色有機發光材料層之後,提供另一包括容納有第三色有機發光原料的複數凹槽12的第一基板11。將所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第三預蒸鍍區域223相對應,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第三預蒸鍍區域223在所述第一基板11上的投影重疊,所述凹槽12中的有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第三預蒸鍍區域223以形成第三色有機發光材料層。
在本實施例中,在形成不同顏色的有機發光材料層時,可分別使用容納有不同顏色的有機發光原料的蒸鍍源1。可理解的,在一實施例中,在形成不同顏色的有機發光材料層時,可使用同一蒸鍍源1,當蒸鍍源1中的第一色有機發光原料需要切換為第二色有機發光原料,清潔蒸鍍源1以去除凹槽12中剩餘的所述第一色有機發光原料。請參考圖3,在另一變更實施例中,使用同一蒸鍍源1形成不同顏色的有機發光材料層時,為了避免殘留物遺留在凹槽12內,可形成覆蓋第一基板形成有凹槽12一側的表面以及凹槽12的內表面的易剝離層14,所述易剝離層14能夠容易地自蒸鍍源1的第一基板11的表面分離,當蒸鍍完第一色有機發光原料後,可剝離該易剝離層14,再填充另一色有機發光原料前再形成另一易剝離層14。剝離所
述易剝離層14的方式可藉由物理方式或者化學方式,比如所述易剝離層14可係光阻材料,可藉由灰化工藝去除,亦可為易溶於溶劑中的其他有機材料層。
為了描述方便,以下實施例中,與第一實施例結構和功能相同的元件沿用第一實施例的元件符號。
請參考圖4,圖4係本發明第二實施例的蒸鍍源1的立體結構示意圖。本申請第二實施例的蒸鍍源1包括第一基板11。所述第一基板11的一個表面上開設有複數彼此分離設置的複數凹槽12,所述凹槽12用於容納蒸鍍材料13。在本實施例中,所述複數凹槽12為呈直線的線狀凹槽,但不限於此,在其他實施例中,所述凹槽12亦可呈曲線、折線等。在本實施例中,所述複數凹槽12可相互平行。
在本實施例中,所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,每一沿圖4中Y方向延伸的凹槽12與一列中的複數第一預蒸鍍區域221相對應,每一沿圖4中Y方向延伸的凹槽12與一列中的複數第一預蒸鍍區域221在所述第一基板11上的投影重疊。所述凹槽12中填充有蒸鍍材料13。在蒸鍍製程之後,蒸鍍材料13可形成於所述複數第一預蒸鍍區域221。
在本實施例中,所述蒸鍍材料13為有機發光原料,所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述複數凹槽12與第二基板21上的複數第一預蒸鍍區域221相對應,所述第一基板11上的所述複數凹槽12與第二基板21上的複數第一預蒸鍍區域221在所述第一基板11上的投影重疊。所述凹槽12中的第一色有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第一預蒸鍍區域221以形成第一色有機發光材料層。
可理解的,在形成第一色有機發光材料層之後,提供另一包括容納有第二色有機發光原料的複數凹槽12的第一基板11。在一實施例中,將所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述凹槽12與第二基板21上的複數第二預蒸鍍區域222相對應,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第二預蒸鍍區域222在所述第一基板11上的投影重疊,所述凹槽12中的有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第二預蒸鍍區域222以形成第二色有機發光材料層。在形成第二色有機發光材料層之後,提供另一包括容納有第三色有機發光原料的複數凹槽12的第一基板11。將所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第三預蒸鍍區域223相對應,所述第一基板11上的所述凹槽12可與第二基板21上的複數第三預蒸鍍區域223在所述第一基板11上的投影重疊,所述凹槽12中的有機發光原料能夠以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述複數第三預蒸鍍區域223以形成第三色有機發光材料層。
請參考圖5,圖5係本發明第三實施例的蒸鍍源1的立體結構示意圖。在本實施例中,所述蒸鍍源1包括第一基板11。所述第一基板11的一個表面上開設有間隔設置的複數凹槽12。在本實施例中,所述複數凹槽12包括沿圖4中Y方向延伸的複數第一凹槽121和沿圖4中X方向延伸的複數第二凹槽122,所述複數第一凹槽121和所述複數第二凹槽122相互交錯的形成一個網狀凹槽。
在本實施例中,所述第一基板11與所述第二基板21對齊之後,每一沿圖4中Y方向延伸的凹槽12與一列中的複數第一預蒸鍍區域221相對應,每一沿圖4中Y方向延伸的凹槽12與一列中的複數第一預蒸鍍區域221
在第一基板11上的投影重疊。所述凹槽12中填充有蒸鍍材料13。在蒸鍍製程之後,蒸鍍材料13可形成於所述複數第一預蒸鍍區域221。
以上實施例中的蒸鍍源1中的所述複數凹槽12與預蒸鍍區22對應設置,使凹槽12中的蒸鍍材料13以接近90°或者等於90°的入射角蒸鍍至在所述第二基板21以形成有機發光材料層,能夠有效改善了陰影效應或者膜厚不均的問題。
請參考圖6至圖10,圖6係製造本發明第一實施例的OLED顯示面板2的製造流程圖,圖7至圖10係製造本發明第一實施例的OLED顯示面板2的立體示意圖。為了描述方便,以下以在第一預蒸鍍區221上形成有機發光材料層為例,說明本發明第一實施例的OLED顯示面板2的製造方法,本發明第一實施例的OLED顯示面板2的製造方法包括:
步驟S601:請參考圖7,提供第一基板11,在第一基板11上形成複數凹槽12。
所述第一基板11的材質不限,只要其為可加熱的材質並能夠導熱。所述凹槽12為分佈於第一基板11上的點狀凹洞、線狀凹槽、網狀凹槽中的任意一者,但不限於此,亦可為其他任何合適的形狀。在本實施例中,所述凹槽12為點狀凹洞。
所述凹槽12可藉由鐳射蝕刻,亦可藉由蝕刻液蝕刻等合適的方式蝕刻形成。
步驟S602:請參考圖8,填充蒸鍍材料13於所述凹槽12中,形成蒸鍍源1。
在本實施中,所述蒸鍍材料13為有機發光原料。
在本實施例中,可提供一具有所述蒸鍍材料的噴塗工具3;所述噴塗工具3包括複數噴頭31。藉由噴塗工具3的噴頭31將所述蒸鍍材料精確地噴入所述複數凹槽12。
所述噴塗工具3可根據預有機發光材料層所需的面積、厚度設定參數,藉由噴頭31精確地對準所述凹槽12,將適量的蒸鍍材料13注入所述凹槽12中。
步驟S603:請參考圖9,提供作為待蒸鍍基板的第二基板21,將所述第一基板11對齊所述第二基板12。
具體地,請再次參考圖2,在本實施例中,所述第二基板定義有複數預蒸鍍區域22。所述複數預蒸鍍區域22包括複數第一預蒸鍍區域221、複數第二預蒸鍍區域222和複數第三預蒸鍍區域223。每一預蒸鍍區22域包括依次排列的第一預蒸鍍區域221、第二預蒸鍍區域222和第三預蒸鍍區域223。在本實施例中,所述複數凹槽12與所述複數第一預蒸鍍區域221相對應,所述複數凹槽12與所述複數第一預蒸鍍區域221在所述第一基板11上的投影重疊。
步驟S604:請參考圖10,加熱所述第一基板11,使所述複數凹槽12中的蒸鍍材料13(有機發光原料)汽化至所述第二基板21上的所述複數預蒸鍍區域22,從而形成OLED顯示面板2的有機發光材料層。
具體地,在本實施例中,所述複數凹槽12中的蒸鍍材料13汽化至所述第二基板21上的所述複數第一預蒸鍍區221形成有機發光材料層。
可理解的,在所述第二預蒸鍍區222、所述第三預蒸鍍區223形成有機發光材料層的方法與上述在第一預蒸鍍區221形成有機發光材料層的方法類似,在此不再贅述。
請參考圖11,圖11係本發明另一實施例的OLED顯示面板2的製造流程圖。所述OLED顯示面板2的製造方法包括:
步驟S1101:提供一具有凹槽12的第一基板11,所述凹槽12中容納有蒸鍍材料13。
在本實施例中,所述蒸鍍材料13為有機發光原料。
步驟S1102:提供作為待蒸鍍基板的第二基板21,將所述第一基板11和第二基板21對齊。
步驟S1103:加熱所述第一基板11,使有機發光原料汽化至所述第二基板21的複數預蒸鍍區域22形成OLED顯示面板2的有機發光材料層。
以上實施例僅用以說明本發明的技術方案而非限制,儘管參照較佳實施對本發明進行了詳細說明,本領域的普通技術人員應當理解,可對本發明的技術方案進行修改或等同替換,而不脫離本發明技術方案的精神和範圍。
Claims (10)
- 一種有機發光二極體顯示面板的製造方法,包括:提供第一基板,在所述第一基板上形成複數凹槽;填充有機發光原料於所述複數凹槽;提供作為待蒸鍍基板的第二基板,所述第二基板定義有複數預蒸鍍區域;將所述第一基板對齊所述第二基板,使每一所述凹槽與至少一個所述預蒸鍍區域相對應,且每一所述凹槽和與其相對應的所述預蒸鍍區域在所述第一基板上的投影重疊;加熱所述第一基板,使每一所述凹槽中的所述有機發光原料汽化至與其相對應的所述預蒸鍍區域,從而形成所述有機發光二極體顯示面板的有機發光材料層。
- 如請求項1所述的有機發光二極體顯示面板的製造方法,其中:所述有機發光原料藉由注入的方式注入所述複數凹槽。
- 如請求項1所述的有機發光二極體顯示面板的製造方法,其中:在填充有機發光原料之前,形成覆蓋第一基板形成有凹槽一側的表面以及凹槽的內表面的易剝離層。
- 如請求項1所述的有機發光二極體顯示面板的製造方法,其中:所述複數預蒸鍍區域包括平行排列的複數第一預蒸鍍子區域、複數第二預蒸鍍子區域和複數第三預蒸鍍子區域;每一預蒸鍍區域包括依次排列的第一預蒸鍍子區域、第二預蒸鍍子區域和第三預蒸鍍子區域,形成於所述第一預蒸鍍子區域、第二預蒸鍍子區域和第三預蒸鍍子區域的有機發光材料層不同。
- 一種有機發光二極體顯示面板的製造方法,包括:提供一蒸鍍源,所述蒸鍍源包括:第一基板,所述第一基板形成有複數凹槽,每一所述凹槽中容納有有機發光原料;提供作為待蒸鍍基板的第二基板,所述第二基板定義有複數預蒸鍍區域;將所述第一基板對齊所述第二基板,使每一所述凹槽與至少一個所述預蒸鍍區域相對應,且每一所述凹槽和與其相對應的所述預蒸鍍區域在所述第一基板上的投影重疊;加熱所述第一基板,使每一所述凹槽中的所述有機發光原料汽化至與其相對應的所述預蒸鍍區域,從而形成所述有機發光二極體顯示面板的有機發光材料層。
- 一種蒸鍍源,其包括:具有導熱性能的第一基板;其改良在於:所述第一基板形成有複數凹槽,每一所述凹槽中形成收容蒸鍍材料的收容空間,用以收容所述蒸鍍材料,所述蒸鍍源還包括易剝離層,所述易剝離層覆蓋每一所述凹槽的內表面。
- 如請求項6所述的蒸鍍源,其中:所述複數凹槽相互獨立。
- 如請求項6所述的蒸鍍源,其中:所述複數凹槽相互平行設置。
- 如請求項6所述的蒸鍍源,其中:所述複數凹槽相互交錯的形成網狀結構。
- 如請求項6所述的蒸鍍源,其中:所述複數凹槽在所述第一基板上均勻排佈。
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