TWI622839B

TWI622839B - 背光模組

Info

Publication number: TWI622839B
Application number: TW103131396A
Authority: TW
Inventors: 鐘煒竣; 林蘇逸; 黃建歷; 馬啓唐
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2014-09-11
Filing date: 2014-09-11
Publication date: 2018-05-01
Also published as: TW201610523A; CN104456290A

Abstract

一種背光模組包含一導光板以及一光源模組。導光板具有一入光面。入光面具有一長度方向。光源模組係設置於入光面旁。光源模組包含一反射框架、一光學調控膜以及至少一光源。反射框架具有一承載板與一反射罩。承載板與反射罩圍繞成一空間，且此空間具有一開口。此開口朝向入光面。光學調控膜係設置於承載板並覆蓋開口。光學調控膜具有複數出光結構。出光結構之光穿透量以最接近之光源在光學調控膜上的投影位置為起點沿著長度方向變化。光源係設置於承載板，光源發出一光線。光線射至反射罩並反射至光學調控膜，且部分光線通過出光結構。

Description

背光模組

本發明係關於一種背光模組，且特別係關於一種顯示裝置之背光模組。

液晶顯示裝置包含液晶面板以及背光模組。液晶面板設置於背光模組之上，而背光模組可提供光線給液晶面板，使得使用者能觀看到液晶面板所顯示的畫面。

一般的背光模組可分為直下式背光模組以及側入式背光模組。直下式背光模組係將光源置於液晶面板正下方，故光源可直接朝向液晶面板發出光線。側入式背光模組則係在液晶面板下方設置導光板，並將光源設置於導光板的側面。在使用時，光源可將光線射入導光板的側面，而光線在導光板中行進後，可從導光板的頂面射出至液晶面板。由於側入式背光模組的光源不是位於液晶面板正下方，無需垂直混光空間，故可降低液晶顯示裝置的厚度，利於液晶顯示裝置的薄型化設計，而蔚為主流。

除了薄型化設計外，目前的液晶顯示裝置亦逐漸朝向窄邊框的設計趨勢發展。在窄邊框的設計趨勢下，液晶顯示裝置的非可視區被設計得越來越窄，而由於側入式背光模組之光源係位於非可視區，故光源至可視區的距離將被迫縮小。當光源至可視區的距離縮小時，因混光距離不足，背光模組的出光將呈現亮暗不均的現象(又稱為hot spot現象)。此外，為了節省液晶顯示裝置的成本，製造者往往希望能夠減少光源的數量，但若減少光源的數量，勢必會增加相鄰兩光源之間的間距，此間距的增加也會導致上述的hot spot現象。

有鑑於此，本發明之一目的在於降低背光模組出光的亮暗不均的現象。

為了達到上述目的，依據本發明之一實施方式，一種背光模組包含一導光板以及一光源模組。導光板具有一入光面。入光面具有一長度方向。光源模組係設置於入光面旁。光源模組包含一反射框架、一光學調控膜以及至少一光源。反射框架具有一承載板與一反射罩。承載板與反射罩圍繞成一空間，且此空間具有一開口。此開口朝向入光面。光學調控膜係設置於承載板並覆蓋開口。光學調控膜具有複數出光結構。出光結構之光穿透量以最接近之光源在光學調控膜上的投影位置為起點沿著長度方向變化。光源係設置於承載板，光源發出一光線。光線射至反射罩並反射至光學調控膜，且部分光線通過出光結構。

於上述實施方式中，由於光源係容置於反射罩與承載板所圍繞之空間內，故光源所發出的部分光線會被反射罩反射至光學調控膜，並由光學調控膜的出光結構穿出，而進入導光板中。因此，光線可經過至少一次的反射過程後，才進入導光板中，故可增加光線從光源行進至導光板的路徑長度，從而利於混光，並且利用複數出光結構將光線分配出光，因而降低亮暗不均的現象。

依據本發明之另一實施方式，一種背光模組包含一導光板以及一光源模組。導光板具有一入光面。入光面具有一長度方向。光源模組係設置於入光面旁，且光源模組包含一反射框架以及至少一光源。反射框架具有一承載板與一反射罩。承載板與反射罩圍繞成一空間。反射罩具有一光學調控區。光學調控區正對入光面且光學調控區之範圍與入光面相對應。光學調控區具有複數出光結構。出光結構之光穿透量以最接近之光源在光學調控區上的投影位置為起點沿著長度方向變化。光源係設置於承載板。光源發出一光線。光線射至反射罩並反射至光學調控區，且部分光線通過該些出光結構之其中至少一者。

於上述實施方式中，由於光源係容置於反射罩與承載板所圍繞之空間內，故光源所發出的部分光線會被反射罩反射至其光學調控區，並由光學調控區的出光結構穿出，而進入導光板中。因此，光線可經過至少一次的反射過程後，才進入導光板中，故可增加光線從光源行進至導光板的路徑長度，從而利於混光，並且利用複數出光結構將光線分配出光，因而降低亮暗不均的現象。

以上所述僅係用以闡述本發明所欲解決的問題、解決問題的技術手段、及其產生的功效等等，本發明之具體細節將在下文的實施方式及相關圖式中詳細介紹。

1、2、3、4、5、9、7、8、9、10、11‧‧‧背光模組

100‧‧‧光源模組

110、110a、110b、110c、110d‧‧‧反射框架

111‧‧‧凹部

112‧‧‧承載板

114、114b、114c、114d‧‧‧反射罩

1142‧‧‧側板

1144‧‧‧頂板

1146‧‧‧光學調控區

120、120a‧‧‧光源

130、130a、130b‧‧‧光學調控膜

131‧‧‧第一區域

132、132a、132b‧‧‧出光結構

133‧‧‧第二區域

134、134a、134b‧‧‧反射區域

135‧‧‧凹部

200、200a‧‧‧導光板

210‧‧‧入光面

220‧‧‧出光面

300‧‧‧膜片

400‧‧‧電路板

500、500a‧‧‧背框

501‧‧‧底板

502‧‧‧容置槽

600、600a‧‧‧膠框

700‧‧‧導熱件

710‧‧‧凸部

CX1、CY1、CX2、CY2、CX3、CY3‧‧‧曲線

d‧‧‧等效直徑

F‧‧‧照射範圍

I‧‧‧虛擬位置

L‧‧‧光線

O、O’‧‧‧開口

R‧‧‧照射範圍

S、S’‧‧‧空間

t‧‧‧厚度

X‧‧‧長度方向

Y‧‧‧高度方向

θ‧‧‧最大張角

為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖繪示依據本發明第一實施方式之背光模組的局部剖面圖；第2圖繪示依據第1圖之光源模組與導光板的立體圖；第3圖繪示第1圖之背光模組的等效光路圖；第4圖至第6圖繪示本發明的比較例之模擬光形圖；第7圖繪示依據本發明第二實施方式之背光模組的剖面圖；第8圖繪示依據本發明第三實施方式之背光模組的剖面圖；第9圖繪示依據本發明第四實施方式之背光模組的剖面圖；第10圖繪示依據本發明第五實施方式之背光模組的剖面圖；第11圖繪示依據本發明第六實施方式之背光模組的剖面圖；第12圖繪示依據本發明第七實施方式之背光模組的剖面圖；第13圖繪示依據本發明第八實施方式之背光模組的剖面圖；第14圖繪示依據本發明第九實施方式之背光模組的剖面圖；第15圖繪示依據第14圖之光源模組與導光板的立體圖；第16圖繪示依據本發明第十實施方式之背光模組的剖面圖；以及第17圖繪示依據本發明第十一實施方式之背光模組的剖面圖。

以下將以圖式揭露本發明之複數實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，熟悉本領域之技術人員應當瞭解到，在本發明部分實施方式中，這些實務上的細節並非必要的，因此不應用以限制本發明。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。

第1圖繪示依據本發明之第一實施方式之背光模組1的局部剖面圖。如第1圖所示，於本實施方式中，背光模組1可包含光源模組100以及導光板200。光源模組100包含反射框架110、光源120以及光學調控膜130。進一步而言，反射框架110具有承載板112以及反射罩114，承載板112與反射罩114圍繞成空間S，且此空間S具有開口O。承載板112 用以承載光源120，反射罩114供光源120射出之光線反射混光；承載板112及反射罩114的反射率可為相同或不同，反射率較佳介於50%到100%之間，在本發明較佳實施例中，反射罩114係為高反射率材質或於內表面設置有高反射材質。承載板112以及反射罩114較佳為金屬材質，例如鋁板；然而在不同實施例中，承載板112以及反射罩114亦可為塑料材質或金屬材質與塑料材質混合所製成。

光源模組100係設置導光板200的入光面210旁，開口O係朝向入光面210。具體來說，可參閱第2圖，本圖繪示依據第1圖之光源模組100與導光板200的立體圖。如第2圖所示，光學調控膜130設置於承載板112並覆蓋開口O，光學調控膜130包含反射面134與複數個出光結構132，光源120產生的光線L可由反射面134及反射框架110的空間S中來回反射，並自出光結構132處穿出光學調控膜130。出光結構132可以是貫穿孔，亦可是非貫穿孔如壓痕等結構。以較佳實施例而言，反射面134形成於光學調控膜130朝向光源120之一側；複數出光結構132分別貫穿光學調控膜130。在第2圖所示之實施例中，光學調控膜130包含第一區域131及第二區域133，出光結構132設置於第一區域131，且第一區域131對應入光面210；而第二區域133不具有出光結構132且不對應入光面210。其中第一區域131與第二區域133範圍的調配，可依導光板200之入光面210的面積調整。因此，藉由調整出光結構132在第一區域131上不同位置的數量及大小，可分配來自光源120的光線L。於部分實施方式中，光學調控膜130與反射罩114一體成形。

導光板200之入光面210具有長度方向X以及垂直於長度方向X的高度方向Y。詳細地說，長度方向X為平行出光面220之方向，而高度方向Y為平行入光面210之方向。多個光源120係沿著長度方向X間隔地排列。如前所述，出光結構132在第一區域131上的不同位置可有不同的數量及/或大小，且出光結構132沿著導光板200之入光面210的長度方向X分佈，其中出光結構132的光穿透量可依據距離光源120之遠近而變化。

在本發明較佳實施例中，光穿透量係以最接近之光源120的在光學調控膜130上的投影位置為起點，沿著長度方向X依預設的第一函數之函數值變化。換言之，第一函數的函數值(光穿透量)將隨著距離光源120在光學調控膜130上的投影位置的距離增加而漸增。此外，第一函數並可隨光源120的形狀或其對稱的方向性而有不同。第一函數較佳為多項式函數，例如二次或三次以上多項式函數，但不以此為限。在本發明一實施例中，第一函數為如下所示的多項式函數：Tr=k₁pⁿ+k₂p^n-1+k₃p^n-2+....+k_np+m 其中k₁~k_n與m分別為依光學需求調整之係數，p為出光結構132與最接近該光學結構132之光源120於光學調控膜130上的投影位置之間的距離，Tr為該位置的光穿透量。以50吋面板的背光模組為例，第一函數為如下所示的多項式函數：Tr=Ap²+Bp¹+C A=-0.0003 B=0.0232 C=0

接著，自光源120所發出的光線L透過光學調控膜130分配，提高背光模組出光的均勻度且解決光源120造成的亮暗不均現象。於部分其他實施方式中，可依需求調整第一區域131中出光結構132的分佈，出光結構132亦可同時沿著導光板200之入光面210的長度方向X及高度方向Y分佈，且出光結構132的光穿透量係以最接近之光源120的在光學調控膜130上的投影位置為起點，依預設的第一函數之函數值變化。

由於光源120所發出的光線L係被反射罩114反射後，再穿過光學調控膜130的出光結構132，故從光源120所發出的部分光線L可經過至少一次的反射過程後，才進入導光板200中。因此，即使在窄邊框的設計下，光源120與導光板200的距離縮短，但由於光線L從光源120射出至導光板200的路徑長度可被拉長，故可利於混光，以降低出光亮暗不均的現象。

上述出光結構132為圓形穿孔的形式，但穿孔的形狀並不限於上述之圓形，在其他實施例中，亦可以為橢圓形、三角形及其他型式的四邊形，甚至每一出光結構132的形狀不相同。其中各穿孔的面積皆與一圓具有相同面積，即具有等同此圓之等效直徑d。如第2圖所示，出光結構132的等效直徑d與出光結構132至最接近之光源120在光學調控膜130上的投影位置之距離成正比。換句話說，越遠離光源120的出光結構132具有越大的等效直徑d，而具有越高的光穿透量。因此，當光源120發光時，即使光源120所發出的光線在行進過程中，其能量會遞減，但由於越遠離光源120的出光結構132允許較多光線通過，而越靠近光源120的出光結構132允許較少光線通過，故光源模組100在沿著長度方向X上的亮度可較為均勻，而降低亮暗不均的現象。此外，由於亮暗不均的現象可因上述方式被降低，故可增加相鄰兩光源120間的間距，亦即減少光源120的數量，從而節省成本。

第3圖繪示第1圖之背光模組的等效光路圖。如第3圖所示，於部分實施方式中，光源120可為發光二極體。發光二極體的發光場形為張角約120度的場形，由於此場形在張角120度外仍有許多的雜散光，故由光源120所發出的許多雜散光無法進入導光板200中，而造成耦光效率的下降。因此，可利用光學調控膜130與出光結構132的設置，分配光源120所發出的光線，以提升耦光效率。在本發明較佳實施例中，光學調控膜130的厚度小於1mm。此外，光學調控膜130的厚度t與出光結構132的等效直徑d的關係較佳依據關係式d/t<3.4。當滿足此關係式時，即使光源120極靠近出光結構132，甚至位於出光結構132上的虛擬位置I，光源120朝向導光板200所能發出的光形之最大張角θ也會因為受到上述等效直徑d與厚度t的限制，而小於120度，故可提高耦光效率。

舉例來說，可參閱第4圖至第6圖所繪示的比較例之模擬光形圖，其中，第4圖係傳統光源模組不具有光學調控膜130所模擬出來的光形圖，其中曲線CX1係代表沿著長度方向X(可參閱第2圖)分佈的光形，而曲線CY1係代表沿著高度方向Y(可參閱第2圖)分佈的光形。第5圖係採用第2圖的光源模組100，而出光結構132的等效直徑d與光學調控膜130之厚度t的比值為4.9時，所模擬出來的光形圖，其中曲線CX2及CY2係分別代表沿著長度方向X及高度方向Y分佈的光形。第6圖係採用第2圖的光源模組100，而出光結構132的等效直徑d與光學調控膜130之厚度t的比值為1.3時，所模擬出來的光形圖，其中曲線CX3及CY3係分別代表沿著長度方向X及高度方向Y分佈的光形。

如第4及5圖所示，曲線CX2所涵蓋的區域比曲線CX1所涵蓋的區域更窄，亦即，曲線CX2所代表的光形比曲線CX1所代表的光形更集中。因此，光學調控膜130的設置可使光源模組100在長度方向X上的光形更集中。相似地，曲線CY2所涵蓋的區域比曲線CY1所涵蓋的區域更窄，亦即，曲線CY2所代表的光形比曲線CY1所代表的光形更集中。因此，光學調控膜130可使光源模組100在高度方向Y上的光形更集中。

如第5及6圖所示，曲線CX3所涵蓋的區域比曲線CX2所涵蓋的區域更窄，亦即，曲線CX3所代表的光形比曲線CX2所代表的光形更集中。因此，光源模組100在光學調控膜130的d/t值小於3.4相較於d/t值大於3.4在長度方向X上的光形更為集中。相似地，曲線CY3所涵蓋的區域比曲線CY2所涵蓋的區域更窄，亦即，曲線CY3所代表的光形比曲線CY2所代表的光形更集中。因此，光源模組100在光學調控膜130的d/t值小於3.4相較於d/t值大於3.4在高度方向Y上的光形更為集中。

由第4至6圖可知，設置光學調控膜130不僅可使光源模組100的光形集中，當d/t的值小於3.4時，光源模組100的光形收斂的效果更佳。因此，當等效直徑d與厚度t實質上滿足：d/t<3.4時，可有效集中光形。另外，從第4圖模擬結果可知，當採用無光學調控膜130的傳統光源模組時，若光源120發出1瓦的光，則導光板200可接收到0.4856瓦的光，其耦光效率為48.56%；當採用光學調控膜130的d/t值為4.9之光源模組100時，若光源120發出1瓦的光，則導光板200可接收到0.4655瓦的光，其耦光效率為46.55%；當採用d/t的值為1.3之光源模組100時，若光源120發出1瓦的光，則導光板200可接收到0.5195 瓦的光，其耦光效率為51.95%。由此可知，當等效直徑d與厚度t實質上滿足：d/t<3.4時，不但能收斂光形更可有效提高耦光效率。

請復參閱第1圖，反射框架110剖面呈ㄈ字形的剖面形狀，以圍繞成空間S。如第1圖所示，反射罩114可包含側板1142及頂板1144，側板1142連接於頂板1144與承載板112之間，頂板1144與承載板112實質上平行，且兩者均實質上垂直於側板1142，以共同構成ㄈ字形的剖面形狀。然而反射框架110的剖面形狀可為其他形狀，在本發明之第二實施方式之背光模組2及第三實施方式之背光模組3中，分別如第7圖、第8圖所示，反射框架110a/110b所包含的反射罩114a/114b與承載板112夾有一角度。兩者差異在於，第7圖之實施方式的反射罩114a為一弧形板體，使反射框架110a的剖面呈扇形；第8圖之實施方式的反射罩114b為一傾斜的斜面，使反射框架110b的剖面呈三角形。藉由調整反射罩114a/114b與承載板112之間的角度θ，來提高光線在空間S的混光效果。角度θ最佳為小於90度。

第9圖繪示依據本發明第四實施方式之背光模組4的剖面圖。本實施方式與第一實施方式(如第1圖所示)之間的差異在於：第一實施方式之背光模組1的導熱件700係設置於背框500上，且僅承載導光板200而不承載光源模組100。本實施方式之背光模組4的導熱件700具有一凸部710，凸部710上設置導光板200，且凸部710相對於導光板200之一側的部分導熱件700上設置光源模組100。在本發明較佳實施中，光源120之電路板400較佳設置於承載板112之外側。如此一來，光源120發光時所產生的熱能可藉由電路板400直接傳導給導熱件700，再由導熱件700傳導給背框500而快速散熱至環境中。於部分實施方式中，導熱件700的材質可為導熱佳的金屬如銅、鋁等，但本發明並不以此為限。

第10圖繪示依據本發明第五實施方式之背光模組5的剖面圖。如第10圖所示，本實施方式與前述實施方式之間的主要差異係在於背框500a的不同。進一步來說，如第10圖所示，背框500a具有底板501以及容置槽502。底板501與容置槽502相連。底板501用以承載導光板200。容置槽502容置光源模組100，且容置槽502底部之水平高度低於底板501之水平高度。更具體地說，光源模組100的反射框架110之承載板112係設置於容置槽502之底部，而由於容置槽502底部之水平高度低於底板501之水平高度，因此，導光板200所在位置的水平高度會高於光源120所在位置的水平高度，如此承載板112與反射罩114所圍繞的空間S擴大以增加混光空間，而降低出光亮暗不均的現象。

第11圖繪示依據本發明第六實施方式之背光模組6的剖面圖。本實施方式與第10圖所示第五實施方式之間的主要差異在於：導光板200a係部分承載於底板501並係部分露出於容置槽502之槽口，且導光板200a露出於容置槽502之槽口的部分在容置槽502之底部上的垂直投影與至少部分光源模組100重疊。如此一來，光學調控膜130內凹成一凹部135，且光學調控膜130的剖面為L形以容置導光板200a露出於容置槽502之槽口的部分，可同時達到窄邊框的設計並具有足夠的混光空間。

第12圖繪示依據本發明第七實施方式之背光模組7的剖面圖。本實施方式與前述實施方式之間的主要差異在於：本實施方式係採用膠框600a做為光源模組100的反射框架。進一步來說，膠框600a圍繞成空間S’。此空間S’具有開口O’。光源120係容置於膠框600a所圍繞的空間S’，而光學調控膜130係覆蓋開口O’。光源120所發出的光線可被膠框600a圍繞成的空間S’之壁面反射，並從光學調控膜130的出光結構132穿出空間S’外。由於本實施方式直接採用膠框600a做為反射框架，故可省卻額外製作反射框架所需的成本並縮小背光模組之尺寸。

第13圖繪示依據本發明第八實施方式之背光模組8的剖面圖。本實施方式與前述實施方式之間的主要差異在於光源120a設置位置的不同。進一步來說，反射框架110之承載板112包含延伸部1122，延伸部1122平行於導光板200之入光面210，且光源120a設置於延伸部1122的表面上。具體來說，承載板112剖面成L形，與反射罩114共同圍繞成空間S，此空間S具有開口O。光學調控膜130係覆蓋開口O。當光源120a設置於延伸部1122之朝向開口O的表面上時，可增加光萃取效率。另外，於本實施方式中，亦可在電路板400與背框500之間設置導熱件700。如此一來，光源120發光時所產生的熱能可藉由電路板400傳導給導熱件700，再由導熱件700傳導給背框500。

第14圖繪示依據本發明第九實施方式之背光模組9的剖面圖。本實施方式與前述實施方式之間的主要差異在於：本實施方式的反射框架110c之反射罩114c具有光學調控區1146。光學調控區1146正對入光面210，且光學調控區1146之範圍與入光面210相對應，光學調控區1146之局部區域可供光源120所發出的光線穿透至導光板200的入光面210。

具體來說，可參閱第15圖，本圖繪示依據第14圖之光源模組100與導光板200的立體圖。如第15圖所示，光學調控區1146具有複數個出光結構1147及反射面1148。光源120產生的光線L可由反射面1148及反射罩114c的空間S中來回反射，並自出光結構1147處穿出光學調控區1146。出光結構1147可以是貫穿孔，亦可是非貫穿孔如壓痕等結構。以較佳實施例而言，反射面1148形成於光學調控區1146朝向光源120之一側；複數出光結構1147分別貫穿光學調控區1146。

由於光源120所發出的光線L係被反射罩114c反射後，再穿過光學調控區1146的出光結構1147，故從光源120所發出的部分光線L可經過至少一次的反射過程後，才進入導光板200中。因此，即使在窄邊框的設計下，光源120至位於可視區的導光板200的距離較短，但由於光線L從光源120射出至導光板200的路徑長度可被拉長，故可利於混光，以降低出光亮暗不均的現象。

上述出光結構1147為圓形穿孔的形式，但穿孔的形狀並不限於上述之圓形，在其他實施例中，亦可以為橢圓形、三角形及其他型式的四邊形，甚至每一出光結構1147的形狀不相同。其中各穿孔的面積皆與一圓具有相同面積，即具有等同此圓之等效直徑d。如第15圖所示，出光結構1147的等效直徑d與出光結構1147至最接近之光源120在光學調控區1146上的投影位置之距離成正比。換句話說，越遠離光源120的出光結構1147具有越大的等效直徑d，而具有越高的光穿透量。因此，當光源120發光時，即使光源120所發出的光線在行進過程中，其能量會遞減，但由於越遠離光源120的出光結構1147允許較多光線通過，而越靠近光源120的出光結構1147允許較少光線通過，故光源模組100在沿著長度方向X上的亮度可較為均勻，而降低亮暗不均的現象。此外，由於亮暗不均的現象可因上述方式被降低，故可增加相鄰兩光源120間的間距，亦即減少光源120的數量，從而節省成本。

第16圖繪示依據本發明第十實施方式之背光模組10的剖面圖。如第16圖所示，本實施方式與前述實施方式之間的主要差異係在於背框500a的不同。進一步來說，如第16圖所示，背框500a具有底板501以及容置槽502。底板501與容置槽502相連。底板501可承載導光板200。容置槽502容置光源模組100，且容置槽502底部之水平高度低於底板501之水平高度。更具體地說，光源120係承載於容置槽502之底部，而由於容置槽502底部之水平高度低於底板501之水平高度，因此，導光板200所在的位置會高於光源120所在的位置，如此可利於增加反射框架110c的高度，從而增加承載板112與反射罩114c所圍繞的空間S的體積，以擴大混光空間，而幫助降低出光亮暗不均的現象。

第17圖繪示依據本發明第十一實施方式之背光模組11的剖面圖。本實施方式與第16圖所示實施方式之間的主要差異在於導光板200a位置的不同。進一步來說，導光板200a係部分承載於底板501並係部分露出於容置槽502之槽口。更具體地說，部分的導光板200a係懸空於容置槽502的開口，並位於光源120的正上方，亦及，此部分的導光板200a會遮蔽至少部分光源120。換句話說，此部分的導光板200a在容置槽502之底部上的垂直投影與至少部分光源120相重疊。如此一來，光源120的位置可內縮至導光板200a下方，從而利於窄邊框的設計。於部分實施方式中，為了利於使導光板200a位於光源120正上方，反射框架110d之反射罩114d可包含內縮缺口111，以容置懸空於容置槽502的部分導光板200a。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims

一種背光模組，包含：一導光板，具有一入光面，該入光面具有一長度方向；以及一光源模組，設置於該入光面旁，包含：一反射框架，具有一承載板與一反射罩，該承載板與該反射罩圍繞成一空間，且該空間具有一開口，該開口朝向該入光面；一光學調控膜，設置於該承載板並覆蓋該開口，該光學調控膜具有複數出光結構區，每一該些出光結構區包含複數出光結構，在每一該些出光結構區內，位於該出光結構區之中央的該些出光結構之一者的面積比位於該出光結構區之相對兩端的該些出光結構之兩者的面積大，該些出光結構之其中至少一者具有一等效直徑，且該光學調控膜具有一厚度，其中該等效直徑與該厚度的比值實質上小於3.4；以及至少一光源，設置於該承載板，該光源係位於該些出光結構區之相鄰兩者之間，該光源發出一光線，該光線射至該反射罩並反射至該光學調控膜，且部分該光線通過該些出光結構之其中至少一者。
如請求項1所述之背光模組，其中該光學調控膜包含一第一區域及一第二區域，該些出光結構設置於該第一區域，且該第一區域對應該入光面。
如請求項1所述之背光模組，其中該些等效直徑與該些出光結構至最接近之該光源在該光學調控膜上的投影位置之距離成正比。
如請求項1所述之背光模組，更包含一背框，該背框具有一底板及一容置槽，該底板與該容置槽相連，該底板承載該導光板，該容置槽容置該光源模組，且該容置槽底部之水平高度低於該底板之水平高度。
如請求項4所述之背光模組，其中該導光板部分承載於該底板並部分露出於該容置槽之槽口，且該導光板之露出於該槽口之該部分在該容置槽之底部上的垂直投影與至少部分該光源模組重疊。
如請求項1所述之背光模組，其中該光學調控膜與該反射罩一體成形。
如請求項1所述之背光模組，其中該反射罩與該承載板夾有一角度，該角度係小於90度。
一種背光模組，包含：一導光板，具有一入光面，該入光面具有一長度方向；以及一光源模組，設置於該入光面旁，包含：一反射框架，具有一承載板與一反射罩，該承載板與該反射罩圍繞成一空間，該反射罩具有一頂板、相對兩側板以及一光學調控區，該兩側板係連接於該頂板與該承載板之間，該光學調控區係位於該兩側板中較靠近該導光板之一者，並正對該入光面且該光學調控區之範圍與該入光面相對應，該光學調控區具有複數出光結構，該些出光結構之面積以最接近之該光源在該光學調控區上的投影位置為起點沿著該長度方向變化，其中該光學調控區係位於該頂板與該承載板之間，且該頂板至該承載板的最大距離係大於該導光板的厚度；以及至少一光源，設置於該承載板並位於該兩側板之間，該光源發出一光線，該光線射至該反射罩並反射至該光學調控區，且部分該光線通過該些出光結構之其中至少一者。
如請求項8所述之背光模組，其中該些出光結構之其中至少一者具有一等效直徑，且該光學調控區具有一厚度，其中該等效直徑與該厚度的比值實質上小於3.4。
如請求項8所述之背光模組，其中該些等效直徑與該些出光結構至最接近之該光源在該光學調控區上的投影位置之距離成正比。
如請求項8所述之背光模組，更包含一背框，該背框具有一底板及一容置槽，該底板與該容置槽相連，該底板承載該導光板，該容置槽容置該光源模組，且該容置槽底部之水平高度低於該底板之水平高度。
如請求項11所述之背光模組，其中該導光板部分承載於該底板並部分露出於該容置槽之槽口，且該導光板之露出於該槽口之該部分在該容置槽之底部上的垂直投影與至少部分該光源模組重疊。
如請求項8所述之背光模組，其中該反射罩與該承載板夾有一角度，該角度係小於90度。