TWI617343B - 用於氣體回收及再使用的系統及方法 - Google Patents

Abstract

製程氣體(例如但不限於，氦)能用於製造各式各樣的物件。本文描述的是用以收集，再使用及再循環用於生產程序的製程氣體而非將這些材料當成廢棄物處理的方法。

Description

用於氣體回收及再使用的系統及方法 相關申請案之相互參照

本案請求2014年1月13日申請的美國臨時申請案第61/926,649的優先權。在此以引用的方式將本臨時申請案的揭示內容的全文併入本文。

本文描述的是用於製造物件，例如舉例來說，氦(He)，的製程氣體之回收系統及方法。本文也描述回收並且接著將該製程氣體再使用於製造物件之系統及方法。

氦(He)係用於製造各式各樣的物件之製程氣體。因為該氣體具有極端的熔點和沸點，並且具有高導熱率，所以其適合用於各式各樣物件的製造例如光纖、高能加速器及矽晶圓製造並且用於某些程序例如電弧熔接。儘管He係地球大氣層中第二種最豐富的元素，但是大氣層中大多數的He卻洩放至太空中。用於工業用途的氦氣係按照天然氣生產的副產物形式製得。

因為氦對於20世紀中葉的軍事偵察及太空爆炸 很重要，所以美國國會委託全國性的政府獎勵私人氦生產者出售他們的氦給政府當成聯邦氫計畫(Federal Helium Program)的部分。單獨美國便生產全世界的氦的百分之75。全世界的氦供應量全部接近有一半或大致上百分之30來自於美國聯邦氦氣儲備局(Federal Helium Reserve)。聯邦政府，其規定氦價格，在四月發表氦價格大概從2012年財政年度的每千立方呎(Mcf)$75.75攀升到2013年財政年度的每千立方呎$84。此伴隨著不確定的聯邦政策而來的價格攀升會造成短缺的威脅。

因此，必須提供一種用於捕捉製程氣體(例如但不限於，氦)及/或其他製程氣體以便再使用及/或再循環於生產程序之方法、系統、設備或其組合。此技藝必須降低被運送至生產設備的製程氣體的成本。此技藝還必須縮減用於該生產程序的製程氣體的廢棄物。

本文所述的方法、系統及設備能滿足此技藝的至少一需求。在一態樣中，提供了一種用於捕捉並且回收來自至少一生產設備的製程氣體之設備，該製程氣體被用於該至少一生產設備，其包含：(a)至少一生產設備，其包含用於引進製程氣體的輸入管線，其中該至少一生產設備與製程控制器電氣通訊；(b)一流出管線，其與至少一生產設備流通並且在該物件於該至少一生產設備中加工之後移除用過的製程氣體； (c)一閥，其係於該流出管線中，使來自該生產設備的用過的製程氣體能被移除；(d)一回收管線，其係於該閥的上游，將該用過的製程氣體引至處理管線；及(e)該處理管線，其包含純化器，其中該用過的製程氣體係於該純化器中處理以提供回收的製程氣體。

在一態樣中，本文所述的設備另外包含與該處理管線流通的回收容器，其中該回收容器包含該回收的製程氣體。在此態樣或可供選擇的態樣中，本文所述的設備另外包含經由該輸入管線將該回收的製程氣體引進該至少一生產設備。

在另一態樣中，提供一種用於捕捉並且回收來自使用該製程氣體的至少一生產設備的製程氣體之系統，其包含：(a)至少一生產設備，其具有用於引進該製程氣體的一或更多管線，與製程控制器電氣通訊；(b)一流出管線，其係來自該至少一生產設備，能移除被引進該生產設備的製程氣體；(c)一閥，其係於該流出管線中，使來自該生產設備的製程氣體能被移除並且防止至少一部分流出物返回該至少一生產設備；(d)一回收管線，其連結至該至少一生產設備，或該流出管線，在該閥的上游，能移除來自該生產設備或流出管線的製程氣體並且將其運送至一處理管線；(e)一製程控制器；及， (f)該回收容器，其與該製程控制器電氣通訊並且能罩住該回收的製程氣體。在一特定具體實施例中，該製程氣體包含氦。

在另一態樣中，提供一種用於捕捉並且回收製程氣體之方法，其步驟包含：將製程氣體提供給製程設備，該製程設備內具有待加工的物件；以該製程氣體加工該物件以提供用過的製程氣體；經由流出管線移除來自該製程設備的用過的製程氣體；及處理該用過的製程氣體以提供回收的製程氣體。

在一態樣中，本文所述的方法進一步將該回收的製程氣體引入回收容器，例如但不限於，儲存筒或槽以容納該回收的製程氣體。在此態樣或可供選擇的態樣中，本文所述的方法另外包含經由該輸入管線將該回收的製程氣體引進該至少一生產設備。

10‧‧‧製程氣體輸入端

15‧‧‧製程控制器

20‧‧‧進料管線

22‧‧‧壓力感應器

23‧‧‧閥

25‧‧‧質流控制器

28‧‧‧粒子過濾器

30‧‧‧純度補給製程管線

33‧‧‧閥

40‧‧‧起動填充或洗淨管線

43‧‧‧閥

45‧‧‧質流控制器

50‧‧‧回收歧管/He洗淨管線

60a‧‧‧流出管線

60b‧‧‧流出管線

60c‧‧‧流出管線

65‧‧‧主要集管流出管線

70‧‧‧處理管線

71‧‧‧閥

80‧‧‧感測器

83‧‧‧純化旁通管線

85‧‧‧閥

90‧‧‧過濾器

93‧‧‧壓力感測器

96‧‧‧閥

97‧‧‧壓縮器

98‧‧‧壓力控制管線

99‧‧‧冷卻器

100‧‧‧純化再循環管線

110‧‧‧純化調節槽

113‧‧‧液位感測器

115‧‧‧自動排水閥

117‧‧‧凝液排水管

119‧‧‧閥

120‧‧‧純化管線

125‧‧‧純化器

130‧‧‧終端產物管線

131‧‧‧通風管線

133‧‧‧轉換器

135‧‧‧閥

137‧‧‧壓力感應器

139‧‧‧通風口

140‧‧‧壓縮器

145‧‧‧止回閥

150‧‧‧壓縮最終產物氣體管線

160A‧‧‧生產設備輸入管線

160B‧‧‧生產設備輸入管線

160C‧‧‧生產設備輸入管線

163‧‧‧控制閥

165‧‧‧主要氣體集管

167‧‧‧槽

171‧‧‧感測器

173‧‧‧感測器

175‧‧‧感測器

180‧‧‧純度感測器

181‧‧‧閥

260‧‧‧生產設備

260A‧‧‧生產設備

本發明將在後文中聯合附圖來描述。

圖1提供用以在將該回收的製程氣體運送至至少一生產設備以前捕捉並且回收來自該至少一生產設備的製程氣體例如氦之裝備、系統及方法的具體實施例，該至少一生產設備顯示該系統的構件。

圖2顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實 施例，其描繪來自多數生產設備及與其相關的流出管線的用過的製程氣體之回收方式，該等流出管線接著被引至另一系統以便處理該用過的製程氣體。

圖3顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實施例，其描繪該用過的製程氣體正在進行一或更多處理。

圖4顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實施例，其描繪來自圖3的經處理的製程氣體正在進行一或更多其他處理例如純化。

圖5顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實施例，其描繪來自圖4的經處理純化的製程氣體或回收氣體正在進行一或更多其他處理例如壓縮。

圖6顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實施例，其描繪來自圖5的回收的製程氣體正被引至與多數製程設備流通的歧管。

圖7顯示本文所述的系統裝備、系統及方法之一具體實施例，其描繪供該製程氣體用的至少一生產設備及輸入管線及供該用過的製程氣體用的流出管線。

材料回收提供降低生產程序所產生的成本及廢棄物量之機會。半導體製程的流出物，例如氦或其他製程氣體能予以回收以供再使用而非按目前的方式當廢棄物處理。材料回收改善廢棄物的利用效率，保存有限資源，及/或縮減製造物件所產生的廢棄物量。儘管本文所述的方法、系統及/ 或設備係用於捕捉並且再使用生產物件時使用的氦(He)，但是咸相信本文所述的方法、系統及/或設備能延伸至其他製程氣體，例如但不限於，氫或下述稀有氣體(氖、氬、氪、氙及/或其組合)。然而，本文所述的系統、方法及設備中也能使用除了能經由薄膜技術進行純化之本文所述者以外的其他製程氣體。

本文所述的是一種依照將生產廢棄物減至最少並且使該(等)用過的製程氣體能被捕捉以便再使用於該製程之產量回收期望製程氣體，例如，但不限於He的手段。如本文所用的措辭“用過的製程氣體”意指生產物件時使用的製程氣體。在本文所述的方法、系統及設備之一具體實施例中，捕捉該用過的製程氣體並且接著進行一或更多下述處理：純化、壓縮、儲存及/或凝聚以符合該製程氣體的製程要求，例如純度、濕度、微粒、壓力、體積或其他要求以提供回收的製程氣體。在一具體實施例中，此回收的製程氣體能接著被再引進回到該生產程序。在一可供選擇的具體實施例中，該回收的製程氣體能儲存起來以供用於相同或不同生產程序。

先前，將製程氣體例如He運送至用於加工物件的一或更多生產設備內包含的氣氛中，再導引至生產設備廢氣並且當生產廢棄物處理。本文所述的方法、系統及設備使包含製程氣體的生產廢棄物或包含He的用過的製程氣體能被捕捉到儲存容器例如儲存筒中並且接著移除以供另一用途及/或未來的生產。該等捕捉方法將該製程氣體或He儲存於容器或回收容器中以供處理例如純化(必要的話)及其後的再使 用。本文所述的方法也能移除該至少一生產設備的流出物，對其進行一或更多處理，並且接著將該經處理的製程氣體再使用於該至少一生產設備。關於該用過的He或製程氣體能使用本文所述的方法再使用以提供回收的製程氣體而獲得的示範產量包括一或更多下述端點：以淨材料供應量為基準計為10體積%或更高、20體積%或更高、30體積%或更高、40體積%或更高、50體積%或更高、55體積%或更高、60體積%或更高、65體積%或更高、70體積%或更高、75體積%或更高、80體積%或更高或90體積%或更高。本文也描述能有效率地捕捉該製程氣體或He以供再使用於生產。

隨後的詳細描述僅提供較佳的示範具體實施例，而且無意限制本發明的範疇、應用性或組態。確切地說，該等較佳示範具體實施例於隨後的詳細描述將提供用以實行關於本發明的較佳示範具體實施例之授權說明。多構件的功能及排列能做不同的變更而不會悖離附加的申請專利範圍之精神及範疇。

如說明書和申請專利範圍中使用的措辭“導管”表示一或更多結構，流體能通過該一或更多結構於一系統的二或更多組件之間輸送。舉例來說，導管能包括運送液體、蒸氣、氣體及其組合的細管、輸送管、導管、通道及其組合。

如說明書和申請專利範圍中使用的措辭“流通”表示使液體、蒸氣、氣體或其組合能以控制方式(亦即，不洩漏)於多組件之間運送的二或更多組件之間的連接性質。連接二或更多組件使其互相流通會涉及此技藝中已知的任何適當 方法，例如搭配附件、熔接件、凸緣導管、填塞物及螺釘的運用。二或更多組件也能經由該系統的其他組件連起婡，該等其他組件將該二或更多組件隔開。

如說明書和申請專利範圍中使用的措辭“電氣通訊”表示本文所述的設備、系統或方法之二或更多組件之間的連接性質。在一具體實施例中，一組件可能是CPU中央處理單元(CPU)、製程控制器、電腦、無線信號接受器或能導引，接受或導引並且接受本文所述的設備、系統或方法內之一或更多組件以啟動或關閉一或更多其中所述的組件之其他裝置。該CPU、製程控制器等等也能監測該系統、設備及/或方法以便遵守一定的預定標準或製程要求。舉例來說，在圖1至7所示的具體實施例中，舉例來說，用CPU 15來監測設備5的某些態樣例如壓力、純度、He的百分比及/或其他參數。

為了有助於描述本發明，方向措辭可用於說明書和申請專利範圍中以描述本發明的部位(例如，上方、下方、左側、右側等等)。這些方向措辭僅為了協助描述並且請求本發明，而且無意依任何方式限制本發明。除此之外，為了提供關於其他特徵的前後關聯，加於與圖形相關的詳述中之參考數字可能重複出現於一或更多其後的圖形而沒於說明書中額外描述。

圖1提供本文所述的方法、系統及設備之一具體實施例，其中該製程氣體包含氦。將製程氣體或He供入該至少一生產設備(其於圖7中表示成260A)以加工裝在裡面的物件。在He引入該設備之前，使用真空系統將內部容積任意抽 空(真空系統沒顯示)。如圖1舉例說明的，He係當來自純He的供應櫃或廠用供應源(house supply)的製程氣體提供並且表示成製程氣體輸入端10。製程氣體輸入端10伴隨著進料管線20移動，該進料管線20可能另外包括壓力感應器22。壓力感應器22與導引及/或監測製程氣體通過該系統的流動之製程控制器或中央處理單元(CPU)15電氣通訊。如圖1所示，CPU 15與壓力感應器22及質流控制器25電氣通訊。進料管線20包括粒子過濾器28並且可能另外包括一或更多任意止回閥(沒顯示)以防止製程氣體流回該廠用供應源。質流控制器25將運送至該至少一生產設備的製程氣體流量控制於一定的流速例如，舉例來說，130標準立方釐米(sccm)。然而，該製程氣體的流速及其他屬性能依據系統要求由終端使用者來調整。圖1中也顯示具有與CPU 15電氣通訊的閥33之純度補給製程管線30，若在進行一或更多處理之後進料管線20中的氣體濃度超出製程規格，則該純度補給製程管線30將提高該製程氣體的純度。將來自進料管線20的製程氣體引進本文圖5所示的系統。往回參照圖1，在電力無法送到該系統的事件中閥23能提供自動填充。具有與CPU 15電氣通訊的閥43之製程管線40提供另一製程管線以提供起動填充/洗淨作用給該至少一生產設備來避免，舉例來說，任何生產停機時間。任意起動填充或洗淨管線40另外包括質流控制器45並且與回收歧管/He洗淨管線50流通。回收歧管/He洗淨管線50係引進圖2所示的系統構件。

圖2描述被指定為60a、60b及60c的多數流出 管線，等到該製程氣體已經在製造物件時用於該生產設備(在圖7表示成生產設備260A)之後本文所述的方法、系統及設備從多數生產設備再捕捉該用過的製程氣體。將來自多重生產設備的設備流出管線60a至60c之製程氣體流或用過的製程氣體併作主要集管流出管線65。將純製程氣體從圖1所示的系統經過製程管線(例如，回收歧管He洗淨)50運送至主要流出管線65中。等到該製程氣體用於該一或更多生產設備之後，該用過的製程氣體係經過設備流出管線60a至60c導引回來並且合併進入主要流出管線65經過處理管線70而藉由一或更多製程(例如，但不限於，純化)來處理。在圖2所示的具體實施例中，感測器80提供從該至少一生產設備出來之用過的回收製程氣體的純度之即時測量。在一具體實施例中，感測器80與製程控制器例如所顯示的CPU 15電氣通訊。在一特定具體實施例中，該系統係於低於大氣壓力(例如，-2psig或700Torr)下運轉以使該製程氣體的損失減至最低。在其他具體實施例中，能使用真空泵(沒顯示)從至少一製程設備抽走該用過的製程氣體。主要流出管線65與處理管線70流通。

圖3描繪經過處理管線70將主要流出管線65中之用過的製程氣體送去處理的系統態樣。處理管線70另外包含用以移除該處理管線70中包含的任何微粒之過濾器90及壓力感測器93。過濾器90及壓力感測器93可能另外與該製程控制器例如所示的CPU 15電氣通訊以使終端使用者能監測流量及該系統各處的製程氣體的其他態樣。在圖3所示的具 體實施例中，壓力感測器93與壓力控制管線98中的閥96電氣通訊。圖3另外顯示被描繪成純化再循環管線100(其來自圖4所示的純化系統)的製程氣體輸入端，其中將無法符合一或更多系統要求之經處理的製程氣體再引進回到該處理循環中。處理管線70包含純化調節槽110，該純化調節槽110包含液位感測器113及能將任何溢流的水導引至凝液排水管117中的自動排水閥115。純化調節槽110收集從處理管線70移除的水。處理管線70也包含壓縮器97及冷卻器99。壓縮器97藉由再循環一部分氣體來管環輸入壓力以確使處理管線70保持一致的壓力。冷卻器99從該製程氣體移除熱和水而且可能任意包含濕度控制閥(沒顯示)。處理管線70另外包含純化旁通管線83，該純化旁通管線83包含閥85。純化旁通管線83使終端使用者能追加前往該至少一生產設備(顯示於圖7)的主要輸入集管以達到對連至至少一生產設備的輸入端的製程要求。舉例來說，被該製程控制器測量並且分析的系統監測輸出端確定該經處理的用過的製程氣體之純度足夠，該純化旁通使此氣體能導引至該至少一生產設備而不需純化。這將改善該系統的總體效率。等到該用過的製程氣體被壓縮並且隨後乾燥之後，接著經過閥119將其導引至純化管線120中。如圖3所示，閥119、閥115、液位感測器113、過濾器90及壓力感應器93均與CPU 15電氣通訊。

圖4顯示該用過的製程氣體的處理，對其進行純化。在圖4所示的系統中，經由一或更多薄膜對該用過的製程氣體進行純化。其他純化方法也能使用例如吸收、吸附、 蒸餾或類似手段。能想像一或更多可供選擇的或追加的處理方法能根據系統要求採行。圖3的純化管線120根據生產需求而引進一或更多純化器125。純化管線120根據選定的純化方法包含壓力感應器137及閥135。在圖4所示的具體實施例中，該系統在純化器125中運用薄膜純化，其必需於該系統各處的不同點處保持並且計算該製程氣體的流量。此態樣態使用CPU 15所示的製程控制器來控制，該CPU 15與下述一或更多構件電氣通訊：純化器125、轉換器133、轉換器137及調節器135。圖4描繪純化旁通管線83(其係顯示於圖3)，其與被表示成終端產物管線130之經純化的終端產物混合。當該製程氣體的純度足夠而不需純化時便利用純化旁通管線83。圖4也描繪經過通風口139洩放該製程氣體內包含的污染物之通風管線131，該等污染物係經由主要流出管線65(顯示於圖2)引進該系統。最後一點，圖4顯示再循環流100，其經過調節器137將不合格的製程氣體100(例如，無法符合一或更多製程要求的製程氣體)引離純化器125，並且將該經處理的製程氣體再引進回到圖3所示的處理系統中。

圖5顯示來自圖4所示的系統之經純化的最終產物130被引進該壓縮器140，其能接著經過圖6的主要輸入管線165再引進至少一生產設備。壓縮器140調節進來的氣體之壓力以符合生產設備要求以提供150所示的壓縮最終氣體。圖5另外描繪止回閥145，其防止來自進料管線20的純氦逆流(顯示於圖1)逆流至該壓縮器中。若該經處理的製程氣體純度不符合系統要求則純He便可於此點處引進該系統。在 某些沒顯示的具體實施例中，可以將該壓縮最終產物氣體後處理例如導引至加水循環(hydration cycle)以調節濕度控制。在各個不同具體實施例中，該最終產物壓縮氣體可在根據系統要求再引進該至少一或更多生產設備之前先另外與一或更多氣體混合。

圖6顯示該壓縮最終產物氣體150被引至至少一生產設備(在圖7表示成260A)。壓縮最終產物氣體管線150另外包含在運送至該主要氣體輸入集管或歧管165以前捕捉任何過量氦之槽167，及保持送往該設備的必需運送壓力之控制閥163。槽167另外使裝在該等生產設備和管線內的所有製程氣體在系統故障的事件中均能被捕捉到。主要氣體集管165與設備輸入管線160A至160C流通。該系統另外包含感測器171、173和175，彼等係監測氧(O₂)、水(H₂O)及壓力流的感測器。這些感測器與製程控制器例如所示的CPU 15電氣通訊。

圖7描繪該至少一生產設備260，其顯示該壓縮最終產物氣體165從主要氣體集管被供入生產設備輸入管線160A，而且其中該用過的製程氣體在加工物件(沒顯示)之後通過氣體回收管線或設備流出管線60A從至少一生產設備260A移除。生產設備輸入管線160A另外包含閥181。氣體回收管線另外包括一或更多閥例如閥71。除此之外，氣體回收管線可包括防止用過的製程氣體過量流到該回收系統的任意背壓調節器(沒顯示)。圖7另外描繪與製程控制器例如所示的CPU 15電氣通訊的純度感測器180，該製程控制器使該至少一生產設備260A能在不合格的製程氣體及/或系統故障的事 件時藉由關閉所示的閥181而被隔離。如圖7所示，閥181、閥71、生產設備260及純度感測器180均與CPU 15電氣通訊。

儘管本發明的原理已經在上文與較佳具體實施例關聯描述過，但是咸能清楚了解此描述僅藉由示範方式完成而且不得視為本發明的範疇之限制。

Claims (15)

1. 一種用於從至少一生產設備回收物件生產時使用的一製程氣體之設備，其包含：(a)至少一生產設備，其包含用於引進製程氣體的輸入管線，其中該至少一生產設備與一製程控制器電氣通訊，該製程氣體含具有一濃度的一第一氣體，該濃度等於或大於一第一濃度；(b)一流出管線，其與該至少一生產設備流通並且在該物件於該至少一生產設備中加工之後移除一用過的製程氣體；(c)一閥，其係於該流出管線中，使來自該生產設備的用過的製程氣體能被移除；(d)一回收管線，其係於該閥的上游，將該用過的製程氣體引至一處理管線；及(e)該處理管線，其包含一純化旁通管線及一純化管線，以提供一回收的製程氣體，其中於該純化管線上設有一純化器，該用過的製程氣體於該純化器中被處理；其中該回收的製程氣體經由該輸入管線被引進該至少一生產設備。
2. 如申請專利範圍第1項之設備，其另外包含與該處理管線流通的回收容器，其中該回收容器包含該回收的製程氣體。
3. 如申請專利範圍第1項之設備，其中該回收的製程氣體係於引進該至少一生產設備之前先被壓縮。
4. 如申請專利範圍第1項之設備，其中該製程氣體包含氦。
5. 如申請專利範圍第1項之設備，其中該純化器係薄膜純化器。
6. 一種用於捕捉並且回收物件製造時使用的一製程氣體之方法，其步驟包含：經由一輸入管線將一製程氣體提供給一製程設備，該製程設備內具有待加工的一物件；以該製程氣體加工該物件以提供用過的製程氣體；經由流出管線移除來自該製程設備的該用過的製程氣體；以壓縮及選擇性在該壓縮前以一純化器的方式處理該用過的製程氣體以提供一回收的製程氣體；及經由該輸入管線將該回收的製程氣體引進該製程設備。
7. 如申請專利範圍第6項之方法，其另外包含進一步將該回收的製程氣體引至一回收容器中。
8. 如申請專利範圍第7項之方法，其中該回收容器係選自儲存筒或儲存槽。
9. 如申請專利範圍第6項之方法，其中該用過的製程氣體係經由該壓縮及在該壓縮前以該純化器來處理。
10. 如申請專利範圍第1項之設備，其中該製程氣體包含氖。
11. 如申請專利範圍第6項之方法，其中該製程氣體包含氖。
12. 如申請專利範圍第6項之方法，其中該用過的製程氣體係僅經由該壓縮來處理。
13. 一種用於捕捉並且回收物件製造時使用的一包含氦或氖的製程氣體之方法，其步驟包含：經由一輸入管線將一製程氣體提供給一製程設備，該製程設備內具有待加工的一物件；以該製程氣體加工該物件以提供用過的製程氣體；經由流出管線移除來自該製程設備的該用過的製程氣體；以一純化器及壓縮的方式處理該用過的製程氣體以提供一回收的製程氣體；及經由該輸入管線將該回收的製程氣體引進該製程設備。
14. 如申請專利範圍第1項之設備，其進一步包含一純度補給製程管線，該純度補給製程管線包含與該製程控制器電氣通訊的至少一閥，其中該純度補給製程管線與該第一氣體的一儲槽及該輸入管線流通。
15. 如申請專利範圍第1項之設備，其進一步包含位於該流出 管線的一感測器，其測定該用過的製程氣體中的該第一氣體的濃度，其中該回收管線被可操作地架構成當該用過的製程氣體中的該第一氣體被測定出的濃度低於該第一濃度時，將該用過的製程氣體的至少一部份輸送到該處理管線，及其中該純化旁通管線被可操作地架構成當該用過的製程氣體中的該第一氣體被測定出的濃度等於或高於該第一濃度時，將該用過的製程氣體的至少一部份在沒有經過一中間純化程序下輸送到該輸入管線。