TWI629072B - 吸盤 - Google Patents

Abstract

一種用於抵接覆蓋於傷口上之敷料的吸盤包含底板與殼體。底板具有相對之第一表面與第二表面，第一表面用以抵接敷料，底板更具有至少一第一開口與至少一第二開口，第一開口與第二開口分別連通第一表面。殼體具有至少一第一腔室與至少一第二腔室，殼體連接第二表面，且第一腔室連通第一開口，第二腔室連通第二開口。吸盤具有至少一通道，至少部分設置於殼體圍繞第一腔室之內壁內，以及至少部分穿越底板，通道之一端連通第一腔室，通道之另一端連通第一表面。

Description

吸盤

本發明是關於一種吸盤，且特別是關於一種可用於負壓傷口療法(Negative Pressure Wound Therapy；NPWT)的吸盤。

負壓傷口療法(Negative Pressure Wound Therapy；NPWT)為近年來越來越普及的一種促進傷口癒合的輔助性治療方法，這種治療方法的特點是透過給傷口表面施加負壓，使傷口表面均勻接受負壓而縮小以外，尚能起到引流體液的作用，還能充填傷口局部缺損，去除過多的滲出物，並為傷口閉合提供一個相對濕潤而不是潮濕的環境，減輕傷口周圍組織水腫，刺激肉芽組織增生。

目前，負壓傷口療法可廣泛應用於臨床治療的許多急和慢性傷口，包括骨科、軟組織、皮膚移植、壓瘡、下肢靜脈潰瘍、糖尿病足、外科感染，以及術後傷口等。醫師會根據病患過去的疾病史、目前的生理狀況、用藥現況、自主能力等，並評估傷口的大小、深度、滲液量、是否受感染等因素，綜合考慮後告知病患是否適合使用負壓傷口療法進行治療。

本發明之一技術態樣在於提供一種吸盤，其能讓使用者更能掌握第二腔室內負壓的效果。

根據本發明的一實施方式，一種用於抵接覆蓋於傷口上之敷料的吸盤包含底板與殼體。底板具有相對之第一表面與第二表面，第一表面用以抵接敷料，底板更具有至少一第一開口與至少一第二開口，第一開口與第二開口分別連通第一表面。殼體具有至少一第一腔室與至少一第二腔室，殼體連接第二表面，且第一腔室連通第一開口，第二腔室連通第二開口。吸盤具有至少一通道，至少部分設置於殼體圍繞第一腔室之內壁內，以及至少部分穿越底板，通道之一端連通第一腔室，通道之另一端連通第一表面。

在本發明一或多個實施方式中，上述之底板更具有至少一第一凹槽。此第一凹槽位於第一表面，第一凹槽之一端連通通道，第一凹槽之另一端至少部分朝底板之邊緣延伸。

在本發明一或多個實施方式中，上述之底板更具有至少一第二凹槽。此第二凹槽位於第一表面，第二凹槽至少部分繞第一開口延伸，且與第一凹槽交匯。

在本發明一或多個實施方式中，上述之第二凹槽的數量為複數個，底板更具有至少一第三凹槽。此第三凹槽位於第一表面，第三凹槽連通相鄰之第二凹槽。

在本發明一或多個實施方式中，上述之底板更 具有至少一支撐肋。此支撐肋凸出於第一表面，且於第一表面上延伸，支撐肋至少部分鄰接第二凹槽。

在本發明一或多個實施方式中，上述之底板更具有至少一支撐肋。此支撐肋凸出於第一表面，且於第一表面上延伸。

在本發明一或多個實施方式中，上述之支撐肋至少部分圍繞第二開口。

在本發明一或多個實施方式中，上述之通道、通道連通第一腔室之一端以及通道連通第一表面之另一端形成一直線排列。

在本發明一或多個實施方式中，上述之殼體更具有第一連接孔與第二連接孔。第一連接孔與第二連接孔分別連通第一腔室與第二腔室，吸盤更包含第一連接管與第二連接管，第一連接管連接第一連接孔並連通第一腔室，第二連接管連接第二連接孔並連通第二腔室。

在本發明一或多個實施方式中，上述之底板更具有至少一定位柱。此定位柱凸出於第一表面。

本發明上述實施方式與已知先前技術相較，至少具有以下優點：

(1)由於通道至少部分設置於殼體圍繞第一腔室之內壁內，以及至少部分穿越底板，並且，通道之一端連通第一腔室，通道之另一端連通第一表面，也就是說，即使連通第一腔室的第一開口，因為敷料所吸收體液的份量過多或是體液變得濃稠，而出現堵塞的情況，第一腔室仍可透過 通道而連通敷料，繼而連通第二腔室。如此一來，藉由通道連通第一腔室與第一表面，第一腔室透過敷料而連通第二腔室的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室內負壓的效果。

(2)第一凹槽位於第一表面，第一凹槽之一端連通通道，第一凹槽之另一端至少部分朝底板之邊緣延伸。從結構上而言，第一凹槽增加通道與敷料相互連通的機會，因此，第一腔室透過敷料而連通第二腔室的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室內負壓的效果。

100‧‧‧吸盤

110‧‧‧底板

111‧‧‧第一表面

112‧‧‧第二表面

113‧‧‧第一開口

114‧‧‧第二開口

115‧‧‧第一凹槽

116‧‧‧第二凹槽

117‧‧‧第三凹槽

118‧‧‧支撐肋

119‧‧‧定位柱

120‧‧‧殼體

121‧‧‧第一腔室

122‧‧‧第二腔室

123‧‧‧第一連接孔

124‧‧‧第二連接孔

130‧‧‧第一連接管

140‧‧‧第二連接管

200‧‧‧敷料

300‧‧‧貼膜

400‧‧‧病患

500‧‧‧傷口

C‧‧‧通道

X‧‧‧線段

第1圖繪示依照本發明一實施方式之吸盤的應用示意圖。

第2圖繪示沿第1圖之線段X的剖面圖。

第3圖繪示第1圖之吸盤的下視圖。

以下將以圖式揭露本發明之複數個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本發明。也就是說，在本發明部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。

除非另有定義，本文所使用的所有詞彙(包括技術和科學術語)具有其通常的意涵，其意涵係能夠被熟悉此領域者所理解。更進一步的說，上述之詞彙在普遍常用之字典中之定義，在本說明書的內容中應被解讀為與本發明相關領域一致的意涵。除非有特別明確定義，這些詞彙將不被解釋為理想化的或過於正式的意涵。

請參照第1圖，其繪示依照本發明一實施方式之吸盤100的應用示意圖。如第1圖所示，一種吸盤100用於負壓傷口療法(Negative Pressure Wound Therapy；NPWT)中，以抵接覆蓋於傷口500(請參照第2圖)上之敷料200。在實務的應用中，敷料200覆蓋於病患400的傷口500上，然後吸盤100則設置於敷料200對應傷口500的位置上，亦即敷料200位於吸盤100與病患400的傷口500之間。再者，藉由貼膜300圍繞傷口500黏附於敷料200與吸盤100之間，吸盤100與敷料200的相對位置得以有效固定，並且，吸盤100與貼膜300亦對傷口500提供保護，使傷口500不會暴露於空氣之中，以減低傷口500被感染的機會。在本實施方式中，吸盤100包含底板110與殼體120。

請參照第2圖，其繪示沿第1圖之線段X的剖面圖。更具體而言，如第2圖所示，底板110具有相對之第一表面111與第二表面112，第一表面111用以抵接敷料200。底板110更具有至少一第一開口113與至少一第二開口114，第一開口113與第二開口114分別連通第一表面111。殼體120具有至少一第一腔室121與至少一第二腔室122， 殼體120連接第二表面112，且第一腔室121連通第一開口113，第二腔室122連通第二開口114。吸盤100具有至少一通道C，通道C至少部分設置於殼體120圍繞第一腔室121之內壁內，以及至少部分穿越底板110。再者，通道C之一端連通第一腔室121，通道C之另一端連通第一表面111。

在實務的應用中，第二腔室122連通外接的負壓裝置(圖未示)，負壓裝置用以給第二腔室122提供負壓。在治療的過程中，隨著傷口500不斷有體液滲出，吸盤100於第二腔室122內所產生的區域性負壓，可以有效抽吸傷口500的感染物質以及多餘的組織滲液，維持傷口500的濕潤性，縮小傷口500的邊緣範圍，增加附近微血管的血流量，並以敷料200產生的機械應力刺激細胞及血管新生，進而促進肉芽組織(Granulation Tissue)的增生，這些機制共同作用於加速傷口500癒合的過程。

再者，第一腔室121連通外接的感測裝置(圖未示)，感測裝置用以感測第一腔室121內之壓力。具體而言，敷料200可為多孔材質，亦即第一腔室121與第二腔室122可透過敷料200連通。也就是說，當負壓裝置給第二腔室122提供負壓時，第一腔室121內的空氣會透過敷料200而流通至第二腔室122。然而，當從傷口500滲出的體液逐漸被吸入至敷料200後，第一腔室121內的空氣透過敷料200流通至第二腔室122的過程亦將逐漸變得困難，因此，第一腔室121內的壓力亦產生變化。藉由感測裝置感測出第一腔室121內壓力之變化，使用者可以掌握敷料200吸入體 液的情況，繼而因應實際情況，使用者可以調整負壓裝置給第二腔室122提供負壓的大小，甚至可以更換新的敷料200。

如上所述，通道C至少部分設置於殼體120圍繞第一腔室121之內壁內，以及至少部分穿越底板110，並且，通道C之一端連通第一腔室121，通道C之另一端連通第一表面111。也就是說，即使連通第一腔室121的第一開口113，因為敷料200所吸收體液的份量過多或是體液變得濃稠而出現堵塞的情況，第一腔室121仍可透過通道C而連通敷料200，繼而連通第二腔室122。如此一來，藉由通道C連通第一腔室121與第一表面111，第一腔室121透過敷料200而連通第二腔室122的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料200吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室122內負壓的效果。

為使空氣在通道C中於第一腔室121與敷料200之間的流動能夠更順暢，在本實施方式中，如第2圖所示，通道C、通道C連通第一腔室121之一端以及通道C連通第一表面111之另一端形成一直線排列。

請參照第3圖，其繪示第1圖之吸盤100的下視圖。如第3圖所示，底板110更具有複數個第一凹槽115，第一凹槽115位於第一表面111，第一凹槽115之一端連通通道C，第一凹槽115之另一端則至少部分朝底板110之邊緣延伸。從結構上而言，第一凹槽115增加通道C與敷料200相互連通的機會，因此，相似地，第一腔室121透過敷料200而連通第二腔室122的機會將得以有效提升，有助於使用者 掌握敷料200吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室122內負壓的效果。

再者，如第3圖所示，底板110更具有複數個第二凹槽116。第二凹槽116位於第一表面111，且至少部分繞第一開口113延伸，並與第一凹槽115交匯。再者，在本實施方式中，第二凹槽116更於第一表面111上沿遠離第一開口113的方向排列。從結構上而言，第二凹槽116增加通道C與敷料200相互連通的機會，因此，相似地，第一腔室121透過敷料200而連通第二腔室122的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料200吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室122內負壓的效果。

在本實施方式中，如第3圖所示，底板110更具有複數個第三凹槽117。第三凹槽117位於第一表面111，且連通於沿遠離第一開口113方向排列的相鄰之第二凹槽116之間。從結構上而言，第三凹槽117增加通道C與敷料200相互連通的機會，因此，相似地，第一腔室121透過敷料200而連通第二腔室122的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料200吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室122內負壓的效果。

如第2~3圖所示，底板110更具有至少一支撐肋118，支撐肋118凸出於第一表面111，且於第一表面111上延伸。舉例而言，在本實施方式中，支撐肋118至少部分鄰接第二凹槽116，以使第二凹槽116與敷料200之間形成一間隙，以減低第二凹槽116被敷料200堵塞的機會。

另一方面，支撐肋118亦可至少部分圍繞第二開口114，以使第二開口114與敷料200之間形成一間隙，以減低第二開口114被敷料200堵塞的機會。

在實務的應用中，如第2~3圖所示，底板110更具有至少一定位柱119，定位柱119凸出於第一表面111，以使吸盤100設置於敷料200之上時，吸盤100與敷料200的相對位置能夠得以固定。

如第1、3圖所示，殼體120更具有第一連接孔123與第二連接孔124，第一連接孔123與第二連接孔124分別連通第一腔室121與第二腔室122，感測裝置通過第一連接孔123連通第一腔室121，而負壓裝置通過第二連接孔124連通第二腔室122。更具體而言，如第1圖所示，吸盤100更包含第一連接管130與第二連接管140。第一連接管130連接第一連接孔123並連通第一腔室121，並且，第一連接管130連通感測裝置。第二連接管140連接第二連接孔124並連通第二腔室122，並且，第二連接管140連通負壓裝置。

綜上所述，本發明的技術方案與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。通過上述技術方案，可達到相當的技術進步，並具有產業上的廣泛利用價值，其至少具有以下優點：

(1)由於通道至少部分設置於殼體圍繞第一腔室之內壁內，以及至少部分穿越底板，並且，通道之一端連通第一腔室，通道之另一端連通第一表面，也就是說，即使 連通第一腔室的第一開口，因為敷料所吸收體液的份量過多或是體液變得濃稠，而出現堵塞的情況，第一腔室仍可透過通道而連通敷料，繼而連通第二腔室。如此一來，藉由通道連通第一腔室與第一表面，第一腔室透過敷料而連通第二腔室的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室內負壓的效果。

(2)第一凹槽位於第一表面，第一凹槽之一端連通通道，第一凹槽之另一端至少部分朝底板之邊緣延伸。從結構上而言，第一凹槽增加通道與敷料相互連通的機會，因此，第一腔室透過敷料而連通第二腔室的機會將得以有效提升，有助於使用者掌握敷料吸入體液的情況，從而更能掌握第二腔室內負壓的效果。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (9)

1. 一種吸盤，用於抵接覆蓋於一傷口上之一敷料，該吸盤包含：一底板，具有相對之一第一表面以及一第二表面，該第一表面用以抵接該敷料，該底板更具有至少一第一開口以及至少一第二開口，該第一開口與該第二開口分別連通該第一表面，該底板更具有至少一定位柱，凸出於該第一表面；以及一殼體，具有至少一第一腔室以及至少一第二腔室，該殼體連接該第二表面，且該第一腔室連通該第一開口，該第二腔室連通該第二開口；其中，該吸盤具有至少一通道，至少部分設置於該殼體圍繞該第一腔室之一內壁內，以及至少部分穿越該底板，該通道之一端連通該第一腔室，該通道之另一端連通該第一表面。
2. 如請求項1所述之吸盤，其中該底板更具有至少一第一凹槽，位於該第一表面，該第一凹槽之一端連通該通道，該第一凹槽之另一端至少部分朝該底板之一邊緣延伸。
3. 如請求項2所述之吸盤，其中該底板更具有至少一第二凹槽，位於該第一表面，該第二凹槽至少部分繞該第一開口延伸，且與該第一凹槽交匯。
4. 如請求項3所述之吸盤，其中該第二凹槽的數量為複數個，該底板更具有至少一第三凹槽，位於該第一表面，該第三凹槽連通相鄰之該些第二凹槽。
5. 如請求項3所述之吸盤，其中該底板更具有至少一支撐肋，凸出於該第一表面，且於該第一表面上延伸，該支撐肋至少部分鄰接該第二凹槽。
6. 如請求項1所述之吸盤，其中該底板更具有至少一支撐肋，凸出於該第一表面，且於該第一表面上延伸。
7. 如請求項6所述之吸盤，其中該支撐肋至少部分圍繞該第二開口。
8. 如請求項1所述之吸盤，其中該通道、該通道連通該第一腔室之該端以及該通道連通該第一表面之該另一端形成一直線排列。
9. 如請求項1所述之吸盤，其中該殼體更具有一第一連接孔以及一第二連接孔，分別連通該第一腔室與該第二腔室，該吸盤更包含一第一連接管以及一第二連接管，該第一連接管連接該第一連接孔並連通該第一腔室，該第二連接管連接該第二連接孔並連通該第二腔室。