TWI653994B - Plasma generating component - Google Patents

Plasma generating component

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TWI653994B
TWI653994B TW106104580A TW106104580A TWI653994B TW I653994 B TWI653994 B TW I653994B TW 106104580 A TW106104580 A TW 106104580A TW 106104580 A TW106104580 A TW 106104580A TW I653994 B TWI653994 B TW I653994B
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山田慶太郎
伊達和治
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夏普股份有限公司
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Abstract

本發明之電漿產生元件(2)具備:被覆導線(10),其包含導電線(11)及將導電線(11)絕緣被覆之被覆部(12);及導電構件(20),其以至少一部分與被覆部(12)接觸之方式與被覆導線(10)相鄰而配置;導電構件(20)至少具有1個以上之夾持部,該夾持部於與被覆導線(10)之延伸方向交叉之方向上將被覆導線(10)夾住保持,藉由對導電線(10)及導電構件(20)之間施加電壓,而於夾持部附近產生電漿。

Description

電漿產生元件
本發明係關於一種使介電體障壁放電發生而產生電漿之電漿產生元件。本申請案主張基於2016年9月2日提出申請之日本專利申請案即特願2016-171797號之優先權,並引用記載於該日本專利申請案之全部記載內容。
作為揭示有可於包含氮或氧之空氣之環境下且大氣壓下產生電漿之電漿產生元件之文獻,可列舉日本專利第4982851號公報(專利文獻1)。 專利文獻1中所記載之電漿產生元件係藉由將芯線由絕緣層被覆而成之複數根導線扭絞在一起而製成絞線構造而構成,或者藉由製成編入複數根導線而組合而成之編帶構造而構成。 藉由以此方式構成,而於導線彼此所接觸之部分之附近形成微小之間隙。藉由在該狀態下對導線間施加電壓,於該間隙發生介電體障壁放電。其結果為,可產生電漿。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利第4982851號公報
[發明所欲解決之問題] 然而,關於專利文獻1中所揭示之電漿產生元件,需要將複數根導線扭絞在一起或者編入複數根導線,故而構造變得複雜,於生產性之方面存在困難。又,於如1根導線破損般之情形時,需要將構成絞線構造及編帶構造之導線分解並重新編入。 本發明係鑒於如上所述之問題而成者,本發明之目的在於提供一種具有簡易之構成之電漿產生元件。 [解決問題之技術手段] 基於本發明之第1態樣之電漿產生元件具備:被覆導線,其包含導電線及將上述導電線絕緣被覆之被覆部;及導電構件,其以至少一部分與上述被覆部接觸之方式與上述被覆導線相鄰而配置;上述導電構件至少具有1個以上之夾持部,該夾持部於與上述被覆導線之延伸方向交叉之方向上將上述被覆導線夾住保持,藉由對上述導電線及上述導電構件之間施加電壓,而於上述夾持部附近產生電漿。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述導電構件可包含:第1板狀部,其係自上述被覆導線觀察而配置於一側;及第2板狀部,其係自上述被覆導線觀察而配置於另一側。於此情形時,上述第1板狀部較佳為具有與上述被覆導線接觸之第1接觸部,上述第2板狀部較佳為具有與上述被覆導線接觸之第2接觸部。進而,上述夾持部較佳為包含上述第1接觸部及上述第2接觸部。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述第1板狀部及上述第2板狀部可沿著上述被覆導線之上述延伸方向而延伸。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述第1板狀部及上述第2板狀部可為,於自上述第1板狀部、上述被覆導線、及上述第2板狀部排列之方向觀察之情形時,以與上述被覆導線之上述延伸方向交叉之方式延伸。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述第1板狀部可具有第1突條部,該第1突條部自位於抵接於上述被覆導線之主面之相反側的主面,朝向遠離上述被覆導線之方向突出,且沿著上述第1板狀部延伸之方向延伸。又,上述第2板狀部可具有第2突條部,該第2突條部自位於抵接於上述被覆導線之周面之相反側之主面,朝向遠離上述被覆導線之方向突出,且沿著上述第2板狀部延伸之方向延伸。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述第1板狀部及上述第1突條部可包含一個構件,上述第2板狀部及上述第2突條部可包含一個構件。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述導電構件可包含內周側與上述被覆導線接觸之一個或複數個環狀構件。於此情形時,上述夾持部較佳為包含與上述被覆導線接觸之上述環狀構件之內周面。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述導電構件可包含沿著上述被覆導線之上述延伸方向延伸之半筒構件。於此情形時,上述半筒構件較佳為具有以於與上述被覆導線之上述延伸方向交叉之方向上將上述被覆導線夾住之方式彎曲之內周面,上述夾持部較佳為包含與上述被覆導線接觸之部分之上述內周面。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述半筒構件較佳為,於自上述被覆導線之上述延伸方向觀察之情形時,具有U字形狀、V字形狀、或多邊形形狀。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述半筒構件較佳為,於自上述被覆導線之上述延伸方向觀察之情形時,具有由上述內周面之一端側及上述內周面之另一端側所界定之開口面,於此情形時,上述半筒構件較佳為具有防脫部,該防脫部連接於上述內周面之上述一端側及上述內周面之上述另一端側之一者,且沿著上述被覆導線之周面延伸,防止上述被覆導線自上述開口面側脫落。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述導電構件可包含:板狀部,其與上述被覆導線接觸;及一個或複數個捲繞部,其係一端側連結於上述板狀部並且另一端側捲繞於上述被覆導線。於此情形時,上述夾持部較佳為包含與上述被覆導線接觸之部分之上述捲繞部之內周面。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述複數個捲繞部可包含沿著上述被覆導線之上述延伸方向而排列之第1捲繞部及第2捲繞部。於此情形時,較佳為上述第1捲繞部之捲繞方向與上述第2捲繞部之捲繞方向相反。 於上述基於本發明之第1態樣之電漿產生元件中,上述板狀部可具有突條部,該突條部自同與上述被覆導線接觸之主面為相反側之主面,朝向遠離上述被覆導線之方向突出,且沿著上述板狀部延伸之方向延伸。 於基於以本發明為基礎之第2態樣之電漿產生元件中,具備:複數根被覆導線,其包含導電線及將上述導電線絕緣被覆之被覆部,且相互並行地配置;及導電構件,其以至少一部分與上述被覆部接觸之方式與上述複數根被覆導線相鄰而配置;上述導電構件具有複數個夾持部,該夾持部於與上述被覆導線之延伸方向交叉之方向上將上述複數根被覆導線夾住保持,上述導電構件包含:第1導電構件,其係自上述被覆導線觀察而配置於一側;及第2導電構件,其係自上述被覆導線觀察而配置於另一側;上述第1導電構件具有網目形狀,並且具有與上述複數根被覆導線接觸之第1接觸部群,上述第2導電構件具有與上述第1導電構件對應之網目形狀,並且具有與上述複數根被覆導線接觸之第2接觸部群,上述複數個夾持部包含上述第1接觸部群及上述第2接觸部群,藉由對上述導電線及上述導電構件之間施加電壓,而於上述複數個夾持部附近產生電漿。 於上述基於本發明之第2態樣之電漿產生元件中,上述第1導電構件及上述第2導電構件可包含界定呈多邊形狀開口之開口部之複數個邊部。於此情形時,可為,於自上述第1導電構件、上述複數根被覆導線、及上述第2導電構件排列之方向觀察之情形時,上述複數根被覆導線以通過相互相鄰之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 於上述基於本發明之第2態樣之電漿產生元件中,上述第1導電構件及上述第2導電構件可包含界定呈多邊形狀開口之開口部之複數個邊部。於此情形時,可為,於自上述第1導電構件、上述複數根被覆導線、及上述第2導電構件排列之方向觀察之情形時,上述複數根被覆導線以通過相互相對之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 於上述基於本發明之第2態樣之電漿產生元件中,上述第1導電構件可包含相互並行地配置之複數個第1導電體。於此情形時,上述第2導電構件較佳為包含沿著上述複數個第1導電體排列之方向而相互並行地配置之複數個第2導電體。 [發明之效果] 根據本發明,可提供一種具有簡易之構成之電漿產生元件。
以下,參照圖,對本發明之實施形態詳細地進行說明。再者,於以下所示之實施形態中,對於相同或共通之部分,於圖中附上相同之符號,且不重複其說明。 (實施形態1) 圖1係表示實施形態1之電漿產生裝置之概略立體圖。圖2係表示實施形態1之電漿產生元件之剖視圖。參照圖1及圖2,對實施形態1之電漿產生裝置1及電漿產生元件2進行說明。 如圖1所示,實施形態1之電漿產生裝置1具備電漿產生元件2、支持構件30、及高電壓電路50。 如圖1及圖2所示,電漿產生元件2係用以使介電體障壁放電發生而產生電漿之元件。電漿產生元件2具備被覆導線10及導電構件20。 被覆導線10沿著特定之方向延伸。被覆導線10以線狀延伸。被覆導線10包含導電線11及將該導電線11絕緣被覆之被覆部12。於被覆導線10之延伸方向上之被覆導線10之一端側及另一端側,導電線11露出至外部。導電線11包含金屬線。被覆部12例如包含陶瓷、塑膠、鐵氟龍(註冊商標)、及絕緣樹脂構件等。 導電構件20以一部分與被覆部12接觸之方式與被覆導線10相鄰而配置。導電構件20具有夾持部,該夾持部於與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住保持。 導電構件20包含:第1板狀部21,其係自被覆導線10觀察而位於一側;及第2板狀部22,其係自被覆導線10觀察而位於另一側。第1板狀部21及第2板狀部22沿著被覆導線10之延伸方向而延伸。第1板狀部21及第2板狀部22自與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住。第1板狀部21及第2板狀部22例如包含鋁、鋁合金、鐵、及不鏽鋼等鐵合金等之金屬板。 第1板狀部21具有與被覆導線10(更特定而言,為被覆部12)接觸之第1接觸部P1。第1接觸部P1沿著被覆導線10之延伸方向而以直線狀延伸。第2板狀部22具有與被覆導線10(更特定而言,為被覆部12)接觸之第2接觸部P2。第2接觸部P2沿著被覆導線10之延伸方向而以直線狀延伸。 由上述第1接觸部P1及第2接觸部P2構成導電構件20之將被覆導線10夾住保持之夾持部。 支持構件30支持導電構件20。支持構件30防止導電構件20遠離被覆導線10。 支持構件30包含第1支持構件31、及第2支持構件32。第1支持構件31具有第1部分311、第2部分312、及連接部313。 第1部分311具有板狀形狀。第1部分311抵接於第1板狀部21之外表面(與被覆導線10接觸之側的相反側之主面)。第2部分312具有板狀形狀部。第2部分312於特定之方向上遠離第1部分311。第2部分312抵接於第2板狀部22之外表面(與被覆導線10接觸之側的相反側之主面)。連接部313將第1部分311及第2部分312連接。 藉由將第1板狀部21、被覆導線10及第2板狀部22之各一端側插入至第1部分311與第2部分312之間之間隙,而第1部分311將第1板狀部21擠壓至第2板狀部22側,第2部分312將第2板狀部22擠壓至第1板狀部21側。 第2支持構件32具有與第1支持構件31同樣之構成。第2支持構件32具有第1部分321、第2部分322、及連接部323。 藉由將第1板狀部21、被覆導線10及第2板狀部22之各另一端側插入至第1部分321與第2部分322之間之間隙,而第1部分321將第1板狀部21擠壓至第2板狀部22側,第2部分322將第2板狀部22擠壓至第1板狀部21側。 藉由利用第1支持構件31及第2支持構件32於被覆導線10之兩端側將第1板狀部21及第2板狀部22朝向被覆導線10擠壓,可防止第1板狀部21及第2板狀部22遠離被覆導線10。藉此,可使第1板狀部21及第2板狀部22穩定地與被覆導線10接觸。 高電壓電路50由自未圖示之電源供給之電壓使高電壓產生。高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於導電線11。高電壓電路50之另一側藉由配線42而電性連接於導電構件20(第1板狀部21及第2板狀部22)。第1板狀部21及第2板狀部22係並聯連接。 高電壓電路50對導電構件20與導電線11之間施加高頻、高電壓。藉此,使導電構件20與導電線11之間產生電位差。施加至導電構件20與導電線11之間之電壓較佳為交流電壓。 藉由第1板狀部21及第2板狀部22與被覆部12接觸,且由第1接觸部P1及第2接觸部P2構成夾持部,而於夾持部之周圍形成可產生電漿之間隙R(電漿產生部)。 可藉由滿足特定之放電條件而於該間隙R中產生電漿。具體而言,藉由將根據自被覆部12之周面至第1板狀部21之距離、及自被覆部12之周面至第2板狀部22之距離與氣體氛圍壓力(流體壓力)之積而決定之放電起始電壓以上之電壓施加至導電線11與第1板狀部21之間、及導電線11與第2板狀部22之間,而發生介電體障壁放電而產生電漿。 藉由施加交流電壓,並使施加至導電線11與第1板狀部21之間、及導電線11與第2板狀部22之間之電壓之極性反轉,可反覆進行介電體障壁放電。 由於電漿沿著第1接觸部P1及第2接觸部P2,至被覆導線10之延伸方向上之一端側及另一端側而大致均勻地產生,故而可遍及寬廣之範圍而產生電漿。藉此,可高效率地使電漿與處理對象氣體接觸。 藉由一面使電漿產生,一面使空氣等處理對象氣體通過電漿產生裝置1,可進行存在於處理對象氣體中之菌或病毒之不活化、或臭氣等處理對象氣體中所包含之雜質氣體之分解去除。藉此,可淨化處理對象氣體。 如圖1及圖2所示,處理對象氣體之吹送方向可設為與被覆導線10之延伸方向、以及第1板狀部21、被覆導線10、及第2板狀部22排列之方向正交之方向(AR1方向)。藉由沿上述吹送方向吹送處理對象氣體,直接處理對象氣體與上述第1接觸部P1及上述第2接觸部P2碰觸,可使電漿包含於處理對象氣體中。 再者,處理對象氣體之吹送方向可為第1板狀部21、被覆導線10、及第2板狀部22排列之方向,亦可為被覆導線10之延伸方向。於將吹送方向設為第1板狀部21、被覆導線10、及第2板狀部22排列之方向之情形時,藉由使處理對象氣體之一部分沿著周方向而於被覆導線10之周面上流動,可使電漿包含於處理對象氣體中。於將吹送方向設為被覆導線10之延伸方向之情形時,藉由使處理對象氣體之一部分沿著被覆導線10之延伸方向而於被覆導線10之周面上流動,可使電漿包含於處理對象氣體中。 再者,藉由將導電構件20接地,即便於使用者與露出至外部之導電構件20接觸之情形時,亦可確保安全性。 如上所述,實施形態1之電漿產生元件2係藉由利用第1板狀部21及第2板狀部22將被覆導線10夾住而構成,而非將被覆導線彼此扭絞在一起而構成,故而可簡化其構成。隨之,亦可簡化具備電漿產生元件2之電漿產生裝置1之構成。 (實施形態2) 圖3係表示實施形態2之電漿產生裝置之概略立體圖。圖4係表示實施形態2之電漿產生元件之剖視圖。參照圖3及圖4,對實施形態2之電漿產生裝置1A及電漿產生元件2A進行說明。 如圖3所示,實施形態2之電漿產生裝置1A與實施形態1之電漿產生裝置1相比,電漿產生元件2A之構成不同,隨之,支持構件30A之構成不同。關於其他構成,大致相同。 如圖3及圖4所示,電漿產生元件2A係藉由將複數個實施形態1之電漿產生元件2並行地配置而構成。具體而言,電漿產生元件2A具備複數根被覆導線10A、10B、10C、及複數個導電構件20A、20B、20C。 複數根被覆導線10A、10B、10C相互並行地配置。複數根被覆導線10A、10B、10C之各者包含導電線11及將其絕緣被覆之被覆部12。 複數個導電構件20A、20B、20C分別將被覆導線10A、10B、10C夾住保持。藉此,複數個導電構件20A、20B、20C之各者具有夾持被覆導線10A、10B、10C之夾持部。 複數個導電構件20A、20B、20C之各者包含第1板狀部21、及第2板狀部22。包含於複數個導電構件20A、20B、20C中之第1板狀部21及第2板狀部22之各者自複數根被覆導線10A、10B、10C排列之方向將被覆導線10A、10B、10C夾住。 第1板狀部21具有與被覆導線10接觸之第1接觸部P1。第2板狀部22具有與被覆導線10接觸之第2接觸部P2。由該第1接觸部P1及第2接觸部P2構成夾持部。 支持構件30A支持複數個導電構件20A、20B、20C。支持構件30A防止導電構件20A、20B、20C遠離被覆導線10A、10B、10C。 支持構件30A包含第1支持構件31A、第2支持構件32A。第1支持構件31A具有大致長方體之塊形狀。第1支持構件31A具有第1凹部301、第2凹部302、及第3凹部303。第2支持構件32A亦具有與第1支持構件31A同樣之構成。 第1板狀部21、被覆導線10A及第2板狀部22之各一端側被插入至第1支持構件31A之第1凹部301。第1板狀部21、被覆導線10A及第2板狀部22之各另一端側被插入至第2支持構件32A之第1凹部。 第1板狀部21、被覆導線10B及第2板狀部22之各一端側被插入至第1支持構件31A之第2凹部302。第1板狀部21、被覆導線10B及第2板狀部22之各另一端側被插入至第2支持構件32A之第2凹部。 第1板狀部21、被覆導線10C及第2板狀部22之各一端側被插入至第1支持構件31A之第3凹部303。第1板狀部21、被覆導線10C及第2板狀部22之各另一端側被插入至第2支持構件32A之第1凹部。 高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於複數根導電線11。複數根導電線11係並聯連接。高電壓電路50之另一側藉由配線42而電性連接於包含於複數個導電構件20A、20B、20C中之第1板狀部21及第2板狀部22之各者。包含於複數個導電構件20A、20B、20C中之第1板狀部21及第2板狀部22之各者係並聯連接。 藉由利用高電壓電路50對複數根導電線11之各者及複數個導電構件20A、20B、20C分別施加高電壓,而與實施形態1同樣地,自複數個夾持部產生電漿。 再者,如圖3及圖4所示,處理對象氣體之吹送方向可設為與複數根被覆導線排列之方向及被覆導線10之延伸方向正交之方向(AR2方向),亦可設為複數根被覆導線10排列之方向,還可設為與被覆導線10之延伸方向平行之方向。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態2之電漿產生元件2A、及電漿產生裝置1A亦可獲得與實施形態1之電漿產生元件2及電漿產生裝置1大致同樣之效果。 藉由電漿產生元件2A具備複數根被覆導線10A、10B、10C及複數個導電構件20A、20B、20C,與實施形態1相比,可遍及更寬廣之範圍而使處理對象氣體淨化。 (實施形態3) 圖5係表示實施形態3之電漿產生裝置之概略立體圖。圖6係表示實施形態3之電漿產生元件之剖視圖。參照圖5及圖6,對實施形態3之電漿產生裝置1B及電漿產生元件2B進行說明。 如圖5所示,實施形態3之電漿產生裝置1B於與實施形態1之電漿產生裝置1相比之情形時,電漿產生元件2B之導電構件20B1之構成不同。其他構成大致相同。 如圖5及圖6所示,電漿產生元件2B之導電構件20B1包含第1板狀部21B及第2板狀部22B。 第1板狀部21B具有第1突條部23。第1突條部23自位於抵接於被覆導線10之主面21Ba之相反側的主面21Bb,朝向遠離被覆導線10之方向突出。第1突條部23沿著第1板狀部21B之延伸方向而延伸。 第1板狀部21B及第1突條部23包含一個構件。第1板狀部21B及第1突條部23係藉由將具有平板形狀之金屬片彎折而形成。藉此,與由不同之構件構成第1板狀部21B及第1突條部23之情形相比,可省去使不同之構件彼此緊固之工夫,並且可降低製造成本。 第2板狀部22B具有第2突條部24。第2突條部24自位於抵接於被覆導線10之主面22Ba之相反側的主面22Bb,朝向遠離被覆導線10之方向突出。第2突條部24沿著第2板狀部22B之延伸方向而延伸。 第2板狀部22B及第2突條部24包含一個構件。第2板狀部22B及第2突條部24係藉由將具有平板形狀之金屬片彎折而形成。藉此,與由不同之構件構成第2板狀部22B及第2突條部24之情形相比,可省去使不同之構件彼此緊固之工夫,並且可降低製造成本。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態2之電漿產生元件2B及電漿產生裝置1B亦可獲得與實施形態1之電漿產生元件2、電漿產生裝置1大致同樣之效果。 藉由如上所述般設置第1突條部23及第2突條部24,第1板狀部21B及第2板狀部22B之剛性提高。因此,即便於藉由第1支持構件31及第2支持構件32而於被覆導線10之兩端側將第1板狀部21B及第2板狀部22B朝向被覆導線10而擠壓之情形時,亦可抑制第1板狀部21B及第2板狀部22B以第1板狀部21B及第2板狀部22B之中央部遠離被覆導線10之方式彎曲。藉此,可使第1板狀部21B及第2板狀部22B更穩定地與被覆導線10接觸。 其結果為,可沿著第1接觸部P1及第2接觸部P2,至被覆導線10之延伸方向上之一端側及另一端側,更均勻地產生電漿。 再者,如圖5及圖6所示,處理對象氣體之吹送方向可為第1板狀部21B、被覆導線10、及第2板狀部22B排列之方向(AR3方向),亦可為與被覆導線10之延伸方向平行之方向,還可為與第1板狀部21B、被覆導線10、及第2板狀部22B排列之方向以及被覆導線10之延伸方向正交之方向。 (變化例1) 圖7係變化例1之電漿產生元件之剖視圖。參照圖7,對變化例1之電漿產生元件2C進行說明。 如圖7所示,變化例1之電漿產生元件2C於與實施形態3之電漿產生元件2B相比之情形時,導電構件20C1之構成不同。關於其他構成,大致相同。 導電構件20C1於與實施形態3之導電構件20B1相比之情形時,於以下之方面不同:第1突條部23C及第2突條部24C之設置位置不同,並且第1板狀部21B與第1突條部23C包含不同之構件,並且第2板狀部22B與第2突條部24C包含不同之構件。 第1突條部23C設置於第1板狀部21B之大致中央部。第1突條部23C藉由接著或熔接等而緊固於第1板狀部21B。第2突條部24C設置於第2板狀部22B之大致中央部。第2突條部24C藉由接著或熔接等而緊固於第2板狀部22B。 第1突條部23C及第2突條部24C可包含金屬板,亦可包含樹脂構件。 即便於如上所述般構成之情形時,變化例1之電漿產生元件2C及具備其之電漿產生裝置亦可獲得與實施形態3之電漿產生元件2B及電漿產生裝置1B大致同樣之效果。 (實施形態4) 圖8係表示實施形態4之電漿產生裝置之概略立體圖。再者,於圖8中,省略了高電壓電路及配線。圖9係表示實施形態4之電漿產生元件之剖視圖。參照圖8及圖9,對實施形態4之電漿產生裝置1D及電漿產生元件2D進行說明。 如圖8所示,實施形態4之電漿產生裝置1D於與實施形態3之電漿產生裝置1B相比之情形時,電漿產生元件2D之構成不同,隨之,支持構件30D之構成不同。關於其他構成,大致相同。 如圖8及圖9所示,電漿產生元件2D係藉由將實施形態3之電漿產生元件2B1並行地配置而構成。具體而言,電漿產生元件2D具備複數根被覆導線10A、10B、10C、及複數個導電構件20B1、20B2、20B3。 複數根被覆導線10A、10B、10C相互並行地配置。複數根被覆導線10A、10B、10C之各者包含導電線11及將其絕緣被覆之被覆部12。 複數個導電構件20B1、20B2、20B3分別將被覆導線10A、10B、10C夾住保持。藉此,複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者具有夾持被覆導線10A、10B、10C之夾持部。 複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者包含第1板狀部21B、及第2板狀部22B。包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3中之第1板狀部21B及第2板狀部22B之各者自複數根被覆導線10A、10B、10C排列之方向及與複數根被覆導線10A、10B、10C之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10A、10B、10C夾住。 第1板狀部21B具有與被覆導線10接觸之第1接觸部P1。第2板狀部22B具有與被覆導線10接觸之第2接觸部P2。由該第1接觸部P1及第2接觸部P2構成夾持部。 第1板狀部21B具有第1突條部23。第1突條部23係與實施形態3之第1突條部23同樣之構成。第2板狀部22B具有第2突條部24。 支持構件30D支持複數個導電構件20B1、20B2、20B3。支持構件30D防止導電構件20B1、20B2、20B3遠離被覆導線10A、10B、10C。 支持構件30D包含第1支持構件31D、第2支持構件32D。第1支持構件31D具有第1部分311、第2部分312、以及將第1部分311及第2部分312連接之連接部313。 第1部分311具有板狀形狀。第1部分311抵接於包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者中之第1板狀部21B之外表面(與被覆導線10接觸之側的相反側之主面),且將其等朝向第2部分312側擠壓。 於第1部分311設置有複數個切口。複數個切口中插入有包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者中之第1突條部23之一端側。 第2部分312具有板狀形狀部。第2部分312於特定之方向上遠離第1部分311。第2部分312抵接於包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者中之第2板狀部22之外表面(與被覆導線10接觸之側的相反側之主面),且將其等朝向第1部分311側擠壓。 於第2部分312設置有複數個切口。複數個切口中插入有包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3之各者中之第2突條部24之一端側。 藉由將複數根被覆導線10A、10B、10C及複數個導電構件20B1、20B2、20B3之一端側插入至第1部分311與第2部分312之間,第1支持構件31D支持複數根被覆導線10A、10B、10C及複數個導電構件20B1、20B2、20B3之一端側。 第2支持構件32D具有與第1支持構件31D同樣之構成。第2支持構件32D以與第1支持構件31D同樣之狀態,第1支持構件31D支持複數根被覆導線10A、10B、10C及複數個導電構件20B1、20B2、20B3之另一端側。 高電壓電路(未圖示)之一側藉由配線(未圖示)而電性連接於複數根導電線11。複數根導電線11係並聯連接。高電壓電路(未圖示)之另一側藉由配線(未圖示)而電性連接於包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3中之第1板狀部21B及第2板狀部22B之各者。包含於複數個導電構件20B1、20B2、20B3中之第1板狀部21B及第2板狀部22B之各者係並聯連接。 藉由利用上述高電壓電路對複數根導電線11之各者及複數個導電構件20B1、20B2、20B3分別施加高電壓,而與實施形態1同樣地,自複數個夾持部附近產生電漿。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態4之電漿產生元件2D、及電漿產生裝置1D亦可獲得與實施形態3之電漿產生元件2B及電漿產生裝置1B大致同樣之效果。 藉由電漿產生元件2D具備複數根被覆導線10A、10B、10C及複數個導電構件20B1、20B2、20B3,與實施形態1相比,可遍及更寬廣之範圍而使處理對象氣體淨化。 (實施形態5) 圖10係表示實施形態5之電漿產生裝置之概略俯視圖。圖11係表示實施形態5之電漿產生裝置之分解立體圖。圖12係表示實施形態5之電漿產生元件之一部分之剖視圖。參照圖10至圖12,對實施形態5之電漿產生裝置1E及電漿產生元件2E進行說明。 如圖10及圖11所示,實施形態5之電漿產生裝置1E具備電漿產生元件2E、及高電壓電路50。如圖10至圖12所示,電漿產生元件2E具備複數根被覆導線10、及導電構件20E。 複數根被覆導線10相互並行地配置。複數根被覆導線10之各者包含導電線11及將導電線11被覆之被覆部12。 導電構件20E以至少一部分與被覆部12接觸之方式與複數根被覆導線10相鄰而配置。導電構件20E具有複數個夾持部,該夾持部於與被覆導線之延伸方向交叉之方向上將複數根被覆導線10夾住保持。 導電構件20E包含第1導電構件21E及第2導電構件22E。第1導電構件21E係自被覆導線10觀察而配置於一側。第1導電構件21E具有網目形狀。具體而言,其具有複數個具有矩形形狀之開口部呈列狀或行狀排列而成之網目形狀。 第1導電構件21E具有複數個導電體211(第1導電體)及框體215。複數個導電體211相互並行地配置。複數個導電體211例如具有板狀形狀。再者,導電體211之形狀不限定於板狀形狀,亦可為圓柱狀形狀。 於自第1導電構件21E、複數根被覆導線10、及第2導電構件22E排列之方向觀察之情形時(於俯視之情形時),複數個導電體211以與被覆導線10交叉之方式延伸。具體而言,於自第1導電構件21E、複數根被覆導線10、及第2導電構件22E排列之方向觀察之情形時,複數個導電體221於與被覆導線10之延伸方向正交之方向延伸。複數個導電體211由框體215支持。 第2導電構件22E係自被覆導線10觀察而配置於另一側。第2導電構件22E具有網目形狀。具體而言,其具有複數個具有矩形形狀之開口部呈列狀或行狀排列而成之網目形狀。 第2導電構件22E具有複數個導電體221(第2導電體)及框體225。複數個導電體221沿著複數個導電體211排列之方向而相互並行地配置。複數個導電體221例如具有板狀形狀。再者,導電體221之形狀不限定於板狀形狀,亦可為圓柱狀形狀。 於自第1導電構件21E、複數根被覆導線10、及第2導電構件22E排列之方向觀察之情形時,複數個導電體221以與被覆導線10交叉之方式延伸。複數個導電體221沿著與複數個導電體211相同之方向延伸。複數個導電體221由框體225支持。 藉由利用第1導電構件21E及第2導電構件22E將複數根被覆導線10夾住,第1導電構件21E具有與複數根被覆導線10接觸之第1接觸部群,第2導電構件22E具有與複數根被覆導線10接觸之第2接觸部群。 藉由第1導電構件21E之複數個導電體211與複數根被覆導線10接觸,藉由第1接觸部P1形成為矩陣狀,而形成第1接觸部群。藉由第2導電構件22E之複數個導電體221與複數根被覆導線10接觸,藉由第2接觸部P2形成為矩陣狀,而形成第2接觸部群。 由該等第1接觸部群及第2接觸部群構成複數根被覆導線10夾住保持之複數個夾持部。 高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於複數根導電線11。複數根導電線11係並聯連接。高電壓電路50之另一側藉由配線42而電性連接於複數個導電體211及複數個導電體221。複數個導電體211及複數個導電體221係並聯連接。 藉由利用高電壓電路50對複數根導電線11之各者及導電構件20E(更具體而言,第1導電構件21E之複數個導電體211及第2導電構件22E之複數個導電體221)施加高電壓,而與實施形態1同樣地,於複數個夾持部附近產生電漿。 如上所述,實施形態5之電漿產生元件2E係藉由利用具有網目形狀之第1導電構件21E及第2導電構件22E將複數根導電線11夾住而構成,而非將被覆導線彼此扭絞在一起而構成,故而可簡化其構成。隨之,亦可簡化具備電漿產生元件2E之電漿產生裝置1E之構成。 又,藉由電漿產生元件2E具備複數根被覆導線10,與實施形態1相比,可遍及更寬廣之範圍而使處理對象氣體淨化。 再者,處理對象氣體之吹送方向較佳為第1導電構件21E與第2導電性構件22E排列之方向。 (實施形態6) 圖13係表示實施形態6之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖13,對實施形態6之電漿產生元件2F進行說明。 如圖13所示,實施形態6之電漿產生元件2F於與實施形態5之電漿產生元件2E相比之情形時,導電構件20F之構成不同。其他構成大致相同。 導電構件20F包含第1導電構件21F及第2導電構件22F。第1導電構件21F及第2導電構件22F具有複數個具有矩形形狀之開口部以矩陣狀排列而成之網目形狀。 第1導電構件21F具有複數個導電體211、212及框體215。複數個導電體211相互並行地配置。複數個導電體211於俯視之情形時,沿著與複數根被覆導線10之延伸方向平行之方向延伸。複數個導電體212相互並行地配置。複數個導電體212於俯視之情形時,以與複數個導電體211大致正交之方式延伸。複數個導電體211及複數個導電體212由框體215支持。 第2導電構件22F具有複數個導電體221、222及框體225。複數個導電體221相互並行地配置。複數個導電體221於俯視之情形時,沿著與複數根被覆導線10之延伸方向平行之方向延伸。複數個導電體222相互並行地配置。複數個導電體222於俯視之情形時,以與複數個導電體221大致正交之方式延伸。複數個導電體221及複數個導電體222由框體225支持。 第1導電構件21F及第2導電構件22F具有界定呈矩形形狀開口之開口部之複數個邊部231、232、233、234。 複數根被覆導線10被第1導電構件21F及第2導電構件22F夾住。於自第1導電構件21F、複數根被覆導線10、及第2導電構件22F排列之方向觀察之情形時,複數根被覆導線10以通過相互相對之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 具體而言,複數根被覆導線10之各者係與配置於行方向之複數個開口部之各者對應而配置。複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時,於對應之開口部,通過列方向上對向之邊部之中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過界定開口部之複數個邊部231、232、233、234之中相互相對之邊部231、233之中心O1、O2。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態6之電漿產生元件2F亦具有與實施形態5之電漿產生元件2E大致同樣之效果。 藉由複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時通過構成為開口部之邊部之中心,而自所通過之邊部之兩端之頂點部之各者至夾持部之距離相等。藉此,可使電漿於夾持部與邊部交叉之方向大致均勻地產生。進而,複數個夾持部規律準確地排列,整體上亦可使電漿大致均勻地產生。 (實施形態7) 圖14係表示實施形態7之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖14,對實施形態7之電漿產生元件2G進行說明。 如圖14所示,實施形態7之電漿產生元件2G於與實施形態6之電漿產生元件2F相比之情形時,複數根被覆導線10之並行方向不同。關於其他構成,大致相同。 於自第1導電構件21F、複數根被覆導線10、及第2導電構件22F排列之方向觀察之情形時,複數根被覆導線10以通過第1導電構件21F及第2導電構件22F所具有之界定構成網目形狀之開口部之邊部中的、相互相鄰之邊部之中心的方式呈行狀排列而配置。 複數根被覆導線10之各者沿與具有矩形形狀之開口部之對角線平行之方向延伸。複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時,於通過之開口部之各者中,通過相互相鄰之邊部之中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過界定開口部之複數個邊部231、232、233、234中的相互相鄰之邊部231、234之中心O1、O3。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態7之電漿產生元件2F亦具有與實施形態6之電漿產生元件2F大致同樣之效果。 (實施形態8) 圖15係表示實施形態8之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖15,對實施形態8之電漿產生元件2H進行說明。 如圖15所示,實施形態8之電漿產生元件2H於與實施形態5之電漿產生元件2E相比之情形時,導電構件20H之構成(具體而言,第1導電構件21H及第2導電構件22H之形狀)不同。關於其他構成,大致相同。 第1導電構件21H具有複數個導電體211、複數個導電體212、複數個導電體213、及框體215。 複數個導電體211沿著第1方向而延伸。複數個導電體212沿著與第1方向交叉之第2方向而延伸。複數個導電體213沿著與第1方向及第2方向交叉之第3方向而延伸。複數個導電體211、複數個導電體212、及複數個導電體213由框體215支持。 第1導電構件21H係以如下方式構成,藉由複數個導電體211、複數個導電體212、及複數個導電體213,而具有複數個具有三角形狀之開口部於俯視下排列而成之網目形狀。 第2導電構件22H亦具有與第1導電構件21H大致同樣之形狀。第2導電構件22E係以如下方式構成,藉由複數個導電體221、複數個導電體222、及複數個導電體223,而具有複數個具有三角形狀之開口部於俯視下排列而成之網目形狀。 於自第1導電構件21H、複數根被覆導線10、及第2導電構件22H排列之方向觀察之情形時,複數根被覆導線10以通過界定構成三角形狀之網目形狀之開口部之邊部中的相互相鄰之邊部之中心的方式呈行狀排列而配置。 複數根被覆導線10之各者沿如下方向延伸,該方向係與分別沿不同之方向延伸之導電體211、導電體212、及導電體213中的其中一個導電體211之延伸方向平行。複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時,於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之邊部中的由與上述1個導電體211不同之另外2個導電體212、213構成之相互相鄰之邊部的中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過界定開口部之複數個邊部231、232、233中的相互相鄰之邊部232、232之中心O3、O4。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態8之電漿產生元件2H亦具有與實施形態5之電漿產生元件2E大致同樣之效果。 (實施形態9) 圖16係表示實施形態9之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖16,對實施形態9之電漿產生元件2I進行說明。 如圖16所示,實施形態9之電漿產生元件2I於與實施形態8之電漿產生元件2H相比之情形時,複數根被覆導線10之延伸方向不同。關於其他構成,大致相同。 於自第1導電構件21H、複數根被覆導線10、及第2導電構件22H排列之方向觀察之情形時,複數根被覆導線10以通過界定構成三角形狀之網目形狀之開口部之邊部中的相互相鄰之邊部之中心的方式呈行狀排列而配置。 複數根被覆導線10之各者沿如下方向延伸,該方向係與分別沿不同之方向延伸之導電體211、導電體212、及導電體213中的其中一個導電體212之延伸方向平行。複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時,於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之邊部中的由與上述1個導電體212不同之另外2個導電體211、213構成之相互相鄰之邊部的中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過界定開口部之複數個邊部231、232、233中的相互相鄰之邊部231、233之中心O5、O4。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態9之電漿產生元件2I亦具有與實施形態8之電漿產生元件2H大致同樣之效果。 (實施形態10) 圖17係表示實施形態10之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖17,對實施形態10之電漿產生元件2J進行說明。 如圖17所示,實施形態10之電漿產生元件2J於與實施形態5之電漿產生元件2E相比之情形時,導電構件20J之構成(具體而言,第1導電構件21J及第2導電構件22J之形狀)不同。關於其他構成,大致相同。 第1導電構件21J以具有複數個具有六邊形狀之開口部於俯視下排列而成之網目形狀之方式而構成。第2導電構件22J具有與第1導電構件21J大致同樣之形狀。第2導電構件22J以具有複數個具有六邊形狀之開口部於俯視下排列而成之網目形狀之方式而構成。 於自第1導電構件21J、複數根被覆導線10、及第2導電構件22J排列之方向觀察之情形時(於俯視之情形時),複數根被覆導線10以通過界定構成六邊形狀之網目形狀之開口部之邊部中的相互對向之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10沿如下方向延伸,該方向係與界定六邊形狀之開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的其中一組對向之邊部(232、235)排列之方向平行。 複數根被覆導線10之各者於俯視之情形時,通過構成六邊形狀之開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的上述1組對向之邊部(232、235)之中心(O12、O15)。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態10之電漿產生元件2J亦具有與實施形態5之電漿產生元件2E大致同樣之效果。 (實施形態11) 圖18係表示實施形態11之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖18,對實施形態11之電漿產生元件2K進行說明。 如圖18所示,實施形態11之電漿產生元件2K於與實施形態10之電漿產生元件2J相比之情形時,複數根被覆導線10之延伸方向不同。關於其他構成,大致相同。 於自第1導電構件21J、複數根被覆導線10、及第2導電構件22J排列之方向觀察之情形時(於俯視之情形時),複數根被覆導線10以通過界定構成六邊形狀之網目形狀之開口部之邊部中的相互對向之邊部之中心的方式呈行狀排列而配置。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10之各者沿如下方向延伸,該方向係與界定六邊形狀之開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的其中一組對向之邊部(232、235)平行。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10之各者於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的與上述1組對向之邊部(232、235)不同之複數個邊部231、233、234、236中的、在與上述1組對向之邊部(232、235)平行之方向上對向的2組邊部(231、233)、(234、236)之其中一組之中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過在與上述1組對向之邊部(232、235)平行之方向上對向之2組邊部(231、233)、(234、236)中的、對向之邊部(231、233)之中心(O11、O13)。 若著眼於另一根被覆導線,則於俯視之情形時,該被覆導線10通過在與上述1組對向之邊部(232、235)平行之方向上對向之2組邊部(231、233)、(234、236)中的、對向之邊部(234、236)之中心(O14、O16)。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態11之電漿產生元件2K亦具有與實施形態10之電漿產生元件2J同等以上之效果。藉由夾持部之個數增加,可增加電漿產生量。 (實施形態12) 圖19係表示實施形態12之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖19,對實施形態12之電漿產生元件2L進行說明。 如圖19所示,實施形態12之電漿產生元件LK於與實施形態10之電漿產生元件2J相比之情形時,複數根被覆導線10之延伸方向不同。關於其他構成,大致相同。 於自第1導電構件21J、複數根被覆導線10、及第2導電構件22J排列之方向觀察之情形時(於俯視之情形時),複數根被覆導線10以通過界定構成六邊形狀之網目形狀之開口部之邊部中的、相互相鄰之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10沿如下方向延伸,該方向係與界定六邊形狀之開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的、任一組對向之邊部(231、234)排列之方向平行。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10之各者於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的、與上述1組對向之邊部(231、234)不同之複數個邊部231、233、234、236中之2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)之其中一組之中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過上述2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)中的、相互相鄰之邊部(232、233)之中心(O12、O13)。 若著眼於另一根被覆導線,則於俯視之情形時,該被覆導線10通過上述2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)中的、相互相鄰之邊部(235、236)之中心(O15、O16)。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態12之電漿產生元件2L亦具有與實施形態10之電漿產生元件2J大致同樣之效果。 (實施形態13) 圖20係表示實施形態13之電漿產生元件之概略俯視圖。參照圖20,對實施形態13之電漿產生元件2M進行說明。 如圖20所示,實施形態13之電漿產生元件2M於與實施形態10之電漿產生元件2J相比之情形時,複數根被覆導線10之延伸方向不同。關於其他構成,大致相同。 於自第1導電構件21J、複數根被覆導線10、及第2導電構件22J排列之方向觀察之情形時(於俯視之情形時),複數根被覆導線10以通過界定構成六邊形狀之網目形狀之開口部之邊部中的相互相鄰之邊部之中心,並且通過相互對向之邊部之中心之方式呈行狀排列而配置。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10沿如下方向延伸,該方向係與界定六邊形狀之開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的、任一組對向之邊部(231、234)排列之方向平行。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10之一部分於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的上述1組對向之邊部(231、234)之中心(O11、O15)。 於俯視之情形時,複數根被覆導線10之其他部分於通過之開口部之各者中,通過界定開口部之3組對向之邊部(231、234)、(232、235)、(233、236)中的、與上述1組對向之邊部(231、234)不同之複數個邊部231、233、234、236中之2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)之其中一組之中心。 例如,若著眼於複數根被覆導線10之其他部分中之一者,則於俯視之情形時,被著眼之一根被覆導線10通過上述2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)中的、相互相鄰之邊部(232、233)之中心(O12、O13)。 若著眼於複數根被覆導線10之其他部分中之另一根被覆導線,則於俯視之情形時,該被覆導線10通過上述2組相互相鄰之邊部(232、233)、(235、236)中的、相互相鄰之邊部(235、236)之中心(O15、O16)。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態12之電漿產生元件2L亦具有與實施形態10之電漿產生元件2J同等以上之效果。藉由夾持部之個數增加,可增加電漿產生量。 如上述實施形態6至實施形態12之電漿產生元件般,藉由一面適當設計導電構件之開口部之形狀,一面適當改變複數根被覆導線10之並行方向,可適當調整複數個夾持部之個數。藉此,可調整電漿產生量。 (實施形態14) 圖21係表示實施形態14之電漿產生裝置之概略立體圖。圖22係表示實施形態14之電漿產生元件之剖視圖。參照圖21及圖22,對實施形態14之電漿產生裝置1N及電漿產生元件2N進行說明。 如圖21及圖22所示,實施形態14之電漿產生裝置1N於與實施形態1之電漿產生裝置1相比之情形時,電漿產生元件2N之構成(具體而言,導電構件20N之構成)不同。關於其他構成,大致相同。 導電構件20N包含沿著被覆導線10之延伸方向延伸之半筒構件。於自被覆導線10之延伸方向觀察之情形時,導電構件20N具有U字形狀。導電構件20N具有內周面20Na,該內周面以於與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住之方式彎曲。於沿著被覆導線10之延伸方向觀察之情形時,內周面20Na具有大致半橢圓形狀。再者,內周面20Na之形狀並不限定於半橢圓形狀,亦可為半長圓形狀、半軌道形狀、及半卵型形狀等半橢圓體形狀。 內周面20Na具有:第1接觸部P1,其係自被覆導線10觀察而自一側與被覆導線10接觸;及第2接觸部P2,其係自被覆導線10觀察而自另一側與被覆導線10接觸。第1接觸部P1及第2接觸部P2沿著被覆導線10之延伸方向延伸。 藉由第1接觸部P1及第2接觸部P2構成於與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住保持之夾持部。藉由內周面20Na具有如上所述般之形狀,可相當程度地擴大形成於夾持部之附近之電漿產生部之區域。 於自被覆導線10之延伸方向觀察之情形時,導電構件20具有由內周面20Na之一端側及內周面20Na之另一端側所界定之開口面。導電構件20具有防脫部27,該防脫部連接於內周面20Na之一端側及另一端側之一者,防止被覆導線10自上述開口面側脫落。防脫部27係以接近被覆導線10之周面之方式設置。 高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於導電線11。高電壓電路50之另一側藉由配線42而電性連接於導電構件20N。藉由利用高電壓電路50對複數根導電線11及導電構件20N施加高電壓,與實施形態1同樣地,於夾持部附近產生電漿。於此情形時,藉由將導電構件20N接地,即便於使用者與露出至外部之導電構件20接觸之情形時,亦可確保安全性。 如上所述,實施形態14之電漿產生元件2N係藉由利用具有半筒形狀之導電構件20N之內周面Na將被覆導線10夾住而構成,而非將被覆導線彼此扭絞在一起而構成,故而可簡化其構成。隨之,亦可簡化具備電漿產生元件2N之電漿產生裝置1N之構成。 (實施形態15) 圖23係表示實施形態15之電漿產生元件之剖視圖。參照圖23,對實施形態15之電漿產生元件2O進行說明。 如圖23所示,實施形態15之電漿產生元件2O於與實施形態14之電漿產生元件2N相比之情形時,導電構件20O之形狀(更具體而言,內周面20Oa之形狀)不同。 導電構件20O包含沿著被覆導線10之延伸方向延伸之半筒構件。於自被覆導線10之延伸方向觀察之情形時,導電構件20O具有U字形狀。導電構件20O具有內周面20Oa,該內周面以於與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住之方式彎曲。於沿著被覆導線10之延伸方向而觀察之情形時,內周面20Oa具有大致半圓形狀。藉由內周面20Oa具有大致半圓形狀,與實施形態14相比,可相當程度地縮窄形成於夾持部之附近之電漿產生部之區域。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態15之電漿產生元件2O亦可獲得與實施形態14之電漿產生元件2N大致同樣之效果。 (實施形態16) 圖24係表示實施形態16之電漿產生元件之剖視圖。參照圖24,對實施形態16之電漿產生元件2P進行說明。 如圖24所示,實施形態16之電漿產生元件2P於與實施形態14之電漿產生元件2N相比之情形時,導電構件20P之形狀不同。關於其他構成,大致相同。 導電構件20P包含沿著被覆導線10之延伸方向延伸之半筒構件。於自被覆導線10之延伸方向觀察之情形時,導電構件20P具有U字形狀。導電構件20P具有內周面20Pa,該內周面以於與被覆導線10之延伸方向交叉之方向上將被覆導線10夾住之方式彎曲。於沿著被覆導線10之延伸方向而觀察之情形時,內周面20Oa具有V字形狀。藉由內周面20Oa具有大致V字形狀,與實施形態14相比,可使形成於夾持部之附近之電漿產生部之區域大致同等。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態16之電漿產生元件2P亦可獲得與實施形態14之電漿產生元件2N大致同樣之效果。 如上述實施形態14至16之電漿產生元件2P般,可適當改變具有半筒形狀之導電構件20N、20O、20P之形狀,導電構件之加工之自由度增加。較佳為根據加工之難易度,而適當選擇導電性構件。 (實施形態17) 圖25係表示實施形態17之電漿產生裝置之概略立體圖。參照圖25,對實施形態17之電漿產生裝置1Q進行說明。 如圖25所示,實施形態17之電漿產生裝置1Q於與實施形態1之1相比之情形時,電漿產生元件2Q之構成(具體而言,導電構件20Q之構成)不同。關於其他構成,大致相同。 電漿產生元件2Q具備被覆導線10、及複數個導電構件20Q。複數個導電構件20Q係沿著被覆導線10之延伸方向排列而配置。 複數個導電構件20Q之各者包含板狀部21Q及捲繞部28Q。板狀部21Q於俯視之情形時,以與被覆導線10之延伸方向交叉之方式延伸。板狀部21Q係以一個主面與被覆導線10接觸之方式配置。 捲繞部28Q係一端側連結於板狀部21Q並且另一端側捲繞於被覆導線10之狀態。捲繞部28Q將被覆導線10夾住保持。由與被覆導線10接觸之部分之捲繞部28Q之內周面構成夾持部。 圖26係表示實施形態17之導電構件之捲繞前之狀態之概略立體圖。參照圖26,對實施形態17之導電構件20Q之捲繞前之狀態進行說明。 如圖26所示,藉由於導電構件20Q之捲繞前之狀態下於板狀部21Q之一部分設置切痕,可捲繞於被覆導線10之金屬片部28Q1被設置於板狀部21Q。藉由將作為該金屬片部28Q1之自由端之另一端側捲繞於被覆導線10而形成捲繞部28Q。 高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於導電線11。高電壓電路50之另一側藉由配線42而電性連接於複數個導電構件20Q。複數個導電構件20Q係並聯連接。 藉由利用高電壓電路50對導電線11與各導電構件20Q之間施加高電壓,可與實施形態1同樣地,使電漿於夾持部之附近產生。又,亦可使電漿於被覆導線10與板狀部21Q之接觸部之附近產生。於此情形時,藉由將導電構件20Q接地,即便於使用者與露出至外部之導電構件20Q接觸之情形時,亦可確保安全性。 如上所述,實施形態17之電漿產生元件2Q係藉由作為金屬片之板狀部21Q之一部分捲繞於被覆導線10而成之捲繞部28Q而將被覆導線10夾住之構成,而非將被覆導線彼此扭絞在一起之構成,故而可簡化其構成。隨之,亦可簡化具備電漿產生元件2Q之電漿產生裝置1Q之構成。 再者,於實施形態14中,例示了導電構件20Q包含複數個板狀部21Q及複數個捲繞部28Q之情形並進行了說明,但並不限定於此,其亦可包含單個板狀部21Q及單個捲繞部28Q。 (實施形態18) 圖27係表示實施形態18之電漿產生元件之概略立體圖。參照圖27,對實施形態18之電漿產生元件2R進行說明。 如圖27所示,實施形態18之電漿產生元件2R於與實施形態17中所記載之電漿產生元件2Q相比之情形時,導電構件20R之構成不同。關於其他構成,大致相同。 導電構件20R之板狀部21Q具有突條部23R,該突條部自位於與抵接於被覆導線10相反側的主面,朝向遠離被覆導線10之方向突出。突條部23R沿著板狀部21Q之延伸方向而延伸。 板狀部21Q、突條部23R及捲繞部28Q包含一個構件。板狀部21Q及突條部23R係藉由將具有平板形狀之金屬片彎折而形成。藉此,與由不同之構件構成板狀部21Q及突條部23R之情形相比,可省去使不同之構件彼此緊固之工夫,並且可降低製造成本。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態18之電漿產生元件2R亦可獲得與實施形態17之電漿產生元件2Q大致同樣之效果。 藉由如上所述般設置突條部23R,可提高板狀部21Q之剛性。藉此,可提高板狀部21Q與被覆導線10之密接性。其結果為,藉由板狀部21Q遠離被覆導線10,可防止捲繞部28Q之捲繞解開。 (實施形態19) 圖28係表示實施形態19之電漿產生元件之概略立體圖。參照圖28,對實施形態19之電漿產生元件2S進行說明。 如圖28所示,實施形態19之電漿產生元件2S於與實施形態17之電漿產生元件2Q相比之情形時,導電構件20S之構成不同。關於其他構成,大致相同。 導電構件20S包含板狀部21Q、第1捲繞部28S1、及第2捲繞部28S2。第1捲繞部28S1及第2捲繞部28S2沿著被覆導線10之延伸方向而並列。第1捲繞部28S1及第2捲繞部28S2之各者之一端側連接於板狀部21Q,另一端側捲繞於被覆導線10。第1捲繞部28S1及第2捲繞部28S2為相反。藉此,可抑制第1捲繞部28S1及第2捲繞部28S2之捲繞狀態解開。 圖29係表示實施形態19之導電構件之捲繞前之狀態之概略立體圖。參照圖29,對實施形態19之導電構件20S之捲繞前之狀態進行說明。 如圖29所示,於導電構件20S之捲繞前之狀態下,板狀部21Q具有於與延伸方向正交之方向突出之突出部29S。於該突出部29S連結有可捲繞於被覆導線10之金屬片部28S11、28S12。 金屬片部28S11朝向板狀部21Q之延伸方向之一者而延伸。金屬片部28S11朝向板狀部21Q之延伸方向之另一者而延伸。金屬片部28S11及金屬片部28S12沿著突出部29S之突出方向而排列。藉由將作為該金屬片部28S11及金屬片部28S12之各者之自由端之另一端側捲繞於被覆導線10而形成第1捲繞部28S1及第2捲繞部28S2。 即便於如上所述般構成之情形時,實施形態19之電漿產生元件2S亦可獲得與實施形態17之電漿產生元件2Q大致同樣之效果。 再者,於實施形態19中,例示了捲繞部之個數為2個之情形並進行了說明,但並不限定於此,捲繞部之個數可為1個,亦可為3個以上。以此方式,藉由適當調整複數個捲繞部之個數,可調整電漿產生量。 (實施形態20) 圖30係表示實施形態20之電漿產生裝置之概略立體圖。參照圖30,對實施形態20之電漿產生裝置1T進行說明。 如圖30所示,實施形態20之電漿產生裝置1T於與實施形態1之電漿產生裝置1相比之情形時,電漿產生元件2T之構成不同。關於其他構成,大致相同。 電漿產生元件2T具備複數根被覆導線10、及複數個導電構件20T。複數根被覆導線10相互並行地配置。複數個導電構件20T係分別與複數根被覆導線10對應而設置。 複數個導電構件20T之各者包含複數個環狀構件21T。複數個環狀構件21T係沿著被覆導線10之延伸方向排列而配置。複數個環狀構件21T之各者之內周面遍及周方向而與被覆導線10之外周面接觸。 複數個環狀構件21T之各者將被覆導線10夾住保持。由環狀構件21T之內周面構成夾持部,且設置有複數個環狀構件21T,藉此夾持部亦設置有複數個。 複數個環狀構件21T係藉由具有導電性之連接構件60而連接。連接構件60例如具有棒形狀,且沿著被覆導線10之延伸方向而延伸。 高電壓電路50之一側藉由配線41而電性連接於複數根導電線11。複數根導電線11係並聯連接。高電壓電路50之另一側藉由配線42及連接構件60而電性連接於複數個導電構件20T之各者。複數個導電構件20T係並聯連接。 藉由利用高電壓電路50對複數根導電線11之各者與複數個導電構件20T之間分別施加高電壓,與實施形態1同樣地,自複數個夾持部附近產生電漿。 如上所述,實施形態20之電漿產生元件2T係藉由利用複數個環狀構件21T之各者之內周面將被覆導線10夾住而構成,而非將被覆導線彼此扭絞在一起而構成,故而可簡化其構成。隨之,亦可簡化具備電漿產生元件2T之電漿產生裝置1T之構成。 再者,關於電漿產生元件2T,例示了其包含複數根被覆導線10及複數個導電構件20T之情形並進行了說明,但並不限定於此,其亦可包含單個被覆導線10及單個導電構件20T。 再者,於實施形態20中,例示了導電構件20T包含複數個環狀構件21T之情形並進行了說明,但並不限定於此,其亦可包含單個環狀構件。 (實施形態21) 圖31係表示實施形態21之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。圖32係實施形態21之空氣淨化機之後視圖。參照圖31及圖32,對實施形態21之空氣淨化機進行說明。再者,空氣淨化機200係具備電漿產生裝置之電子機器之一例,作為電漿產生裝置,例如使用實施形態2之電漿產生裝置1A。再者,於圖31及圖32中,將包含於電漿產生裝置1A中之複數根被覆導線之各者作為被覆導線10而圖示。 如圖31及圖32所示,空氣淨化機200具備電漿產生裝置1A、設置有吸入口220及吹出口230之本體部210、吹送路徑240及作為吹送部之送風機250。 吸入口220設置於本體部210之背面側。吹出口230設置於本體部210之上方。吹送路徑240設置於本體部210內,將吸入口220及吹出口230連接。於吹送路徑240內設置有送風機250。吹送路徑240之一部分係由送風機250之套管所界定。 送風機250將自吸入口220吸入之空氣朝向吹出口230而吹送。作為送風機250,可採用多葉送風機、橫流風扇等各種送風機。 電漿產生裝置1A配置於吹送路徑240。具體而言,電漿產生裝置1A配置於吸入口220附近之位置、或位於送風機250與吹出口230之間之吹送路徑240。電漿產生裝置1A係以被覆導線10之延伸方向與吹送方向大致正交之方式配置。具體而言,電漿產生裝置1A係以複數根被覆導線10排列而配置之假想平面與吹送方向大致正交之方式配置。再者,電漿產生裝置1A較佳為以吹送之送風之壓力損失變小之方式配置。 藉由以此方式配置電漿產生裝置1A,一面產生電漿一面使空氣通過電漿產生裝置1A,可進行存在於空氣中之菌或病毒之不活化、或臭氣等空氣中所包含之雜質氣體之分解去除。藉此,可淨化自吸入口220吸入之空氣及自吹出口230吹出之空氣。其結果為,可自吹出口230吹出淨化之空氣。 (實施形態22) 圖33係表示實施形態22之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。圖34係實施形態22之空氣淨化機之後視圖。參照圖33及圖34,對實施形態22之空氣淨化機200A進行說明。 如圖33及圖34所示,實施形態22之空氣淨化機200A於與實施形態21之空氣淨化機200相比之情形時,電漿產生裝置1A之設置方向不同。關於其他構成,大致相同。 電漿產生裝置1A配置於吹送路徑240。具體而言,電漿產生裝置1A配置於吸入口220附近之位置、或位於送風機250與吹出口230之間之吹送路徑240。電漿產生裝置1A係以被覆導線10之延伸方向與吹送方向大致平行之方式配置。即便於以此方式配置電漿產生裝置1A之情形時,亦可自吹出口230吹出淨化之空氣。 (實施形態23) 圖35係表示實施形態23之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。圖36係實施形態23之空氣淨化機之後視圖。參照圖35及圖36,對實施形態23之空氣淨化機200B進行說明。 如圖35及圖36所示,實施形態23之空氣淨化機200B於與實施形態21之空氣淨化機200相比之情形時,電漿產生裝置之構成不同。於實施形態23中,作為電漿產生裝置,使用實施形態20之電漿產生裝置1T。 電漿產生裝置1T配置於吹送路徑240。具體而言,電漿產生裝置1T配置於吸入口220附近之位置、或位於送風機250與吹出口230之間之吹送路徑240。電漿產生裝置1T係以被覆導線10之延伸方向與吹送方向大致正交之方式配置。具體而言,電漿產生裝置1T係以複數根被覆導線10排列而配置之假想平面與吹送方向大致正交之方式配置。即便於以此方式配置電漿產生裝置1T之情形時,亦可自吹出口230吹出淨化之空氣。 再者,於實施形態21至23中,對作為電氣機器之一例之空氣淨化機進行了說明,但本發明並不限定於此,除此以外,電氣機器亦可為空調機(空氣調節器,air conditioner)、冷藏機器、吸塵器、加濕器、除濕機等,只要為具有用以在吸入並吹送空氣時使空氣通過電漿產生裝置1A、1T之吹送部之電氣機器即可。 又,於實施形態21至23中,例示了使用實施形態2及實施形態20之電漿產生裝置1A、1T作為電漿產生裝置之情形並進行了說明,但並不限定於此,亦可使用上述實施形態1、3~19及變化例之電漿產生裝置。 以上,對本發明之實施形態進行了說明,但本次所揭示之實施形態於所有方面為例示,並非限制性者。本發明之範圍由申請專利範圍所示,且包含與申請專利範圍均等之意義及範圍內之所有變更。
1‧‧‧電漿產生裝置
1A‧‧‧電漿產生裝置
1B‧‧‧電漿產生裝置
1D‧‧‧電漿產生裝置
1E‧‧‧電漿產生裝置
1N‧‧‧電漿產生裝置
1Q‧‧‧電漿產生裝置
1T‧‧‧電漿產生裝置
2‧‧‧電漿產生元件
2A‧‧‧電漿產生元件
2B‧‧‧電漿產生元件
2B1‧‧‧電漿產生元件
2C‧‧‧電漿產生元件
2D‧‧‧電漿產生元件
2E‧‧‧電漿產生元件
2F‧‧‧電漿產生元件
2G‧‧‧電漿產生元件
2H‧‧‧電漿產生元件
2I‧‧‧電漿產生元件
2J‧‧‧電漿產生元件
2K‧‧‧電漿產生元件
2L‧‧‧電漿產生元件
2M‧‧‧電漿產生元件
2N‧‧‧電漿產生元件
2O‧‧‧電漿產生元件
2P‧‧‧電漿產生元件
2Q‧‧‧電漿產生元件
2R‧‧‧電漿產生元件
2S‧‧‧電漿產生元件
2T‧‧‧電漿產生元件
10‧‧‧被覆導線
10A‧‧‧被覆導線
10B‧‧‧被覆導線
10C‧‧‧被覆導線
11‧‧‧導電線
12‧‧‧被覆部
20‧‧‧導電構件
20A‧‧‧導電構件
20B‧‧‧導電構件
20B1‧‧‧導電構件
20B2‧‧‧導電構件
20B3‧‧‧導電構件
20C‧‧‧導電構件
20C1‧‧‧導電構件
20E‧‧‧導電構件
20F‧‧‧導電構件
20H‧‧‧導電構件
20J‧‧‧導電構件
20N‧‧‧導電構件
20O‧‧‧導電構件
20P‧‧‧導電構件
20Q‧‧‧導電構件
20R‧‧‧導電構件
20S‧‧‧導電構件
20T‧‧‧導電構件
20Na‧‧‧內周面
20Oa‧‧‧內周面
20Pa‧‧‧內周面
21‧‧‧第1板狀部
21B‧‧‧第1板狀部
21Ba‧‧‧主面
21Bb‧‧‧主面
21E‧‧‧第1導電構件
21F‧‧‧第1導電構件
21H‧‧‧第1導電構件
21J‧‧‧第1導電構件
21Q‧‧‧板狀部
21T‧‧‧環狀構件
22‧‧‧第2板狀部
22B‧‧‧第2板狀部
22Ba‧‧‧主面
22Bb‧‧‧主面
22E‧‧‧第2導電構件
22F‧‧‧第2導電構件
22H‧‧‧第2導電構件
22J‧‧‧第2導電構件
23‧‧‧第1突條部
23C‧‧‧第1突條部
23R‧‧‧突條部
24‧‧‧第2突條部
24C‧‧‧第2突條部
27‧‧‧防脫部
28Q‧‧‧捲繞部
28Q1‧‧‧金屬片部
28S11‧‧‧金屬片部
28S12‧‧‧金屬片部
28S1‧‧‧第1捲繞部
28S2‧‧‧第2捲繞部
29S‧‧‧突出部
30‧‧‧支持構件
30A‧‧‧支持構件
30D‧‧‧支持構件
31‧‧‧第1支持構件
31A‧‧‧第1支持構件
31D‧‧‧第1支持構件
32‧‧‧第2支持構件
32A‧‧‧第2支持構件
32D‧‧‧第2支持構件
41‧‧‧配線
42‧‧‧配線
50‧‧‧高電壓電路
60‧‧‧連接構件
200‧‧‧空氣淨化機
200A‧‧‧空氣淨化機
200B‧‧‧空氣淨化機
210‧‧‧本體部
211‧‧‧導電體
212‧‧‧導電體
213‧‧‧導電體
215‧‧‧框體
220‧‧‧吸入口
221‧‧‧導電體
222‧‧‧導電體
223‧‧‧導電體
225‧‧‧框體
230‧‧‧吹出口
231‧‧‧邊部
232‧‧‧邊部
233‧‧‧邊部
234‧‧‧邊部
235‧‧‧邊部
236‧‧‧邊部
240‧‧‧吹送路徑
250‧‧‧送風機
301‧‧‧第1凹部
302‧‧‧第2凹部
303‧‧‧第3凹部
311‧‧‧第1部分
312‧‧‧第2部分
313‧‧‧連接部
321‧‧‧第1部分
322‧‧‧第2部分
323‧‧‧連接部
AR1‧‧‧吹送方向
AR2‧‧‧吹送方向
AR3‧‧‧吹送方向
LK‧‧‧電漿產生元件
O1‧‧‧邊部之中心
O2‧‧‧邊部之中心
O3‧‧‧邊部之中心
O4‧‧‧邊部之中心
O5‧‧‧邊部之中心
O11‧‧‧邊部之中心
O12‧‧‧邊部之中心
O13‧‧‧邊部之中心
O14‧‧‧邊部之中心
O15‧‧‧邊部之中心
O16‧‧‧邊部之中心
P1‧‧‧第1接觸部
P2‧‧‧第2接觸部
R‧‧‧間隙(電漿產生部)
圖1係表示實施形態1之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖2係表示實施形態1之電漿產生元件之剖視圖。 圖3係表示實施形態2之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖4係表示實施形態2之電漿產生元件之剖視圖。 圖5係表示實施形態3之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖6係表示實施形態3之電漿產生元件之剖視圖。 圖7係變化例1之電漿產生元件之剖視圖。 圖8係表示實施形態4之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖9係表示實施形態4之電漿產生元件之剖視圖。 圖10係表示實施形態5之電漿產生裝置之概略俯視圖。 圖11係表示實施形態5之電漿產生裝置之分解立體圖。 圖12係表示實施形態5之電漿產生元件之一部分之剖視圖。 圖13係表示實施形態6之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖14係表示實施形態7之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖15係表示實施形態8之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖16係表示實施形態9之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖17係表示實施形態10之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖18係表示實施形態11之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖19係表示實施形態12之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖20係表示實施形態13之電漿產生元件之概略俯視圖。 圖21係表示實施形態14之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖22係表示實施形態14之電漿產生元件之剖視圖。 圖23係表示實施形態15之電漿產生元件之剖視圖。 圖24係表示實施形態16之電漿產生元件之剖視圖。 圖25係表示實施形態17之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖26係表示實施形態17之導電構件之捲繞前之狀態之概略立體圖。 圖27係表示實施形態18之電漿產生元件之概略立體圖。 圖28係表示實施形態19之電漿產生元件之概略立體圖。 圖29係表示實施形態19之導電構件之捲繞前之狀態之概略立體圖。 圖30係表示實施形態20之電漿產生裝置之概略立體圖。 圖31係表示實施形態21之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。 圖32係實施形態21之空氣淨化機之後視圖。 圖33係表示實施形態22之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。 圖34係實施形態22之空氣淨化機之後視圖。 圖35係表示實施形態23之空氣淨化機之內部構成之剖視圖。 圖36係實施形態23之空氣淨化機之後視圖。

Claims (7)

  1. 一種電漿產生元件,其具備:被覆導線,其包含導電線及將上述導電線絕緣被覆之被覆部;及導電構件,其以至少一部分與上述被覆部接觸之方式與上述被覆導線相鄰而配置;上述導電構件至少具有1個以上之夾持部,該夾持部係於與上述被覆導線之延伸方向交叉之方向上將上述被覆導線夾住保持,藉由對上述導電線及上述導電構件之間施加電壓,而於上述夾持部與上述被覆部之間之周圍產生電漿。
  2. 如請求項1之電漿產生元件,其中上述導電構件包含:第1板狀部,其係自上述被覆導線觀察而配置於一側;及第2板狀部,其係自上述被覆導線觀察而配置於另一側,上述第1板狀部具有與上述被覆導線接觸之第1接觸部,上述第2板狀部具有與上述被覆導線接觸之第2接觸部,上述夾持部包含上述第1接觸部及上述第2接觸部。
  3. 如請求項2之電漿產生元件,其中上述第1板狀部具有第1突條部,該第1突條部係自位於抵接於上述被覆導線之主面之相反側的主面,朝向遠離上述被覆導線之方向突出,且沿著上述第1板狀部延伸之方向延伸,上述第2板狀部具有第2突條部,該第2突條部係自位於抵接於上述被覆導線之周面之相反側之主面,朝向遠離上述被覆導線之方向突出,且沿 著上述第2板狀部延伸之方向延伸。
  4. 如請求項1之電漿產生元件,其中上述導電構件包含內周側與上述被覆導線接觸之一個或複數個環狀構件,上述夾持部包含與上述被覆導線接觸之上述環狀構件之內周面。
  5. 如請求項1之電漿產生元件,其中上述導電構件包含沿著上述被覆導線之上述延伸方向延伸之半筒構件,上述半筒構件具有以於與上述被覆導線之上述延伸方向交叉之方向上將上述被覆導線夾住之方式彎曲之內周面,上述夾持部包含與上述被覆導線接觸之部分之上述內周面。
  6. 如請求項1之電漿產生元件,其中上述導電構件包含:板狀部,其與上述被覆導線接觸;及一個或複數個捲繞部,其係一端側連結於上述板狀部並且另一端側捲繞於上述被覆導線,上述夾持部包含與上述被覆導線接觸之部分之上述捲繞部之內周面。
  7. 一種電漿產生元件,其具備:複數根被覆導線,其包含導電線及將上述導電線絕緣被覆之被覆部,且相互並行地配置;及導電構件,其以至少一部分與上述被覆部接觸之方式與上述複數根被覆導線相鄰而配置; 上述導電構件具有複數個夾持部,該夾持部係於與上述被覆導線之延伸方向交叉之方向上將上述複數根被覆導線夾住保持,上述導電構件包含:第1導電構件,其係自上述被覆導線觀察而配置於一側;及第2導電構件,其係自上述被覆導線觀察而配置於另一側;上述第1導電構件具有網目形狀,並且具有與上述複數根被覆導線接觸之第1接觸部群,上述第2導電構件具有與上述第1導電構件對應之網目形狀,並且具有與上述複數根被覆導線接觸之第2接觸部群,上述複數個夾持部包含上述第1接觸部群及上述第2接觸部群,藉由對上述導電線及上述導電構件之間施加電壓,而於上述複數個夾持部與上述被覆部之間之周圍產生電漿。
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