TWI610152B - 時計振盪器機構、具有此振盪器機構之時計機芯、具有此時計機芯之時計,及設定被安裝在時計振盪器機構中之彈簧平衡件總成的慣量及平衡該彈簧平衡件總成之方法 - Google Patents
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Abstract
時計彈簧平衡件總成(1)包含繞一樞轉軸線(D)樞轉之至少一個平衡件(2)及至少一個游絲(3),該游絲的內線圈(4)固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體的筒夾(5),且其外線圈(6)固定於釘軸(7)而被固持在板片(8)或平衡件扳機(80)上。
該平衡件(2)包含周圍表面(20),該周圍表面係與該游絲(3)上的任何一點間隔一距離,該距離具有高於第一預定距離(E1)之值,以在該周圍表面(20)上之該平衡件(2)之不可逆的再加工以對該已組裝總成(1)中之該平衡件(2)設定慣量及/或平衡該平衡件的期間,防止該游絲(3)之特徵的任何改變。
Description
本發明係關於一種時計振盪器機構,其包含至少一個彈簧平衡件總成,經由平衡件扳機而安裝在承載游絲釘軸之板片上,該總成包含繞一樞轉軸線樞轉之平衡件及游絲,該游絲之內線圈被固定於該平衡件或與該平衡件安裝成一體的筒夾且其外線圈固定於被固持在該板片上或該平衡件扳機上之該釘軸。
本發明亦關於時計機芯,其包含至少一個此種振盪器機構。
本發明亦關於時計,其包括至少一個此類型之機芯。
本發明亦關於藉由再加工至少一個平衡件之一部分來平衡及/或設定包含繞一樞轉軸線樞轉之該平衡件及至少一個游絲之彈簧平衡件總成之慣量的方法。
本發明係關於具有彈簧平衡件之時計振盪器機構的領域。
因為會有改變游絲之風險,因此操作一組裝彈簧平衡件總成以調整彈簧平衡件之振盪頻率總是困難的。因為用以保護其他組件及機芯之清潔的限制,因此當設想在已經被組裝之時計機芯中要進行此操作時係更加困難。
以Far的名義申請之法國專利第2179744 A1號揭示一種在游絲沒有任何特定保護的情況下藉由使用切割工具及相關於測量及驅動構件從平衡件輞移除材料以平衡及調整彈簧平衡件之振盪頻率的方法。
以Suwa Seikosha KK的名義申請之瑞士專利第532284 A號揭示轉子平衡裝置及該平衡件之再加工,該平衡件具有緊固至筒夾之游絲。此再加工係由鑽頭執行,其需要擋止及固持平衡件以實施加工操作。
以Swatch Group R&D的名義申請之瑞士專利第704211 A2號係關於保護游絲抵抗電磁輻射,且此文獻指出在平衡件之直徑及游絲之外線圈之直徑之間之比例規則,但未提及端子彎曲或附接至游絲釘軸或與調定件之任何接觸。
以Silva Regio-Roger Dubuis SA的名義申請之美國專利第2012/157743 A1號揭示由一系列彈簧構成之游絲經由附接至平衡件的筒夾而在平衡件上之組裝,該筒夾從一
組筒夾之中被選擇,其具有附接至游絲而更靠近或更遠離平衡件軸線的點。
以Audemars Piguet & Co的名義申請之歐洲專利第2315082 A2號揭示一調節器構件,其包含兩個同軸平衡件。
本發明提出當游絲與平衡件已經彼此組裝在一起而在平衡或設定該平衡件之慣量時可確保彈簧平衡件總成之游絲的安全性,尤其係當彈簧平衡件總成已被安裝在時計機芯中時。
困難處在於防止平衡件之再加工期間對游絲的任何改變。
因此,本發明係關於一種時計振盪器機構,其包含至少一個時計彈簧平衡件總成,安裝在經由平衡件扳機而承載游絲釘軸之板片上,該彈簧平衡件總成包含可繞一樞轉軸線樞轉之平衡件及游絲,該游絲的內線圈被固定於該平衡件或與該平衡件安裝成一體的筒夾,且其外線圈被固定於該釘軸而固持在該板片或該平衡件扳機中,其特徵在於,該平衡件包含可加工的周圍表面,該周圍表面係與該游絲上的任何一點間隔一距離,該距離具有高於第一預定距離之值,以在該周圍表面上之該平衡件之不可逆的再加工以對該已組裝總成中之該平衡件設定慣量及/或平衡該平衡件的期間,防止該游絲之特徵的任何改變。
本發明亦關於時計機芯,其包含上述類型之振盪器機構,其特徵在於,該游絲係不可誤調且其中該游絲釘軸亦係不可誤調。
本發明亦關於時計,其包含至少一個上述類型的時計機芯,其特徵在於該時計係手錶。
本發明亦關於藉由再加工平衡件之一部分來平衡及/或設定彈簧平衡件總成之慣量的方法,該彈簧平衡件總成包含至少一個繞一樞轉軸線樞轉的平衡件及至少一個游絲,其特徵在於依照此方法:決定所需要的平衡件慣量重新設定及/或重新平衡操作之值及位置;定義第一距離之值,其係在該游絲上之任何一點與再加工區域之間的最小距離;在該平衡件之周圍決定用於執行該再加工之周圍表面,在該表面上的任何一點係與該游絲間隔至少該第一距離之值;將該游絲之端部的位置以不可被中斷的不可誤調方式相對的在一方設定至該平衡件,且在另一方設定至游絲釘軸,該游絲釘軸係以相對於板片或機芯之平衡件扳機而以不可被中斷之不可誤調方式被固定;該平衡件之任何調整構件係被固定在一再加工位置;且實施該慣量設定及/或平衡加工操作。
1‧‧‧(彈簧平衡件)總成
2‧‧‧平衡件
2A‧‧‧頂側
2B‧‧‧底側
3‧‧‧游絲
4‧‧‧內線圈
5‧‧‧筒夾
6‧‧‧外線圈
7‧‧‧(游絲)釘軸
8‧‧‧板片
9‧‧‧調整螺桿
10‧‧‧(時計)振盪器機構
20‧‧‧周圍表面
21‧‧‧第一表面
22‧‧‧第二表面
25‧‧‧區域
28‧‧‧外殼
29‧‧‧周圍區段
31‧‧‧彎曲部
32‧‧‧扭曲區域
61‧‧‧活動部分
80‧‧‧平衡件扳機
81‧‧‧凹部
82‧‧‧開孔
91‧‧‧第一擋止位置
92‧‧‧第二擋止位置
93‧‧‧第一頭部
94‧‧‧第二頭部
100‧‧‧時計機芯
200‧‧‧時計
201‧‧‧最小半徑
202‧‧‧半徑
D‧‧‧樞轉軸線
E1‧‧‧第一距離
E2‧‧‧第二距離
E3‧‧‧第三距離
S1‧‧‧頂點
L‧‧‧寬度
P‧‧‧深度
S‧‧‧窄溝槽
本發明之其他特徵及優點可參照附圖來閱讀以下詳細說明後獲得瞭解,其中:圖1繪示依照本發明之彈簧平衡件總成之示意透視圖。
圖2繪示在本發明之較佳變化形式中之游絲之外部末端的示意透視圖。
圖3繪示通過樞轉軸線之圖1之彈簧平衡件總成之示意橫截面。
圖4繪示特別用於售後服務而調整平衡件之單一構件之細節之示意俯視圖。
圖5繪示在通過樞轉軸線之形成在圖1之彈簧平衡件總成中之溝槽之細節之示意橫截面。
圖6係圖1之總成被安裝在橋接件及平衡件扳機之間的示意俯視圖,該平衡件扳機具有用於導流吸力流以對準在板片中之孔口的凹部。
圖7係圖6之局部橫截面。
圖8係一方塊圖,其中展示包含侷限於此類型之彈簧平衡件總成之機芯的手錶。
首先在此區別以下的用語:一對彈簧平衡件,其中平衡件及游絲彼此係不可逆地固定;且頂部總成係調節器構件,其包含此對彈簧平衡件及
任何調整螺桿。
因此,本發明係關於時計振盪器機構10,其欲被併入時計機芯100中,且包含經由平衡件扳機80安裝在承載游絲釘軸7的一板片8上的至少一個時計彈簧平衡件總成,該總成包含繞一樞轉軸線D樞轉之平衡件2及游絲3。此游絲3之內線圈4被固定於平衡件2或與平衡件2安裝成一體的筒夾5,且此游絲3之外線圈6固定於欲被固持在板片8上之游絲釘軸7或平衡件扳機80上。本發明在此係描述具有單一平衡件及單一游絲之調節器構件之特定情況,熟習此項技術者將知道如何推斷本發明數個平衡件及/或數個游絲之情況。
依照本發明,如圖1中所見,平衡件2具有可加工的周圍表面20,其與游絲3上之任何一點間隔具有大於第一預定距離E1之值的距離,以在該可加工的周圍表面20上之平衡件2之不可逆的再加工以對在該已組裝總成1中之平衡件2平衡及/或設定慣量的期間,防止該游絲3之特徵的任何改變。
「再加工」在此意謂能夠局部改變平衡件之慣量的任何操作:增添材料、移動材料、移除材料。此操作可以一非限制性方式藉由使用切割或研磨工具(鑽孔、旋轉、拉直或類似方法)再加工、藉由雷射(尤其係微型雷射或毫微微雷射)、藉由經由噴射之投射材料、藉由使用工具之變形、藉由局部熔合、藉由改變材料之結構的熱處理或其他方式而執行。
在本發明之一特定實施方案中,平衡件2之定位超出可加工的周圍表面20的任何區域25係經製造使至少其表面包含熱處理及/或表面處理以授予對於藉由工具或研磨或雷射加工具有較高的正常耐受性,及/或係由耐受以工具或藉由研磨或雷射加工之材料所製成。
雖然在最一般之情況下該第一距離E1可以在游絲3之任何位置,尤其距離值可以針對游絲之某些特別位置之各者來設定:在靜止處、在最大正振盪振幅處、在最大負振盪振幅處或另一位置。
因此,保護游絲係一個問題,為了對平衡件2實施適當的改變而絕不會改變游絲3之特徵,且特定而言,不會使其直接或間接受到熱影響或切屑或材料之投射或其他影響,因此能夠改變扭矩及因此改變該游絲之振盪頻率。
特定而言,周圍表面20係以具有高於第一距離E1值之距離而從游絲3之外線圈6之活動部分之最偏離中心點被徑向地間隔。
較佳地,該第一預定距離E1係大於0.50毫米。有利地,依照本發明,該第一預定距離E1係包括在0.50毫米及1.20毫米之間。在一特定應用中,該第一預定距離E1係包括在0.50毫米及0.70毫米之間。
在圖2繪示之一特定應用中,游絲3被彎曲成彎曲部31及/或在扭曲區域32中扭曲,在其附接至游絲釘軸7處上或靠近該處以使游絲3之外線圈6之活動部分61移動遠離周圍表面20。此游絲3之活動部分61因此從平衡件
2之再加工表面20周圍被間隔,且較佳地以大於周圍表面20之徑向跨距的2/3之距離,其係投射至垂直於樞轉軸線D之平面的環形。
較佳地,依照本發明,周圍表面20係以具有高於第二預定距離E2之值之距離從游絲釘軸7被間隔,以在周圍區域20上平衡件2之再加工以在已組裝總成1上平衡及/或設定平衡件2之慣量的期間,防止游絲3之特徵的任何改變;且尤其係防止因間接加熱而改變游絲3之任何特徵。較佳地,該第二預定距離E2係大於0.05毫米。此第二預定距離E2係較佳地包括在0.05毫米及0.20毫米之間。在一特定應用中,該第二預定距離E2係包括在0.05毫米及0.10毫米之間。
雖然在最一般的情況下該第二距離E2可以係在游絲3之任何位置,但可以針對游絲之某些特別位置之各者來設定特定距離值:在靜止處、在最大正振盪振幅處、在最大負振盪振幅處或另一位置處。
依照本發明,為了執行用於平衡及/或設定慣量之平衡件2的再加工,周圍表面20可從平衡件2之至少一側接達於位在第一表面21外部之一體積中的削磨及/或再裝料及/或變形及/或投射及/或熱處理之構件。此第一表面21係繞樞轉軸線D旋轉之表面,且位在周圍表面20之最小半徑201。第一表面21亦以大於第三距離E3之距離與游絲3之任何活動點間隔以在周圍表面20上用於平衡及/或設定平衡件2之慣量之平衡件2之再加工期間,防止游
絲3之特徵之任何改變。
如圖3所示,在本發明之一特定實施方案中,該第一表面21係一圓錐,其頂點S1相對於平衡件2位在與游絲3的相同側。
該圖繪示在一單側(稱之為頂側2A)上重新設定該平衡件2之慣量的簡化情況。當然,在相對置之底側2B上亦可設想執行慣量設定再加工係完全可行的。在此例中,第一表面21係由平衡件2之輞之各側各具一個的兩個半表面所形成,例如,具有相對置孔隙之兩個圓錐部分。
在特定實施例中,不僅要考慮游絲3之保護而且也要考慮時計機芯之其餘部分,在平衡件2之慣量之再平衡及/或再設定係在包括振盪器機構10且接著包含平衡件2及游絲3之機芯100內部直接被執行的情況下,朝向周圍表面20接達至平衡件2之慣量改變構件的體積係被限制,不僅在藉由第一表面21之游絲3之側面上而且在藉由第二表面22之外部側面上。在這樣的情況下,周圍表面20從平衡件2之至少一側被接達至藉由兩個同軸於樞轉軸線D之表面所定界之一體積中的削磨及/或再裝料之構件,第一表面21以距游絲3之任何活動點大於第三預定義E3距離之距離擱置在周圍表面20之最小半徑201上,以在周圍表面20上平衡件2的再加工以平衡及/或設定平衡件2之慣量的期間,防止游絲3之特徵的任何改變,且第二表面22擱置在周圍表面20之大於最小半徑201之另一半徑202上且在周圍表面20上對平衡件2之再加工以平衡
及/或設定在已組裝總成1上之平衡件2之慣量期間界定用於包圍彈簧平衡件總成1之時計機構的一保護性包殼。
藉由此第二表面22所提供之限制目的係確保保護游絲3以抵抗因在平衡件或橋接件或平衡件扳機之表面上之切屑或其他廢料反射或跳彈之任何直接或間接投射。
在圖3之特定情況中,該第二表面22係一圓錐,其頂點S2係相對於平衡件2位在游絲3之相對置側邊上。
較佳地,第一表面21及第二表面22在通過樞轉軸線D之橫截面中一起界定小於預定值α0(其係小於45°)之角度α。
在樞轉軸線D之平面中,在通過樞轉軸線D之橫截面中,周圍表面20上之第一表面21的切線與樞轉軸線D形成一小於一預定值β0(其被連結於該預定義值E3)之角度β。
同樣地,在通過樞轉軸線D之橫截面中,第二表面22之切線係與樞轉軸線D形成小於一預定值θ0之角度θ。在一特定應用中,此角度θ0係45°。
第三距離E3之值係有利地包括在第一距離E1之值的100%及120%之間,且較佳地,第三距離E3之值係相等於第一距離E1之值。
依照本發明,彈簧平衡件總成1依照本發明係被設計成在工廠中針對理論性操作來設定,且沒有包含會被不經意地操縱及產生顯著精密計時誤差的任何移動部分。特定而言,游絲3係不可誤調且不可被中斷,亦即彈簧平衡件
總成1不具有可以作用在游絲3上或游絲釘軸7上且亦係不可誤調且不可被中斷之調定總成或任何元件。
因此,平衡件2包含一慣量調整構件,其調整之範圍係微小的、具有非常小調整能力,例如每天數秒或數十秒。這些構件例如係藉由小螺桿所形成,該等小螺桿在一再加工位置中係保持不動,該再加工位置係例如藉由凹口所決定之固定位置或者係在支承表面上之抵靠位置。這些小螺桿在慣量設定及/或平衡再加工操作之整個持續時間係被固持在該再加工位置。範圍減少之調整係僅在售後服務時使用。
有利地,平衡件2包含至少兩個外殼28,每個配置成用於接納繫拴地安裝在平衡件2之周圍區段29之任一側上之調整螺桿9。此螺桿9只在平衡件2上之第一擋止位置91及界定該螺桿9之第二頭部94之行程終點之第二擋止位置92之間移動,在該第一擋止位置上,該螺桿9之第一頭部93在執行平衡件2之不可逆的加工時在工廠設定操作期間係保持被按壓。在第一擋止位置91及第二擋止位置92之間之距離PR限制螺桿9之調整能力,針對售後目的,其係較佳地被限制為每天30秒。
如圖4所示,在一較佳實施例中,平衡件2因此包含作為唯一調整構件之調整螺桿9,其僅在平衡件1上之第一擋止位置91(在該位置上,螺桿頭部93在工廠設定中係被按壓)與為了售後服務之目的限制其調整能力為每天30秒之第二擋止位置92之間移動。在工廠中執行不可逆的
慣量設定及/或平衡加工操作之後,這些調整螺桿9係在彈簧平衡件總成1之使用期間可以被調整的唯一元件。
顯然地,當調整螺桿存在時,慣量設定及平衡必須要在調整螺桿位在一擋止位置的情況下來執行。
在另一實施例中,彈簧平衡件1在使用期間並不具有調定總成或任何調整構件。在一較佳變化形式中,為了設定平衡件2之慣量及/或平衡該平衡件2,該平衡件係由具有深度P大於其寬度L至少一倍之窄溝槽S來予以加工,且較佳地該窄溝槽之深度P係大於其寬度L至少三倍。為了實施本發明,游絲3可以由矽、或氧化矽、或單晶鑽石、或多晶鑽石、或玻璃、或金屬玻璃、或非晶質金屬、或石英、或順磁性材料、或鐵磁材料、或抗鐵磁合金所製成。
在一有利的變化形式中,除了由上述距離E1、E2、E3所界定之安全距離外,該游絲3係經預加熱處理以當平衡件2在周圍表面20上被再加工以設定平衡件2之慣量及/或平衡平衡件2時抵抗在附近區域中的局部性加熱。
本發明進一步關於時計振盪器機構10,其包含具有游絲3之至少一個彈簧平衡件總成1,其係不可誤調且不可被中斷且未具有無調定總成,且經由平衡件扳機80而被安裝在承載游絲釘軸7之板片8上。依照本發明,當平衡件2在周圍表面20上被再加工以在已組裝總成1中設定平衡件2之慣量及/或平衡平衡件2時,平衡件扳機80
具有一敞開形狀且包含至少一個凹部81以促進在機構10中產生吸力流。若有板片8及平衡件扳機80之兩個表面在平衡件2之任一側上面向彼此,則該吸力將會被影響。
較佳地,板片8或包括在其中之靠近彈簧平衡件總成1之平衡件扳機80包含至少一個開孔82,以當平衡件2在周圍表面20上被再加工以在已組裝總成1中設定平衡件2之慣量及/或平衡平衡件2時,可促進在機構10中產生之吸力流。
在一特定變化形式中,在一特定臨限直徑下加工平衡件係不可能的,例如藉由:表面處理或保護以防止藉由切割工具或雷射(例如在後者例子中係反射表面保護)之材料移除,或藉由將該平衡件建構成兩個(內及外)部分,該內部分在此臨限直徑下係由可禁止由切割工具或雷射來移除材料之材料所形成。
本發明進一步關於時計機芯100,其包含此類型之具有彈簧平衡件總成1之振盪器機構10,該彈簧平衡件總成具有不可誤調且不可被中斷之游絲3、不可誤調且不可被中斷之游絲釘軸7,且除了上述調整螺桿9以外在使用期間沒有調定總成且沒有其他調整構件。在另一變化形式中,時計機芯100包含此類型之具有彈簧平衡件總成1的振盪器機構10,該彈簧平衡件總成具有不可誤調且不可被中斷之游絲3、不可誤調且不可被中斷之游絲釘軸7,且在使用期間沒有調定總成且沒有其他調整構件。
本發明亦關於時計200,其包含至少一個此機芯100,且該時計200較佳地係手錶。
本發明關於用於設定慣量及/或平衡安裝在時計振盪器機構10中之此類型的彈簧平衡件總成1的方法,其包含經由平衡件扳機80安裝在承載游絲釘軸7之板片8上的彈簧平衡件總成1,該彈簧平衡件總成1包含繞一樞轉軸線D樞轉之平衡件2及游絲3,藉由如上述定義在平衡件2之一部分上的再加工操作,該游絲之內線圈4被固定於平衡件2或與平衡件2安裝成一體的筒夾5,且其外線圈6被固定於欲被固持在板片8上之游絲釘軸7或平衡件扳機80上。
依照此方法:決定所需要之平衡件慣量重新設定或重新平衡操作之值及位置;界定第一距離E1之值,其係在游絲3上任何一點及再加工區域之間的最小距離;在平衡件2之周圍處決定用以執行該再加工之周圍表面20,在表面20上任何一點係以至少第一預定距離E1之值從游絲3被間隔;以在周圍表面20上對平衡件2之不可逆的再加工以在已組裝的彈簧平衡件總成1中設定平衡件2之慣量及/或平衡該平衡件2期間,防止該游絲3之特徵之任何改變,製造平衡件2及游絲3,且藉由將該內線圈4固定於平衡件2或與平衡件2安裝成一體之筒夾5而使彼此不可
逆地緊固;該再加工操作係僅在周圍區域20上執行。
在此方法之一特定實施方案中:在該平衡件2之預製造期間,平衡件2被定位超出周圍表面20之任何區域25係被製成使得至少其表面包含可授予大於由工具加工或藉由研磨或藉由雷射之正常耐受性之熱處理及/或一表面處理,及/或由耐受由工具加工或藉由研磨或雷射之材料所製成。
在此方法之一特定實施方案中,至少一個該區域25係經製成具有表面滲碳或氮化處理。
在本方法之一特定實施方案中,至少一個該區域25係經製成具有表面金屬化處理,以使其表面可反射加工雷射所用之一般波長的雷射束。
在此方法之一特定實施方案中:該游絲3之末端位置在一方係以不可被中斷之不可誤調方式被設定至平衡件2,且在另一方係設定至游絲釘軸7,該游絲釘軸係以不可被中斷之不可誤調方式被固定於該板片8或機芯10之該平衡件扳機80;調整該平衡件之任何構件9被固定在一再加工位置中;實施該慣量設定及/或平衡加工操作。
在本方法之一特定實施方案中,在平衡件2之預製造期間,平衡件2之定位超出周圍表面20的任何區域25係被製成使得至少其表面包含可授予大於由工具加工或藉由
研磨或藉由雷射之正常耐受性之熱處理及/或一表面處理,及/或由耐受由工具加工或藉由研磨或雷射之材料所製成。
在此方法之一特定實施方案中,至少一個該區域25係經製成具有表面滲碳或氮化處理。
在此方法之一特定實施方案中:至少一個該區域25係經製成具有表面金屬化處理,以使其表面可反射加工雷射所用之一般波長的雷射束。
在此方法之一特定實施方案中,執行該再加工操作以設定該彈簧平衡件總成1之慣量或平衡該彈簧平衡件總成:在靠近彈簧平衡件總成1處安置一加工構件,其係藉由移除材料、工具加工、或藉由研磨或投射雷射或電漿束或藉由投射流體射流來加工,外線圈6係以不可被中斷之不可誤調方式被緊固至平衡件釘軸7,該平衡件釘軸係以不可被中斷之不可誤調方式被固定於板片8或機芯10之平衡件扳機80;決定所需要之平衡件慣量設定及/或平衡再加工操作之值及位置;該慣量設定及/或平衡再加工操作係在周圍表面20上實施。
在此方法之一特定實施方案中:該平衡件2在初始製造階段中具有被繫栓式安裝在兩個擋止位置之間的調整螺桿9,且其中在工廠設定位置中
為了執行該再加工操作以設定該彈簧平衡件1之慣量或平衡該彈簧平衡件,該平衡件2之每一調整螺桿9係固定在該平衡件2上之第一擋止位置91,在該位置中,該螺桿9之第一頭部93係保持擱置在該平衡件2之周圍區段29上。
在此方法之一特定實施方案中,第一預定距離E1係經選擇具有介於0.50毫米至1.20毫米之間的一值。
更具體言之,該第一預定距離E1係經選擇具有介於0.50毫米至0.70毫米之間的一值。
在此方法之一特定應用中,在緊固平衡件2之前,該游絲3係經製成而使得其外線圈6在其附接至游絲釘軸7處被彎曲及/或扭曲,以將外線圈6之活動部分61移動遠離周圍表面20。
在此方法之一特定實施方案中,周圍表面20係與游絲釘軸7間隔一距離,該距離具有高於第二預定距離E2之值,以當該平衡件2在該周圍區域20上再加工以設定在該已組裝總成1中之該平衡件2的慣量及/或平衡該平衡件2時,可防止該游絲3之特徵的任何改變。
在此方法之一特定實施方案中,第二預定距離E2係經選擇具有介於0.05毫米至0.20毫米之間的一值。
更具體言之,第二預定距離E2係經選擇具有介於0.05毫米至0.10毫米之間的一值。
在此方法之一特定實施方案中,板片8及/或平衡件扳機80被製成使得周圍表面20可從該平衡件2之至少一
側接達至位在一體積內之削磨及/或再裝料及/或變形及/或熱處理之構件,該體積係在繞該樞轉軸線D旋轉之第一表面21的外部,且擱置在該周圍表面20之最小半徑201上,並且以大於第三距離E3之距離與該游絲3之任何活動點間隔,以當該平衡件2在該周圍表面20上不可逆的再加工以設定該平衡件2之慣量及/或平衡該平衡件2時,可防止該游絲3之特徵的任何改變。
在本發明之一特定實施方案中,第一表面21被選擇成一圓錐,其頂點S1係位在相對於該平衡件2而與該游絲3的相同側上。
在此方法之一特定實施方案中,選擇第一表面21,其與樞轉軸線D在通過樞轉軸線D之橫截面中形成小於一預定值β0之角度β。
在此方法之一特定實施方案中平衡件2具有至少兩個外殼28,每一外殼係配置成用於接納被繫栓式安裝在平衡件2之周圍區段29的任一側上之調整螺桿9,且其中螺桿9係僅在平衡件2上之第一擋止位置91與第二擋止位置92之間移動,在第一擋止位置上,螺桿9之第一頭部93在執行平衡件之不可逆的加工時之工廠設定期間被保持按壓,且第二擋止位置定義螺桿9之第二頭部94的行程終點,在第一擋止位置91與第二擋止位置92之間的距離限制螺桿9之調整能力,其針對售後目的係被限制為每天30秒。
在此方法之一特定實施方案中,當執行再加工操作以
設定彈簧平衡件總成1之慣量及/或平衡該彈簧平衡件總成時,平衡件2係以具有深度P比其寬度L大一倍之窄溝槽S來加工。
在此方法之一特定實施方案中,在被緊固至平衡件2之前,游絲3係由矽、或氧化矽、或單晶鑽石、或多晶鑽石、或玻璃、或金屬玻璃、或非晶質金屬、或石英、或順磁性材料、或鐵磁材料或反鐵磁材料所製成。
在此方法之一特定實施方案中,在被緊固至平衡件2之前,游絲3係經預加熱處理,以當平衡件2在周圍表面20上再加工以設定平衡件2之慣量及/或平衡該平衡件2時,可抵抗在附近區域中的任何局部性加熱。
在此方法之一特定實施方案中,在執行再加工操作以設定彈簧平衡件總成1之慣量或平衡彈簧平衡件總成1之前,游絲3係以不可被中斷之不可誤調方式被不可逆地固定於游絲釘軸7之兩側上的平衡件2,且游絲釘軸7亦係以不可被中斷之不可誤調方式被不可逆地固定於板片8或平衡件扳機80。
在此方法之一特定實施方案中,平衡件扳機80係經製成具有敞開形狀且包含至少一個凹部81,當平衡件2在周圍區域20上被再加工以在已組裝總成1中設定平衡件2之慣量及/或平衡平衡件2時,通過該凹部可循環被產生在機構10中之吸力流。
在此方法之一特定實施方案中,板片8係經製成具有至少一個開孔82,以當平衡件2在周圍區域20上再加工
以在已組裝總成1中設定該平衡件2之慣量及/或平衡該平衡件2時,可促進在機構10中被產生之吸力流,且此彈簧平衡件總成1在此慣量設定及/或平衡再加工操作期間係會受到經由在板片8與平衡件扳機80(該彈簧平衡件總成1被安裝於其間)中的開孔82及/或凹部81所導流之吸力流。
在此方法之一特定實施方案中,在工廠設定期間不可逆的慣量設定及/或平衡加工操作之後,振盪器機構10在售後服務時係使用平衡件2之調整螺桿9作為唯一調整構件來調整。
在此方法之一特定實施方案中,一體積被定界以作為再加工構件之包殼作用,其如上所定義係至少超出第一表面21,且位在相對於該第一表面21之游絲3之相對置側邊。此外,該再加工構件係經定向於一方向(亦即,視情況而定,雷射或電漿束或加工心軸之軸線),使得所產生之熱影響或切屑或微塵不會跑到該游絲之範圍內。較佳地,這些軸線被定向在具有相等於如圖3所見之角度β之值的角度扇區ω中,使得射線、流體、切屑及微塵之反射係發生在遠離游絲3之處。
本發明尤其非常適合於在一已組裝機芯10中用於慣量設定及/或平衡之再加工。如上所述,第二安全表面包殼22之定義係要保護機芯之其他組件,且其必須接著確保任何流體及廢料之反射係保持在兩個表面21及22中。以一適當的方式定向(尤其係圖3之實例中從S2上升至
S2)之吸力流的存在可進一步提升此安全性,且確保在再加工操作之後可保持機芯10清潔。
在藉由此再加工操作以設定慣量及/或平衡平衡件所形成的最後操作調整之後,機芯10不再接受任何進一步的工廠設定。若平衡件具有如上述說明之調整螺桿9,則售後服務具有一限制的調整範圍。
因此返回至工廠需要以類似於在本文中所說明之操作來重新設定慣量,本發明之優點在於其不需要拆卸機芯來執行此操作。
平衡件被再加工時,本發明防止任何游絲改變。一額外的效果在於由於特定幾何特徵而可促進不可逆的平衡加工操作。
藉由替代性使用由兩個材料製成之平衡件或具有一內部處理區域以防止再加工,可對於反覆出現識別仿冒品之問題提供一特定的解決方案。
1‧‧‧(彈簧平衡件)總成
2‧‧‧平衡件
3‧‧‧游絲
4‧‧‧內線圈
5‧‧‧筒夾
6‧‧‧外線圈
7‧‧‧(游絲)釘軸
20‧‧‧周圍表面
25‧‧‧區域
D‧‧‧樞轉軸線
E1‧‧‧第一距離
E2‧‧‧第二距離
Claims (48)
- 一種時計振盪器機構(10),其包含至少一個時計彈簧平衡件總成(1),安裝在經由平衡件扳機(80)承載游絲釘軸(7)之板片(8)上,該時計彈簧平衡件總成(1)包含平衡件(2),其繞一樞轉軸線(D)樞轉及游絲(3),其內線圈(4)固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體的筒夾(5),且其外線圈(6)固定於該釘軸(7)以被固持在該板片(8)或該平衡件扳機(80)上;其中該平衡件(2)包含可加工的周圍表面(20),該周圍表面係與該游絲(3)上的任何一點間隔一距離,該距離具有高於第一預定距離(E1)之值,以在該周圍表面(20)上之該平衡件(2)之不可逆的再加工以對該已組裝總成(1)中之該平衡件(2)設定慣量及平衡該平衡件的期間,防止該游絲(3)之特徵的任何改變;其特徵在於該平衡件(2)具有至少兩個外殼(28),每一外殼係配置成用於接納被繫栓式安裝在該平衡件(2)之周圍區段(29)的任一側上之調整螺桿(9),且其中該螺桿(9)係僅在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91)與第二擋止位置(92)之間移動,在該第一擋止位置上,該螺桿(9)之第一頭部(93)在執行該平衡件(2)之不可逆的加工時之工廠設定期間被保持按壓,且該第二擋止位置定義該螺桿(9)之第二頭部(94)的行程終點,在該第一擋止位置(91)與該第二擋止位置(92)之間的距離(PR)限制該螺桿(9)之調整能力,其針對售後目的係被限制為每天30秒。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該平衡件(2)之被定位超出該可加工的周圍表面(20)的每個區域(25)係經形成而至少在其表面包含可授予高於由工具加工、藉由雷射之正常耐受性之熱處理或表面處理,或由耐受由工具加工或雷射之材料所製成。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該第一預定距離(E1)介於0.50毫米及1.20毫米之間。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該游絲(3)係在其附接至該游絲釘軸(7)之處被彎曲或扭曲,以將該外線圈(6)之該活動部分(61)移動遠離該周圍表面(20)。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該周圍表面(20)係與該游絲釘軸(7)間隔一距離,該距離具有高於第二預定距離(E2)之值,以當該平衡件(2)在該周圍區域(20)上再加工以設定在該總成(1)中之該平衡件(2)的慣量及平衡該平衡件時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變。
- 如申請專利範圍第5項之振盪器機構(10),其中該第二預定距離(E2)介於0.05毫米與0.20毫米之間。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該周圍表面(20)可從該平衡件(2)之至少一側接達至位在一體積內之削磨、再裝料、變形或熱處理之構件,該體積係在繞該樞轉軸線(D)旋轉之第一表面(21)的外部,且擱置在該周圍表面(20)之最小半徑(201)上,並且以大於第三距離 (E3)之距離與該游絲(3)之任何活動點間隔,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上不可逆地再加工以設定該平衡件(2)之慣量及平衡該平衡件時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變。
- 如申請專利範圍第7項之振盪器機構(10),其中該第一表面(21)被選擇成一圓錐,其頂點(S1)係位在相對於該平衡件(2)而與該游絲(3)的相同側上。
- 如申請專利範圍第7項之振盪器機構(10),其中該第一表面(21)係與該樞轉軸線(D)在通過該樞轉軸線(D)之橫截面中形成小於一預定值(β0)之角度(β)。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中為了設定該平衡件(2)之慣量及平衡該平衡件,該平衡件係以具有深度(P)比其寬度(L)大一倍之窄溝槽(S)來加工。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該游絲(3)係由選自於由矽、氧化矽、單晶鑽石、多晶鑽石、玻璃、金屬玻璃、非晶質金屬、石英、順磁性材料、鐵磁材料及抗鐵磁材料所構成的族群之材料所製成。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該游絲(3)係經預加熱處理,以當該平衡件(2)在該周圍區域(20)上再加工以設定該平衡件(2)之慣量及平衡該平衡件時,可抵抗在附近區域中的任何局部性加熱。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該游絲(3)係不可誤調且不可被中斷,且其中該游絲釘軸(7)亦係不可誤調且不可被中斷。
- 如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其中該平衡件扳機(80)具有敞開形狀且包含至少一個凹部(81),以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以在該總成(1)中設定該平衡件(2)之慣量及平衡該平衡件時可促進在該振盪器機構(10)中被產生之吸力流,且其中該板片(8)包含至少一個開孔(82),以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以在該總成(1)中設定該平衡件(2)之慣量及平衡該平衡件時可促進在該振盪器機構(10)中被產生之吸力流。
- 一種時計機芯(100),其包含至少一個如申請專利範圍第1項之振盪器機構(10),其特徵在於,該游絲(3)係不可誤調且不可被中斷,且其中該游絲釘軸(7)係不可誤調且不可被中斷。
- 如申請專利範圍第15項之時計機芯(100),其中該平衡件(2)具有至少兩個外殼(28),每一外殼係配置成用於接納被繫栓式安裝在該平衡件(2)之周圍區段(29)的任一側上之調整螺桿(9),且其中該螺桿(9)係僅在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91)與第二擋止位置(92)之間移動,在該第一擋止位置上,該螺桿(9)之第一頭部(93)在執行該平衡件(2)之不可逆的加工時之工廠設定期間被保持按壓,且該第二擋止位置定義該螺桿(9)之第二頭部(94)的行程終點,在該第一擋止位置(91)與該第二擋止位置(92)之間的距離(PR)限制該螺桿(9)之調整能力,其針對售後目的係被限制為每天30秒,且其中,在工廠中不可逆的加工以設 定該平衡件之慣量及平衡該平衡件之後,該彈簧平衡件總成(1)僅包含該平衡件(2)之該調整螺桿(9)作為調整構件。
- 如申請專利範圍第15項之時計機芯(100),其中該彈簧平衡件總成(1)在使用期間並未具有調定總成或任何調整構件。
- 一種時計(200),其包含至少一個如申請專利範圍第15項之機芯(100),其特徵在於該時計(200)係手錶。
- 一種設定被安裝在時計振盪器機構(10)中之彈簧平衡件總成(1)的慣量之方法,該時計振盪器機構包含彈簧平衡件總成,安裝在經由平衡件扳機(80)而承載游絲釘軸(7)之板片(8)上,該彈簧平衡件總成(1)包含平衡件(2),其可繞一樞轉軸線(D)樞轉及游絲(3),其內線圈(4)被固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體的筒夾(5),且其外線圈(6)被固定於該釘軸(7)而固持在該板片(8)或該平衡件扳機(80)中,其特徵在於:該平衡件(2)與該游絲(3)係經製造且藉由將該內線圈(4)固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體之該筒夾(5)而彼此不可逆地緊固在一起;該游絲(3)在一方係不可逆地固定於該平衡件(2)且在另一方係以不可被中斷之不可誤調方式固定於該游絲釘軸(7),且其中該游絲釘軸(7)亦以不可被中斷之不可誤調方式相對於該板片(8)被不可逆地固定或不可逆地固定於該平衡件扳機(80),在再加工操作期間,用於移除材料之技術選自於由工 具加工、投射雷射、電漿束和流體射流及熱處理所構成的族群,定義第一距離(E1)之值,其係在該游絲(3)上之任何一點與再加工區域之間的最小距離;針對設定該慣量操作而在該平衡件(2)之周圍處定義周圍表面(20),作為該再加工區域,在該周圍表面(20)上之任何一點係與該游絲(3)間隔一距離,該距離具有至少為該第一預定距離(E1)之值,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以設定在該總成(1)之慣量時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變;該周圍表面(20)係與該游絲釘軸(7)間隔一距離,該距離具有高於第二預定距離(E2)之值,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以設定在該總成(1)之慣量時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變;定義需要的慣量設定操作之值及位置;該再加工操作僅在該周圍表面(20)上執行,且藉由限制位在一體積內之削磨、再裝料、變形或熱處理之構件的軌跡而執行,該體積係在繞該樞轉軸線(D)旋轉之第一表面(21)的外部,且擱置在該周圍表面(20)之最小半徑(201)上,並且以大於該第一距離(E1)之距離與該游絲(3)之任何活動點間隔,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上不可逆地再加工以設定該振盪器總成(1)之慣量時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變,該第一表面(21)係一圓錐,其第一頂點(S1)位在該樞轉軸線(D)上,且具有小於一預定值 (β0)之第一頂點角度(β)。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中再加工操作僅在該周圍區域(20)上執行,且藉由限制位在一體積內之削磨、再裝料、變形或熱處理之構件的軌跡而執行,該體積位在第二表面(22)內部,該第二表面(22)係擱置在該周圍表面(20)之大於該最小半徑(201)的另一半徑(202)上且定義用於該時計振盪器機構(10)之保護性包殼,以確實保護該游絲(3)防止切屑或其他廢料藉由反射或跳彈之任何直接或間接投射,該第二表面(22)係一圓錐,其第二頂點(S2)係位在該樞轉軸線(D)上,且具有小於一預定值(θ0)之第二頂點角度(θ)。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中該第一頂點(S1)位在相對於該平衡件(2)而與該游絲(3)的相同側上。
- 如申請專利範圍第20項之方法,其中該第二頂點(S2)位在相對於該平衡件(2)而與該游絲(3)相對置的側上。
- 如申請專利範圍第20項之方法,其中該第一表面(21)與第二表面(22)在通過該樞轉軸線(D)之橫截面中共同定義小於一預定值(α0)之角度(α),其係小於45°。
- 如申請專利範圍第20項之方法,其中該預定值(θ0)係45°。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中在該平衡件(2)之預製造期間,該平衡件(2)之被定位超出該周圍表 面(20)且其至該樞轉軸線(D)的距離係小於該周圍表面(20)之該最小半徑(201)的任何區域(25)係經形成而使得至少在其表面包含可授予大於由工具加工、藉由雷射之正常耐受性之熱處理、表面處理、由耐受由工具加工或雷射之材料所製成。
- 如申請專利範圍第25項之方法,其中至少一個該區域(25)係經製成具有表面滲碳或氮化處理。
- 如申請專利範圍第25項之方法,其中至少一個該區域(25)係經製成具有表面金屬化處理,以使其表面可反射加工雷射所用之一般波長的雷射束。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中在被緊固至該平衡件(2)之前,該游絲(3)係經製成而使得其外線圈(6)在其附接至游絲釘軸(7)處被彎曲或扭曲,以將該外線圈(6)之外部活動部分(61)移動遠離該周圍表面(20)。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中該板片(8)或該平衡件扳機(80)係經製成而使得該周圍表面(20)可接達用於削磨、再裝料、變形或熱處理的構件。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中當執行再加工操作以設定該彈簧平衡件總成(1)之慣量時,該平衡件(2)係以具有深度(P)比其寬度(L)大一倍的窄溝槽(S)來加工。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中在被緊固至該平衡件(2)之前,該游絲(3)係由選自於由矽、氧化矽、單晶鑽石、多晶鑽石、玻璃、金屬玻璃、非晶質金 屬、石英、順磁性材料、鐵磁材料及抗鐵磁材料所構成的族群之材料所製成。
- 如申請專利範圍第19項之方法,其中該平衡件(2)在初始製造階段中具有被繫栓式安裝在兩個擋止位置之間的調整螺桿(9),且其中在工廠設定位置中為了執行該再加工操作以設定該彈簧平衡件總成(1)之慣量,該平衡件(2)之每一調整螺桿(9)係固定在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91),在該位置中,該螺桿(9)之第一頭部(93)係保持擱置在該平衡件(2)之周圍區段(29)上。
- 如申請專利範圍第32項之方法,其中該平衡件(2)具有至少兩個外殼(28),每一外殼係配置成用於接納被繫栓式安裝在該平衡件(2)之周圍區段(29)的任一側上之調整螺桿(9),且其中該螺桿(9)係僅在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91)與第二擋止位置(92)之間移動,在該第一擋止位置上,該螺桿(9)之第一頭部(93)在執行該平衡件(2)之不可逆的加工時之工廠設定期間被保持按壓,且該第二擋止位置定義該螺桿(9)之第二頭部(94)的行程終點,在該第一擋止位置(91)與該第二擋止位置(92)之間的距離限制該螺桿(9)之調整能力,其針對售後目的係被限制為每天30秒。
- 一種平衡被安裝在時計振盪器機構(10)中之彈簧平衡件總成(1)之方法,該時計振盪器機構包含彈簧平衡件總成,安裝在經由平衡件扳機(80)而承載游絲釘軸(7)之板片(8)上,該彈簧平衡件總成(1)包含平衡件(2),其可繞 一樞轉軸線(D)樞轉及游絲(3),其內線圈(4)被固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體的筒夾(5),且其外線圈(6)被固定於該釘軸(7)而固持在該板片(8)或該平衡件扳機(80)中,其特徵在於:該平衡件(2)與該游絲(3)係經製造且藉由將該內線圈(4)固定於該平衡件(2)或與該平衡件(2)安裝成一體之該筒夾(5)而彼此不可逆地緊固在一起;該游絲(3)在一方係不可逆地固定於該平衡件(2)且在另一方係以不可被中斷之不可誤調方式固定於該游絲釘軸(7),且其中該游絲釘軸(7)亦以不可被中斷之不可誤調方式相對於該板片(8)被不可逆地固定或不可逆地固定於該平衡件扳機(80),在再加工操作期間,用於移除材料之技術選自於由工具加工、投射雷射、電漿束和流體射流及熱處理所構成的族群;定義第一距離(E1)之值,其係在該游絲(3)上之任何一點與再加工區域之間的最小距離;針對平衡操作而在該平衡件(2)之周圍處定義周圍表面(20),作為該再加工區域,在該周圍表面(20)上之任何一點係與該游絲(3)間隔一距離,該距離具有至少為該第一預定距離(E1)之值,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以平衡在該總成(1)中之該平衡件(2)時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變;該周圍表面(20)係與該游絲釘軸(7)間隔一距離,該距 離具有高於第二預定距離(E2)之值,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上再加工以平衡在該總成(1)中之該平衡件(2)時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變;定義需要的平衡操作之值及位置;該再加工操作僅在該周圍表面(20)上執行,且藉由限制位在一體積內之削磨、再裝料、變形或熱處理之構件的軌跡而執行,該體積係在繞該樞轉軸線(D)旋轉之第一表面(21)的外部,且擱置在該周圍表面(20)之最小半徑(201)上,並且以大於該第一距離(E1)之距離與該游絲(3)之任何活動點間隔,以當該平衡件(2)在該周圍表面(20)上不可逆地再加工以設定該總成(1)之慣量時,可防止該游絲(3)之特徵的任何改變,該第一表面(21)係一圓錐,其第一頂點(S1)位在該樞轉軸線(D)上,且具有小於一預定值(β0)之第一頂點角度(β)。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中再加工操作僅在該周圍區域(20)上執行,且藉由限制位在一體積內之削磨、再裝料、變形或熱處理之構件的軌跡而執行,該體積位在第二表面(22)內部,該第二表面(22)係擱置在該周圍表面(20)之大於該最小半徑(201)的另一半徑(202)上且定義用於該時計振盪器機構(10)之保護性包殼,以確實保護該游絲(3)防止切屑或其他廢料藉由反射或跳彈之任何直接或間接投射,該第二表面(22)係一圓錐,其第二頂點(S2)係位在該樞轉軸線(D)上,且具有小於一預定值(θ0)之第二頂點角度(θ)。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中該第一頂點(S1)位在相對於該平衡件(2)而與該游絲(3)的相同側上。
- 如申請專利範圍第35項之方法,其中該第二頂點(S2)位在相對於該平衡件(2)而與該游絲(3)相對置的側上。
- 如申請專利範圍第35項之方法,其中該第一表面(21)與第二表面(22)在通過該樞轉軸線(D)之橫截面中共同定義小於一預定值(α0)之角度(α),其係小於45°。
- 如申請專利範圍第35項之方法,其中該預定值(θ0)係45°。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中在該平衡件(2)之預製造期間,該平衡件(2)之被定位超出該周圍表面(20)且其至該樞轉軸線(D)的距離係小於該周圍表面(20)之該最小半徑(201)的任何區域(25)係經形成而使得至少在其表面包含可授予大於由工具加工、藉由雷射之正常耐受性之熱處理、表面處理、由耐受由工具加工或雷射之材料所製成。
- 如申請專利範圍第40項之方法,其中至少一個該區域(25)係經製成具有表面滲碳或氮化處理。
- 如申請專利範圍第40項之方法,其中至少一個該區域(25)係經製成具有表面金屬化處理,以使其表面可反射加工雷射所用之一般波長的雷射束。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中在被緊固 至該平衡件(2)之前,該游絲(3)係經製成而使得其外線圈(6)在其附接至游絲釘軸(7)處被彎曲或扭曲,以將該外線圈(6)之外部活動部分(61)移動遠離該周圍表面(20)。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中該板片(8)或該平衡件扳機(80)係經製成而使得該周圍表面(20)可接達用於削磨、再裝料、變形或熱處理的構件。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中當執行再加工操作以平衡該彈簧平衡件總成(1)之該平衡件(2)時,該平衡件(2)係以具有深度(P)比其寬度(L)大一倍的窄溝槽(S)來加工。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中在被緊固至該平衡件(2)之前,該游絲(3)係由選自於由矽、氧化矽、單晶鑽石、多晶鑽石、玻璃、金屬玻璃、非晶質金屬、石英、順磁性材料、鐵磁材料和抗鐵磁材料所構成的族群之材料所製成。
- 如申請專利範圍第34項之方法,其中該平衡件(2)在初始製造階段中具有被繫栓式安裝在兩個擋止位置之間的調整螺桿(9),且其中在工廠設定位置中為了執行該再加工操作以平衡該彈簧平衡件總成(1)之該平衡件(2),該平衡件(2)之每一調整螺桿(9)係固定在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91),在該位置中,該螺桿(9)之第一頭部(93)係保持擱置在該平衡件(2)之周圍區段(29)上。
- 如申請專利範圍第47項之方法,其中該平衡件(2)具有至少兩個外殼(28),每一外殼係配置成用於接納被 繫栓式安裝在該平衡件(2)之周圍區段(29)的任一側上之調整螺桿(9),且其中該螺桿(9)係僅在該平衡件(2)上之第一擋止位置(91)與第二擋止位置(92)之間移動,在該第一擋止位置上,該螺桿(9)之第一頭部(93)在執行該平衡件(2)之不可逆的加工時之工廠設定期間被保持按壓,且該第二擋止位置定義該螺桿(9)之第二頭部(94)的行程終點,在該第一擋止位置(91)與該第二擋止位置(92)之間的距離限制該螺桿(9)之調整能力,其針對售後目的係被限制為每天30秒。
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