TWI642507B - 用於雷射處理設備的輻射源及多重光束組合器 - Google Patents

Abstract

茲揭露用於結合放大的輻射光束之設備及方法。光束組合器具有準直光學元件，該準直光學元件經定位以相對於準直光學元件的光學軸之固定的入射角度接收複數個同調輻射光束。分別的入射角度在某些實施例中亦可為不同的。準直光學元件具有校準光束的光學特性。光學特性可為折射或反射，或光學特性可為折射及反射之結合。亦可提供收集光學元件以引導複數個光束至準直光學元件。光束組合器可用於熱處理設備中，以將諸如雷射之兩個以上的同調放大的輻射光束結合至單一光束中。

Description

用於雷射處理設備的輻射源及多重光束組合器

本文所述的實施例係關於半導體裝置的製造。更特定言之，本文所述的實施例係關於用於熱處理的設備及方法。

熱處理在半導體工業中經常實施。半導體基板在許多轉型的情境中遭受熱處理，該等轉型包括閘極源、汲極及通道結構的摻雜、啟動及退火、矽化、結晶、氧化及類似者。經過多年，熱處理的技術已經從單純的烘烤爐發展成越來越迅速地熱處理之各種形式，例如RTP、尖波退火及雷射退火。

傳統雷射退火處理使用可為半導體或固態雷射的雷射發射器，而具有將雷射光對焦、離焦或各自成像成所欲形狀之光學元件。常用之方式為將雷射光成像成線形或薄的矩形影像。雷射光掃描橫跨基板(或基板移動於雷射光之下)以處理基板的全部表面。

隨著裝置的幾何形狀日益減小，諸如熱處理的半導體製造處理受到挑戰需發展更加的精確性。在許多實例中，脈衝雷射處理被發現可降低整體熱預算，且降低於基板處能量暴露的深度及時間。然而，建立具有暫時形狀之雷射脈衝 仍存在挑戰性，該暫時形狀供予所欲的處理性能，而具有對於均勻處理橫跨基板的表面之均勻性的需求。因此，仍持續需要新的設備及方法以用於半導體基板的熱處理。

茲揭露用於結合放大的輻射光束之設備及方法。光束組合器具有準直光學元件，該準直光學元件經定位以相對於準直光學元件的光學軸之固定的入射角度接收複數個同調輻射光束。分別的入射角度在某些實施例中亦可為不同的。準直光學元件具有校準光束的光學特性。光學特性可為折射或反射，或光學特性可為折射及反射之結合。亦可提供收集光學元件以引導複數個光束至準直光學元件。光束組合器可用於熱處理設備中，以將諸如雷射之兩個以上的同調放大的輻射光束結合至單一光束中。

準直光學元件可為刻面反射器，該刻面反射器以該刻面反射器之分別的入射角度接收複數個光束，且沿著共同的光學軸反射光束。光束可沿著非常靠近的路徑反射，使得反射的光束形成結合的光束。準直光學元件可為折射部件，該折射部件接收複數個光束且沿著共同的光學軸折彎光束。折射部件可沿著非常靠近的路徑、部分重疊的路徑，或完全重疊的路徑折彎光束，以形成沿著單一光學路徑傳播的光束。

100‧‧‧設備

102‧‧‧同調輻射發射器

104‧‧‧入射同調光束

106‧‧‧準直光學元件

108‧‧‧結合的光束

110‧‧‧收集光學元件

112‧‧‧反射表面

114‧‧‧中央開口

116‧‧‧目標位置

118‧‧‧反射表面

122‧‧‧出口光學軸

124‧‧‧準直光學元件

126‧‧‧延伸的表面

200‧‧‧同調輻射源

206‧‧‧結合光學元件

208‧‧‧結合的光束

210‧‧‧折射收集光學元件

300‧‧‧同調輻射源

302‧‧‧第一彎曲鏡子

304‧‧‧第二彎曲鏡子

306‧‧‧中央開口

308‧‧‧準直光學元件

310A‧‧‧入射同調光束

310B‧‧‧入射同調光束

312A‧‧‧反射的同調光束

312B‧‧‧反射的同調光束

314A‧‧‧分量光束

314B‧‧‧分量光束

316A‧‧‧校準的分量光束

316B‧‧‧校準的分量光束

316‧‧‧結合的光束

318‧‧‧修正板

因此為了可詳細瞭解本發明上述之特徵的方式，本發明之更特定的說明，如以上簡述之發明內容可參考實施例獲得，而該等實施例中某些實施例係圖示於隨附圖式中。然 而應瞭解，隨附圖式僅圖示本發明的典型實施例，且因此不應將隨附圖式考慮為本發明範疇之限制，因為本發明可承認其他同等有效的實施例。

第1A圖係根據一個實施例的同調輻射源之側視圖。

第1B圖係根據一個實施例，第1A圖的收集光學元件之反射側的軸向視圖。

第1C圖係第1A圖的準直光學元件之側視圖。

第1D圖係根據另一實施例的準直光學元件之側視圖。

第2圖係根據另一實施例的同調輻射源之側視圖。

第3圖係根據另一實施例的同調輻射源之側視圖。

為了幫助理解，盡可能地使用相同的元件符號以代表圖式中共用的相同元件。考慮在一個實施例中所揭露的元件可有益地利用在其他實施例上，而無須具體描繪。

第1A圖係根據一個實施例的同調輻射源100之側視圖。同調輻射源100可為雷射輻射源或非共振放大的同調輻射源。同調輻射源100具有複數個同調輻射發射器102，該等同調輻射發射器102之各者發射同調輻射的入射光束104。各個輻射發射器102可獨立地為雷射源或非共振放大的同調輻射源，例如一連串的光學放大器。各個光束係引導朝向準直光學元件106，該準直光學元件106經定位以接收複數個同調輻射光束104，且輸出實質上單一的輻射光束108，從複數個發射器構成結合的同調輻射光束。準直光學元件106 在某些實施例中為結合光學元件。

準直光學元件106可為反射器、折射器，或反射器及折射器的結合。在第1A圖中，準直光學元件106圖示為反射器，但如以下更詳細地敘述，第2圖包括為折射器的準直光學元件206。準直光學元件106具有相對應於相對於準直光學元件106之同調輻射光束104之入射角的準直光學特性。對於折射器而言，準直光學特性可為相對應於根據司乃耳定律(Snell's law)之入射角的折射率，導致在離開準直光學元件106時，入射光束彎曲成單一光學路徑。對於反射器而言，準直光學特性亦可為反射角度，該反射角度將入射同調光束反射至實質上單一的光學路徑上。在反射準直光學元件的情況中(例如準直光學元件106)，反射器可為鏡子，且反射器可為彎曲的或刻面。如第1A圖所圖示，刻面的鏡子可具有複數個刻面，各個刻面相對應於一個入射同調輻射光束。

入射同調光束104可藉由定位發射器102而引導至準直光學元件106，該等發射器102定位成將發射的光束指向準直光學元件，或如第1A圖中所圖示，可使用收集光學元件110。收集光學元件110亦可為反射性或折射性光學元件。在第1A圖中，收集光學元件110為具有一或更多反射表面112的反射器，該等反射表面112經角度調整以反射入射光束104朝向準直光學元件106。收集光學元件110具有開口114，結合的光束108透過開口114可離開設備100，但開口114並非必要。舉例而言，若第1A圖中的準直光學元件106為折射器，則結合的光束108將從收集光學元件110行進離開設備，因 此將不需要中央開口114。

中央開口114可為任何所欲的尺寸及形狀，且中央開口114在某些實施例中可為用於塑型結合的光束108之孔洞。舉例而言，若矩形光束剖面對於結合的光束108係理想的，則中央開口114可具有矩形的形狀。中央開口114亦可建構成孔洞，以藉由截去結合的光束108之邊緣非均勻性，來改良橫跨光束之能量分佈的均勻性。

第1B圖係根據一個實施例，收集光學元件110的反射側之軸向視圖。第1B圖的收集光學元件110係根據大致方形的幾何形狀配置，以將四個入射同調光束結合成單一結合的光束。四個反射表面112於目標位置116處接收四個入射同調光束，且四個反射表面112將光束反射朝向第1A圖的準直光學元件106(未圖示於第1B圖中)。準直光學元件106將光束104反射朝向收集光學元件110的中央開口114。

在第1A圖及第1B圖中將收集光學元件110圖示且描述為刻面反射器，但在替代實施例中，收集光學元件110可為連續彎曲的反射器，例如彎曲的鏡子，如拋物鏡。收集光學元件110亦可為分散反射器的集合，例如未連接至單一結構或物體的複數個鏡子。在另一實施例中，收集光學元件110可為具有刻面或彎曲表面的環狀反射器或環狀鏡子。

應瞭解可將任何數量的同調光束104使用設備100而結合至結合的光束108。如第1A圖及第1B圖中所圖示，設備100提供光學元件以將四個光學路徑結合成一個光學路徑，但可提供更多或更少數量的光學表面以結合更多或更少 數量的光束。舉例而言，第1B圖的收集光學元件110可配置成藉由對各個入射光束提供反射或折射軌跡(例如目標位置116)，而收集五個、六個、七個或任何隨意數量的光束。彎曲的收集光學元件110立即可適用於收集任何數量的同調光束。

收集光學元件110可配置成實行任何所欲的入射同調光束104之光學轉換。若入射同調光束104為發散的，如具有許多二極體雷射或雷射二極體陣列，收集光學元件110可藉由於目標位置116處提供適當的彎曲反射表面，而校準或聚焦入射同調光束104之各者。若為所欲的，反射表面亦可具有屈光能力，以放大或縮小入射同調光束104。對於諸如固態雷射的較少發散源，反射表面大致為平坦，或實質上平坦的，以維持入射同調光束的線性。一般而言，收集光學元件的反射表面可具有光學能力，以修正或改變入射光束的任何特性，入射光束的特性與傳播方向相關聯，該特性例如焦點、倍率、扭曲及類似者。

第1C圖係第1A圖的準直光學元件106之側視圖。準直光學元件106具有反射刻面118，各個反射刻面經角度調整以入射角度接收同調輻射光束104，且沿著平行於準直光學元件106之光學軸122的光學路徑反射同調輻射光束104，以形成結合的光束108。各個同調光束104因此沿著非常靠近其他同調光束104的平行路徑反射，導致包含側向靠近的次光束之集合的結合的光束108。若入射同調光束104實質上為單一模式光束，例如高斯光束，則結合的光束108將類似於具 有TEM_0n/2類型的橫向模式，其中n為入射同調光束104的數量。若入射同調光束104為多重模式光束，或單一模式及多重模式光束的混合，則結合的光束108將具有並非類似於任何典型可分解單一光束形式的複雜形式。

當具有收集光學元件110時，準直光學元件106可具有光學能力，以將入射光束改變成與傳播方向相關聯的任何所欲的方式。第1C圖的準直光學元件圖示為具有尖的中央，但如所欲的，中央可為平坦或圓的。在第1C圖的實施例中，準直光學元件106的中央不具功能，所以不同的中央形狀將不會改變準直光學元件106的功能。在其他實施例中，準直光學元件106的中央可能具有功能。

結合的收集光學元件110及準直光學元件106可配置成將入射同調光束104定位成任何所欲的關係成為結合的光束108，以產生結合的光束108之所欲形式。由第1A-1C圖之光學元件產生的結合的光束108將大致具有低或可忽略的中央能量密度，因為入射同調光束104被佈署靠近於出口光學軸122的四周，而不具有光束佔據中央。

在替代實施例中，收集光學元件110及準直光學元件106之各者可配置成具有反射表面112/118，該反射表面佈署入射同調光束104之一者至結合的光束108之中央，直接傳播於出口光學軸122上，以產生具有替代形式的結合的光束108。在此實施例中，一個反射表面或(若使用收集光學元件)收集光學元件110的目標位置116係經角度調整，以引導入射同調光束104朝向準直光學元件106的中央，且準直 光學元件106的一個反射表面118延伸橫跨準直光學元件106的中央，且該反射表面118之角度係經調整以於準直光學元件106的中央(於沿著準直光學元件106之中央軸或出口光學軸122的一點處)接收入射同調光束104，且沿著出口光學軸122反射光束。

第1D圖係準直光學元件124的側視圖，該準直光學元件124配置成將入射同調光束104結合成結合的光束108，而在出口光學軸122上具有能量強度最大模式。圖示三個入射同調光束104，其中兩者從與第1C圖的準直光學元件106之反射表面相同的表面118反射，且一者從延伸的表面126反射。延伸的表面126包圍出口光學軸122，相對應至準直光學元件124的中央軸，使得入射同調光束104可引導至出口光學軸122上的目標位置。延伸的表面126具有不同於其他反射表面118的角度，此差異係由入射同調光束104以不同於其他入射同調光束104之入射角度引導而到達準直光學元件124的中央之事實而引起。當具有反射表面118時，延伸的表面126可具有光學能力，在延伸的表面126以任何方式關聯至傳播方向時(例如焦點、倍率，及/或扭曲)，以調整同調光束104入射的特性。

任何適當的反射器可用於準直光學元件106。金屬表面、介電鏡子、布拉格鏡及部分鏡子均可使用。

第2圖係根據另一實施例的同調輻射源200之側視圖。同調輻射源200係在許多方面類似於同調輻射源100，而具有關鍵之差異在於收集光學元件及結合光學元件為折射而 非反射。第2圖的結合光學元件206具有入口表面及出口表面一起將入射同調光束104彎曲成結合的光束208，該結合的光束208類似於第1A-1D圖的結合的光束108。結合的光束208具有準直的分量光束非常靠近於沿著單一光學軸而傳播。結合的光束208之剖面可類似於TEM_0n/2光束，該剖面具有在光學軸上相對較暗的中央而被多個能量最大值波瓣環繞。

入射同調光束104由折射收集光學元件210收集，該折射收集光學元件210將光束折射朝向折射結合光學元件206。折射收集光學元件210及折射結合光學元件206之各者可為單體部件，或諸如透鏡或棱鏡的複數個部件。折射光學元件206及210之各者可為環狀或類環狀，具有固態外部部分及中央開口，各個部件之周圍及中央開口具有任何適宜的形狀，包括圓形、橢圓、方形、三角、多邊形，或不規則形。當具有第1A-1D圖的反射光學元件時，與入射光束104互動的表面可為平坦的、彎曲的、刻面的或上述任意之結合。若為所欲的，可消除折射光學元件210及206之各者或任一者的中央開口。在一個實施例中，折射收集光學元件210及折射結合光學元件206之各者係為透鏡。在折射收集光學元件210為透鏡的實施例中，折射收集光學元件210可具有中央開口，或折射收集光學元件210可具有固態中央而非中央開口。應瞭解將校準的光束(例如雷射光束)投射在或穿過彎曲的表面會產生匯聚或發散效應，若為所欲的，此匯聚或發散效應可使用修正光學元件來修正。

收集光學元件210可藉由將發射器102直接以所欲的入射角度指向結合光學元件206而省略。應瞭解儘管第2圖中僅見到兩個發射器102，可佈置任何數量的發射器與結合光學元件206光學通訊，以產生結合的光束208。如上所述，在第2圖的實施例中，結合的光束208係分量光束的集合，該等分量光束安排成非常靠近共同光學軸而傳播，類似於從單一發射器所發射的高形式同調輻射光束。在使用折射光學元件的替代實施例中，分量光束可佈署在光學軸上，而具有其他分量光束環繞且靠近地傳播。此舉可藉由引導入射光束104通過折射收集光學元件210及折射結合光學元件206之各者的中央開口而達成。以此方式，結合的光束208可具有靠近兩個分量形式的混合光束之剖面能量分佈，一個分量具有TEM₀₀高斯形式且另一者具有TEM_0n/2形式，其中n為非軸向入射同調光束104的數量。

入射同調光束104可經安排，使得作為結合的光束208之分量，各個分量光束的剖面邊緣觸碰至少一個其他分量光束的剖面邊緣。此舉可藉由將折射結合光學元件206定位於與折射收集光學元件210隔開一段距離，使得入射光束104在進入折射結合光學元件206之前收斂成部分重疊的關係。折射結合光學元件206可具有一或更多彎曲的表面，以容納且校準重疊的入射光束，因此可導致結合的光束208中的某些非線性。若為所欲的，由非線性導致結合的光束208之邊緣非均勻性最終可使用孔洞移除。

第3圖係根據另一實施例的同調輻射源300的側視 圖。在第3圖的實施例中，第一彎曲鏡子302作用為收集光學元件，且第二彎曲鏡子304作用為結合光學元件。入射同調光束310A及310B從第一彎曲鏡子302反射，且經反射的同調光束312A及312B傳播朝向第二彎曲鏡子304。經反射的同調光束312A及312B再次藉由第二彎曲鏡子304反射，且分量光束314A及314B傳播通過第一彎曲鏡子302中的中央開口306。分量光束314A及314B藉由準直光學元件308(該準直光學元件可為透鏡)校準，以形成由校準的分量光束316A及316B組成的結合的光束316。各種光學元件的距離及曲率可根據已知的公式調整，以提供所欲的放大或縮小，使得入射同調光束310A及310B可引發與校準的分量光束316A及316B以任何所欲的關係結合。應瞭解儘管第3圖的實施例中顯示兩個入射同調光束310A及310B，但任何數量的入射同調光束可使用第3圖的設備結合。

亦可佈署修正板318於同調輻射源300之入口瞳孔處，或於沿著光學路徑的任何有益位置處，以藉由折射性地調整入射同調光束310A及310B，對結合的光束316施加所欲的調整。修正板318可具有在第一及第二彎曲鏡中彌補任何缺失或不準確之折射特性。修正板318亦可部分地校準入射光束310A及310B，使得準直光學元件308可具有較長的焦距，且仍靠近地校準突現光束316A及316B。佈置在第二彎曲鏡304及準直光學元件308之間的修正板或修正光學元件，可在光束310A及310B到達準直光學元件308之前，部分地校準或散焦光束310A及310B。

應瞭解準直光學元件308可定位與第二彎曲鏡304之焦點相距任何所欲的距離，此距離係由準直光學元件308的焦距所控制。典型地，準直光學元件308經定位使得介於第二彎曲鏡304之焦點及準直光學元件308之間的距離係實質上等於準直光學元件308的焦距，使得入射在準直光學元件308上的輻射光束實質上平行地離開。取決於系統的其他元件之光學特性，可使用短焦距的元件以靠近地校準光束316A及316B。

第1A-3圖中所述的實施例結合各種反射及折射元件以形成光束組合器。如上所述，反射及折射元件可在單一實施例中結合。再者，在某些實施例中，個別光學元件可結合反射及折射構件。如一個實例，布拉格鏡同時具有反射性及折射性，但應理解其他實例。第1C圖的反射準直光學元件106可為稜鏡，且反射表面118可為布拉格鏡或金屬表面。若為所欲的，可藉由將稜鏡的中央點替換成具有傳導性的平坦表面，而可給定此稜鏡之傳導核心。一或更多入射光束可接著被引導沿著光學軸通過稜鏡的中央平坦表面，同時其他入射光束沿著光學軸從刻面118反射，以產生反射及折射構件之結合的光束。

本文所述的所有實施例具有光束的軸向結合之功能。換言之，光學軸或進入之光束的對稱軸實質上平行於離開的結合的光束或光束之光學軸。然而，此方位並非必須。離開的光束或光束可使用諸如鏡子的反射或折射光學元件而轉向至任何所欲的軸。此外，若為所欲的，可發動多重組合 器以從第一複數個光束形成第一結合的光束，且接著將第二複數個光束與第一結合的光束結合，以形成第二結合的光束。如上所述，第一結合的光束可沿著第二光束組合器的光學軸傳播，使用例如第2圖的光束組合器或第3圖的光束組合器(具有小的孔洞形成通過第二彎曲鏡304的中央)，通過第二光束組合器的中央開口。第一結合的光束將傳播通過第二光束組合器，且由第二光束組合器結合的光束將靠近浮現而與第一結合的光束結合。可以此方式發動任何數量的光束組合器。

最後，應瞭解本文所述的反射及折射光學元件之任何適當地結合，可用以將多重同調光束結合成單一光束。當使用折射光學元件時典型所遭遇之功率損失，可在某種程度上藉由使用抗反射塗層而克服，但較佳地將反射光學元件用於低損失高功率應用。然而，折射光學元件具有之優點為可使用折射媒介控制光的傳播。舉例而言，若為所欲的，使用折射光學元件的光束組合器可偏振一或更多分量光束。若為所欲的，藉由提供光束組合器的漫射出口表面，光束可在空間上藉由光束組合器而解相關。舉例而言，結合光學元件206的出口表面可為漫射表面，以在結合的光束208中提供分量光束的空間解相關。

結合的光束108及208之均勻性可藉由使用均質光學元件而改良，例如使用散光器、透鏡陣列、攪模器、降混頻器(decorrelator)及類似者。可施加至諸如光束108及208之結合的光束的均質光學元件的實例，可在美國專利公開號 2009/0032511的第9圖、第10A圖及第10B圖中以及此等圖式的隨附文字中找到。

一般而言，任何數量的入射同調光束可結合成實質上單一光束，該單一光束可藉由引導入射同調光束至結合光學元件而對任何角度同調，該結合光學元件以完全重疊的關係安排光束，使得光束在空間中具有共同位置，或以部分重疊的關係安排光束，或以空間上靠近的非重疊關係安排光束，以便建構單一共同傳播輻射光束。結合光學元件可為反射性或折射性光學元件，且結合光學元件可結合反射及折射構件。此外，在結合第1A-2圖之以上顯示的實例中，準直光學元件可結合一或更多折射構件而耦合至反射構件，以達成各個光束之傳播方向的所欲改變及/或調整結合的光束之其他光學特性。舉例而言，不同偏振可使用於結合光學元件的不同目標位置處之局部折射光學元件而給予個別入射光束，以產生具有複雜偏振模式的結合的光束(亦即，沿著特定軸在橫跨光束之剖面具有變化值的偏振)。在第1C及1D圖的準直光學元件106之實例中，可施加偏振薄膜至反射表面118及126之各者，該偏振薄膜對各個分別的入射同調光束104給予不同的偏振軸，使得結合的光束108於結合的光束108之剖面中的不同位置處具有不同的偏振值。

本文所述的方法及設備之額外的能力為將不同波長的入射同調光束結合成單一多色結合的光束。在此實施例中，以不同波長發射的數個雷射可結合成一個「白光雷射」，產生非單色的集中的輻射能量之高功率線性光束，或甚至為 窄譜。此光束可具有比任何自然放大器本身可發射的光更廣的光譜。

儘管以上針對本發明的實施例，可策劃本發明其他及進一步的實施例而不悖離本發明的基本範疇。

Claims (20)

1. 一種光束組合器，包含：複數個同調輻射源；一準直光學元件，該準直光學元件經定位以從該複數個同調輻射源接收複數個同調光束；一收集光學元件，該收集光學元件經定位以將該複數個同調光束導向該準直光學元件，其中該收集光學元件包含：一彎曲的鏡子，具有一開口形成於其中，其中該準直光學元件透過形成於該彎曲的鏡子中的該開口，從該複數個同調輻射源接收該複數個同調光束；及一修正光學元件，該修正光學元件經定位以減少該等同調光束的扭曲。
2. 如請求項第1項所述之光束組合器，進一步包含一攪模器。
3. 如請求項第1項所述之光束組合器，其中該修正光學元件包含一攪模器。
4. 如請求項第1項所述之光束組合器，其中該準直光學元件為一透鏡。
5. 如請求項第4項所述之光束組合器，其中該透鏡包含具有一折射率的一材料，該折射率以一準直關係相對應於該入射角度。
6. 如請求項第1項所述之光束組合器，其中該準直光學元件為一鏡子。
7. 如請求項第6項所述之光束組合器，其中該鏡子具有一反射角度，該反射角度以一準直關係相對應於該入射角度。
8. 如請求項第7項所述之光束組合器，其中該鏡子為一彎曲的鏡子。
9. 如請求項第7項所述之光束組合器，其中該鏡子為一刻面鏡子。
10. 如請求項第9項所述之光束組合器，進一步包含一聚焦光學元件。
11. 如請求項第1項所述之光束組合器，其中該準直光學元件具有一折射率，該折射率以一準直關係相對應於該入射角度。
12. 如請求項第1項所述之光束組合器，其中該準直光學元件具有一反射角度，該反射角度以一準直關係相對應於該入射角度。
13. 一種輻射源，包含：一光束組合器，該光束組合器包含：一準直光學元件，其中該準直光學元件包含一透鏡或一鏡子一收集光學元件，經定位以引導一或更多輻射光束至該準直光學元件，該收集光學元件包含具有一開口形成於其中的一彎曲的鏡子，其中該準直光學元件透過形成於該彎曲的鏡子中的該開口接收該一或更多輻射光束；及一攪模器；及至少兩個同調輻射發射器，各個輻射發射器經布置以發射一輻射光束朝向該光束組合器，其中該光束組合器經布置以接收該等輻射光束且發射一結合的輻射光束。
14. 如請求項第13項所述之輻射源，進一步包含：一修正光學元件。
15. 如請求項第13項所述之輻射源，其中該各個光束相對於該準直光學元件之一光學軸以相同的入射角度接收。
16. 一種輻射源，包含：一光束組合器，該光束組合器包含：一準直光學元件一收集光學元件，經定位以引導一或更多輻射光束至該準直光學元件，該收集光學元件包含具有一開口形成 於其中的一彎曲的鏡子，其中該準直光學元件透過形成於該彎曲的鏡子中的該開口接收該一或更多輻射光束；及一修正光學元件；二或更多個同調輻射發射器，各個輻射發射器經布置以發射一輻射光束朝向該光束組合器，其中該光束組合器經布置以接收該等同調輻射光束且發射一結合的輻射光束；及一攪模器。
17. 如請求項第16項所述之輻射源，其中該各個光束相對於該準直光學元件之一光學軸以相同的入射角度接收。
18. 如請求項第16項所述之輻射源，其中該準直光學元件為一鏡子。
19. 如請求項第16項所述之輻射源，其中該準直光學元件為一透鏡。
20. 如請求項第16項所述之雷射源，其中至少兩個該等同調輻射發射器發射具有不同波長的輻射。