TWI637144B - 用於決定實質上圓柱狀鏡面反射表面的形狀之方法 - Google Patents

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蘇奇尼可拉斯里恩
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Abstract

一種用於決定一實質圓柱狀鏡面反射表面之一形狀的方法，包括獲得校準資料的步驟及獲得關於一目標結構之目標資料的步驟。該方法進一步包括從該目標資料定義一目標線的步驟及捕捉該鏡面反射表面中之該目標結構之一反射影像的步驟，其中該目標線代表該目標結構的一特徵。該方法進一步包括從該反射影像獲得反射資料的步驟及從該反射資料定義一反射線的步驟，其中該反射線代表該目標結構之該特徵的一反射。該方法亦包括決定該目標線及該反射線間之一對應關係且使用該對應關係及該校準資料來決定該鏡面反射表面之該形狀的步驟。

Description

用於決定實質上圓柱狀鏡面反射表面的形狀之方法
本發明大致關於用於決定形狀的方法，且更特定而言，是關於用於決定實質圓柱狀鏡面反射表面之形狀的方法。
【優先權】
此申請案依據專利法，主張於2013年11月25日所提交序號第61/908,277號之美國臨時申請案的優先權權益，其整體內容係以引用方式依附及併入本文中。
玻璃製造裝置通常用以形成可分離成玻璃片的玻璃扁帶。在某些應用中，可能存在決定與玻璃扁帶、玻璃片或其他玻璃構件相關聯之形狀的需要。
為了提供詳細描述中所述之某些示例態樣的基本瞭解，以下呈現本揭露的簡化概要。
在本揭露的第一態樣中，一種用於決定一實質圓柱狀鏡面反射表面之一形狀的方法包括以下步驟：(I)獲得校準 資料及(II)獲得關於一目標結構的目標資料。該方法進一步包括以下步驟：(III)從該目標資料定義一目標線，其中該目標線代表該目標結構的一特徵及(IV)捕捉該鏡面反射表面中之該目標結構的一反射影像。該方法進一步包括以下步驟：(V)從該反射影像獲得反射資料及(VI)從該反射資料定義一反射線，其中該反射線代表該目標結構之該特徵的一反射。該方法亦包括以下步驟：(VII)決定該目標線及該反射線間的一對應關係及(VIII)使用該對應關係及該校準資料來決定該鏡面反射表面的該形狀。
在第一態樣的一個示例中，步驟(VIII)包括執行一形狀還原演算法。
在第一態樣的另一示例中，步驟(III)包括從該目標資料對於複數個資料點執行一回歸分析，其中該等複數個資料點係關於該目標結構的該特徵。
又在第一態樣的另一示例中，步驟(VI)包括從該反射資料對於複數個資料點執行一回歸分析，其中該等複數個資料點係關於該目標結構之該特徵的該反射。
又在第一態樣的另一示例中，該目標結構的該特徵係該目標結構的一邊緣。
又在該第一態樣的另一示例中，該鏡面反射表面沿一平面延伸，且該目標結構的該特徵係實質平行於該平面。
又在第一態樣的另一示例中，該鏡面反射表面沿一平面延伸，且該目標結構的該特徵係實質垂直於該平面。
又在第一態樣的另一示例中，該鏡面反射表面包括 一片材料的一主要表面。
又在第一態樣的另一示例中，該形狀近似該鏡面反射表面的一截形(cross-profile)。
又在第一態樣的另一示例中，該方法進一步包括以下步驟：決定該鏡面反射表面的複數個形狀，其中各形狀近似該鏡面反射表面的一截形。例如，該方法進一步包括以下步驟：基於該等複數個形狀來近似該鏡面反射表面的一表面外形。
可單獨地或結合以上討論之第一態樣之示例中之一者或任何組合來提供第一態樣。
在本揭露的第二態樣中，一種決定以一定量之熔化玻璃所拉製之一玻璃扁帶之一形狀的方法，包括以下步驟：(I)獲得校準資料及(II)獲得關於一目標結構的目標資料。該方法進一步包括以下步驟：(III)從該目標資料定義一目標線，其中該目標線代表該目標結構的一特徵，及(IV)捕捉該玻璃扁帶中之該目標結構的一反射影像。該方法進一步包括以下步驟：(V)從該反射影像獲得反射資料，及(VI)從該反射資料定義一反射線，其中該反射線代表該目標結構之該特徵的一反射。該方法亦包括以下步驟：(VII)決定該目標線及該反射線間的一對應關係，及(VIII)使用該對應關係及該校準資料來決定該玻璃扁帶的該形狀。
在第二態樣的一個示例中，步驟(VIII)包括執行一形狀還原演算法。
在第二態樣的另一示例中，步驟(III)包括從該目標 資料對於複數個資料點執行一回歸分析，其中該等資料點係關於該目標結構的該特徵。
又在第二態樣的另一示例中，步驟(VI)包括從該反射資料對於複數個資料點執行一回歸分析，其中該等複數個資料點係關於該目標結構之該特徵的該反射。
又在第二態樣的另一示例中，該玻璃扁帶係以一拉製方向連續移動。
又在第二態樣的另一示例中，該形狀係用以控制一玻璃形成程序的上游參數。
又在第二態樣的另一示例中，該形狀係用以控制一下游程序的參數。
又在第二態樣的另一示例中，該形狀係用以控制一玻璃形成程序的上游參數及一下游程序的參數。
又在第二態樣的另一示例中，該形狀係用以決定該玻璃扁帶的一特質(attribute)，且其中係基於該特質來分類該玻璃扁帶的一品質。
可單獨地或結合以上所討論之第二態樣之示例中之一者或任何組合提供第二態樣。
10a‧‧‧圓柱狀表面
10b‧‧‧圓柱狀表面
10c‧‧‧圓柱狀表面
11‧‧‧平行線
12‧‧‧曲線
13‧‧‧直線
14‧‧‧準線
15a‧‧‧起始準線
15b‧‧‧結束準線
16‧‧‧方向
20‧‧‧鏡面反射表面
21‧‧‧平面
23‧‧‧表面法線
24‧‧‧邊緣
26‧‧‧面
30‧‧‧目標結構
31‧‧‧目標結構
35‧‧‧特徵
36‧‧‧特徵
36’‧‧‧特徵
40‧‧‧目標線
41‧‧‧目標資料
45‧‧‧寬度
46‧‧‧距離
47‧‧‧高度
48‧‧‧高度
50‧‧‧反射影像
51‧‧‧影像捕捉裝置
52‧‧‧電腦
54‧‧‧距離
55‧‧‧反射資料
56‧‧‧距離
57‧‧‧高度
58‧‧‧高度
59‧‧‧角度
60‧‧‧反射線
70‧‧‧截形
71‧‧‧曲線
72‧‧‧複數個形狀
73‧‧‧形狀
74‧‧‧表面外形
75‧‧‧平面
77‧‧‧整個表面外形
101‧‧‧熔融拉製裝置
103‧‧‧玻璃扁帶
104‧‧‧玻璃片
105‧‧‧熔化容器
107‧‧‧批料材料
109‧‧‧儲存槽
111‧‧‧批料供應裝置
113‧‧‧馬達
115‧‧‧控制器
117‧‧‧箭頭
119‧‧‧玻璃金屬探針
121‧‧‧玻璃熔化物
123‧‧‧豎管
125‧‧‧通訊線
127‧‧‧精製容器
129‧‧‧第一連接導管
131‧‧‧混合容器
133‧‧‧供應容器
135‧‧‧第二連接導管
137‧‧‧第三連接導管
139‧‧‧下降管
141‧‧‧入口
143‧‧‧形成容器
201‧‧‧形成楔
207‧‧‧表面部分
209‧‧‧表面部分
211‧‧‧拉製方向
213‧‧‧根部
215‧‧‧拉製平面
300‧‧‧系統
301‧‧‧上游參數
302‧‧‧下游程序
323‧‧‧表面法線
324‧‧‧玻璃扁帶的邊緣
326‧‧‧面
330‧‧‧目標結構
331‧‧‧目標結構
335‧‧‧特徵
336‧‧‧特徵
336’‧‧‧特徵
340‧‧‧目標線
341‧‧‧目標資料
345‧‧‧寬度
346‧‧‧距離
347‧‧‧高度
348‧‧‧高度
350‧‧‧反射影像
351‧‧‧影像捕捉裝置
352‧‧‧電腦
354‧‧‧距離
355‧‧‧反射資料
356‧‧‧距離
357‧‧‧高度
358‧‧‧高度
359‧‧‧角度
360‧‧‧反射線
500‧‧‧方法步驟
501‧‧‧步驟
502‧‧‧步驟
503‧‧‧步驟
504‧‧‧步驟
505‧‧‧步驟
506‧‧‧步驟
507‧‧‧步驟
508‧‧‧步驟
當參照隨附的繪圖來閱讀以下詳細描述時，係更佳地瞭解這些的及其他的態樣，在該等繪圖中：圖1繪示示例圓柱狀表面；圖2繪示另一示例圓柱狀表面；圖3又繪示另一示例圓柱狀表面； 圖4繪示示例配置的頂視圖，其中目標結構的特徵係實質平行於鏡面反射表面；圖5繪示圖4之配置的側視圖；圖6繪示圖4之配置的透視圖；圖7繪示另一示例配置的頂視圖，其中目標結構的特徵係實質垂直於鏡面反射表面；圖8繪示圖7之配置的側視圖；圖9繪示圖7之配置的透視圖；圖10繪示示例方法，包括以下步驟：獲得關於目標結構之目標資料，自目標資料定義目標線，在鏡面反射表面中捕捉目標結構的反射影像，自反射影像獲得反射資料，及自反射資料定義反射線；圖11繪示可自本方法決定之鏡面反射表面的示例形狀；圖12繪示可自本方法決定之鏡面反射表面的其他示例形狀；圖13繪示本方法步驟的示例流程圖；圖14係用於產生玻璃扁帶之示例裝置的示意圖；圖15係沿圖14之線2-2之裝置的放大部分透視截面圖，繪示示例方法，其中目標結構的特徵係實質平行於玻璃扁帶；圖16係沿圖14之線2-2之裝置的放大部分透視截面圖，繪示示例方法，其中目標結構的特徵係實質垂直於玻璃扁帶； 圖17繪示示例方法，包括以下步驟：獲得關於目標結構的目標資料，自目標資料定義目標線，捕捉玻璃扁帶中之目標結構的反射影像，自反射影像獲得反射資料，及自反射資料定義反射線；及圖18繪示示例方法，包括一或更多個目標結構。
現將參照隨附的繪圖於下文中更完全地描述示例，示例實施例係圖示於該等繪圖中。當可能時，相同的參考標號係用於繪圖各處以指相同的或類似的部分。然而，可以許多不同的形式來實施態樣，且態樣不應被建構為對本文中所闡述之實施例的限制。
本揭露的態樣包括用於決定形狀的方法，且更特定而言，是用於決定實質圓柱狀鏡面反射表面之形狀的方法。鏡面反射表面可展現特性，其中入射光束係相對於表面法線以相同角度反射。例如，入射角相等於反射角。進一步地，入射光束、反射光束及表面法線可全位於相同平面內。偏折儀(deflectometry)的原理，且更具體而言是反射儀(reflectometry)的原理，可用以從扭曲來決定鏡面反射表面的形狀或從鏡面反射來決定鏡面反射表面的形狀。例如，給定已知幾何形狀的結構，吾人可使用鏡面反射表面中那結構的扭曲反射來推斷產生該扭曲反射之鏡面反射表面的幾何屬性。結構的反射可因為各種理由而扭曲，包括由於表面中的曲度、缺陷、畸形或不規則部分。藉由分析反射及例如決定已知幾何形狀之結構特徵及鏡面反射表面中已知幾何形狀之 結構特徵之相對應反射之間的對應關係，吾人可逆運算或還原遵循該對應關係的表面形狀。此形狀可用於任何數量的應用、控制或運算，舉例而言例如用以模擬或近似實際鏡面反射表面的三度外形。
圖1-3繪示圓柱狀表面的示例。圖1繪示示例圓柱狀表面10a，由一系列通過曲線12的平行線11所定義。圖2繪示另一示例圓柱狀表面10b，其可藉由沿稱為準線14之曲線來移動直線13所定義。又在另一示例中，圖3繪示圓柱狀表面10c，其可藉由以方向16投射起始準線15a，使得起始準線15a係平行於結束準線15b所定義。本文中所提供的方法可用以決定實質圓柱狀鏡面反射表面的形狀。例如，可決定滿足圓柱狀表面之數學或理論特性或稍微自圓柱狀表面之數學或理論特性偏離的表面形狀。在一個示例中，實質圓柱狀鏡面反射表面可包括材料扁帶或材料片(例如自材料扁帶分割的材料片)的主要表面。例如，實質圓柱狀鏡面反射表面可包括玻璃扁帶或玻璃片(例如自玻璃扁帶分割的玻璃片)的主要表面。在進一步的示例中，實質圓柱狀鏡面反射表面可包括光纖或其他物體的外周邊表面。
凡物體包括實質圓柱狀鏡面反射表面，本方法可用以決定實質圓柱狀鏡面反射表面的形狀以及具有實質圓柱狀鏡面反射表面之物體的形狀。為了示例性的目的，在下文中，當指實質圓柱狀鏡面反射表面時，要瞭解的是，這樣的表面可以獨立表面的形式存在或可以物體表面的形式存在。本文中所提供的方法如所指出的，可用以決定這樣表面的形狀及/ 或具有這樣表面之物體的形狀。
本方法包括獲得校準資料的步驟。可以各種方式獲得校準資料，包括直接或間接將資料編碼進電腦、使用偵測裝置來觀察資料、使用感測器來測量資料或捕捉包含校準資料可自以抽取之資料的影像。校準資料的示例包括代表用於本方法中或由本方法所使用之系統、元件或結構中之任何者之特性或多個特性的座標或其他資訊。例如，校準資料可包括系統元件的空間位置(例如攝影機、透鏡或焦點的空間位置)、關於鏡面反射表面、目標結構及其相關聯的特徵的資訊或任何其他參數、初始條件或與其相關聯的資料。在另一示例中，校準資料可包括可用以決定及定義各種系統元件、結構及變數之間的空間位置或關係的參考點或座標。可例如透過轉換矩陣或其他數學運算來將校準資料從真實空間中的三度座標轉換成二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於校準資料上的進一步分析、操控及/或運算而操控、結合、分析或處理校準資料。
本方法進一步包括獲得關於目標結構之目標資料的步驟。可以各種方式獲得目標資料，包括直接或間接將資料編碼進電腦、使用偵測裝置來觀察資料、使用感測器來測量資料或捕捉包含目標資料可自以抽取之資料的影像。目標資料的示例包括代表關於目標結構及/或其相關聯特徵之空間位置或其他參考特性的座標，以及涉及目標結構的任何其他資訊。例如，目標資料可包括可用以定義及決定目標結構及/或其相關聯特徵及各種系統元件、結構及變數之間的任何數量 的特性或關係的參考點。又進一步地，可透過轉換矩陣或其他數學運算來將這些參考點自真實空間中的三度座標轉換至二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於目標資料上的進一步分析、操控及/或運算而操控、結合、分析或處理目標資料。
如圖4-6中所示，鏡面反射表面20可沿平面21延伸且目標結構30的特徵35可實質平行於平面21。在另一示例中，如圖7-9中所示，鏡面反射表面20可沿平面21延伸，且目標結構31的特徵36可實質垂直於平面21。目標結構30、31可包括一或複數個幾何形狀、形狀、結構或尺寸中之任何者，包括與其相關聯之複數個特徵或特性中的任何者。可以各種材料中之任何者來建構目標結構。在一個示例中，可使用具有用於各種環境中之需要屬性的材料或多種材料來建構目標結構。在進一步的示例中，可獨立地照明或依賴性地由光源來照明目標結構。又在進一步的示例中，目標結構可例如以下列方式而為動態的：結構可包括時間上在任何瞬時可自動地抑或手動地改變、操控或控制的特徵或特性。
在圖4-6中所示的示例中(其中目標結構30的特徵35係實質平行於鏡面反射表面20)，目標結構的特徵35可沿鏡面反射表面20的寬度45且自鏡面反射表面20以距離46實質平行於鏡面反射表面20地延伸。目標結構30之實質平行的特徵35亦可沿鏡面反射表面20的高度48以高度47安置。
如圖7-9的示例中所示，目標結構31的特徵36可 自鏡面反射表面的邊緣24以距離54且自鏡面反射表面20的面26以距離56實質垂直於鏡面反射表面20地延伸。目標結構31之實質垂直的特徵36亦可沿鏡面反射表面20的高度58以高度57安置。又在進一步的示例中，目標結構31之實質垂直的特徵36'相對於鏡面反射表面20的表面法線23可為角度59。
如圖10中所示，本方法進一步包括從目標資料41定義目標線40的步驟，其中目標線40代表目標結構30的特徵35。目標結構30的特徵35可為目標結構30的任何特徵或特性。在一個示例中，目標結構的特徵35可為目標結構30的邊緣。例如，凡目標結構30係幾何形狀(如圖10中所示)，目標結構30的特徵35可為幾何形狀的邊緣。目標結構30的特徵35可存在於目標結構上的任何位置，且可相對於鏡面反射表面20以各種角度及/或各種方向延伸。
已知的邊緣尋找技術例如可用以數學性地定義相對應於目標結構之邊緣或其他特徵或特性的資料點。各種數學技術已被熟知且可用以從目標資料定義目標線。在一個示例中，此步驟可包括從目標資料對於複數個資料點執行回歸分析，其中複數個資料點可關於目標結構的特徵。從這些資料點，可使用任何的回歸分析方法或其他數學技術來決定目標線。
如圖10中所示，本方法進一步包括捕捉鏡面反射表面20中之目標結構30之反射影像50的步驟。可使用影像捕捉裝置51(包括攝影機或其他影像或視訊記錄裝置)來捕捉 反射影像50。一旦被捕捉，反射影像50可被分析或傳送至電腦52，包含於影像內的資料可藉由電腦52來抽取、處理及/或分析。
亦如圖10中所示，本方法進一步包括從反射影像50獲得反射資料55的步驟。可以各種方式獲得反射資料55，包括抽取、處理及/或分析反射影像50以獲得反射資料55。反射資料55的示例包括代表關於目標結構及/或其相關聯之反射特徵之反射影像50之空間位置或其他參考特性的座標，以及涉及反射影像50的任何其他資訊。例如，反射資料55可包括參考點，其可用以定義及決定目標結構及/或其相關聯之反射特徵之反射影像50及各種系統元件、結構及變數之間的任何數量的特性或關係。更進一步地，可透過轉換矩陣或其他數學運算將這些參考點從真實空間中的三度座標轉換至二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於反射資料55上的進一步分析、操控及/或運算而操控、結合、分析或處理反射資料55。
亦如圖10中所示，本方法進一步包括從反射資料55定義反射線60的步驟，其中反射線60代表目標結構30之特徵35的反射。如所指出的，目標結構30的特徵35可為目標結構30的任何特徵或特性。如此，目標結構30之特徵35的反射可為目標結構30之特徵或特性的任何相對應反射。在一個示例中，如所指出的，目標結構30的特徵35可為目標結構30的邊緣。因此，目標結構特徵的反射可為由反射線60所代表之目標結構邊緣的相對應反射，該反射線60 係定義自從反射影像50所抽取的反射資料55。例如，凡目標結構係幾何形狀，目標結構的特徵可為幾何形狀的邊緣，且特徵的反射可為幾何形狀之邊緣的相對應反射。
已知的邊緣尋找技術例如可用以數學性地定義相對應於目標結構之邊緣或其他特徵或特性之反射的資料點。各種數學技術係已知且可用以從反射資料定義反射線。在一個示例中，此步驟可包括從反射資料對於複數個資料點執行回歸分析，其中複數個資料點可關於目標結構之特徵的反射。從這些資料點，可使用任何的回歸分析方法或其他數學技術來決定反射線。
本方法進一步包括決定目標線40及反射線60之間的對應關係的步驟。對應關係例如可包括全部或部分的目標線40及全部或部分的反射線60之間的比較、相關性或任何其他關係或多個關係。例如，可分析目標線40。在另一示例中，可分析反射線60。又在另一示例中，可分析目標線40及反射線60。可由各種技術中的任何者(包括電腦化或人工程序、數學運算或任何其他運算方式)來決定對應關係。在一個示例中，對應關係可包括比較於得自目標結構30之目標資料41的目標線40，來從反射影像50中的反射資料55決定反射線60的扭曲。
方法進一步包括使用對應關係及校準資料來決定鏡面反射表面20之形狀的步驟。在示例中，可使用全部或部分的對應關係。在另一示例中，可使用全部或部分的校準資料。又在另一示例中，可使用全部或部分的對應關係，且可使用 全部或部分的校準資料。此步驟例如可包括執行形狀還原演算法。形狀還原演算法可使用任何資料來決定鏡面反射表面20的形狀。例如，鏡面反射表面20的形狀可藉由基於對應關係及校準資料，來回復、還原、逆運算或要不就是推斷會產生經捕捉之目標結構30之反射影像50之鏡面反射表面的輪廓或外形來決定。
如圖11中所示，在一個示例中，形狀可近似鏡面反射表面20的截形(cross-profile)70。截形70例如可為平面75處之鏡面反射表面的截面，其中平面75相交鏡面反射表面20。在另一示例中，凡具有鏡面反射表面的物體是薄的、具有實質小於其長度及寬度的厚度，截形70可被近似為位於平面75內的線或曲線71，其中平面75相交鏡面反射表面20。又在另一示例中，方法可進一步包括決定鏡面反射表面20之複數個形狀72的步驟。例如，複數個形狀72中的各形狀73可近似鏡面反射表面20的截形70或曲線71。
又在另一示例中(示於圖12中)，本方法可進一步包括基於複數個形狀72來近似鏡面反射表面20之表面外形74的步驟。表面外形74可例如藉由基於其間的關係，來空間性地排序及佈置複數個形狀72來決定。在一個示例中，可數位地組合複數個形狀72以產生呈像，該呈像可近似鏡面反射表面20的整個表面外形77。例如，凡鏡面反射表面包括材料片的主要表面，形狀可近似或模擬部分的或整個的材料片的真實形狀。
可以任何相同的或不同的時間性頻率來執行方法步 驟中的任何者。例如，如圖13中所示，可以任何相同的或不同的時間性頻率來執行方法步驟500中的任何者，該等方法步驟500包括以下步驟：獲得校準資料(501)、獲得目標資料(502)、從目標資料定義目標線(503)、捕捉反射影像(504)、獲得反射資料(505)、定義反射線(506)、決定對應關係(507)及使用對應關係及校準資料來決定鏡面反射表面的形狀(508)。在一個示例中，可以至少每秒一次的速率來執行任何步驟。在另一示例中，可以一速率來重複任何步驟，使得時間性頻率的週期趨近於零。例如，可以時間上實質連續的速率來執行任何步驟。又在其他示例中，可以由任何數量的變數所定義的速率來執行任何步驟。又進一步地，可執行任何步驟一次。在一個示例中，可執行步驟中的一或更多者一次，同時可執行步驟中的其他者多於一次。
各種電腦、數值的、數學性、線性、非線性、科學的、數位的、電子的或其他的技術可用於方法步驟500中的任何者(圖示於圖13中)，該等方法步驟500包括以下步驟：獲得校準資料(501)、獲得目標資料(502)、從目標資料定義目標線(503)、捕捉反射影像(504)、獲得反射資料(505)、定義反射線(506)、決定對應關係(507)及使用對應關係及校準資料來決定鏡面反射表面的形狀(508)。又進一步地，可一起抑或單獨執行任何配置、運算、操控或計算，且可對於本文中所提供之方法步驟中的任何者執行任何配置、運算、操控或計算。
例如，可使用影像分析，其中(經捕捉的或要不就 是經獲得的)影像可被分析且可自其抽取其中所包含的資料。在另一示例中，可定義關注區域，其中關注區域可代表目標結構的特定區域、鏡面反射表面的特定區域及/或鏡面反射表面中目標結構之反射影像的特定區域。關注區域可由使用者所定義且可直接或間接地編碼進電腦或可使用軟體常式或其他程序來自動決定。又在另一示例中，可使用導數迴旋運算(derivative convolution)以強調垂直於目標結構之標稱特徵的方向上改變。導數迴旋運算例如可顯示資料點之間的資料點值改變速率。又在另一示例中，可使用導數迴旋運算來定位代表目標資料之目標線以及代表反射資料之反射線的粗略近區。此程序例如尋找最大絕對值的點，代表相對於垂直於目標結構特徵之資料點值的最大改變。又在另一示例中，可過濾資料點，使得自目標結構特徵之大致方向或方向性趨勢偏離太遠的點被消除且被視為越出點。又在另一示例中，可使用子像素內插法來決定具有最大之導數最大絕對值的資料點。自此，在此資料點的各側上使用至少兩個點，一多項式可符合於資料點且可決定實際尖峰位置。可對於所獲得之各資料點執行此內插法，其中資料點例如可關於目標結構特徵或其於鏡面反射表面中的相對應反射。又在另一示例中，可使用積分方法學，其中可定義積分點。因為鏡面反射表面的多個形狀可產生相同的反射，積分點可用以在鏡面反射表面上建立積分起始點。又在另一示例中，可對於微分方程式還原方法定義初始條件。又在另一示例中，三度點處理可用以將相對應於校準資料、目標資料或反射資料之資料點 的三度座標轉換成二度資料點，該等二度資料點可定義目標結構及其相對應反射的位置。在另一示例中，可執行資料過濾，其中校準資料、目標資料或反射資料的資料點係經處理以移除任何越出點。在一個示例中，此過濾程序涉及將多項式線契合於資料點，該等資料點例如可關於目標結構的特徵及/或其鏡面反射表面中的相對應反射。在進一步的示例中，自契合線落於定義距離以外的任何資料點係識別為越出點。可自資料組移除越出點抑或由資料組保留越出點。又在另一示例中，使用相同的或不同的多項式契合及/或使用相同的或不同的越出點選剔限制，契合線的程序、識別越出點的程序及自資料組移除或保留越出點的程序可被重複任何次數。
本揭露的進一步態樣包括用於決定自定量熔化玻璃121所拉製之玻璃扁帶103之形狀的方法，如圖14中所示。一旦產生，玻璃扁帶103可分離成玻璃片104，該等玻璃片104可用於各式各樣的應用中。例如，自玻璃扁帶103所產生的玻璃片104例如可用於顯示應用中。在特定示例中，玻璃片104可用以產生液晶顯示器(LCD)、電泳顯示器(EPD)、有機發光二極體顯示器(OLED)、電漿顯示面板(PDP)或其他顯示裝置。
玻璃扁帶可由用於依據揭露來產生玻璃扁帶的各種裝置所製造，例如槽拉法(slot draw)、浮製法(float)、下拉法(down-draw)、熔融下拉法(fusion down-draw)或上拉法(up-draw)。各裝置可包括熔化容器，係經配置以將材料批料熔化成定量的熔化玻璃。各裝置進一步包括至少第一 調節站及第二調節站，該第一調節站位於熔化容器的下游，該第二調節站位於第一調節站的下游。
圖14繪示只有一個示例裝置的示意圖，該裝置係用於依據本揭露來產生玻璃扁帶，其中該裝置包括熔融拉製裝置101，該裝置101係用於熔融將用於後續處理的玻璃扁帶103拉製成玻璃片104。熔融拉製裝置101可包括熔化容器105，係經配置以自儲存槽109接收批料材料107。批料材料107可由批料供應裝置111所引入，該批料供應裝置111係由馬達113提供動力。可選的控制器115可經配置以啟動馬達113以將所需量的批料材料107引進熔化容器105，如由箭頭117所指示。玻璃金屬探針119可用以在豎管123內測量玻璃熔化物121等級且藉由通訊線125的方式將所測量的資訊通訊至控制器115。
熔融拉製裝置101亦可包括第一調節站(例如精製容器127(例如精製管))，位於熔化容器105的下游且藉由第一連接導管129的方式耦合至熔化容器105。在某些示例中，玻璃熔化物可藉由第一擀接導管129的方式，自熔化容器105重力供給至精製容器127。例如，重力可作用以驅動玻璃熔化物，自熔化容器105向精製容器127通過第一連接導管129的內部路徑。在精製容器127內，可藉由各種技術自玻璃熔化物移除氣泡。
熔融拉製裝置可進一步包括可位於精製容器127下游的第二調節站(例如混合容器131(例如攪拌室))。混合容器131可用以提供均一的玻璃熔化物組成，藉此降低或消 除不均勻性的索帶，不然該等不均勻性的索帶可能存在於離開精製容器之精製玻璃熔化物內。如所示，精製容器127可藉由第二連接導管135的方式耦合至混合容器131。在某些示例中，玻璃熔化物可藉由第二連接導管135的方式，自精製容器127重力供給至混合容器131。例如，重力可作用以驅動玻璃熔化物，自精製容器127向混合容器131通過第二連接導管135的內部路徑。
熔融拉製裝置可進一步包括可位於混合容器131下游的另一調節站(例如供應容器133(例如杯體))。供應容器133可調節要被饋入形成裝置的玻璃。例如，供應容器133可充當累積槽及/或流動控制器以調整及提供至形成容器之玻璃熔化物的一致流動。如所示，混合容器131可藉由第三連接導管137的方式耦合至供應容器133。在某些示例中，玻璃熔化物可藉由第三連接導管137的方式，自混合容器131重力供給至供應容器133。例如，重力可作用以驅動玻璃熔化物，自混合容器131向供應容器133通過第三導管137的內部路徑。
如進一步繪示的，可安置下降管139以將玻璃熔化物121自供應容器133供應至形成容器143的入口141。如所示，熔化容器105、精製容器127、混合容器131、供應容器133及形成容器143係可串聯地沿熔融拉製裝置101安置之玻璃熔化調節站的示例。
熔化容器105一般是由耐火材料所製造，例如耐火(例如陶瓷)磚。熔融拉製裝置101可進一步包括一般以鉑 或含鉑金屬(例如鉑銠、鉑銥及其組合)製造的元件，但其亦可包括例如鉬、鈀、錸、鉭、鈦、鎢、釕、鋨、鉬及其合金這樣的耐火金屬及/或氧化鋯。含鉑元件可包括第一連接導管129、精製容器127(例如精製器管)、第二連接導管135、豎管123、混合容器131(例如攪拌室)、第三連接導管137、供應容器133(例如杯體)、下降管139及入口141中之一或更多者。形成容器143亦以耐火杉料所製造且係經設計以形成玻璃扁帶103。
圖15係圖14沿線2-2之熔融拉製裝置101的截面透視圖。如所示，形成容器143包括形成楔201，該形成楔201包括一對向下斜的形成表面部分207、209，該等形成表面部分207、209延伸於形成楔201的相對端之間。該對向下斜的形成表面部分207、209沿拉製方向211收歛以形成根部213。拉製平面215通過根部213延伸，其中玻璃扁帶103可沿拉製平面215以拉製方向211(例如以下游的方向)來拉製。如所示，雖然拉製平面215可相對於根部213以其他方向延伸，拉製平面215可二分根部213。
如圖14中所示，熔融拉製裝置101可包括系統300以執行用於決定以定量熔化玻璃121所拉製之玻璃扁帶103之形狀的方法。本方法亦可被實施以決定具有鏡面反射特性之其他物體的形狀，包括光纖及其他玻璃構件。現將討論用於決定以定量熔化玻璃121拉製之玻璃扁帶103之形狀的方法。在一個示例中，可以拉製方向211連續移動玻璃扁帶103。在另一示例中，形狀可用以控制玻璃形成裝置101的上 游參數301。又在另一示例中，形狀可用以控制下游程序302的參數。又在另一示例中，形狀可用以控制玻璃形成裝置101的上游參數301及下游程序302的參數。又在另一示例中，形狀可用以決定玻璃扁帶的特質，其中可基於該特質來分類玻璃扁帶的品質。
例如，特質可包括可在形成程序期間發生於玻璃扁帶中的形狀異常，例如夾雜物、刮痕或任何其他缺陷或不規則部分。這些異常可使得玻璃扁帶落於所需規格特性或參數以外，其中玻璃扁帶或玻璃片可能被剔除或識別以供替代性用途。在另一示例中，特質可為玻璃扁帶之運動的簽字(signatory)或玻璃扁帶之形狀或組成上改變的簽字。藉由在整個形成及/或處理程序在玻璃扁帶的各種位置以及在各種時間監測這些特質，吾人可控制形成及/或處理程序及調整或調諧各種玻璃形成及/或處理參數。可例如週期地、重複地或連續地監測特質，且特質可用以產生各種輸出資訊，例如作圖、圖形、圖表、資料庫或數值資料。在另一示例中，特質可與自玻璃扁帶切下的特定玻璃片相關聯。若那特定的玻璃片的特性落於所需規格以外，此後可丟棄那特定的玻璃片，若需要可進一步處理那特定玻璃片，或基於那特定的玻璃片的特質識別該玻璃片以供用於特定應用或分佈至特定位置。又在另一示例中，特質可用以決定相對應於穩定生產的那些操作條件，其中玻璃扁帶的品質及/或玻璃片的品質是理想的品質或特性。又在另一示例中，特質可用以決定相對應於不良生產的那些操作條件，其中玻璃扁帶的品質及/或玻璃片的 品質不同於展現理想品質或特性之玻璃扁帶或玻璃片中的那些。又在另一示例中，特質可用以當玻璃形成裝置的某些元件、系統或特徵適當地或不適當地作用時，通知電腦或使用者。例如，基於玻璃扁帶的特定特質(當由本文中所揭露之方法運算時自其形狀所決定)，吾人可決定系統的某些構件需要替換或修理的瞬時，或用於產生熔化玻璃的各種輸入可被調整以例如改良玻璃扁帶及/或玻璃片之品質的瞬時。又進一步地，可決定特質間的相關性。可在一時段上決定這樣的相關性，且這樣的相關性可包括當自本方法決定時或當自其他控制提供時，涉及玻璃形成程序、玻璃扁帶及/或玻璃片之任何大量的各種參數。又在另一示例中，玻璃扁帶及/或玻璃片的形狀可用以瞭解玻璃形成、玻璃扁帶屬性及玻璃片特性中的變化。可監測及/或分析形狀以例如改進品質、效率或與本文中所述之方法相關聯的任何其他特徵、參數或態樣。
本方法包括獲得校準資料的步驟。如所指出的，可以各種方式獲得校準資料，包括以下步驟：直接或間接將資料編碼進電腦、使用偵測裝置來觀察資料、使用感測器來測量資料或捕捉包含校準資料可自其所抽取之資料的影像。校準資料的示例包括座標或代表用於本方法中或由本方法所使用之系統、元件或結構中之任何者之特性或多個特性的其他資訊。例如，校準資料可包括系統元件的空間位置(例如攝影機、透鏡或焦點的空間位置)、關於玻璃扁帶、目標結構及其相關聯之特徵的資訊或與其相關聯的任何其他參數、初始條件或資料。在另一示例中，校準資料可包括參考點或座 標，其可用以決定及定義各種系統元件、結構及變數之間的位置或關係。可例如透過轉換矩陣或其他數學運算，將校準資料自真實空間中的三度座標轉換成二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於校準資料上的進一步分析、操控及/或運算而操控、組合、分析或處理校準資料。
本方法進一步包括獲得關於目標結構之目標資料的步驟。如所指出的，可以各種方式獲得目標資料，包括以下步驟：直接或間接將資料編碼進電腦、使用偵測裝置來觀察資料、使用感測器來測量資料或捕捉包含目標資料可自以抽取之資料的影像。目標資料的示例包括代表關於目標結構及/或其相關聯之特徵之空間位置或其他參考特性的座標，以及涉及目標結構的任何其他資訊。例如，目標資料可包括參考點，其可用以定義及決定各種系統元件、結構及變數之間任何數量的特性或關係。又進一步地，可透過轉換矩陣或其他數學運算，將這些參考點自真實空間中的三度座標轉換至二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於目標資料上的進一步分析、操控及/或運算而操控、組合、分析或處理目標資料。在一個示例中，目標結構可為玻璃形成裝置101內的現存結構，其除了充當目標結構之外，相對於玻璃形成或處理而言可適用其他功能。在另一示例中，目標結構可為為了作用為本文中所提供之方法中之目標結構之單一用途而引進玻璃形成裝置101的專用結構。
如圖15中所示，玻璃扁帶103可沿平面215延伸，且目標結構330的特徵335可實質平行於平面215。在另一示 例(圖示於圖16中)中，玻璃扁帶103可沿平面215延伸，且目標結構331的特徵336可實質垂直於平面215。目標結構330、331可包括一或複數個幾何形狀、形狀、結構或尺寸中之任何者，包括與其相關聯之複數個特徵或特性中之任何者。可以用於各種環境中之各種材料中之任何者來建構目標結構。例如，在玻璃形成裝置101中，目標結構可使用適於耐受高溫環境的材料來建構。在進一步的示例中，可獨立照明或依附性地由光源照明目標結構。例如，目標結構330、331可位於熔融拉製裝置101內，其中可包括窗口或其他口孔以對於光源提供觀察孔以照明目標結構。窗口或其他口孔可為位於熔融拉製裝置中的現存窗口或口孔，或可為為了對於光源提供觀察孔以照明目標結構之單一用途而包括的專用窗口或口孔。又在進一步的示例中，目標結構可例如以以下方式而為動態的：目標結構可包括可在時間上在任何瞬時自動抑或手動改變、操控或控制的特徵或特性。
在一個示例(圖示於圖15中)中，其中目標結構330的特徵335實質平行於玻璃扁帶103，目標結構330的特徵335可沿玻璃扁帶103的寬度345且自玻璃扁帶103以距離346，實質平行於玻璃扁帶而延伸。目標結構330之實質平行的特徵335亦可沿玻璃扁帶103的高度348而位於高度347。
在另一示例(圖示於圖16中)中，其中目標結構331的特徵336係實質垂直於玻璃扁帶103，目標結構331的特徵336可自玻璃扁帶的邊緣324以距離354且自玻璃扁帶 103的面326以距離356，實質垂直於玻璃扁帶103而延伸。目標結構330之實質垂直的特徵336亦可沿玻璃扁帶103的高度358而位於高度357。又在進一步的示例中，目標結構331之實質垂直的特徵336'可相對於玻璃扁帶103的表面法線323而呈角度359。
如圖17中所示，本方法進一步包括從目標資料341定義目標線340的步驟，其中目標線340代表目標結構330的特徵335。目標結構330的特徵335可為目標結構330之特徵或特性中的任何者。在一個示例中，目標結構的特徵335可為目標結構330的邊緣。例如，凡目標結構330係幾何形狀(如圖17中所示)，目標結構的特徵335可為幾何形狀的邊緣。目標結構330的特徵335可存在於目標結構上的任何位置，且相對於玻璃扁帶103可以任何角度及/或以任何方向延伸。
如所指出的，已知的邊緣尋找技術例如可用以數學性地定義相對應於目標結構之邊緣或其他特徵或特性的資料點。各種數學技術係已知且可用以從目標資料定義目標線。在一個示例中，此步驟可包括從目標資料對於複數個資料點執行回歸分析，其中複數個資料點可關於目標結構的特徵。從這些資料點，可使用任何的回歸分析方法或其他數學技術來決定目標線。
如圖17中所示，本方法進一步包括捕捉玻璃扁帶103中之目標結構330之反射影像350的步驟。如所指出的，可使用影像捕捉裝置351(包括攝影機或其他影像或視訊記錄 裝置)來捕捉反射影像350。一旦被捕捉，反射影像350可被分析或傳送至電腦352，包含於影像內的資料可藉由該電腦352抽取、處理及/或分析。
如圖18中所示，一或更多個影像捕捉裝置351可用以捕捉一或更多個目標結構330的一或更多個反射影像350。在進一步的示例(圖18中所示)中，可在玻璃扁帶103的各種位置處捕捉一或更多個反射影像350。又在進一步的示例中，反射影像350可包括目標結構的任何的或全部的反射以及目標結構之特徵的任何的或全部的反射。例如，影像捕捉裝置351(例如攝影機)可位於玻璃扁帶103的一側，使得影像捕捉裝置351在玻璃扁帶103大約一半的寬度上捕捉目標結構的反射影像350。在另一示例中，第二影像捕捉裝置351(例如第二攝影機)可相對於第一影像捕捉裝置以相同或相似的垂直高度位於玻璃扁帶的相對側，使得第二影像捕捉裝置亦在玻璃扁帶大約一半的寬度上捕捉目標結構的反射影像。第一影像捕捉裝置及第二影像捕捉裝置可例如在玻璃扁帶的整個寬度上捕捉目標結構的反射影像。又在進一步的示例中，第一及第二影像捕捉裝置可經配置以捕捉反射影像(包括玻璃扁帶的重疊區域)。重疊區域可例如用於校準或其他配置運算，其中相對應於玻璃扁帶之相同空間位置的多個資料點是有益的。
又在進一步的示例中，可基於相對於玻璃扁帶103之影像捕捉裝置或多個影像捕捉裝置之位置或角度來捕捉反射影像350的屬性或態樣。又在進一步的示例中，障礙或限 制可能防止了放置影像捕捉裝置而理想地捕捉反射影像。影像捕捉裝置351可例如安裝於可調整機構上，使得可手動地或自動地調整或變更影像捕捉裝置的位置及/或角度以適應這樣的障礙或限制，且使得可移除影像捕捉裝置以向熔融拉製裝置101提供對於其檢測、清潔或修理的出入口。又在進一步的示例中，可佈置相同的或不同的影像捕捉裝置以捕捉用於玻璃形成裝置101或處理步驟或由玻璃形成裝置101或處理步驟所使用之玻璃扁帶103、目標結構330、331及任何其他元件的影像。又在進一步的示例中，可佈置影像捕捉裝置351以通過上述熔融拉製裝置101中現有的或專用的觀察孔窗口來檢視玻璃扁帶103、目標結構330、331或其他元件。又進一步地，影像捕捉裝置可位於光源的附近，其中來自光源的光可照明目標結構及玻璃扁帶，以改進影像捕捉的品質，以及提供光或照明以強化玻璃扁帶103的反射特性。
亦如圖17中所示，本方法進一步包括從反射影像350獲得反射資料355的步驟。如所指出的，可以各種方式獲得反射資料355，包括抽取、處理及/或分析反射影像350以獲得反射資料355。反射資料355的示例包括代表關於目標結構及/或其相關聯特徵之反射影像350之空間位置或其他參考特性的座標，以及涉及反射影像350的任何其他資訊。例如，反射資料355可包括可用以定義及決定目標結構及/或其相關聯特徵之反射影像350及各種系統元件、結構及變數間任何數量之關係或特性的參考點。又進一步地，可透過轉換矩陣或其他數學運算來將這些參考點自真實空間中的三度座標轉 換至二度座標。又在進一步的示例中，可為了要執行於反射資料355上的進一步分析、操控及/或運算而操控、組合、分析或處理反射資料355。
亦如圖17中所示，本方法進一步包括從反射資料355定義反射線360的步驟，其中反射線360代表目標結構330之特徵335的反射。如所指出的，目標結構330的特徵335可為目標結構330之特徵或特性中的任何者。如此，目標結構330之特徵335的反射可為目標結構330之特徵或特性的任何相對應反射。在一個示例中，如所指出的，目標結構330的特徵335可為目標結構330的邊緣。因此，目標結構330之特徵335的反射可為由反射線360所代表之目標結構邊緣的相對應反射，該反射線360係定義自從反射影像350所抽取的反射資料355。例如，凡目標結構為幾何形狀，目標結構的特徵可為幾何形狀的邊緣，且特徵的反射可為幾何形狀邊緣的相對應反射。
已知的邊緣尋找技術例如可用以數學性地定義相對應於目標結構之邊緣或其他特徵或特性之反射的資料點。各種數學技術係已知且可用以從反射資料定義反射線。在一個示例中，此步驟可包括自反射資料對於複數個資料點執行回歸分析，其中複數個資料點可關於目標結構之特徵的反射。從這些資料點，可使用回歸分析方法或其他數學技術中的任何者來決定反射線。
本方法進一步包括決定目標線340及反射線360間之對應關係的步驟。如所指出的，對應關係可例如包括全部 的或部分的目標線340及全部的或部分的反射線360間的比較、相關性或任何其他關係或多個關係。例如，可分析目標線340。在另一示例中，可分析反射線360。又在另一示例中，可分析目標線340及反射線360。可藉由各種技術中的任何者(包括電腦化或人工程序、數學運算或任何其他運算方式)來決定對應關係。在一個示例中，對應關係可包括比較於得自目標結構330之目標資料341的目標線340，來從反射影像350中的反射資料355決定反射線360的扭曲。
本方法進一步包括使用對應關係及校準資料來決定玻璃扁帶103之形狀的步驟。在示例中，可使用全部的或部分的對應關係。在另一示例中，可使用全部的或部分的校準資料。又在另一示例中，可使用全部的或部分的對應關係且可使用全部的或部分的校準資料。此步驟可包括例如執行形狀還原演算法。形狀還原演算法可使用以上資料中的任何者來決定玻璃扁帶103的形狀。例如，可藉由基於對應關係及校準資料，來回復、還原、逆運算或要不就是推斷會產生經捕捉之目標結構330之反射影像350之玻璃扁帶的輪廓或外形來決定玻璃扁帶103的形狀。
如圖11中所示，在一個示例中，形狀可近似玻璃扁帶103的截形70。截形70可例如為平面75處之玻璃扁帶103的截面，其中平面75相交玻璃扁帶103。在另一示例中，凡玻璃扁帶是薄的、具有實質小於其長度及寬度的厚度，截形70可近似為位於平面75內的線或曲線71，其中平面75相交玻璃扁帶103。對於玻璃扁帶103、玻璃片104或其他透明材 料(物體或目標結構的反射可於該處發生於材料的兩個表面上)而言，可藉由考慮菲涅耳反射係數來決定形狀。又在另一示例中，本方法可進一步包括決定玻璃扁帶103之複數個形狀72的步驟。例如，複數個形狀72中的各形狀73可近似玻璃扁帶103的截形70或曲線71。
又在另一示例(圖12中所示)中，本方法可進一步包括基於複數個形狀72來近似玻璃扁帶103之表面外形74的步驟。表面外形74可例如藉由基於其間的關係，來空間性地排序及佈置複數個形狀72來決定。在一個示例中，可數位地組合複數個形狀72以產生可近似玻璃扁帶103之整個表面外形77的呈像。例如，形狀可近似或模擬部分的或整個玻璃扁帶103的真實形狀及/或自其切下之部分的或整個玻璃片104的真實形狀。
可以任何相同的或不同的時間性頻率來執行以上步驟中的任何者。例如，如圖13中所示，可以任何相同的或不同的時間性頻率來執行方法步驟500中的任何者，該等方法步驟500包括以下步驟：獲得校準資料(501)、獲得目標資料(502)、從目標資料定義目標線(503)、捕捉反射影像(504)、獲得反射資料(505)、定義反射線(506)、決定對應關係(507)及使用對應關係及校準資料來決定鏡面反射表面的形狀(508)。在一個示例中，可以至少每秒一次的速率來執行任何步驟。在另一示例中，可以一速率來重複任何步驟，使得時間性頻率的週期趨近於零。例如，可以時間上實質連續的速率來執行任何步驟。又在其他示例中，可以由 任何數量的變數所定義的速率來執行任何步驟。在一個示例中，可以重合每玻璃片一次的速率來執行步驟中的任何者。在另一示例中，可使用基於玻璃片尺寸、正被生產或已經生產之玻璃片品質或有助於或變更玻璃形成裝置及其他程序之任何其他因素來調整的速率，來執行步驟中的任何者。又進一步地，可執行任何步驟一次。在一個示例中，可執行步驟中的一或更多者一次，同時可執行步驟中的其他者多於一次。
各種電腦、數值的、數學的、線性的、非線性的、科學的、數位的、電子的或其他的技術可用於本方法之步驟中的任何者，包括獲得校準資料、獲得目標資料、從目標資料定義目標線、捕捉反射影像、獲得反射資料、定義反射線、決定對應關係及使用對應關係及校準資料來決定玻璃扁帶的形狀。可一起抑或單獨地且對於本文中所提供之方法步驟中的任何者執行任何配置、運算、操控或運算。
對於那些本發明所屬領域中具技藝者而言將是清楚的是，可作出各種修改及變化而不脫離所申請發明之精神及範圍。

Claims (11)

  1. 一種用於決定一實質圓柱狀鏡面反射表面之一形狀的方法，包括以下步驟：(I)獲得校準資料；(II)獲得關於一目標結構的目標資料；(III)從該目標資料定義一目標線，其中該目標線代表該目標結構的一特徵；(IV)捕捉該鏡面反射表面中之該目標結構的一反射影像；(V)從該反射影像獲得反射資料；(VI)從該反射資料定義一反射線，其中該反射線代表該目標結構之該特徵的一反射；(VII)決定該目標線及該反射線間的一對應關係；(VIII)使用該對應關係及該校準資料，來決定該鏡面反射表面的該形狀，其中該形狀近似該鏡面反射表面的一截形(cross-profile)，該截形沿著平行於該鏡面反射表面的一線；(IX)重複步驟(IV)到(VIII)，以近似該鏡面反射表面的複數個截形；及(X)基於該鏡面反射表面的該複數個截形，來近似該鏡面反射表面的一表面外形(surface profile)。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該目標結構的該特徵係該目標結構的一邊緣。
  3. 如請求項1所述之方法，其中該鏡面反射表面沿一平面延伸，且該目標結構的該特徵係實質平行於該平面。
  4. 如請求項1所述之方法，其中該鏡面反射表面沿一平面延伸，且該目標結構的該特徵係實質垂直於該平面。
  5. 如請求項1所述之方法，其中該鏡面反射表面包括一片材料的一主要表面。
  6. 一種用於決定一玻璃扁帶之一形狀的方法，該玻璃扁帶係以一定量的熔化玻璃所拉製，該方法包括以下步驟：(I)獲得校準資料；(II)獲得關於一目標結構的目標資料；(III)從該目標資料定義一目標線，其中該目標線代表該目標結構的一特徵；(IV)捕捉該玻璃扁帶中之該目標結構的一反射影像；(V)從該反射影像獲得反射資料；(VI)從該反射資料定義一反射線，其中該反射線代表該目標結構之該特徵的一反射；(VII)決定該目標線及該反射線間的一對應關係；(VIII)使用該對應關係及該校準資料，來決定該玻璃扁帶的該形狀，其中該形狀近似該玻璃扁帶的一截形，該截形沿著平行於該玻璃扁帶的一表面的一線；(IX)重複步驟(IV)到(VIII)，以決定該玻璃扁帶的複數個截形；及(X)基於該玻璃扁帶的該複數個截形，來近似該玻璃扁帶的一表面外形。
  7. 如請求項6所述之方法，其中該玻璃扁帶係以一拉製方向連續移動。
  8. 如請求項6所述之方法，其中該形狀係用以控制一玻璃形成程序的上游參數。
  9. 如請求項6所述之方法，其中該形狀係用以控制一下游程序的參數。
  10. 如請求項6所述之方法，其中該形狀係用以控制一玻璃形成程序的上游參數及一下游程序的參數。
  11. 如請求項6至10中之任一項所述之方法，其中該形狀係用以決定該玻璃扁帶的一特質(attribute)，且其中基於該特質，來分類該玻璃扁帶的一品質。
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