TWI667295B - 光吸收異向性膜、三維光吸收異向性膜及其製造方法 - Google Patents

光吸收異向性膜、三維光吸收異向性膜及其製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種賦予更有效之防窺視功能之光吸收異向性膜。
本發明之光吸收異向性膜係含有二色性色素與液晶性化合物者，於將膜面內之任意方向設為x軸，將膜面內與x軸正交之方向設為y軸，將與x軸及y軸正交之膜厚方向設為z軸時，該膜之光吸光度之關係滿足下述式(1)、(2)及(3)之全部。
Az>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax>5 (2)
Ay(z=60)/Ay>5 (3)
(光吸光度係二色性色素之吸收極大波長下之吸光度，Ax、Ay分別表示自z軸方向對膜面入射沿x軸方向、y軸方向振動之直線偏光而測定之吸光度，Az表示對x-y平面之膜側面入射沿z軸方向振動之直線偏光而測定之吸光度，Ax(z=60)表示於以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°之狀態下以與Ax相同之方式測定之吸光度，Ay(z=60)表示於以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°之狀態下以與Ay相同之方式測定之吸光度。)

Description

光吸收異向性膜、三維光吸收異向性膜及其製造方法
本發明係關於一種光吸收異向性膜、三維光吸收異向性膜及其製造方法。
專利文獻1中揭示有一種偏光板，其特徵在於具有以K=(kx-kz)/(kx-ky)定義之K值為0.25~0.75之偏光層。(偏光層之面內之相互正交之軸為x軸及y軸，且與x-y軸面正交之軸為z軸，kx、ky及kz係x軸、y軸及z軸方向各自之吸收係數)即，係滿足kx>kz>ky且K=0.25~0.75之關係之偏光板，該偏光板中，二色性色素係採用相對於膜面傾斜之配向。
具體而言，製作含有下述液晶化合物1及2與作為二色性色素之三井東壓製造之黑色二色性色素S-344之偏光板，獲得含有具有kx=0.111、ky=0.001、kz=0.059之值之偏光層的偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-033050號公報
上述偏光膜存在如下課題：垂直配向之配向秩序性不充分，故而自正面方向之光之穿透以及自傾斜方向之光之吸收不充分。因此，需求一種薄型且可簡易製造，用以對行動電話或銀行ATM等之顯示器賦予更有效之防窺視功能的光吸收異向性膜。
本發明包含下發明。
[1]一種光吸收異向性膜，其係含有二色性色素與液晶性化合物者，於將膜面內之任意一個方向設為x軸，將膜面內與x軸正交之方向設為y軸，將與x軸及y軸正交之膜厚方向設為z軸時，該膜之光吸光度滿足下述式(1)、(2)及(3)：Az>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax>5 (2)
Ay(z=60)/Ay>5 (3)
(Ax、Ay、Az、Ax(z=60)及Ay(z=60)均為上述光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長下之吸光度，Ax表示沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ay表示沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度，Az表示沿z軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ax(z=60)表示以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ay(z=60)表示以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度)。
[2]如[1]之光吸收異向性膜，其中液晶性化合物形成層列液晶 相。
[3]如[1]或[2]之光吸收異向性膜，其中液晶性化合物形成高次層列液晶相。
[4]如[1]至[3]中任一項之光吸收異向性膜，其於X射線繞射測定中顯示布勒格波峰。
[5]如[1]至[4]中任一項之光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長處於波長500nm~600nm之範圍內。
[6]如[1]至[5]中任一項之光吸收異向性膜，其滿足式(4)及(5)：Ax(z=60)/Ax>10 (4)
Ay(z=60)/Ay>10 (5)。
[7]如[1]至[6]中任一項之光吸收異向性膜，其含有極大吸收波長不同之至少三種二色性色素。
[8]如[1]至[7]中任一項之光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜之膜厚為5μm以下。
[9]一種光學膜，其具有如[1]至[8]中任一項之光吸收異向性膜與基材。
[10]如[9]之光學膜，其中於基材與光吸收異向性膜之間不含配向膜。
[11]一種如[9]或[10]之光學膜之製造方法，其依序進行下述(1)~(4)之步驟：(1)於基材上塗佈含有液晶性化合物、二色性色素及溶劑之組合物而形成塗佈膜之步驟；(2)自塗佈膜去除溶劑，形成乾燥膜之步驟；(3)冷卻乾燥膜而呈現液晶相之步驟；及(4)照射活性能量線而使液晶性化合物硬化之步驟。
[12]如[11]之製造方法，其中使用長條膜作為基材，連續製造光學膜。
[13]一種三維光吸收異向性膜，其係積層如[1]至[8]中任一項之光吸收異向性膜與水平偏光膜而成者，於將該水平偏光膜之吸收軸設為x'軸，將該水平偏光膜之透射軸設為y'軸，將與x'軸及y'軸正交之軸設為z'軸時，滿足下述式(4)：Ax'>Az'>Ay' (6)
(Ax'、Ay'、Az'均為上述光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長下之吸光度，Ax'表示沿x'方向振動之直線偏光之吸光度，Ay'表示沿y'方向振動之直線偏光之吸光度，Az'表示沿z'方向振動之直線偏光之吸光度)。
[14]如[13]之三維光吸收異向性膜，其中水平偏光膜含有聚乙烯醇及二色性色素。
[15]如[13]之三維光吸收異向性膜，其中水平偏光膜含有二色性色素及液晶性化合物或含有具有液晶性之二色性色素。
[16]如[13]至[15]中任一項之三維光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜係經由黏著劑或接著劑而積層於水平偏光膜上。
根據本發明，可獲得薄型且可簡易製造，對行動電話或銀行ATM等之顯示器賦予充分之防窺視功能的光吸收異向性膜。
1‧‧‧本光吸收異向性膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧水平偏光膜
4‧‧‧三維光吸收異向性膜
5‧‧‧液晶面板
210‧‧‧第1輥
210A‧‧‧卷芯
211A‧‧‧塗佈裝置
211B‧‧‧塗佈裝置
212A‧‧‧乾燥爐
212B‧‧‧乾燥爐
213A‧‧‧偏光UV照射裝置
213B‧‧‧活性能量線照射裝置
220‧‧‧第2輥
220A‧‧‧卷芯
300‧‧‧輔助輥
圖1係本光吸收異向性膜之立體圖。
圖2係光吸收異向性膜之製造方法之概略圖。
圖3係三維光吸收異向性膜之一例之立體圖。
圖4係具有三維光吸收異向性膜之液晶顯示裝置之立體圖。
<光吸收異向性膜>
所謂光吸收異向性膜，係含有二色性色素之膜。本發明之光吸收異向性膜含有二色性色素與液晶性化合物。
本光吸收異向性膜係於將膜面內之任意方向設為x軸，將膜面內與x軸正交之方向設為y軸，將與x軸及y軸正交之膜厚方向設為z軸時(參照圖1)，滿足下述式(1)、(2)及(3)之全部的光吸收異向性膜。
Az>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax>5 (2)
Ay(z=60)/Ay>5 (3)
此處，Ax、Ay、Az、Ax(z=60)及Ay(z=60)均為光吸收異向性膜中之二色性色素於光吸收異向性膜中之吸收極大波長下之吸光度。
Ax表示沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度。Ax可自z軸方向面向膜面入射沿x軸方向振動之直線偏光而測定。Ay表示沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度。Ay可自z軸方向面向膜面入射沿y軸方向振動之直線偏光而測定。Az表示沿z軸方向振動之直線偏光之吸光度。Az例如可自x-y平面方向面向膜側面，即將膜設為x-y平面時，面向其側面(厚度方向)垂直地入射沿z軸方向振動之直線偏光而測定。Ax(z=60)表示以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度。Ax(z=60)可於以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°之狀態下，入射與測定Ax之直線偏光相同之直線偏光而測定。此處，膜之旋轉係將測定Ax之狀態之膜以y軸為旋轉軸於直線偏光之入射方向旋轉60°而進行。Ay(z=60)表示以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度。Ay(z=60)可於以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°之狀態下，入射與測定Ay之直線偏光相同之直線偏光而測定。此處，膜之旋轉係將測定Ay之狀態之膜以x軸為旋轉軸於直線 偏光之入射方向旋轉60°而進行。
式(1)中之z方向之吸光度由於自膜側面入射光，故而難以測定。因此，於作為測定光之直線偏光之振動面與膜之x-y平面所形成之角度為90°時，藉由相對於該振動面，將膜之x-y平面於直線偏光之入射方向傾斜30°及60°而測定，可推測Az方向之吸光度。
具體而言，可藉由以下方法等而推測。
藉由於以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉30°及60°之狀態下，入射與測定Ax之直線偏光相同之直線偏光而測定Ax(z=30)及Ax(z=60)，同樣地，藉由於以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉30°及60°之狀態下，入射與測定Ay之直線偏光相同之直線偏光而測定Ay(z=30)及Ay(z=60)。
此時，若Ax(z=30)<Ax(z=60)且Ay(z=30)=Ay(z=60)，則Ax(z=30)<Ax(z=60)<Ax(z=90)=Az，且若Ay(z=30)<Ay(z=60)且Ax(z=30)=Ax(z=60)，則Ay(z=30)<Ay(z=60)<Ay(z=90)=Az，因此可謂必然滿足式(1)。
尤其於x-y平面無吸收異向性之情形時，即Ax及Ay相等之情形時，Ax(z=30)=Ay(z=30)且Ax(z=60)=Ay(z=60)，因此可將Ax(z=30)及Ay(z=30)設為A(z=30)，可將Ax(z=60)及Ay(z=60)設為A(z=60)。即，若A(z=30)<A(z=60)，則滿足A(z=30)<A(z=60)<A(z=90)=Az之關係。進而，若A(z=30)>(Ax+Ay)/2，則Az可謂必然滿足式(1)。
本發明之光吸收異向性膜係滿足上述式(2)及(3)者。
Ax(z=60)/Ax及Ay(z=60)/Ay之數值越大則意味著顯示更優異之光吸收異向性。該等數值例如可為50以下，又亦可為30以下。
又，本發明之光吸收異向性膜較佳為滿足式(4)及(5)。
Ax(z=60)/Ax>10 (4)
Ay(z=60)/Ay>10 (5)
光吸收異向性膜滿足式(1)、(2)及(3)時，可謂二色性色素具有優異之吸收異向性，即具有優異之偏光性能。藉由該優異之特性，可使來自正面方向之光有效穿透，且有效吸收來自傾斜方向之光。
作為本光吸收異向性膜之膜厚，較佳為0.1~10μm，更佳為1~5μm。若本光吸收異向性膜之膜厚未達0.1μm，則自傾斜方向之光吸收變弱，因此無法獲得良好之防窺視特性，若為10μm以上，則二色性色素之配向變得混亂，因此存在正面方向之穿透特性下降之問題。
<二色性色素>
所謂二色性色素，係指具有分子之長軸方向之吸光度與短軸方向之吸光度不同之性質的色素。
作為二色性色素，較佳為於本光吸收異向性膜中於波長300~700nm之範圍內具有吸收極大波長(λMAX)者，更佳為於波長500nm~600nm之範圍內具有極大吸收波長者。藉由於人之可見度較高之波長500nm~600nm之範圍內具有極大吸收波長，可更充分地防止窺視。即，若使用於可見度較高之波長下具有極大吸收之二色性色素，則可減少二色性色素之使用量或使光吸收異向性膜更薄。
作為此種二色性色素，例如可列舉：吖啶色素、色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及茋偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可單獨使用亦可組合使用，於整個可見光區域中要求偏光特性之情形時，較佳為組合三種以上之二色性色素，更佳為組合三種以上之偶氮色素。
於組合複數種二色性色素之情形時，較佳為含有至少一種於本光吸收異向性膜中於波長500nm~600nm之範圍內具有極大吸收波長者。於組合兩種二色性色素時，較佳為進而含有於350nm~499nm或 601nm~750nm之範圍內具有極大吸收波長者，於組合三種二色性色素時，較佳為分別含有於350nm~499nm、500nm~600nm、601nm~750nm之範圍內具有極大吸收波長之二色性色素。藉由如此進行組合，可更充分地防止窺視。
作為偶氮色素，例如可列舉式(2)所表示之化合物(以下，有時稱為「化合物(2)」)。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (2)
[式(2)中，A1及A3相互獨立表示可具有取代基之苯基、可具有取代基之萘基或可具有取代基之一價之雜環基；A2表示可具有取代基之1,4-伸苯基、可具有取代基之萘-1,4-二基或可具有取代基之二價之雜環基；p表示1~4之整數；p為2以上之整數之情形時，複數個A2相互可相同亦可不同。]
作為一價之雜環基，可列舉自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、唑及苯并唑等雜環化合物去除1個氫原子而得之基。作為二價之雜環基，可列舉自上述雜環化合物去除2個氫原子而得之基。
作為A1及A3中之苯基、萘基及一價之雜環基以及A2中之1,4-伸苯基、萘-1,4-二基及二價之雜環基所任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基及丁基等碳數1~4之烷基；甲氧基、乙氧基及丁氧基等碳數1~4之烷氧基；三氟甲基等碳數1~4之氟化烷基；氰基；硝基；氯原子、氟原子等鹵素原子；胺基、二乙胺基及吡咯啶基等經取代或未經取代之胺基(所謂經取代之胺基，係指具有1個或2個碳數1~6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2~8之烷二基之胺基；未經取代之胺基係-NH2)。再者，作為碳數1~6之烷基，可列舉甲基、乙基及己基等。作為碳數2~8之烷二基，可列舉：伸乙基、丙-1,3-二 基、丁-1,3-二基、丁-1,4-二基、戊-1,5-二基、己-1,6-二基、庚-1,7-二基、辛-1,8-二基等。
化合物(2)之中，較佳為以下之式(2-1)~式(2-6)分別所表示之化合物。
[式(2-1)~(2-6)中，B1~B20相互獨立表示氫原子、碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷 氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代之之胺基(經取代之胺基及未經取代之胺基之定義如上所述)、氯原子或三氟甲基；n1~n4分別獨立表示0~3之整數；於n1為2以上之情形時，複數個B2分別可相同，亦可不同，於n2為2以上之情形時，複數個B6分別可相同，亦可不同，於n3為2以上之情形時，複數個B9分別可相同，亦可不同，於n4為2以上之情形時，複數個B14分別可相同，亦可不同。]
作為上述蒽醌色素，較佳為式(2-7)所表示之化合物。
[式(2-7)中，R1~R8相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子；Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基。]
作為上述色素，較佳為式(2-8)所表示之化合物。
[式(2-8)中，R9~R15相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx 或鹵素原子；Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基。]
作為上述吖啶色素，較佳為式(2-9)所表示之化合物。
[式(2-9)中，R16~R23相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子；Rz表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基。]
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中之Rx所表示之碳數1~4之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基及丁基等，作為碳數6~12之芳基，可列舉：苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基及萘基等。
作為上述花青色素，較佳為式(2-10)所表示之化合物及式(2-11)所表示之化合物。
[式(2-10)中，D1及D2相互獨立表示式(2-10a)~式(2-10d)之任一者所表示之基；
n5表示1~3之整數。]
[式(2-11)中，D3及D4相互獨立表示式(2-11a)~式(2-11h)之任一者所表示之基；
n6表示1~3之整數。]
就使二色性色素之配向變得良好之觀點而言，光吸收異向性膜中之二色性色素之含量相對於光吸收異向性組合物之固形物成分100質量份，較佳為0.1質量份以上、30質量份以下，更佳為0.1質量份以上、20質量份以下，進而較佳為0.1質量份以上、10質量份以下，尤 佳為0.1質量份以上、5質量份以下。若二色性色素之含量為該範圍內，則液晶性化合物之液晶配向難以混亂，故而較佳。
<基材>
本光吸收異向性膜可藉由將含有二色性色素之組合物(以下有時稱為本光吸收異向性組合物)塗佈於基材上等之方法而形成。
基材可為玻璃基材亦可為樹脂基材，較佳為樹脂基材。
於轉印樹脂基材而不剝離之情形時，較佳為透明樹脂基材。所謂透明樹脂基材，係指具有可使光、尤其可見光穿透之透光性之基材，所謂透光性，係指相對於波長380nm~780nm之範圍之光線之可見度修正穿透率為80%以上的特性。
作為構成基材之樹脂，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、降烯系聚合物等聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及醋酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚；及聚苯醚等。較佳為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚醚碸、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯。
纖維素酯係纖維素中所含之羥基之至少一部分經酯化者，可自市場獲取。又，含有纖維素酯之基材亦可自市場獲取。作為市售之含有纖維素酯之基材，可列舉：Fujitac(註冊商標)膜(Fuji Film(股份))、KC8UX2M(Konica Minolta Opto(股份))、KC8UY(Konica Minolta(股份))及KC4UY(Konica Minolta Opto(股份))等。
所謂環狀烯烴系樹脂，係降烯或多環降烯系單體等環狀烯烴之聚合物、或含有該等共聚物者。該環狀烯烴系樹脂可含有開環結構，又，亦可為將含有開環結構之環狀烯烴系樹脂氫化者。又，該環狀烯烴系樹脂可於不顯著損害透明性、不顯著增大吸濕性之範圍內， 含有源自鏈狀烯烴及乙烯化芳香族化合物之結構單元。又，該環狀烯烴系樹脂可於其分子內導入極性基。
作為鏈狀烯烴，可列舉乙烯及丙烯等，作為乙烯化芳香族化合物，可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯等。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴或乙烯化芳香族化合物之共聚物之情形時，源自環狀烯烴之結構單元之含量相對於共聚物之總結構單元，通常為50莫耳%以下，較佳為15~50莫耳%。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴與乙烯化芳香族化合物之三元共聚物之情形時，源自鏈狀烯烴之結構單元之含量相對於共聚物之總結構單元，通常為5~80莫耳%，源自乙烯化芳香族化合物之結構單元之含有比例相對於共聚物之總結構單元，通常為5~80莫耳%。此種三元共聚物具有可使高價之環狀烯烴之使用量變得較少之優點。
環狀烯烴系樹脂可自市場獲取。作為市售之環狀烯烴系樹脂，可列舉：Topas(註冊商標)(Ticona公司(獨))、ARTON(註冊商標)(JSR(股份))、ZEONOR(註冊商標)(日本ZEON(股份))、ZEONEX(註冊商標)(日本ZEON(股份))及APEL(註冊商標)(三井化學(股份))等。例如可藉由溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知之方法將此種環狀烯烴系樹脂製膜，製為基材。作為市售之含有環狀烯烴系樹脂之基材，可列舉：S-SINA(註冊商標)(積水化學工業(股份))、SCA40(註冊商標)(積水化學工業(股份))、ZEONOR FILM(註冊商標)(Optronics(股份))及ARTON FILM(註冊商標)(JSR(股份))等。
基材可實施表面處理。作為表面處理之方法，例如可列舉：於真空自大氣壓之環境下，以電暈或電漿處理基材表面的方法；對基材表面進行雷射處理之方法；對基材表面進行臭氧處理之方法；對基材表面進行皂化處理之方法；對基材表面進行火焰處理之方法；於基材 表面塗佈偶合劑之方法；對基材表面進行底塗處理之方法及使反應性單體或具有反應性之聚合物附著於基材表面後照射放射性、電漿或紫外線使之進行反應的接枝聚合法等。其中，較佳為於真空自大氣壓之環境下，以電暈或電漿處理基材表面的方法。
作為以電暈或電漿進行基材之表面處理之方法，可列舉：於大氣壓附近之壓力下，於對向之電極間設置基材，產生電暈或電漿，進行基材之表面處理的方法；於對向之電極間流通氣體，於電極間使氣體電漿化，將電漿化之氣體吹附至基材的方法；及於低壓條件下，產生輝光放電電漿，進行基材之表面處理的方法。
其中，較佳為於大氣壓附近之壓力下，於對向之電極間設置基材，產生電暈或電漿，進行基材之表面處理的方法；或於對向之電極間流通氣體，於電極間使氣體電漿化，將電漿化之氣體吹附至基材的方法。該藉由電暈或電漿之表面處理通常可藉由市售之表面處理裝置而進行。
基材可於與塗佈光吸收異向性組合物之面相反之面具有保護膜。作為保護膜，可列舉：聚乙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯及聚烯烴等膜，以及於該膜上進而具有黏著劑層之膜等。其中，因乾燥時之熱變形較小，故而較佳為聚對苯二甲酸乙二酯。藉由於與塗佈光吸收異向性組合物之面相反之面具有保護膜，可抑制基材搬送時之膜之搖晃或塗佈面之微小之振動，可提高塗膜之均勻性。
作為基材之厚度，若考慮為可進行實用性操作之程度之重量，則較佳為較薄，但若過薄，則存在強度下降，加工性劣化之傾向。基材之厚度通常為5~300μm，較佳為20~200μm。
基材之長邊方向之長度通常為10~3000m，較佳為100~2000m。基材之短邊方向之長度通常為0.1~5m，較佳為0.2~2m。
<液晶性化合物>
本發明之光吸收異向性膜係含有二色性色素與液晶性化合物之液晶硬化膜。
作為本光吸收異向性膜所含有之液晶性化合物，較佳為聚合性液晶化合物。
所謂聚合性液晶化合物，係指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。
所謂聚合性基，係指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，係指可藉由自下述光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。
液晶性化合物可為熱致性液晶亦可為溶致性液晶，又，作為熱致性液晶中之相秩序結構，可為向列液晶亦可為層列液晶。較佳為形成層列液晶相之化合物，更佳為形成層列B相等高次層列液晶相之化合物。若液晶性化合物形成之液晶相為高次層列相，則可製造配向秩序度更高之光吸收異向性膜，藉由進一步提高配向秩序度，存在上述Ax(z=60)/Ax及Ay(z=60)/Ay之值變高之傾向。
作為聚合性液晶化合物，於可獲得更高之偏光性能之方面而言，較佳為層列液晶化合物，更佳為高次層列液晶化合物。其中，更佳為形成層列B相、層列D相、層列E相、層列F相、層列G相、層列H相、層列I相、層列J相、層列K相或層列L相之高次層列液晶化合物，進而較佳為形成層列B相、層列F相或層列I相之高次層列液晶化合物。若聚合性液晶化合物所形成之液晶相為該等高次層列相，則可製造配向秩序度更高之液晶硬化膜，可獲得較高之偏光性能。又，此種 配向秩序度較高之液晶硬化膜係可於X射線繞射測定中獲得源自六角相或液晶相等之高次結構之布勒格波峰者。該布勒格波峰係源自分子配向之週期結構之波峰，可獲得該週期間隔為3.0~6.0Å之膜。作為此種層列液晶化合物，具體可列舉下述式(1)所表示之化合物(以下有時稱為化合物(1))等。該聚合性液晶化合物可單獨使用，亦可組合使用。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (1)
[式(1)中，X1、X2及X3相互獨立表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己-1,4-二基；其中，X1、X2及X3中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基；構成環己-1,4-二基之-CH2-可經-O-、-S-或NR-取代；R表示碳數1~6之烷基或苯基；Y1及Y2相互獨立表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或CRa=N-；Ra及Rb相互獨立表示氫原子或碳數1~4之烷基；U1表示氫原子或聚合性基；U2表示聚合物基；W1及W2相互獨立表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或OCOO-；V1及V2相互獨立表示可具有取代基之碳數1~20之烷二基，構成該烷二基之-CH2-可經-O-、-S-或NR-取代。]
較佳為化合物(1)中，X1、X2及X3中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基。
可具有取代基之1,4-伸苯基較佳為未經取代。可具有取代基之環己-1,4-二基較佳為可具有取代基之反-環己-1,4-二基，可具有取代基之反-環己-1,4-二基較佳為未經取代。
作為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己-1,4-二基 任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基及丁基等碳數1~4之烷基，氰基及氯原子、氟原子等鹵素原子等。
Y1較佳為-CH2CH2-、-COO-或單鍵，Y2較佳為-CH2CH2-或-CH2O-。
U2係聚合性基。U1係氫原子或聚合性基，較佳為聚合性基。U1及U2較佳為均為聚合性基，較佳為均為光聚合性基。具有光聚合性基之聚合性液晶化合物可於更低之溫度條件下聚合，故而有利。
U1及U2所表示之聚合性基可相互不同，但較佳為相同。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。
作為V1及V2所表示烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙-1,3-二基、丁-1,3-二基、丁-1,4-二基、戊-1,5-二基、己-1,6-二基、庚-1,7-二基、辛-1,8-二基、癸-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1及V2較佳為碳數2~12之烷二基，更佳為碳數6~12之烷二基。
作為可具有取代基之碳數1~20之烷二基所任意具有之取代基，可列舉：氰基及氯原子、氟原子等鹵素原子等，但該烷二基較佳為未經取代，更佳為未經取代且直鏈狀之烷二基。
較佳為W1及W2相互獨立為單鍵或O-。
作為化合物(1)之具體例，可列舉：式(1-1)~式(1-23)所表示之化合物等。於化合物(1)具有環己-1,4-二基之情形時，該環己-1,4-二基較佳為反型。
例示之化合物(1)中，較佳為選自由式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)所表示之化合物所組成之群中之至少一種。
例示之化合物(1)可單獨或組合用於液晶硬化膜中。
又，於組合兩種以上之聚合性液晶化合物之情形時，較佳為至少一種為化合物(1)，更佳為兩種以上為化合物(1)。藉由組合，存在即使於液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度下亦可暫時保持液晶性之情形。作為組合兩種聚合性液晶化合物之情形時之混合比，通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。於組合兩種聚合性液晶化合物且僅一種為化合物(1)之情形時，較佳為以化合物(1)成為上述混合比中較高比例之方式進行調配。
聚合性液晶化合物例如可藉由Lub et al,Recl,Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)及日本專利第4719156號等中揭示之公知方法而製造。
作為光吸收異向性膜中之液晶化合物之含有比例，就提高液晶化合物之配向性之觀點而言，相對於光吸收異向性膜100質量份，通 常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份，進而較佳為80~90質量份。光吸收異向性膜中之液晶化合物之含有比例係作為液晶化合物相對於形成光吸收異向性膜之光吸收異向性組合物之固形物成分100質量份的比例而算出。
<聚合起始劑>
本光吸收異向性組合物可含有聚合起始劑。
聚合起始劑係可使聚合性液晶化合物等之聚合反應開始之化合物。作為聚合起始劑，較佳為可藉由光之作用而產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，例如可列舉：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三化合物、錪鹽及鋶鹽等。
作為安息香化合物，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚等。
作為二苯甲酮化合物，例如可列舉：二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(過氧化第三丁基羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作為烷基苯酮化合物，例如可列舉：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-啉基-1-(4-甲基硫基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之寡聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三化合物，例如可列舉：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯 基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三等。
聚合起始劑可使用市售者。作為市售之聚合起始劑，可列舉：Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250及369(BASF公司)；Seikuol(註冊商標)BZ、Z及BEE(精工化學(股份))；kavacure(註冊商標)BP100及UVI-6992(日本化藥(股份))；Adeka Optomer SP-152及SP-170((股份)ADEKA)；TAZ-A及TAZ-PP(DKSH JAPAN(股份))；及TAZ-104((股份)三和化學)等。
作為聚合起始劑之含量，就難以打亂聚合性液晶化合物之配向的觀點而言，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
<調平劑>
本光吸收異向性膜可含有調平劑。
所謂調平劑，係指具有調整光吸收異向性組合物之流動性，使光吸收異向性膜變得更平坦之功能者，例如可列舉界面活性劑。作為較佳之調平劑，可列舉：以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑及以含氟原子之化合物為主成分之調平劑。
作為以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑，可列舉：BYK-350、BYK-352、BYK-353、BYK-354、BYK-355、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-381及BYK-392(BYK Chemie公司)等。
作為以含氟原子之化合物為主成分之調平劑，可列舉：MEGAFAC(註冊商標)R-08、R-30、R-90、F-410、F-411、F-443、F- 445、F-470、F-471、F-477、F-479、F-482、F-483(DIC(股份))；Surflon(註冊商標)S-381、S-382、S-383、S-393、SC-101、SC-105、KH-40及SA-100(AGC Seimi Chemical(股份))；E1830及E5844(DAIKIN INDUSTRIES(股份))；Eftop EF301、EF303、EF351及EF352(三菱綜合材料電子化成(股份))等。
光吸收異向性膜中之調平劑之含量相對於液晶化合物100質量份，通常為0.01質量份以上、5質量份以下，較佳為0.1質量份以上、3質量份以下。
若調平劑之含量為上述範圍內，則存在所得液晶硬化膜變得更平滑之傾向，故而較佳。若相對於液晶化合物之調平劑之含量超過上述範圍，則存在所得液晶硬化膜中易於產生不均或於水平方向配向之傾向，故而欠佳。光吸收異向性膜可含有兩種以上之調平劑。
<溶劑>
形成本光吸收異向性膜時所使用之本光吸收異向性組合物可含有溶劑。
作為溶劑，於含有液晶性化合物之情形時，較佳為可完全溶解液晶化合物者，又，於該液晶化合物為聚合性液晶化合物之情形時，進而較佳為對聚合反應為惰性之溶劑。
作為溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合。
溶劑之含量相對於光吸收異向性組合物之總量，較佳為50~98 質量%。換言之，光吸收異向性膜成分之比例相對於光吸收異向性組合物之總量較佳為2~50質量%。
若相對於光吸收異向性組合物之總量，該固形物成分為50質量%以下，則光吸收異向性組合物之黏度變低，因此存在液晶硬化膜之厚度變得大致均勻，從而使該液晶硬化膜難以產生不均的傾向。又，該固形物成分可考慮欲製造之液晶硬化膜之厚度而決定。
<配向膜>
具有光吸收異向性膜及基材之光學膜可於基材與光吸收異向性膜之間含有配向膜。
所謂本發明之配向膜，係指具有使二色性色素或液晶化合物相對於基材於垂直方向配向之配向限制力者。
作為配向膜，較佳為具有不會因光吸收異向性組合物之塗佈等而溶解之溶劑耐性，又，具有用於溶劑之去除或液晶化合物之配向之加熱處理之耐熱性者。作為該配向膜，可列舉含有配向性聚合物之配向膜、光配向膜等。
<含有配向性聚合物之配向膜>
作為配向性聚合物，可列舉：分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚唑、聚乙烯醯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中，較佳為聚乙烯醇。亦可組合使用兩種以上之配向性聚合物。
含有配向性聚合物之配向膜通常係藉由將使配向性聚合物溶解於溶劑中之組合物(以下，有時稱為配向性聚合物組合物)塗佈於基材，去除溶劑，或將配向性聚合物組合物塗佈於基材，去除溶劑並進行摩擦(摩擦法)而形成於基材之表面。
作為上述溶劑，可列舉：水，甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、 丙二醇、甲基溶纖素、丁基溶纖素、丙二醇單甲醚等醇溶劑，乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑，丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等酮溶劑，戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑，甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑，乙腈等腈溶劑，四氫呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶劑及氯仿、氯苯等氯化烴溶劑。該等溶劑可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
配向性聚合物組合物中之配向性聚合物之濃度若為配向性聚合物材料可完全溶解於溶劑中之範圍即可，相對於溶液以固形物成分換算較佳為0.1~20質量%，進而較佳為0.1~10質量%左右。
作為配向性聚合物組合物，亦可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可列舉：Sunever(註冊商標，日產化學工業(股份)製造)、Optomer(註冊商標，JSR(股份)製造)等。
作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材之方法，可列舉：旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、狹縫式塗佈法、棒式塗佈法、敷料法等塗佈法，軟版法等印刷法等公知之方法。於藉由下述卷對卷(Roll to Roll)形式之連續製造方法製造本光吸收異向性膜之情形時，該塗佈方法通常採用凹版塗佈法、模嘴塗佈法或軟版法等印刷法。
作為去除配向性聚合物組合物中所含之溶劑之方法，可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
為對配向膜賦予配向限制力，視需要進行摩擦(摩擦法)。藉由選擇摩擦方向，可任意控制配向限制力之方向。
作為藉由摩擦法而賦予配向限制力之方法，可列舉：使藉由將配向性聚合物組合物塗佈於基材並退火而形成於基材表面之配向性聚合物之膜，與捲繞有摩擦布且旋轉之摩擦輥相接觸的方法。
<光配向膜>
光配向膜通常係藉由將含有具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑之組合物(以下，有時稱為「光配向膜形成用組合物」)塗佈於基材，照射光(較佳為偏光UV)而形成於基材表面。光配向膜可藉由選擇照射之光之偏光方向而任意控制配向限制力之方向，故而更佳。
所謂光反應性基，係指藉由光照射而產生液晶配向能之基。具體可列舉：參與藉由光照射而產生之分子之配向誘發或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應或光分解反應等成為液晶配向能之起源之光反應的基。其中，於配向性優異之方面而言，較佳為參與二聚化反應或光交聯反應之基。作為光反應性基，較佳為具有不飽和鍵，尤其雙鍵之基，尤佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中之至少一個之基。
作為具有C=C鍵之光反應性基，可列舉：乙烯基、多烯基、茋基、苯乙烯基吡啶基、苯乙烯基吡啶鹽基、查耳酮基及桂皮醯基。作為具有C=N鍵之光反應性基，可列舉：具有芳香族希夫鹼、芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵之光反應性基，可列舉：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲臢基及具有氧偶氮苯結構之基。作為具有C=O鍵之光反應性基，可列舉：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及順丁烯二醯亞胺基。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵化烷基等取代基。
其中，較佳為參與光二聚化反應之光反應性基，於光配向所需之偏光照射量較少、且易於獲得熱穩定性或經時穩定性優異之光配向膜之方面而言，較佳為桂皮醯基及查耳酮基。作為具有光反應性基之聚合物，尤佳為該聚合物側鏈之末端部具有成為桂皮酸結構之桂皮醯 基者。
作為光配向膜形成用組合物中所含之溶劑，可列舉與上述配向性聚合物組合物中所含之溶劑相同者，可根據具有光反應性基之聚合物或單體之溶解性而適宜選擇。
光配向膜形成用組合物中之具有光反應性基之聚合物或單體之含量，可根據聚合物或單體之種類或目標之光配向膜之厚度而適宜調節，較佳為之至少0.2質量%，更佳為0.3~10質量%之範圍。於不顯著損害光配向膜之特性之範圍內，光配向膜形成用組合物亦可含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
作為將光配向膜形成用組合物塗佈於基材之方法，可列舉與將配向性聚合物組合物塗佈於基材之方法相同之方法。作為自塗佈之光配向膜形成用組合物去除溶劑之方法，例如可列舉與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同之方法。
作為偏光之照射，可為對自塗佈於基板上之光配向膜形成用組合物去除溶劑者直接照射偏光UV的形式，亦可為自基材側照射偏光，使偏光穿透而照射的形式。又，該偏光尤佳為實質平行光。照射之偏光之波長為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基可吸收光能之波長區域者即可。具體而言，尤佳為波長250~400nm之範圍之UV(紫外線)。作為該偏光照射中所使用之光源，可列舉：氙氣燈，高壓水銀燈，超高壓水銀燈，金屬鹵化物燈，KrF、ArF等紫外光雷射等，更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。對該等燈而言，因波長313nm之紫外線之發光強度較大，故而較佳。藉由經由適當之偏光元件照射來自上述光源之光，可照射偏光UV。作為該偏光元件，可使用：偏光濾光器或格蘭-湯姆森、格蘭-泰勒(Glan Taylor)等偏光稜鏡或線柵型之偏光元件。
再者，進行摩擦或偏光照射時，若進行遮蔽，亦可形成液晶配 向之方向不同之複數個區域(圖案)。
配向膜之厚度通常為10nm~10000nm，較佳為10nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
<本光學膜及光吸收異向性膜之製造方法>
本光吸收異向性膜係藉由使二色性色素之吸收軸於與膜面正交之方向配向而獲得。如本光吸收異向性膜之主-賓型之光吸收異向性膜中之二色性色素之吸收軸之方向通常係由液晶性化合物配向之方向而控制。藉由使液晶性化合物之分子長軸之配向方向成為與膜面正交之方向，通常可使二色性色素之吸收軸於與膜面正交之方向配向。液晶性化合物之配向方向係藉由塗佈有含有液晶性化合物、二色性色素及溶劑之組合物之基材或配向膜之性質、以及液晶性化合物之性質而控制。即，本光吸收異向性膜可藉由使用具有於與膜面正交之方向(垂直方向)配向之配向限制力之基材或配向膜、或使用易於於垂直方向配向之液晶性化合物而獲得。具有層列液晶相之液晶性化合物存在易於垂直配向之傾向。藉由使二色性色素之吸收軸於與膜面正交之方向配向而獲得之光吸收異向性膜滿足上述式(1)，但有時不滿足上述式(2)及(3)。藉由於液晶性化合物中使用形成高次層列液晶相之化合物，存在可獲得亦滿足上述式(2)及(3)之光吸收異向性膜之傾向。
具體而言，本光學膜可藉由以記載之順序進行下述(1)~(4)之步驟而製造。光吸收異向性膜可藉由將光學膜經由接著劑等轉印至其他被黏著體上後，去除基材而獲得。
(1)於基材上塗佈含有液晶性化合物、二色性色素及溶劑之組合物而形成塗佈膜之步驟。
(2)自塗佈膜去除溶劑，形成乾燥膜之步驟。
(3)冷卻乾燥膜而呈現液晶相之步驟。
(4)照射活性能量線而使液晶性化合物硬化之步驟。
<(1)之步驟>
作為將含有液晶性化合物、二色性色素及溶劑之組合物(光吸收異向性組合物)塗佈於基材上的方法，可列舉與作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材上之方法而例示者相同之方法。
<(2)之步驟>
於光吸收異向性組合物含有溶劑之情形時，通常自塗佈之光吸收異向性組合物去除溶劑，作為溶劑之去除方法，可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。乾燥膜較佳為以光吸收異向性膜中之殘存溶劑相對於光吸收異向性膜之總重量成為1重量%以下之方式進行乾燥。殘存溶劑之量可藉由如下方式測定：自基材剝離光吸收異向性膜進行稱量，將所得光吸收異向性膜浸漬於四氫呋喃等溶解光吸收異向性膜之溶劑中，照射10分鐘超音波而萃取溶解成分後，藉由氣相層析法對該溶液進行分析。
<(3)之步驟>
塗佈之液晶化合物通常係藉由加熱至轉移為液晶狀態或溶液狀態之溫度以上，繼而冷卻至液晶配向之溫度而配向從而形成液晶相。
塗佈之液晶化合物配向之溫度可預先藉由使用有含有該液晶化合物之組合物之質構觀察等求得。又，可同時進行溶劑之去除與液晶配向。作為此時之溫度，亦根據去除溶劑或含有之液晶化合物之種類而有所不同，較佳為50~200℃之範圍，於基材為樹脂基材之情形時，更佳為80~130℃之範圍。
<(4)之步驟>
藉由對配向之液晶化合物照射活性能量線而使液晶化合物聚合。
聚合之液晶化合物成為光吸收異向性膜。含有於保持層列相之液晶相之狀態下聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜與先前之主賓 型偏光膜，即於保持向列相之液晶相之狀態下使聚合性液晶化合物等聚合而獲得之偏光膜相比較，偏光性能較高，又，與僅塗佈二色性色素或溶致液晶者相比較，偏光性能及強度優異。
作為活性能量線之光源，若為產生紫外線、電子束、X射線等者即可。較佳為低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等於波長400nm以下具有發光分佈之光源。
活性能量線更佳為相對於基材之法線方向為平行之紫外線。
活性能量線之照射能量較佳為設定為對聚合起始劑之活性化有效之波長區域之照射強度成為10~5000mJ/cm2，更佳為100~2000mJ/cm2。若照射能量低於10mJ/cm2，則存在液晶化合物之硬化變得不充分之傾向。
<本光學膜之連續製造方法>
本光學膜較佳為藉由卷對卷形式進行連續製造。參照圖2，對藉由卷對卷形式進行連續製造之方法之重要部分之一例進行說明。再者，於以下說明中，揭示有於基材與光吸收異向性膜之間含有配向膜之情形之製造方法，但本光吸收異向性膜可不含配向膜。又，於以下說明中，揭示有使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形之製造方法，但並不限定於此。
基材捲繞於第1卷芯210A上之第1輥210例如可自市場容易地獲取。作為可以此種輥之形態自市場獲取之基材，於已例示之基材中，可列舉包含纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯之膜等。
繼而，自上述第1輥210捲出基材。捲出基材之方法係藉由於該第1輥210之卷芯210A上設置適當之旋轉機構，利用該旋轉機構使第1輥210旋轉而進行。又，亦可為於自第1輥210搬送基材之方向上設置 適當之輔助輥300，利用該輔助輥300之旋轉機構捲出基材的形式。進而，亦可為於第1卷芯210A及輔助輥300上均設置旋轉機構，一面對基材賦予適度之張力，一面捲出透明基材的形式。
自上述第1輥210捲出之基材通過塗佈裝置211A時，藉由該塗佈裝置211A於其表面上塗佈光配向膜形成用組合物。作為此種用以連續塗佈光配向膜形成用組合物之塗佈裝置211A，較佳為凹版塗佈法、模嘴塗佈法及軟版法。
通過塗佈裝置211A之基材被搬送至乾燥爐212A，藉由乾燥爐212A而乾燥，於基材表面連續形成第一塗佈膜。乾燥爐212A中例如使用有組合通風乾燥法與加熱乾燥法之熱風式乾燥爐。乾燥爐212A之設定溫度可根據上述光配向膜形成用組合物中所含之溶劑之種類等而決定。乾燥爐212A可為包含相互不同之設定溫度之複數個區域者，亦可為串聯設置有相互不同之設定溫度之複數個乾燥爐者。
藉由偏光UV照射裝置213A對所得第一塗佈膜照射偏光，藉此獲得光配向膜。
繼而，形成有光配向膜之基材通過塗佈裝置211B。藉由塗佈裝置211B於光配向膜上塗佈含有二色性色素與聚合性液晶化合物與溶劑之組合物後，通過乾燥爐212B，藉此獲得該聚合性液晶化合物配向之第二塗佈膜。乾燥爐212B不僅擔當自於光配向膜上塗佈之含有聚合性液晶化合物與溶劑之組合物去除溶劑的作用，並且擔當賦予熱能而使該組合物中含有之聚合性液晶化合物配向的作用。乾燥爐212B與乾燥爐212A相同，可為包含相互不同之設定溫度之複數個區域者，亦可為串聯設置有相互不同之設定溫度之複數個乾燥爐者。
於第二塗佈膜中所含之聚合性液晶化合物配向之狀態下，搬送至活性能量線照射裝置213B。於活性能量線照射裝置213B中，進行活性能量線照射。藉由利用活性能量線照射裝置213B之活性能量線 照射，聚合性液晶化合物於配向之狀態下聚合。
如此連續製造之光學膜被捲繞至第2卷芯220A上，獲得第2輥220之形態。再者，捲取時，可進行使用有適當之間隔件之共捲取。
如此，藉由使基材依序自第1輥210通過塗佈裝置211A、乾燥爐212A、偏光UV照射裝置213A、塗佈裝置211B、乾燥爐212B及活性能量線照射裝置213B，可藉由卷對卷形式連續製造本光學膜。
再者，於基材與光吸收異向性膜之間不含配向膜之情形時，該光學膜可藉由不含塗佈裝置211A及偏光UV照射裝置213A之同樣之製造方法而製造。
<三維光吸收異向性膜>
藉由積層本光吸收異向性膜與水平偏光膜，可形成三維光吸收異向性膜。於積層光學膜與水平偏光膜之情形時，對光學膜而言，只要於其光吸收異向性膜側與水平偏光膜積層即可，基材可剝離。
對三維光吸收異向性膜而言，於將水平偏光膜之吸收軸設為x'軸，將水平偏光膜之透射軸設為y'軸，將與x'軸及y'軸正交之軸設為z'軸時，滿足下式(6)。式(6)中，Ax'、Ay'、Az'均表示光吸收異向性膜中之二色性色素之吸收極大波長下之吸光度。Ax'表示沿x'方向振動之直線偏光之吸光度，Ay'表示沿y'方向振動之直線偏光之吸光度，Az'表示沿z'方向振動之直線偏光之吸光度。Ax'及Ay'可以與Ax及Ay相同之方式測定。Az'可藉由下式(7)而算出。式中，Ay'(z=60)表示於以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿y'軸方向振動之直線偏光之吸光度。
Ax'>Az'>Ay' (6)
Ay'(z=60)=Ay' cos60°+Az' sin60° (7)
<水平偏光膜>
水平偏光膜具有於與膜面平行之方向上具有吸收軸之偏光功 能。作為水平偏光膜，可列舉：吸附有具有吸收異向性之色素之延伸膜、或塗佈有具有吸收異向性之色素之膜等。作為具有吸收異向性之色素，可列舉二色性色素。
吸附有具有吸收異向性之色素之延伸膜通常係經由以下步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟、藉由以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜而吸附該二色性色素之步驟、將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜藉由硼酸水溶液進行處理之步驟、及藉由硼酸水溶液之處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，可列舉：作為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物。作為可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85~100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可改性，亦可使用以醛類改性之聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常為1,000~10,000，較佳為1,500~5,000之範圍。
將此種聚乙烯醇系樹脂製膜，可獲得坯膜。聚乙烯醇系樹脂可藉由公知之方法而製膜。聚乙烯醇系坯膜之厚度較佳為10~150μm。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸可於藉由二色性色素之染色前進行，可與染色同時進行或於染色後進行。於染色後進行單軸延伸之情形時，該單軸延伸可於硼酸處理前進行，亦可於硼酸處理中進行。亦可於該等複數個階段中進行單軸延伸。單軸延伸時，可於周速不同之輥間進行單軸延伸，亦可使用熱輥進行單軸延伸。單軸延伸可為於大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為使用溶劑，於使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為3~8倍。
聚乙烯醇系樹脂膜之藉由二色性色素之染色係藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中的方法而進行。
作為二色性色素，可列舉碘或二色性之有機染料，較佳為使用碘。作為二色性之有機染料，可列舉：C.I.直接紅39等包含雙偶氮化合物之二色性直接染料及包含三偶氮、四偶氮等化合物之二色性直接染料等。聚乙烯醇系樹脂膜較佳為於染色處理前預先實施於水中之浸漬處理。
於二色性色素為碘之情形時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中進行染色的方法。水溶液中之碘之含量相對於每100質量份之水，通常為0.01~1質量份。碘化鉀之含量相對於每100質量份之水，通常為0.5~20質量份。染色所使用之水溶液之溫度通常為20~40℃。於該水溶液中之浸漬時間(染色時間)通常為20~1,800秒。
於二色性色素為二色性之有機染料之情形時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性二色性染料之水溶液中進行染色的方法。水溶液中之二色性有機染料之含量相對於每100質量份之水，通常為1×10-4~10質量份，較佳為1×10-3~1質量份，進而較佳為1×10-3~1×10-2質量份。該水溶液可含有如硫酸鈉之無機鹽作為染色助劑。水溶液之溫度通常為20~80℃。於該水溶液中之浸漬時間(染色時間)通常為10~1,800秒。
藉由二色性色素之染色後之硼酸處理通常可藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液中之方法而進行。硼酸水溶液中之硼酸之含量相對於每100質量份之水，通常為2~15質量份，較佳為5~12質量份。於使用碘作為二色性色素之情形時，該硼酸水溶液較佳為含有碘化鉀，碘化鉀之含量相對於每100質量份之水，通常為0.1~15質量份，較佳為5~12質量份。於硼酸水溶液中之浸漬時間通常為 60~1,200秒，較佳為150~600秒，進而較佳為200~400秒。硼酸處理之溫度通常為50℃以上，較佳為50~85℃，進而較佳為60~80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常進行水洗處理。水洗處理可藉由將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中之方法而進行。水洗處理之水之溫度通常為5~40℃。浸漬時間通常為1~120秒。
水洗後進行乾燥處理，獲得水平偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器而進行。乾燥處理之溫度通常為30~100℃，較佳為50~80℃。乾燥處理之時間通常為60~600秒，較佳為120~600秒。藉由乾燥處理，水平偏光膜之含水率減低至實用程度。其含水率通常為5~20重量%，較佳為8~15重量%。若含水率低於5重量%，則水平偏光膜失去可撓性，存在水平偏光膜於其乾燥後損傷或斷裂之情形。若含水率超過20重量%，則存在水平偏光膜之熱穩定性變差之可能性。
如上述方式將聚乙烯醇系樹脂進行單軸延伸、藉由二色性色素之染色、硼酸處理、水洗及乾燥而獲得的水平偏光膜之厚度較佳為5~40μm。
作為塗佈有具有吸收異向性之色素之膜，可列舉：塗佈含有具有液晶性之二色性色素之組合物或含有二色性色素與聚合性液晶之組合物而獲得之膜等。作為二色性色素，較佳為與光吸收異向性膜中含有者相同之二色性色素。
塗佈有具有吸收異向性之色素之膜較佳為較薄，但若過薄則存在強度下降，加工性變差之傾向。該膜之厚度通常為20μm以下，較佳為5μm以下，更佳為0.5~3μm。
作為塗佈有具有吸收異向性之色素之膜，具體可列舉日本專利特開2012-33249號公報等中揭示之膜。
藉由於水平偏光膜之至少一面經由接著劑而積層透明保護膜， 可獲得偏光板。作為透明保護膜，較佳為與上述基材相同之透明膜。
再者，作為三維光吸收異向性膜之構成，除本光吸收異向性膜及水平偏光膜外，例如可使用防眩層、抗反射層、抗靜電層、光擴散控制層、亮度提昇層、反射層及半透射層等液晶顯示裝置之構成中所使用之適宜者。
[實施例]
以下，藉由實施例進一步詳細說明本發明。例中之「%」及「份」若無特別說明，則表示質量%及質量份。
實施例1
[光吸收異向性組合物之製造]
混合下述成分，於80℃下攪拌1小時，藉此獲得光吸收異向性組合物。二色性色素可使用日本專利特開2013-101328號公報之實施例中揭示之偶氮系色素。式(1-6)及(1-7)所表示之聚合性液晶化合物可依據lub et el,Recl,Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)中記載之方法而合成。
聚合性液晶化合物：
二色性色素1：
聚合起始劑：
2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；Ciba Specialty Chemicals公司製造) 6份
調平劑：
聚丙烯酸酯化合物(BYK-36IN；BYK-Chemie公司製造) 0.3份
溶劑：
鄰二甲苯 250份
[聚合性液晶化合物之相轉移溫度之測定]
一面於形成有配向膜之玻璃基板上加熱化合物，一面藉由利用偏光顯微鏡(BX-51，Olympus公司製造)之質構觀察而確認相轉移溫度。可確認式(1-6)所表示之聚合性液晶化合物於升溫時，於95℃下自結晶相呈現層列A相，於111℃下相轉移為向列相，於113℃下相轉移為等向性液體相。於降溫時，於112℃下相轉移為向列相，於110℃下相轉移為層列A相，於94℃下相轉移為層列B相。可確認式(1-7)所表示之聚合性液晶化合物於升溫時，於81℃下自結晶相呈現層列A相，於121℃下轉移為向列相，於137℃下相轉移為等向性液體相。於降溫時，於133℃下相轉移為向列相，於118℃下相轉移為層列A相，於78℃下相轉移為層列B相。
以同樣之方式進行BASF公司製造之熱致性向列液晶LC242之質構觀察。該LC242顯示向列相，未顯示層列相。
[光吸收異向性膜之製造]
使用旋轉塗佈機將光吸收異向性組合物塗佈於50mm×50mm之玻璃上後，於設定為110℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，藉此獲得聚合性液晶化合物及二色性色素經配向之乾燥塗膜。將該乾燥塗膜自然冷卻至室溫後，使用高壓水銀等(Unicure VB-15201BY-A，USHIO股份有限公司製造)，照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，波長365nm 下之累計光量：1000mJ/cm2)，藉此，聚合性液晶化合物聚合而獲得光吸收異向性膜1。
[光吸收異向性膜之評價]
[三維吸光度測定]
對光吸收異向性膜1，藉由以下方式測定吸光度。
使用於分光光度計(島津製作所股份有限公司製造UV-3150)上設置有附有稜鏡偏光元件之摺疊器(Folder)之裝置，藉由雙光束法於2nm間距380~680nm之波長範圍內測定顯示極大吸收之波長下之三維吸光度。此處之三維吸光度係於將膜面內之任意方向設為x軸，將膜面內與x軸正交之方向設為y軸，將膜之膜厚方向設為z軸時，相對於直線偏光之各個方向之吸光度(Ax，Ay，Az)。具體而言，藉由相對於作為測定光之直線偏光旋轉樣本而進行測定。又，z方向之吸光度於定義上要求自樣本側面入射光，故而測定較難。因此，藉由相對於作為測定光之直線偏光之振動面，將樣本之x-y平面傾斜30°及60°進行測定，可推測Az方向之吸光度。
具體而言，於以包含y軸之方式將樣本旋轉30°及60°之狀態下，入射與測定Ax時相同之直線偏光，藉此測定Ax(z=30)及Ax(z=60)，同樣地，於以包含x軸之方式將樣本旋轉30°及60°之狀態下，入射與測定Ay時相同之直線偏光，藉此測定Ay(z=30)及Ay(z=60)。
再者，於x-y平面無吸收異向性之情形時，即Ax及Ay相等之情形時，Ax(z=30)=Ay(z=30)且Ax(z=60)=Ay(z=60)，因此可將Ax(z=30)及Ay(z=30)設為A(z=30)，可將Ax(z=60)及Ay(z=60)設為A(z=60)。
即，於處於A(z=30)<A(z=60)之關係之情形時，滿足A(z=30)<A(z=60)<A(z=90)=Az之關係。進而，若A(z=30)>(Ax+Ay)/2或A(z=60)>(Ax+Ay)/2，則必然滿足下述式(1)。
Az>(Ax+Ay)/2 (1)
測定本案實施例1之樣本之結果為，作為極大吸收波長之波長526nm下之三維吸光度為，Ax=0.029，Ay=0.029，A(z=30)=0.146，A(z=60)=0.502。
即，光吸收異向性膜1如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=17.3>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=17.3>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜1之液晶硬化膜之厚度，結果為1.7μm。
實施例2
除使用二色性色素2代替二色性色素1以外，以與實施例1相同之方式製作光吸收異向性膜2。
二色性色素2：
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜2之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長606nm下之三維吸光度為，Ax=0.023，Ay=0.023，A(z=30)=0.134，A(z=60)=0.417。
即，光吸收異向性膜2如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=18.1>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=18.1>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜2之液晶硬化膜之厚度，結果為1.6μm。
實施例3
除使用二色性色素3代替二色性色素1以外，以與實施例1相同之方式製作光吸收異向性膜3。
二色性色素3：
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜3之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長620nm下之三維吸光度為，Ax=0.050，Ay=0.050，A(z=30)=0.226，A(z=60)=0.647。
即，光吸收異向性膜3如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=12.9>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=12.9>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜3之液晶硬化膜之厚度，結果為1.8μm。
實施例4
除使用二色性色素4代替二色性色素1以外，以與實施例1相同之方式製作光吸收異向性膜4。
二色性色素4：
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜4之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長402nm下之三維吸光度為，Ax=0.086，Ay=0.086，A(z=30)=0.193，A(z=60)=0.525。
即，光吸收異向性膜4如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=6.1>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=6.1>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜4之液晶硬化膜之厚度，結果為1.7μm。
實施例5
除使用二色性色素5代替二色性色素1以外，以與實施例1相同之方式製作光吸收異向性膜5。
二色性色素5：
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜5之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長546nm下之三維吸光度為，Ax=0.020，Ay=0.020，A(z=30)=0.105，A(z=60)=0.333。
即，光吸收異向性膜5如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=16.7>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=16.7>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜5之液晶硬化膜之厚度，結果為1.7μm。
實施例6
[配向膜形成用組合物之製造]
於配向性聚合物中添加丙二醇單甲醚而獲得配向膜形成用組合物。作為配向性聚合物之固形物成分濃度之括弧內之數值係自交貨規格書中記載之濃度換算固形物成分之量。
配向性聚合物：Sunever(註冊商標)SE-610(日產化學工業股份有限公司製造)
0.3份(1.0%)
丙二醇單甲醚：27.7份
[光吸收異向性膜之製造]
將聚對苯二甲酸乙二酯膜(三菱樹脂股份有限公司製造，DIAFOIL T140E25)切為80×80mm，對其表面進行電暈處理(AGF-B10，春日電機股份有限公司製造)。使用棒式塗佈機於實施有電暈處理之膜表面塗佈配向膜形成用組合物後，於設定為120℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，獲得配向膜。使用棒式塗佈機於所得配向膜上塗佈與 實施例1中所使用者相同之液晶硬化膜形成用組合物後，於設定為110℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，使用高壓水銀等(Unicure VB-15201BY-A，USHIO股份有限公司製造)，照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，波長365nm下之累計光量：1000mJ/cm2)，藉此，聚合性液晶化合物聚合而獲得光吸收異向性膜6。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜5之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長526nm下之三維吸光度為，Ax=0.040，Ay=0.040，A(z=30)=0.184，A(z=60)=0.602。
即，光吸收異向性膜6如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=15.1>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=15.1>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜6之液晶硬化膜之厚度，結果為2.2μm。
實施例7
除使用二色性色素2代替二色性色素1以外，以與實施例6相同之方式製作光吸收異向性膜7。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜7之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長608nm下之三維吸光度為，Ax=0.032，Ay=0.032，A(z=30)=0.184，A(z=60)=0.588。
即，光吸收異向性膜7如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=18.4>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=18.4>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜7之液晶硬化膜之厚度，結果為2.2μm。
實施例8
除使用二色性色素3代替二色性色素1以外，以與實施例6相同之方式製作光吸收異向性膜8。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜8之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長622nm下之三維吸光度為，Ax=0.078，Ay=0.078，A(z=30)=0.291，A(z=60)=0.860。
即，光吸收異向性膜8如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=11.0>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=11.0>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜8之液晶硬化膜之厚度，結果為2.3μm。
比較例1
除使用BASF公司製造之熱致性向列液晶LC242代替聚合性液晶化合物(1-6)及(1-7)以外，以與實施例2相同之方式製作光吸收異向性膜9。再者，該樣本未獲得透明性，聚合性液晶以及二色性色素之分子配向未獲得。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜9之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長560nm下之三維吸光度為，Ax=0.327，Ay=0.327，A(z=30)=0.317，A(z=60)=0.312。
即，光吸收異向性膜9如以下所述不滿足式(1)(2)(3)。
Az<A(z=60)<A(z=30)<(Ax+Ay)/2
Ax(z=60)/Ax=1.0
Ay(z=60)/Ay=1.0
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜9之液晶硬化膜之厚度，結果為1.7μm。
比較例2
除使用熱致性向列液晶LC242(BASF公司製造)代替聚合性液晶化合物(1-6)及(1-7)以外，以與實施例6相同之方式製作光吸收異向性膜10。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜10之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長488nm下之三維吸光度為，Ax= 0.072，Ay=0.072，A(z=30)=0.133，A(z=60)=0.275。
即，光吸收異向性膜10如以下所述滿足式(1)，但不滿足(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2
Ax(z=60)/Ax=3.8
Ay(z=60)/Ay=3.8
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜10之液晶硬化膜之厚度，結果為2.1μm。
比較例3
除使用熱致性向列液晶LC242(BASF公司製造)代替聚合性液晶化合物(1-6)及(1-7)以外，以與實施例7相同之方式製作光吸收異向性膜11。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜11之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長560nm下之三維吸光度為，Ax=0.071，Ay=0.071，A(z=30)=0.125，A(z=60)=0.275。
即，光吸收異向性膜10如以下所述滿足式(1)，但不滿足(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2
Ax(z=60)/Ax=3.9
Ay(z=60)/Ay=3.9
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜11之液晶硬化膜之厚度，結果為2.1μm。
比較例4
除使用熱致性向列液晶LC242(BASF公司製造)代替聚合性液晶化合物(1-6)及(1-7)以外，以與實施例8相同之方式製作光吸收異向性膜12。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜12之三維吸光度，結果作為極大吸收波長之波長594nm下之三維吸光度為，Ax=0.133，Ay=0.133，A(z=30)=0.220，A(z=60)=0.460。
即，光吸收異向性膜12如以下所述滿足式(1)，但不滿足(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2
Ax(z=60)/Ax=3.5
Ay(z=60)/Ay=3.5
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜12之液晶硬化膜之厚度，結果為2.1μm。
實施例9
除同時使用二色性色素1與二色性色素3與二色性色素4代替二色性色素1以外，以與實施例6相同之方式製作光吸收異向性膜13。
[三維吸光度測定]
以與實施例1相同之方式，測定光吸收異向性膜13之三維吸光度，結果獲得源自三種色素之極大吸收。
第一吸收：
波長400nm下之三維吸光度為，Ax=0.115，Ay=0.115，A(z=30)=0.274，A(z=60)=0.692。
即，光吸收異向性膜13如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=6.0>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=6.0>5 (3)
第二吸收：
波長526nm下之三維吸光度為，Ax=0.062，Ay=0.062，A(z=30)=0.220，A(z=60)=0.639。
即，光吸收異向性膜13如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=10.2>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=10.2>5 (3)
第三吸收：
波長622nm下之三維吸光度為，Ax=0.049，Ay=0.049，A(z=30)=0.187，A(z=60)=0.468。
即，光吸收異向性膜13如以下所述滿足式(1)(2)(3)。
Az>A(z=60)>A(z=30)>(Ax+Ay)/2 (1)
Ax(z=60)/Ax=11.3>5 (2)
Ay(z=60)/Ay=11.3>5 (3)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製造)測定光吸收異向性膜13之液晶硬化膜之厚度，結果為2.3μm。
實施例10
[偏光板之製造]
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬於30℃之純水後，於30℃下浸漬於碘/碘化鉀/水之重量比為0.02/2/100之水溶液中進行碘染色(碘染色步驟)。於56.5℃下將經碘染色步驟之聚乙烯醇膜浸漬於碘化鉀/硼酸/水之重量比為12/5/100之水溶液中進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。將經硼酸處理步驟之聚乙烯醇膜以8℃之純水進行清洗後，於65℃下乾燥，獲得碘於聚乙烯醇中吸附配向之水平偏光膜(延伸後之厚度為27μm)。此時，於碘染色步驟與硼酸處理步驟中進行延伸。該延伸之總延伸倍率為5.3倍。將所得水平偏光膜與經皂化處理之三乙醯纖維素膜(Konica Minolta製造之KC4UYTAC 40μm)經由水系接著劑以夾輥貼合。一面將所得貼合物之張力保持為430N/m，一面於60℃下乾燥2分鐘，獲得於單面具有作為保護膜之三乙醯纖維素膜之偏光板(1)。再者，上述水系接著劑係於水100份中添加羧基改性聚乙烯醇(Kuraray製造之Kuraray Poval KL318)3份與水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumika Chemtex製造之Sumirez Resin 650固形物成分濃度30%之水溶液)1.5份而製備。將該偏光板與實施例9中所得之光吸收異向性膜13之液晶硬化膜側經由感壓式黏著劑進行貼合，製作如圖3所示之三維光吸收異向性膜。
[三維吸光度測定]
對所得複合偏光板與實施例1同樣地測定三維吸光度。所謂此時之三維吸光度，係將偏光板之吸收軸設為x'，將偏光板之透射軸方向設為y'，將液晶硬化膜之膜厚方向設為z'時之各個方向之吸光度(Ax'，Ay'，Az')。
藉由測定Ax'與Ax'(z=60)以及Ay'與Ay'(z=60)而決定Ax'、Ay'、Az'之大小關係。
第二吸收：
波長526nm下之三維吸光度為，Ax'=3.158，Ay'=0.065，Ay'(z=60)=0.614。即，為Ay'(z=60)=Ay' cos60°+Az' sin60°之關係，故而計算出Az'≒0.671。因此，確認滿足式(6)。
Ax'>Az'>Ay' (6)
如圖4所示，將偏光板經由感壓式黏著劑貼合於液晶面板之後側，進而，將三維光吸收異向性膜以偏光板側成為面板側之方式經由感壓式黏著劑貼附於液晶面板之前側，評價外觀，結果自正面方向觀察時保持清晰之視認性，另一方面自橫向觀察時視認性下降，確認獲得防窺視功能。
[產業上之可利用性]
本發明之光吸收異向性膜為薄型且可藉由簡易之製造而製造，作為對行動電話或銀行ATM等之顯示器賦予更有效之防窺視功能的材料而有用。

Claims (16)

  1. 一種光吸收異向性膜，其係含有二色性色素與液晶性化合物者，於將膜面內之任意一個方向設為x軸，將膜面內與x軸正交之方向設為y軸，將與x軸及y軸正交之膜厚方向設為z軸時，該膜之光吸光度滿足下述式(1)、(2)及(3)：Az>(Ax+Ay)/2 (1) Ax(z=60)/Ax>5 (2) Ay(z=60)/Ay>5 (3)(Ax、Ay、Az、Ax(z=60)及Ay(z=60)均為上述光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長下之吸光度，Ax表示沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ay表示沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度，Az表示沿z軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ax(z=60)表示以y軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿x軸方向振動之直線偏光之吸光度，Ay(z=60)表示以x軸為旋轉軸將上述膜旋轉60°時之沿y軸方向振動之直線偏光之吸光度)。
  2. 如請求項1之光吸收異向性膜，其中液晶性化合物形成層列液晶相。
  3. 如請求項1之光吸收異向性膜，其中液晶性化合物形成高次層列液晶相。
  4. 如請求項1之光吸收異向性膜，其於X射線繞射測定中顯示布勒格波峰。
  5. 如請求項1之光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長處於波長500nm~600nm之範圍內。
  6. 如請求項1之光吸收異向性膜，其滿足式(4)及(5)：Ax(z=60)/Ax>10 (4) Ay(z=60)/Ay>10 (5)。
  7. 如請求項1之光吸收異向性膜，其含有極大吸收波長不同之至少三種二色性色素。
  8. 如請求項1之光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜之膜厚為5μm以下。
  9. 一種光學膜，其包括如請求項1至8中任一項之光吸收異向性膜與基材。
  10. 如請求項9之光學膜，其中於基材與光吸收異向性膜之間不含配向膜。
  11. 一種如請求項9之光學膜之製造方法，其依序進行下述(1)~(4)之步驟：(1)於基材上塗佈含有液晶性化合物、二色性色素及溶劑之組合物而形成塗佈膜之步驟；(2)自塗佈膜去除溶劑，形成乾燥膜之步驟；(3)冷卻乾燥膜而呈現液晶相之步驟；及(4)照射活性能量線而使液晶性化合物硬化之步驟。
  12. 如請求項11之製造方法，其中使用長條膜作為基材，連續製造光學膜。
  13. 一種三維光吸收異向性膜，其係積層如請求項1至8中任一項之光吸收異向性膜與水平偏光膜而成者，於將該水平偏光膜之吸收軸設為x'軸，將該水平偏光膜之透射軸設為y'軸，將與x'軸及y'軸正交之軸設為z'軸時，滿足下述式(6)：Ax'>Az'>Ay' (6)(Ax'、Ay'、Az'均為上述光吸收異向性膜中之上述二色性色素之吸收極大波長下之吸光度，Ax'表示沿x'方向振動之直線偏光之吸光度，Ay'表示沿y'方向振動之直線偏光之吸光度，Az'表示沿z'方向振動之直線偏光之吸光度)。
  14. 如請求項13之三維光吸收異向性膜，其中水平偏光膜含有聚乙烯醇及二色性色素。
  15. 如請求項13之三維光吸收異向性膜，其中水平偏光膜含有二色性色素及液晶性化合物或含有具有液晶性之二色性色素。
  16. 如請求項13之三維光吸收異向性膜，其中光吸收異向性膜係經由黏著劑或接著劑而積層於水平偏光膜上。
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